JPS5887203A - 粒状物質を電気的に脱ガスする組立体及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、少なくとも一部分がガスで汚染された粒状＃
Ｊ質を脱ガス、Ｒ１１ち浄化するための組立体に代１″
′する。

本発明は蔓に粉末冶金の分野において一有用であし、特
に固める、即ち加熱および圧力の下で凝縮させるためｌ
ｌ′ｒ超合金型式の金属粉末を準俸するのに南用である
。粉末の実質的な部分に、不活性雰囲気、例えばアルゴ
ンの中で作られる。しかしなから、粉末を固め療に凝縮
させる前に粉末から不活性ガスを均・ｌシ訪く８費かあ
る。

発明者ＷＡＬＴＥＲＪ、　ＲＯＺＭＵＳ　　Ｋよって、
粉末金銅の脱ガスの港しい進歩がなさｊた。彼の発明け
／、９７７年／／月１日に付与された米国特許第４！　
、　０！；ｌ、　、　３６１！号に述べられ、特許請求
の範囲に記載されている。その発明によれは、真空ポン
プに連結さｎている真空室へガスで汚染さｎた粉状物質
を導入する乙とによって脱ガスが達成される。１つ又は
それ以上の′電界が一組又はそれ以上の組の＃極に１１
Ｌ位を与えることＫよって、真り・琶内に作られる。電
界は、ガス汚染物質を荷重して、ζ７′Ｌｔ−励起する
から、ガス汚染物質は粒状物ｌ置方・ら分限され、かく
して、真空室がら容易にル・り重力１才ｌる。これはガ
スで汚染された粒状物質で栖たさｔ’＋た容器金員空室
の上１１、容器を真９・室ＶＬ′、連結することによっ
て達成される。即ち、粒状物質は重力の作用で真空室を
下方に流れて受は入ｎ容器に入勺、し受は入れ容器祉密
封され、そして装−から取シ外されるので更に処理する
ために、幹器内の族ガスされた粉末は＾、空下にある。

ガスでｆ＃ｉ染された粒状の粉末合札を真空室Ｋ　−回
即すたけでは粉末金属の脱ガスが十分でないことか頻繁
にある。とのような場合に、容器を真空塞のＬ【部から
戚り外して真空室の上に６度位箇決めし、組立体全体を
１−序文てて新たな操作を開始しなけｎばｌらない。

この問題を解決するために、発明者ＷＡＬＴＥＲＪ。

ＲＯＺＭＬＩＳ　　は、貞望室の各端部にある容器の間
の臭伊＆　Ｋ、−ＩｊＭを数回通すことＫよって、粒状
物質を脱カスする発明をした。卸ち、仁の発明において
は、粒状物儀か８９の貌ガス水準に達するまで、ガスで
汚染さｔ［た粒状物ＪＪＲを真空塞に前後に連続的に勇
すため、Ｊｋ空室と各桁をｉｇθ０の円弧でダ互にに転
させる。乙の発明ｉｔ、ｗ＾ＬＴＥＲＪ。

ＲＯＺＭＬＪＳ　　の名で、１９１１年３月２３日に出
勤され本発明の譲受人Ｋｕ渡された米国特許出願第、：
ｔ６ｑ　、７２９号に述べられ、かつ、特許請求の範囲
にｔｉｔ載されている。

Ｊ５を対に回転２させる真空室を利用する、反転式脱ガ
ヌ鋏加゛の伸念のつ９の一部として、Ｘ９室の中ｅ）粒
８智１＃會鮫も効率Ｐく、有効に説ガスするたＲ１、ガ
ス會にもイ３゛幼に荷電、液はイオン化する一１界介生
装−を快供することに多大な努力を費した。

本丸明け、（σ）ような効率の良い、有効な電界発壬力
法と、ガスで汚染された粒状物債を効ｙ４艮〈有夕ＩＫ
脱カスする前記方法を実施するための１室体と會提供す
る。

ガスで汚染さｆした粒状物ＩＪＨｊ真空室に通さｔ１杉
Ａｉ状物シは電界を受けてガス状汚呆物策を衛亀させ、
ガス状ＴＩ−Ｉ染物′Ｍ１を粒状物質と分離させ、真空
ｄＤを介して真突源に至るガス流路に入れる。互に間隔
をへだてた一連の１１Ｉ極によって一連の電位が真、空
出口の中に作ら詐る。ｌＩ＊する電位、即ち′Ｒ１仲Ｆ
Ｊ、Ｂｌ対の極性を有し、ｌＩ接する電位、即ち１極間
の距＃ＦｉＸ９出口を出るガス流路の方向に減少してい
る。

本発明によｎば、電位の形成によって、ガス流路が作ら
ｊｌｌ、ガス分子を電位によって連続的に付勢してガス
流路の方向に移動させる。換言すれは、ｗｈｌの形ルＶ
Ｋよシガス分子をガス流路に冶って真を扉に向かって連
続的Ｋｓ動させ、ガス分子がトラップさハ、即ち、真空
室の中へ上流に逆流するの′ｆ賄止する。このことは、
もちろん真空案内の粒状物ＩＪＩｉからガス汚染−質を
非常に効率よく、最も有効に除去する。

本発明の他の利点組、添付図ｔｈＫついて考施し以下の
評細な！！ｉ！１８１ｊを＃照することＫよって容易に
さｊＬよう。

絹１図り、１９ざ１年Ｓ月２ｇ日に出動の前記米国勢許
田動第２６７　、’／２９号によシ正妬に欽明さｎ１カ
つｌ１１４求されている型式の紗亡体ケ開示する。第１
し１に示す組立体は、全ｕ’ｉｎ号１・０で示すＪｋ空
室船立体ケ包含する。勘１立ＫＩＯは、その人々の端に
亦１迫ｊｉｉ８１２ケ有し、流れ通路１２ね容器１４に
連結されている。容器１壱は、同一であり、全体を番号
１８で示す骨組に組立μ１６によって連結さｎｌ、骨！
＃４１８はモーター２２によって駆鮫１さｊる軸２．　
（ｌにより１ｇＯ前後に交互ｒ（反転する。と肛らのす
べての部材は、全ｔｉｔ番号２４で示す和ｖ体によって
支持される。真空室側ＩＶ体１０は水平な真空出口２６
會有する。

本弁明の第一の実施態様は第２図に斤さｎ１真仝ガス出
ロ２６ケ有する、全体を番号１０で示す真空室組立体ケ
包含する。組立体１０は、少なくとも一部分かガスで汚
染された粒状物質ケき扛いにする。真空￥１０はガラス
管状部材か一体的にノヒ成されているカラヌ＊２８で構
成され、ガラス管状部材は、６ｆｊｊ８０によって真空
ポンプのような真空源に連転される真空出口を物取する
。金属端キャップ１２にぞの両路に派ｔシ荊路８２を検
数する。宥２８に、通崩に智封体を介してキャップ１２
と密封係合しておシ、キャラ７’１２に、これセ：相互
達組する連結１１！８４によって、管２８の端ｒ（す（
１しつけられている。

一対の漏斗形部材８６が呈の両端にｅｌｉ［され、過当
力位匍決め装置によって、例１えば、端キャツ７′部材
１２に接着するととによって所定位ｔｋに惺持さすＬる
のが良い。漏斗形部材８６の小さな出口０１１０部は・
互いに一＃をなし、管２８の内部に接岸ｆさｎｌさもな
ければ固定されている腕４０によって支持される分散球
８８の上方、及び下方に間隔ケへだてでいる。

粉末か組立体の頂部にある流れ通路８２に入るとき、粉
末は漏斗型部材８６の大きな開口端部に入り、小さな出
ロケ下方に通って分散用球８８に和・台し、分散川原８
８は粒状物質の茄れを分散さゼス￥の底部に配置された
漏斗形部材８６の小さなし一口部の周シでその外部にＨ
形カーテンケ作る。

次いで、粉末は広いカーテンに分散され、−斗型和一材
８６の円錐形の外万広かり部分ｅ〕上に洛下し、スカラ
ップ漸開［１部４２から洛下し、そして、底開口部８２
を通して格下する。上述したように、ｌｉｌじ方法で、
粒状ｍ個か組立体分速して逆流するように室ｈ１立体１
０に反対に反転させるのか良い。

管２８ケ通して落下するガスで汚染された粒状物質に電
界ケ尚てて、ガス状汚染物質ケｉ電し、粒状物ｊ輌から
ガス状汚染物彌會分離させて、真空室からガス出口２６
、導管８０ケ介して真壁源まで、ガス状汚染物雀の除去
ゲ容易にするために、電界ケ生１：、さぜるためのを界
発生鉄徴が真空出口ｚ６の内部に１籐されている。本発
明は、ｔ２８によって栴６ｙさｊた室からω口２６、導
管８０を介して、真空源に至るガス流路に沿って互いに
間隔ケへたてたー漣の電極４Ｂ、４４、＋５．４６、４
７、及び４，８ケ有することｔ％徴とする。隣接する電
極ね反対に荷電されておシ、隣接する１′極間の距離は
出口２６からガス流路の方向に減少する。丁べての電極
４Ｂ、４４．４５．４６．４７、及び４８は、真空室の
中央部から水平方向に延びるガス計口官２６の内地で、
かつ、１ｗ２８によ多構成さｔした真空量の完全に外に
配線さｎている。

−上述したように、ガス出口２６はガラスのような非専
１１！件の物質からなり、真空室組立体から金Ｊ１４連
紀部材５０まで延びる。ｍ５２の形の第一の導体装−は
ガス出口管２６の内部で連結部材５０から延び、棒５２
の端部はネジ金有し、部材５０の環状端面に都合する。

出口２６ケ形放するガラス管の端部は部材５０の外部に
ｌ！Ｉ［’倉され、部材５０と笥＠保合し、管２６の端
部は部材５０に形ｈνさｔｌ、た届に衝合している。第
一の被数の筒体、Ｔｉ＋＋ち、電、極４４．４６、及び
４８は棒５２に沿って間隔ケへだて、棒５２により１気
的に相互連結されている。を極は金属網、即ち、織ジ込
んだ金麺ストランドの円形のスクリーンの形である。ぺ
【ノビル形（ザラ形）！＃！金５６かスクリーン４４の
一万の側で棒５２の端部５４に保合し、座金５８かスク
リーンの他方の側に配置されているので、碑体棒５２は
スクリーン４番と専通保会して端５４プで処びる。伸５
２會田口２６の内部と隔絶し、そして反対の極性の電極
４５と隔絶するため、絶線用ガラス管６（）が電極４４
と４６との間に延びている。ノＩラス管６ｏは、座金５
８全スクリーン４４に押しつける。第ｑ図に最も良く示
されているように、一対のベレビル形座金ｅｌがスクリ
ーン４６の両側で４　５２ｆ把持し、座金６２をベレビ
ル形座金６１の外餉に配置し、絶縁用管（１０を一方の
座金６２に係合させ、絶縁用’ｉｆ＄４を他方の座金６
２に係合させているので電、ｉ４６ケ榊ｈνするスクリ
ーンは棒５２と電気的な接触ケしている。′＃６４のル
対側の端部は電極４ＥＩＣ係台し、連結部材５０の端面
に電極４８ケ押し付ける。

電融６６は好ましくは部材５０を接地、ｆｆ１ｊち、−
気的に中性にし、これＫよって、−■１１６４４．４６
、及び４８を含む第一の複数の交互Ｑ＞、卯ち１つ論゛
きの電極を接地する。唯一っの棒だけが示さ才している
が、これは単に便宜のためであシ好ましい抜施塾様にお
いては、円周上に互いに／２０Ｇの間１１６’ｒへたて
た３つのこのような棒カ用いラレる。残シの電極４８．
４５、及び４７はガス出口２６に沿って間隔をへたてた
第二の沙数の１１極を形成）る。第二の沙数の電＆４Ｂ
、４５、及び４７の夫々は、他の亀＆４４．４６、汲び
４８のうち陳蓚した２つのｔ＊の間１１１１へタテテあ
る。

軸６８の形會した第二の導体装艶はＷ、二の秒数（７）
％榛４Ｂ％　４５、及び４７と訃′槃的に相互に連結し
ているのでこれらを荷電し、他の１１極４４．４．６、
及び４８に関して電位ケ形成する。僕首すれば、Ｖ＆４
４．４６、汲び手８は接地され、他のシ・互のＩＩ椿４
Ｂ、４５、及び４７は正に、或は負に荷（される。前記
の１１！明にょｎけ、交互の１極、）、＋１１　’Ｅ、
　、瞬接する１１Ｌ極を反対に楯電するように栖織−ｊ
−イ、とた、Ｉ！に接する電極の間には電位が形成され
るしとを製法する。軸６８は導体（好ましくは全編の導
体）であり、絶縁用ガラス管７ｏ及び？２ｅ（よシ絶線
される。軸は連結部材５ｏがら真空室ｒｉｃ４Ｈする軸
の末端部の１ｇ、極４８まで、片持はりｅ）ように延び
ている。キャップ７４扛軸６８の端＆Ｌ　Ｋ綜合してＩ
ｅ３縁用管７２の端部に衝合し、電極４８を・＠６８と
゛１気的な接触をなして所定位＊ｔｔＣ保持する。絶ｉ
用官７２は次の瞬接するＷ極４４を通して、紀Ｓ因に鯉
も良く示されている電極４５との連結部まで蜆びる。導
電性部材、紬ち、リング７８ｔ’Ｘ’ｌ＆＊４５のスク
リーンの一方の側と静合する一つの７ランジ？有し、絶
縁用管７０、及び７２の夫々のみ部に衝合する２つの座
金、即ち０＝リング７６ｉ４＋でスクリーンに押しつけ
られる。軸ｔｉ８は第６図に示された組立体を介して、
佃の軸とＶｊｉ気的Ｖｃ接触する。該組立体は、軸６８
の纒に６「敏され、杷鰺部劇７０の端に静合するスナッ
プリング８２ケ有し、軸６８の端部はネジ山を巾し、そ
して座金８４および部材８６，８８を即して蝉ひてナラ
）９０に梅合し、軸６８の端部はバネ９２と′鯵気的に
接触し、バネ９２は軸８０と山気的に接触する。〃・く
して、絶縁用管７０は連結部材５０ケ地して丸ひ、軸６
８ｅ逐結部材５０と隔絶する。寺晰性部材５０は商標「
ルーサイト」（ポリメチルメタクリレイトの部品名）か
らなる部材のような非尋亀性廊材９８によって支ト）さ
おる。好ましい実施態様においては一極４Ｂ、４−５、
及び４７を正に荷電するよう、正の電位が軸ｆ１８に加
えられる。

また、反対に荷電さｎｆｃ隣接する電極の間には１ｉ＃
釘の磁わがある。第一の磁石９４は重、極４４と次の瞬
接する反対に荷電された電極４５との間Ｋを、る、１ｈ
の研石９４は′Ｉｌｉ極４６と次の隣接する反文、ｔＶ
ζ仕市さｎた１１極鴫７との間にある。磁石９４ね、イ
オン化した、或は荷電したガス分子が流れずｆ路をｆｉ
空源に向かって移動し続けるように、ガス分子の移動ケ
制御する磁束を形成する。

１ｗ軸４８から次のｆｉｌｅ接するル対に荷電さｔた電
極４７までの距離は、電極４７と次の隣接するル対Ｋ　
＃ｒｌ［され九蜜惨４６との間の距離より短い。

ｆｌｊＩＩ＆玉、′１１！楡４６と１１極Φ５との間の
距離は電極＋　ｉｓと−ＩＪ、４ｉｍ＜４７との間の距
離よジ短い。他のすべでの’＊檜についても同じでおる
。従って、反対に′＃ｒ′＃Ｍさｎｆｃ−接する一極間
の距離は出口２６を通して真空源に至るガスの流れ１同
に減少する。ｉｉ＆〃・ら簀４＃才での減。少量は変え
て４艮い。しかしなから、連続する電極ｍ１の略ざ％た
け距離を減するのかりいととかねかった。

斬２８によって栴欣される室の中のガスは電極４８で形
成さＦた゛嘔位差ケ受ける。例えば、漏斗形剖材８６紮
接ルし、電極４８が正の荷電を作るようにする。中性の
ガス分子ｉＩ！子の不足している。ｉＦ’　ｔｔＣ向＊
さｆた′１極４８に引き付けら扛る。ガス分子は電極４
８のスクリーンを通シー子ゲ放出し、正に作■１され、
従って、中性、即ち接地さ扛た両極４４に引き付けられ
る。ガス分子か一極４４を辿ると、分子に接地から′重
子を受け、中性になる。しかしなから、次の正の電極４
５までの距離か止の電極４８に扶る距離より短い（７）
で、分子に１ガスの流ｆに沿い出口筺で移動を続ける。

その土、磁石９４・は鯨塾、ν１」ち、磁力腋を作シ、
との蜘力糾にアンテナ４５によって正に衝゛由した分子
がアンテナ４４に戻ることを阻止する。換にすｆｔは、
アンテナ÷５によって正に荷電さｎた無秩序に怪動する
幾らかの分子はアン１す４４に同かつて戻るか、仏ツカ
−はこのような移動ケ阻止する。

カスット子か１Ｍ＆の間分速るとき、ｌｈｊじようなこ
とかおとる。ν１」ち、隣接するＷ極４８．４４．４５
．４ｔ＋、及び４７の間の距離を狭くするととにより、
カス分、子の連続したｔｆｒ、ｆ′Ｌか形成される。

第７図の実施態様は第２図の実施態様と−Ｉじ番匹φ号
ケ付した−１じ構成蚤素會含み、電極の形た番゛ノが異
なる。第７図の実施態様において、正に荷電さまた１＆
極１４５、及び１４７は重子を放出す２、ための鋭い円
形、或は申秋の縁部ゲ有する小さい白飯形部材である。

軸６８の末端部にあるＷ極１４８は重子の放出を容易に
するため、好ましくしＪｔＡｊｅｊケ阪形、或は鋭い歯
としたカップ形であるのか艮い。１１［＆１４８．１４
５、及びト１は前Ｉ５Ｌ′のガラス絶緘用１！７８によ
って分離されている。

５ｂ加の絶縁用管７１は金属支持部材５０をすして処び
、軸６８と支持部材５０との′動気的相互作用ｉ胎止す
る。

紀７図の実施態様における第一の初数の１１極１４４．
１４ｆｌ、及び１４８Ｆｉ夫々、半径方向のブリッジに
よシ相互に壜結さ７１−た一対の１百１心的のリングか
らなる。棒５２によ多構成される第一の４０１に＆する
一極１４４．１４６、及び１４８の半径方向のブリッジ
ケ相互に連結し、とれらの餉楡を連結部材、νｌ」ち多
持部材５０に接地する。

絹ざ図の実施態様は電極の数ケ変えることかできること
、及び第一の秒数の正に荷電された一極が軸６８の両側
から、ＩＩＩち軸から半径方向に延びる横軸９６からな
久そして横軸９６の夫々の端部からガス流れ通路の方向
に延びるスノ七イク９８ケ包含している点で、第７図の
実施態様と異なる。真壁♀に＠接して、軸６８の末端部
に配置さｎた第一〇電極の編付には、横軸は１子會故出
するための鋭い先を伽えるため、前方に失った歯、或は
鉱−會含む。

第９図の実施態様に真空源と連通する＾孕専管８０’を
含み、′ｖＩＡ極か管ｚ８によって構成された自白な真
空室内に白じ−さｎている点で前記の実施態様と異なる
。木兄１によれは、−井形部材８６の外部のまわシにｈ
［倉され、地月８６と電気的に絶トされている正に何篭
さ扛た１に１２４Ｂ、及び２４．５か詐けられている。

接地さｎた寒極２４４ｒ、Ｊ　’ｋｔ　柘２４　ＢとＩ
Ｉ極極手４５の間Ｋｈピ倉さｎ、電極２４Ｂとへ１′極
２４４との間の距離は電極２４４と１１Ｊ伜２４５との
間の距離よシ大きく、これら１１１３次、孜効に荷電す
る。分割器、＃Ｉ１１ち、分散用部側８８′も、又、接
地されるのが良い。かくして、釈Ｉ状物貧が第９図に示
されている知立体の頂部に入熱と、最ｍ部の部材と頂部
真空出口８０′だけがｆ￥ｊＬｉ・し７、部材８８′か
ら最頂部の真空出口８０′をｆＪして上方に向かうガス
の流れ全形成する。

かくして本発明によれば、真空出口？介して真空源に１
続する真空室２８にガスで汚染さｎた粒状物債を通し、
ガスで汚染された粒状物質が電界ケ９灯でガス状汚染物
質會衝１させ、ガス状汚染物ｊ佃ケ粒状物質から分離さ
せ、出口を通して真空源に至るガス流路音形成する、ガ
スで汚染さ扛た粒状物質の脱ガス方法において、真空源
に至るガス流路に沿って互いに間隔會へたてた一連の電
位を作り、隣接する１位ｉｌｔ及対の倹性とし、隣接す
る見付間隔の距離がガス訛ｍ鮎の方向に数少してい／、
ことケ和似とする。８ｇ−図、第７図、及び第ｇ　Ｌ’
ｇｉの実施態様＆コおいては、１位は真空室の外部で、
真空室から姑びる出口２６の内部に作られるが、第９図
の実施態様においては、電位は真空室の内部に作・ら才
する。

ｌＩトＩ田１の簡卑な都１゛明 褐／図は本発明？ｒ−オリ用する翻立体の０１！＋面図
である。

來２図は、本究明の一つの実施態様の一部切欠１！ｔｒ
ｉｆｎ斜視図である。

第、？図は、電杉の一つと導体との間の連結部ケ示す拡
大断片分解斜視図である。

第ｑ］スｊは、第３図に示した専捧と同じ導体と他の１
倹とのＩＬ４１の浮粕部ケ示す断片分解斜視図である。

第５図は、■ノ、のｌ惨の一つと、他の２４１４との間
の鍾鯖部を示す断片分解斜視図である。

第６図は、第Ｓ図に示す導体の禾端連ｉｓの断片分層斜
視図である。

第７図は、本矢鴫の肋の実施態様の一部切欠断ｒｋｌ斜
？Ｗ図である。

框ｇ　Ｉｇｌは本発明の他の実施態様σ〕一部シノ欠卸
１而斜面図である。

第９図は、本発明の更に他の実施態様の一部切欠−１面
斜祝吃１でを・る。

２６・・・ガス出口、２８・・・−空室、４３乃至４８
、■４８乃至１４８．２４８．２４５．２４６・・・重
接、８０・・・Ｊｋ号源、５０・・・連結部材、５２・
・・第一の祷ｔ４．装糎、ｙ！は第一の導体棒、６８・
・・第二の導体装−又け、軸、９４・・・磁石、７０・
・・絶縁用ガラス管、９６・・・横軸、９８・・・スノ
ぞイク。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ０１　　少なくとも一部分かガスで汚染さ扛ている粒状
   ？！Ｉ′Ｊｉｉを沖化するための、ＡＩ立体であって、
   真空室２８と、該Ｘ空室２８と真空か８０とを漣結する
   ガス出口２６とを弔し、 ＠ｊＪ　ｇｅ、　Ａ空室に、各端に、粒状物質の流ｎを
   前記真空室の中へ及び真空室の外に差し向けるたＳ）の
   流ｔ′Ｌ辿路のある垂直方向に間隔をへたてた第−及び
   第二の端部含有し、 ガスで汚染さｎた粒状物質が電界を受け、ガス状汚染般
   Ｉ質を荷電さゼ、前記真空室から前記ガス出口を辿して
   ガス状汚染物貴の除去を容易にするように、膜状物質か
   らガス状汚染特質を分離するため、電界を生じさせるた
   めの電界発生製筒を史に七している組立体ＶＣおいて、
   前記１界促生装酋は、真空［８Ｌ）Ｋ全るガスぴＣ路に
   沿って互に…」隔をへだてた一遅の電健・１．８、４４
   、４５、４６、４７、４８、１４８．１４５、　■４６
   、１４７、１４８、２柔Ｂ、２４５、及び２４６’ｌ−
   有し、隣接する電極を及対に＆奮させ隣接する聾極間の
   距ＩＩＩをガス流路の方向に減少させたことを特徴とす
   る組立体。 （２：　　罰紀ガス出口２６は前記真空室２８から水平
   ア同に延び、前記！極は前記真空室２８の外部で、かつ
   、前記ガス出口２″６の内部に！！！［′シされている
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１１１項に記載の組
   立体。 （３１前記ガス出口２６は前記真空室２８から連結部材
   ５０まで延びる非導電性物情からなり、第一の導体装置
   ５２は前記ガス出口２６内で前記袢結部材５０から延び
   、第一の複数の前記［極４４．４６．４８．１４４．１
   ４６、及び１４８は前記第一の導体装ｆｍ５２に、沿っ
   て間隔２へだててお）、導体＃ｃＦ１１によって１゛気
   的に相互に接続されていることｔ−特徴とする％許梢求
   の範囲第（２）項に記載の組立体。 （４１第二の複数の前記電極４８．４５．４７、■４８
   ．１４５、及び１４７は前記ガス出口に沿って間隔分へ
   だてでおシ、前記第二の複数の電極の各々は前記第一の
   ｌｊｉ数の２つの隣接するＶ律の間でＮ１隔全へだてて
   おシ、閤二の導体装置−６８は前記第二の複数の１１′
   極と盲気的に相互に接ｈ・、し、前記第一の複数の１１
   極と第二の複数の拓樟は故対に荷電さｎていることを特
   徴とする特許請求の範囲第＋３１　’ｆｊ４　ＶＣ’ｉ
   ピ載の組立体。 （５）　　前記第二゛の碑体装に６８は、前配達結部材
   から＠１真空室２８に隣接して末端部にある前記第一の
   複数の１極の一つ（＋８．１４８）まで片持はシのよう
   に延びている軸６８からなることを特徴とする特許請求
   の範囲第（４）項に記載の組立体。 （６１少なくとも一つの磁石９４が＠＃接する及対にイ
   ｂｒ′由さｎた′＃１ｉ極のｍ」に延びているととを特
   徴とする請求 （７）前記軸６８は前記：ｉｑ＆５部材５０から絶縁７
   ０さ扛ていることを特徴とする特許請求の範囲第ｔ６＋
   項にｒｅ机の組立体。 （８ｒ　　ｉｆｆ記遵１部材５０は博−軒物負からなり
   、Ｍｔｉ記第一Ｑ）　ｉ，Ｇ４　Ｃ４−装１５２は前記
   連結部材にｉ気的ＩＬ塾絖されているととを特徴とする
   特許請求の範囲第（７）項に記載の組立体。 （９１′少なくとも一つの磁石９４が隣接する及対に荷
   電さｒした電極の間に延びているとと全特徴とする牲Ｉ
   Ｆ′事・＃に求の範囲第《１１項、第（５１項及びｇｉ
   ４１８＋項のいすれか／つに記載の組立体。 ａｔ＞　　前記第二の複数のＴｈ．＆ｌ４８、１４５、
   及ヒ１　５　７　ｒｉ宵子を放出するための鋭い縁部１
   １ーるととを特徴とする特許麟氷の範．回船１８１項に
   記載の１立体。 ａｌｌ　　前記第二の検数の電，＆の各々は６１１記軸
   ８Ｂ（１１両からから延びる横軸９６からな郵、スパイ
   ク９８か前記横軸の各端部からガスσｔｒ−通路の方向
   に延びてい為ととを特徴とする←檀艙求の軛四組ｆＪＩ
   ｌ項に記載の組立体。 ＴＪｂ　　４１記．納−の検数の電植１４，４、１４６
   、及ひ１４８の夫々虹、半径方向のブリッジによって相
   互に運動された一対の一１心内のリングからなることを
   ←忙とする←許−求の範囲第｛８｝項に記載の＃！　Ｉ
   ７　Ｃ４。 ０３１　　１３ｔＪ記紀−の専体装飯は、前記第一の複
   数の隣接する１１ケの前記半径方向のブリッジを相互に
   連綻−する少なくとも一つの導体棒５２からなるζと全
   特命とする特許１ｉ１ｉ１求の顧）四組０２項に記載の
   １立μ。 ０４１　　ガ′スでｂ呆さｎた粒状物質を真空出口を介
   して真空源に連続している真空室に通しガスで汚染さｊ
   た粒状物ａか電界ｆ受けてガス状汚染物袈を荷物させ、
   ガス状汚染＠債を粒状物質から分離させ、出口を介して
   声−９伽に至るガス流ハ辿路を形成する、ガスで汚染さ
   ｊた粒状物質の腓ガス方法にお・いて、 真壁源に至るガス流１通，路に沿って互に間隔紮へたて
   た一連の電位を形ル７Ｌ、隣接する電位６反対の極付を
   有し、隣接する１位間の距障はガス流れ通路の方向に減
   少していること１に％徴と丁る紛ガス１汰。 ｕ９　　真空室の外＆ｂで、かつ出口の内部に一連の電
   位を形成することを特徴とする特許請求の範囲第１４項
   に記載の脱ガス方法。