JPS58101731A - 粒状物質を脱ガスするための真空室組立体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、少なくとも一部分がガスで汚染された粒状物
質を説カス、即ち浄化するための組立体に関する。

本発ＢＡは特に粉末冶金の分野において有用であり、特
に、固める、即ち、加熱及び圧力の下で峡縮させるため
ＶＣ１超台金型式の金属粉末を準備するのｙｃ有用であ
る。粉末の可成９の部分は不活性雰囲気、例えば、アル
コ゛ンの中で作られる。しかしながら１粉末ｔ−同め、
或は１７に縮させる前に粉末から不活性カスを取９ｍ＜
必要がある。

本発明の発明者の一人であるＷＡＬＴＥＲＪ。

ＲＯＺＭＵＳ　Ｋよって粉末金属の脱ガスの着しい進歩
がなされ友。彼の発明祉／９り７年ｌ１月／日に付与さ
れた米国特許第ダ、　０！；ｌ、、　３４１号に述べら
れ、特許請求の範囲に記載されている。その発明によれ
ば、＾空ボングに連結されている真空室へガスで汚染さ
れた粒状物質を導入することによって脱ガスが達成され
る。ｌっ又はそれ以上の電界が、−組、又はでれ以上の
組の電極に電位を与えることによって、真空室内に作ら
れる。電界はガス汚染物質を荷電して、これを励起する
から、ガス汚染物質は粒状物質から分離され、かくして
、真空室から容易に取り除かれる。これはガスで汚染さ
れ九粒状物質で満たされ九容器ｔＸ？！ｍｌの上に置き
、容ＩＩＩ會真空富に連結することによって達成される
。即ち、粒状物質は重力で真空室を下方に流れて受は入
れ容器に入９、鋏受は入れ容ｓ線、更に＃＆通するため
に容器内の脱ガスされた粉末が真空下にあるように開封
され、そして装置から堆り外される。ガスで汚染された
粒状の粉末金ｊ１ｔ−真空層に一回通すだけでＦｉ役車
金属のｊｌガスが十分でないことが釧請にある。仁のよ
うな場合に、容ａを真空室の底部から堆９外して、真空
室の上に再度位置決めし、組立体全体ｔ−順序立てて、
新たな操作を開始しなけれにならない。

この間ａｔ解決する良めに、発明者の一人であ４ＷＡＬ
ＴＥＲＪ、　ＲＯＺＭＬｊＳ　　は真空室の各ｊＩＩｌ
ｉＩにある容器の間の真空室に物質を数回通すことによ
って、粒状物質を脱ガスする尭＠會した。即ち、この発
明においては、粒状物質が希望の脱ガス水準に遭するま
で、ガスで汚染された粒状物質を真空室に＊＊に連続的
に通すために、真空室と容Ｓｔｉｇｏ″の円弧で交互に
反転させる。この発明はＷＡＬＴＥＲＪ、　ＲＯＺＭＵ
Ｓ　　（Ｄ名で１９１１年３３２３日に重職され、本発
明の譲渡人に譲渡された米−特許出願第２６７、７２９
号に述べられ、かつ特許請求の範囲に記載されている。

反対に回転させる真空ｉ１を利用する、反転式脱ガス装
置の概念の改良の一部として、粒状物質を真空層組立体
に複ａａ過すことで、粒状物質からガスを最も有効に除
去するような、真空層組立体に関する要請が高まった、
本発明は粒状物質からガスを有効に除去するためま、反
対に交互に反転させるような真空−組立体を提供する。

本発明は第７、及び第２の１ｌＩＩｉＩ１１を有する真
空室と、各端部に粒状物質の流れを真空室に出入９させ
るぺ〈差し向けるための流れ通路と、真空室の両端部の
′中間にガス状汚染物質を除去するための真空出口とを
有する、ガスで汚染された粒状物５Ｍヲ脱ガスするため
の組立体に関する。本発明の特徴によれば、流れ制御装
置が真空室内に配置されかつ対称な１１！１１部を有し
“てお９、流れ制御装置は流れ通路のいずれかから粒状
物質を受は入れ、粒状物質の流れを反対側の一部に差し
向け、真空出口に隣接する真空室の中央部分を介して、
取り囲んでいる真空室から粒状物質の流れを隔絶し、流
れ制御装置は粒状物質を分散させ、粒状物質が隣接する
流れ通路から流出する前に、反動偶の・即ち出口端部に
隣接する真空室にさらされ、これによって、多量の粒状
物質が第１の一部から第一の端部まで、真空１１を通し
て重力で流れ、その後、真空ｍＦｉ逆に回転されて、多
量の粒状物質が纂コの端部から第１の一部まで真空室を
通して、重力で逆流する、ことを特徴とする。

本発明の他の利点は、添付図面について考慮し、以下の
詳細な説明を参照することによって、容重に理解されよ
う。

第１図は、／？ｇ／年Ｓ月２を日に出願された一Ｆ述の
特許出願第２４．７．７２９号に特に述べられ、かつ請
求された温式の組立体を示す。

概略的に首えば、第１図に示す組立体は、本発明によっ
て組立てられた全体を番号１−で示す真空室組立体を有
する。組立体１０は、夫々のＩＩＩ＆部が容器１４に連
結されている流れ通路１２を有する。容器１４ｔｉ同一
であり、組立体１６によって、全体を番号１８によって
示す骨組に連結され、骨組は、モータ２２によって電動
される軸２０に工って１１００前後に交互に反転されそ
れらの全ては、全体を番号２４で示す構造体によって支
持されている。真空室組立体１０は水平方向の真空出口
２６ｔ−有する。

本発明を、第２図及び第３−の実緬勤様、第Ｓ図の夷ｍ
態様の二つの実施態様で例示する。２つの実線態様は同
時に説明され、同じ構成ｌＩ素は−じ参照番号を有し　
第Ｓ図の実施態様では同じ構成要素はダッシュを除いて
は同じ番号によって示されている。

本発明によって作られた、ガスで汚染された粒状物質管
脱ガスするための組立体は、全体を番号１０．１０’で
示す真空１１ｔ−有する。真空室組立体は、金属亀キャ
ツｆ２８．２８’によって構成される第７と第一の！ｌ
１ｍを有する。趨キャツｆＨ５＾空１１１０．１０’に
粒状物質の流れを出入りさせるために矢印３０によって
示される流れ通路を有する。真空室の各々は、真空室の
内部からガス状汚染物質を除去するために一部又は端キ
ャップ２８．２８′の間の中間に真空出口２１１有する
。

真９．富組立体１０．１０’は、全体を番号３２．３２
′で夫々示す流れ制御装置によって特徴付けられ、流れ
制御装置の各々は、一方の一部の流れ通路３０の一方か
ら、粒状物質を受け、粒状物質の流れを反対側の一部へ
差し＾け、粒状物質の流れ【真空出口２＠にｌｌｍ５−
する真空室の中央部分を介して、ＪｉｋＩＩｔｉｏ臭空
意から隔絶し、粒状物質を分散させる丸めに、粒状物質
が、隣接する流れ通路３０から流出する前に粒状物質が
反対側のｍｓに隣接して真空室の作用を受ける。この方
法で、多量の粒状物質が、真空ｍを通して重力の作用で
、Ｍ／即ち頂きの一部から、第一の即ち底側のｌ１１１
ｉｌｉＩｓへ流れ、その後、真空室は亀から端へ回転し
、粒状物質は今や頂きにある第一の一部から今や底側に
ある第７の端部へ真空室を通して重力で逆方向に流れる
。すなわち、粒状物質は第１図に示す容器１４０間で前
後に流れ、頂きの容器１４から底側の容器１４へ流れ、
その後底側のいっばいになった容器１４が頂き位置へ移
動して下方容６１４へ流れ込む。

特に、流れ制御ｌｌｌ直置２．３２′は、真空室の各一
部の流れ通路３０の各々にＩＩ接して配置８れている漏
斗形部材３４．３４′を有する。漏斗形部材３４．３４
′の各々は膨曲が隣接する流れ通路３０に面した大きな
入口開口部３６と、反対−の即ち他の漏斗形部材の小さ
な出口開口Ｉ！３８から間隔をへだてかつそれに面して
いる小さな出口開口部３・とを有する。各漏斗形部材の
入ローロ部の周囲の少なくとも−・部分は、粒状物質が
各−耳形部材の外側に分散される粒状物質をＩｌｉ級す
る流れ通路３０から流出させる九めに、ＩＩｌ接する流
れ通路３０から間隔をへだてている。

管状部材４０　４０’を含む流れ制御数［３２，３２′
は、ｇＨ状物質の流れ【真空筒の中央部分から隔絶させ
るために、端部を小さな出口開口部３＄と間隔のへたた
った関係に配置して、真空筒組立体１０．１０’の中に
懸架されている。管状部材４０．４０’の両瑠は大きな
入口開口部３６から画直方向に間隔ｔへたてていて、漏
斗形部材３４．３４′の外方広が９ｓ分を真空筒内に開
放露出させでいる。

又、上方の小さい出口開口部ｓ８から出る粒状−質を反
対偶すなわち底側の小さい出口開口部３・の外部へ、そ
して反対貴の漏斗形部材ｓ４．３４′に分散させるため
に全体を番号４２で示す分散部材からなる分散ａｍを含
み、粒状物質は、底側の漏斗形部材の大きな入口開口部
３６の鯛囲上ｔ−流れ、ｉＩ艦する流れ通路３０から流
出する。分散部材４２の各々は、一方即ち上方の小さい
出口開口ｓ３８からの粒状物質の流れに係合してこれを
反対肯の、即ち、下方の小さな出口開口部３８を塩９囲
こむカーテンに分割するための、下方かつ外側に傾斜す
る面によって取り囲こまれている高い点を有する。特に
、分散部材４２は、各々の小さな出口開口ｓ３８と関連
し、各分散部材４２は円形の小さな出口開口部３８より
大きい円形外周部４４を有（７、円錐面４６がその外属
部４４から反対方向にある頂点４８へ蝙ひている、。

又、分散装ｆｊｔは、第３図の底に示すように、各分散
直置４２ｔ−１小さい出口開口部３８ｔ−閉鎖している
閉鎖位置と、第３図の頂部に又＃ＩＳ図、及び第６図に
示す関連した小さい出口開口部３１１から間隔管へたて
た開放位置との間で、移動きせるための、ステム５０．
５０′及び腕５２．５２′によって構成される保持執置
を含む。第二図及び第３図の夾糺塾様においては、ステ
ム５０は、各々の分散部材４２の一つの頂点から、関連
するｌ」・さな出口開口ｓ３８内に入って、半径方向に
蝙ひている腕５２まで延びている。腕５２はｒ！Ａ逐す
る漏斗形部材の内面に係合して、上方の分散部材４２會
開放位置に位置決めする。換言すれば、腕５２は半径方
向に砥ひ（好ましくは数か３つで７２０゜間隔をへたて
る。）、そして重力の作用で、第３図の頂部と底部に各
々示されている開放位置と閉鎖位置の間を移動する。第
！ｆ因の実施態様においては、腕５２′　（好ましくは
、数がａつ）は漏斗形部材３４′の細長い穴、即ち開口
部５４を通して延び、これによって、−直方向の移動が
案内させる。

真空筒内に管状部材を懸架するために、コイルバネ５６
．５６′が夫々、管状部材４０，４０’の熾に配置され
ている。第２図及び第３ｖＡ＋２）実施態様においては
、コイルバネｓ６は、隣接する、即ち関連する漏斗形部
材３４の外方広が９部分に係合する一方の亀と、アダプ
タ５Ｉｌを介して管状部材４０の隣接するｍに係合する
他方の趨とを有する。管状部材４０Ｆｉ、管状部材４０
（２）Ｉｉｌｌｌを構成するアダプタ５８と同じように
、円形であって、アダゲタ５８の内部は隣接する漏斗形
部材３４の外部の小さな部分と半径方向に間隔管へだて
た関係をなし、漏斗形部材の外部のまわシの粒状物質の
流れを漏斗形部材の底部の外方広が９部分に、及び、周
囲部３６に分散させて、底部の流れ通路３０から流出さ
せるようにする。各々の漏斗形部材３４はその大きな入
口開口ｓ３６の周囲から外方かつ上方に延びている複数
の腕１０を有しており、腕は漏斗形部材３４ｔ−位置決
めする丸めに、隣接する流れ通路内に支持されている。

特に、腕６０の上ｊｆｉ部は第ダ図に番号６１で示すよ
うに、曲げられて、キャップ部材２−の凹部＠２にスナ
ップ嵌めされている。第Ｓ図の実Ｊｌ１１様においては
、フィルバネ５６′は夫々、隣接する漏斗形部材３４′
の外方広がり部分の内部に係合する一端、及び、端キャ
ップ２８′で構成されるような真空筒の隣接する端に係
合する他熾とを有する。第Ｓ図の実施態様はまた管状部
材４０’の夫々の端と、隣接する漏斗形部材３４′の外
部とを相互に連結する位置決め部材＠３ｔ−有する。特
に、夫々の漏斗形部材３４は、内部の肩と外部の肩を構
成している半径方向に延び九７ランジ６４を有する。コ
イルバネ５６′の端は７ランノ６４で構成される内部の
肩に係会し、一方、コイルバネ５６′の反対ｌＩＯ趨は
趨キャップ部材２８′の環状凹部６５の内部に配置され
ている。一つの位置決め部材６３は管状部材４０’の各
港に配置されかつ半径方向に嬌ひる開口ｍｓ＠を有し、
これらの−口部により、粒状物質ｔ−漏斗形部材３４′
の外部の周りに流し、管状部材の庵から出て隣接する漏
斗形部材３４′の外部の外方広が９ｓ分の上に流す。

又、夫々の流れ通路３０内には弁部材６８で構成されて
いる弁装置が包含されていて、真空層への物質の流量を
所定の入口流量に制限し、真空層の底部で真空層から流
出する粒状物質の出口流量會所定の入口流量より大きく
する。特に、各流れ通路ａｏ＃ｉ、真空層への粒状物質
の流れ方向に断面積が減少する入口部分１０を有する。

即ち、各人口部分１０は直径が真空層への方向に減少す
る円錐形である。入口部分７０はキャップ部材２−１２
１１’ののど部で終わっていて、キャップ部材の流れ通
路３０の残）部分は真空層から流れ出る方向に断面−１
即ち、直径が減少している円錐形の出口部分子２によっ
て構成されている。さらに、漏斗形部材の大きな開口部
３６０局Ｎは、出口部分１２から間隔をへだてている。

入口部分１０の各々には溝が配置されていて、スナップ
リンダ１４で構成されている停止部材がその中に配置さ
れている。入口部分子Ｏは円錐形であるので、各弁部材
６・の外部ヰ関連した入口部分子Ｏと同じ円錐形の傾斜
を有する。このように、各弁部材＠８は入口流の中で、
関連し六停止部材Ｔ４から下流に配置され、Ｍ３図の頂
部、及び第Ｓ図に示す閉鎖位置にあるとき入口部分子Ｏ
と密封係合するための外面を有する。各弁部材６８は円
筒形の出口部で嬌びている円錐形の、即ち内方にチー・
臂−シた入口ｔ％つ中央入口を有し、この円筒形の出口
は上部の弁部材６８が流れ通路３００Å口部分７０と密
封係合しているとき、所定の入ロ流ｔｔ−立する。弁部
材６ｓが底部にあるとき、５ｆ１部材６魯は重力で、入
口部分１０との係合を解いて、隣接する停止部材７４に
幽る位置へ移動して、５Ｐ部相の中央入口を通ると同様
に、ｆｆ部材・８の外向の囲９に出口流量を形成する。

その位ｔは、１１１ｉ３図の底部に示されている。換言
すれば、弁部材が底部で嬉３−の底部に示す位置にある
ときには、弁部材が組立体の頂部に位置決めされるとき
よシも、粒状物質が真空層から流出する通路面積は大き
い。

真空１ｉ！＃′ｉ非導電性の管Ｔ６の両端と密封係合し
ている金属端キャップ２８．２８′により構成されてい
る。好ましくは、管７６ＩＩｉガラスで作られ、真空出
口２６と一体であり、端キャラｆ２＠、２ｍ’は導電性
上布し、書封体Ｔ８會介して管Ｔ６と密封係合している
。管Ｔ６の両−でキャップを相互に連結する連結棒Ｔ＠
によや、為キャップ２＠、２８′は管Ｔ６の９！！部と
密封係合状態に保持される。―井形部材３４．３４′、
及びバネ５６．５６′並ひに分散部材４２は好ましく０
金属で作られるが管状す材４０，４０’は好ましくは、
ガラスのような非導電性物質で作られる。組立体扛又、
真空出口２６内に配ｔａれてい、る電極８０を包含する
電界発生装置を有し、電界発生装置は電界を発生し、ガ
スで汚染された粒状物質がこのｔＦＩＬｆ：受りて、ガ
ス状汚染物質【電気的に荷電させ、ガス状汚染物質を粒
状物質から分離源せて、＾空塞から真空出口２６ｔ−通
し°【ガス状汚染物質の除去を容易にする。電界発生ｆ
ｌｔｉ１１はガスを正か負に衝電させ或はイオン化して
、粒状物質からの分離を容易（／ＣＬ、真空の刀で真空
出口２６から移動さゼる。

出口２６内に利用される形式の電界発失鋏＊は、Ｗａｌ
ｔｅｒ　Ｊ、Ｒｏｚｍｕｓの名前で出願され、本発明の
１受入に譲渡されて、ここにその開示が組込まれた、特
許Ｐ−３ダ７に特に述べられ、かつ、特許請求の範囲に
記載されている。

第Ｓ図の実親一様にだけ示されているが、両案１１ｊＡ
ｌｌｉ４ＩＩは管状部材４０，４０’の周９にその＊ｍ
に隣接して配置された導電性の金属スクリーン−２を包
含していて、管状部材４０，４０’の織部から真空出口
２６に向かつて流れ出る粒状物質の移動ｔｌｌｌＪ＠す
る。スクリーン８２扛、管状部材の外部に摩擦係合して
いるバネ状コイルＩ４で、所定の位置に保り嘔れている
。スクリーン８２の円形の外周はｔＴ６の内−かられず
かに間隔１−＝たてている。

又、第、２図に最も良く示姑れているように、端上−ヤ
ツブ２Ｂ　　２８’の電荷を交互にψ性にするｌ（めの
中性用仮置がわる。特に、中性用数置は真空室から粒状
物質を流出させる底部の一キャップｔ−接地する。中す
用装置は、重力で作動する接触腕Ｂ６にｊｐ例示されて
おり、腕は骨組１８に番号＄８で回動自在に連結されて
いる。連結棒Ｔｌｌは非導′ｌＩＬ性の物質で作られ、
或は、端キャップ２８．２Ｂ’と電気的に隔絶されてい
る。さらに、−ギャツｆ２Ｂ、２８′と夫々の容器１４
との間の連結部は少なくとも一部がプラスチック管のよ
ｉ）な非導電性の導管含分している。組立体１０．１０
′は非専−性物質からなる軛９０會介して、を組１８に
より支持され−（、いる。このように、第２図に示すよ
うに、重力の作用で、最上部の部材８６は最上部の塩キ
ャンプ２８、或扛２Ｂ’と接触Ｌ　ｔいないのに対して
、底部の部材８６は底部の嶋ヤツブ都相２Ｂ、或は２８
′と接触している。

前述したように、容器１４を、組立体１６によりて回転
する骨組１８に取付け、＾空塞組立体１０或は１０’の
両端部に適轟な管を介して連結する。

最初に、いっばいの容１！）１４’ｔＪ［ｉｌｌに、空
の容器１４ｔ−頂ｉｌｌに配置する。これは粗く、脱ガ
スする丸めでＴｏ９、いっばいの容器が底部に位置決め
されている間にいっばいの容Ｓは真空源から真空出口２
６を介して、ゆっくりと真空を受けて、容器から容易に
引かれるガスを一部する。最下部の弁部材６８はより大
きな開放位置にＴｏ）、而して、開口部をより大きくす
ることによってこの粗い脱ガスを容易にする。下方位置
において開口部をより大きくすることによって、弁部材
６８はまた、底部出口流れ通路３０のテーノ母−シた出
口部分１２内での粉末の堆積を防止する。

粗い脱ガスの後、骨ｊ１１１１１ｔ／１０”　回転させ
ていっばいの容器１４を頂部の位置へ移動させる。

その結果、粒状物質の流れは、容器から頂部の一キャッ
プ部材２１６の入口部分に入って、粒状物質の流量を制
御する弁部材＠８を介して、真空室内に流れる。′上方
の位置における弁部材６８の中央開口部は最上方の漏斗
形部材３４．３４′の中央部分の真上に、位置決めされ
ている。落下する粒状物質は腕ｓ２．５２′の周りに落
下して、漏斗形部材３４．３４′の狭い、或は制限され
た部分へ流入しその小さな出口開口部３８から出る。落
下する粒状物質は次に、隣接する分散部材４２の上方円
錦面４＠に係合して、外方に流れ下方の漏斗形部材３４
、或Ｆ１３４’の出ローロ＠ａＳの直径より大きな直径
を有する褒状のカーテンを形成する。落下中、粒状物質
を管状部材４０によって周囲の真空室から隔絶し、かく
して、落下する粒状物質が真空出口２６の中へ移動する
のを防止する。落下する粒状−質の成るものは、下方に
配置されている分１１に部材４２の最上方の円錐面４６
に係合して、下方に流れ、下方に配置された漏斗形部材
３４或は３４′の下方の、或扛小さなｌ１１１１１ｓの
外部のまわりに環状カーテンを作る。粒状物質は管状部
材４＠、４０’の下−から流出して、底部の漏斗形部材
３４．３４′の外部の外方広がり部分に係合する。この
点で、ａｍに配置されている漏斗形部材の外方広がり外
１ｉｉＫ　ＬＤ、粉末を分散−に さゼ、領域のより広い進路へ移動させて、真空室にさら
す、電極、即ち電界発生装置８ｏは電極口Ｏと真空室の
底端部の間に正か負の電荷、即ち電位を生じさせる。電
極口Ｏと真空室の上方部分との間の電位よりも、電極と
粒状物質を分散させている真空室の底部との間の電位の
方が大きい。従って、接地は正か負の電荷に関して中性
であるから、最下方の導電趨キャツｆ２１．或は２・′
を最下方の部材・６で接地して、電極ｓＯと最上方の趨
キャツｆ２Ｂ或は２８′との間の電位より大きな電位を
、電極８０と最下方の端キャップ２０との間に確立する
。電極８０と、真空室の下方南部での聯末金属の分散と
部分の間の距離によつ工、真空出口２６への粉末金属の
吸引を最小にする。さらに、真空出口２＠のすぐ下、及
びすぐ上に配置されるスクリーン＠２Ｆｉ電極＄Ｏの嬌
長部になり、スクリーンは電極ｉＩＯの電荷と同じ電荷
、即ち、電極＄Ｏの電荷に依存して正か負の電荷で荷電
され、而して、スクリーンはイオン化したガス粒子を介
して荷電されることになる。スクリーン８２は真空型の
底部から真空出口２６への粒状物質の小さな粒子の移動
を阻止し、或は、極小にする。

上方の容器１４が空になった後、装置を作動して、粉末
でいっばいの下方容器１４を頂部位置へ移動させ、粒状
物質上次の下方の空の容器へ移して空にし、粒状物質の
脱ガス會更に行なう。所要の脱ガス度が連成されるまで
、愉質會臭空富に、ｌｆａ後に通す。所要の脱ガス度が
達成されたら、更に処塩會行うために、容器内に真空を
維持しながら、脱ガスされ九粉末會収容している容器１
畠置から取り外す。

本発明を例示の方法で説明した。使用している技術用語
は限定ではなく説明のためのものであることｔ通解すべ
きである。

本発明の多くの変形および変更が上記の教示に照して可
能である。従って特許請求の範囲内で、本発明會本文に
記載した以外の方法で夾總することができることを理解
すべきである。

【図面の簡単な説明】

嬉／Ｌｌｌは本発明を利用する組立体の側面図で６る。 第一図は本発明の第１の実施態様の一部切欠断面斜視図
である。 嬉３図は第一図の実＃ＩＩｍ様の１直断面図てわる。 第を図は第３図の実施態様における一つの部材の間の連
結部を示す拡大断片図である。 第３図は本発明の第２の実ｍ態様の上半分の断片垂直断
面図である。 第６図は第Ｓ図の実施態様の組立体の一部分の断片斜視
図である。 ２１．２１’・・・第一、及び籐二の一部、又はキャラ
１部材 １Ｇ、１Ｇ’・・・真空型 ｓＯ・・・流れ通路 ２＠・・・真空出口 ３２．３２′・・・流れ制御装置 ３４．３４′・・・漏斗形部材 ３−・・・大きな入口開口部 ８＄・・・小さな入口開口部 ４０．４０’・・・管状部材 ４２・・・分散装置 ４１１・・・墨点、又は頂点 ４４・・・外周部 ４６・・・円錐面 ５０、ｓｏ’　　・保持装置又はステム５２．５２′・
・・保持装置、又は腕 Ｓ＠（５＠’）・・・バネ ６０・・・腕 ６１・・・腕６０の上端部 ６２・・・キャッグ部材２８の凹部 ｓ４・・７ランノ ６５・・・真空型のＳＳ ＠３・・・位置決め部材 ・６・・・放射状の開口部 ６畠・・・ｆｆａ置 ＴＯ・・・入口部分 １４・・・停止部材 １＠・・・非導電性管 ８０・・・電界発生装置 ８２・・・導電性スクリーン　　８６・・・中性用・鋏
置

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ／）第ハ及び第一の端ｍ５（２１％１魯′）を有する真
   空１！（１０，１０’　）會備え、各港ＩＩ（２１゜２
   ＄′）に、粒状物質の流れを＃記真空電に出入させる九
   めの流れ通路（＄６）を設け、前記真空ｌ［は前記第ハ
   及び第一の端部（２０、ス・′）の中間に前記真空室か
   らガス状汚染物質を除去するための真空出口（宜・）を
   有する、ガスで汚染された粒状物質を脱ガスするための
   組立体において、 流れ制御装置（３２，３２′）は前記真空筒（１０，１
   ０’　）内に配置され、かつ対称な端部上布し、流れ制
   御装置（＄１３２’　）は前記流れ通路（３０）のいず
   れかから粒状物質を受は入れ、粒状物質の流れを反対側
   の１１１ＩＩＳＫ差し向け、前記真空出口（２１ＫＩＩ
   接する真空庫の中央部分を介して、周囲の真空室から粒
   状物質の流れｔ隔絶し、 流れ制御装置（＄２．３２’　）ａ粒状物質を分散させ
   、粒状物質が隣接する流れ通路から流出する前に前記反
   対側の１１１１ｗＡに隣接する真空筒にさらし、多量の
   粒状物質が第７の端部から第一の端部まで前記真空室を
   通して、重力で流れ、その後多量の粒状物質が前記第一
   の端部から前記第１の端Ｓｔで前記真空ＩＭを通して重
   力で逆流するように、前記真空■を反対に回転させるこ
   と１特徴とする、ガス汚染され九粒状物質を脱ガスする
   九めの組立体。 コ）前記流れ制御装置（＄２．１２’　）は夫々、前記
   第１、及び第一の端部（２−１２８′）の前記流れ通路
   （３０）の各々ＫＩＩＩして配置されている漏斗ｉ＃部
   材（３ｍ、３４′）を有し、各々の前記漏斗形部材（３
   ４，８４’　）は、周囲が隣接する流れ通路（Ｓｏ）Ｋ
   肉いている大きなムロ−ロ部（３６）と、小さな出口開
   口部（８ｍ）とを有し、小さな出口開口部は傭の漏斗形
   部材の小さな出口開口１１（１口）から間隔をへだてて
   いてかつ、それに面しており、 各々の前記漏斗形部材の前記入口開口部（３６）の前記
   周囲の少なくとも一部分は、各々の漏斗形部材（３４，
   ３４’　　）の外部の上に分散させ九粒状物質を隣接す
   る流れ通路（３０）から流出させるために、前記ＩＩＢ
   接する流れ通路（＄０）から間隔をへ友てでおり、 前記流れ制御装置（３２，３２′）は、ｍｓを前記小さ
   な出口開口部（３＄）から間隔上へだてた関係に配置し
   て前記真空型内に懸ｌｌｉ＆され、粒状物質の流れを前
   記真空型の中央部分から隔絶するための管状部材（４０
   ，４０′）を備え、前記管状部材の前記端部は、各々の
   漏斗形部材の一部分ｔ−前記真空−富に露出させるため
   前記漏斗形部材の前記大きな開口部から間隔をへだてら
   れ、前記流れ制御装置（３２，８２’　）は、一つの小
   さな出口開口部（３０）から出る粒状物質を反対側の小
   さな出口開口１＄（＄１へそして反対側の漏斗形部材（
   ３４，３４’　）の露出した部分の外部の上に分散させ
   る友めの分散装置（４２）を有し、粒状物質が前記大き
   な入口開口ＩＩ（３１の前記周囲に流れ、隣接する流れ
   通路（３０）から流出することを特徴とする特許請求の
   範囲第１項に記載の組立体。 ３）前記分散装置（４２）は少くとも１つの分散部材を
   包含し、咳分散部材は、小さな出口開口部（３Ｓ）から
   の粒状物質の流れに係合してこれを反対側の小さな出口
   開口部（３＄）を囲むカーテンに分割するための外方か
   つ内方に傾斜した面で囲まれた高い点（４８）をもって
   いることｔ−特徴とする特許請求の範囲第コ項に記載の
   組立体。 ｌＩ）前記分散装置（４２）は、前記小さな出口開口部
   （３Ｉ）の各々と関連した分散部材を有し、前記分散部
   材の各々Ｆｉ舶紀小さな出口開口部（３８ンより大きな
   円形の外周部（４４）を有し、円錐面（４６）は前記外
   周部から反対側の頂点（４＠）まで反対方向に延びてお
   り、 前記分散部材（４２）は、各分散部材を関連した小さな
   出口開口部（３８）を閉鎖する閉鎖位置と、関連し九小
   さな出口開口部（ａｌｌ）から間隔を・＼たてた開放位
   置との間で移動させるための保持鉄＊　＜　Ｓ　０５５
   ２、ＳＧ’、５２’　）を有することλ特徴とする特許
   請求の範囲第２項に記載の組立体。 ｊＪ　　Ｍｕ記保持鰺ばは、各分散部材の頂点から関連
   １友小さな出口開口部（３８）を貫通して　半径力１−
   シ（蝙ひた腕（５２，５２′　）まで延びているスブＪ
   、　ｔ　Ｓ　０１５０′　）を有し、腕＋５２．５２’
   　　）は＾Ｕ配開放位置に分散部材を位に次ゆするため
   に関連し７Ｉｃｎ４斗形部材（３４，３４′　）に係合
   Ｊるようになっていることを％像とする特許請求の範囲
   第を項に記載の組立体。 と）　パイ（５１ｉ、５６′　）が、前記真空型内に前
   配管状部材（４Ｇ、４０’　　）を懸架するために、−
   〇配管状部材（４０，４０′　）の各端に配置され−（
   ”いることを特徴とする特許請求の範囲ｇコ項に記載の
   組立体。 ７）各バネ（Ｓ６１＆よ、一端がＭ接する漏斗形部伺（
   ３４）の外部に係合し、他端が前記管状部材（４０Ｊの
   隣接する端に係合し、ているコイルバネからなり、 前記−井形扉材（３４）の着々μ８０記人口開１１部（
   ３１ｉ）（−罰配一周囲部から蝙ひている腕（６０１を
   有し、 腕（６０）は、内ｄ記−斗形部材（３４１を位置決めす
   るｆｃめに＾１■配＠恢する派れ通路（７４０１Ｖｊに
   支持（６１，６２）されていることｔ−％倣とＪ゛る特
   許請求の範囲第６狽に１躯の組立体、。 ｇ）各バネ（５６’　　ｌは一層が一層する漏斗形部材
   （３４’　　）の内部（６４）＆こ係会し、他端か−Ｕ
   記真空室の隣接する電電（８Ｓ　）　ＩｔＣ係合し−Ｃ
   （・′・るコイルバネからなり、 位置決め扉材（６３）はＨｕ紀管状部材（４０’）の各
   端、及び、ｒ！に接する漏斗形部材（３４’　　）ｖ−
   ；外部（６４１ｔ−相互Ｖ′ｃ連結していることを特徴
   とする特許請求の範囲第６項に１載の組立体。 ９）各漏斗形部口（３４’　　）は内部の屑と外６ｔの
   肩を構成している生徒方向に延びた７ランノ（ｂ４）を
   有し、前記バａ−（５＆’）は前記内部の胸（（、泳合
   し、前記位置決め部材（６３）は前記外酩θｌＮに保合
   し、前記位置決め部材（Ｉ３）は粒状物質を前配管状部
   材（４Ｇ’　）から＠接する漏斗形部材（３４’）の外
   部に流出させる半径方向の開口部（６＠　）ｋ−有する
   ことｔ％黴とする特許請求の範囲第３項に記載の組立体
   。 １０）前記真空窩内・′・の粒状物質の流量を所定の入
   ４」流量に制限し、前記真空冨からの粒状物質の出１」
   流ｍ　ｆ：ｓｔ＋記所定の入口流量より大きくさせるた
   めの弁装置（６１）ｔ−紬記流れ通路（３０）の各々に
   設けたことｔ％黴とする軸１ｆｔｉ１１１Ｊ求の範囲第
   ２項に１賊の組立体。 ／／）　ａＪ記流れ通路（３０）の各々は粒状物質が前
   記−、空室へ流れる方向に’ｌｉｔ　１ｉｌｉ槍の減少
   する入口部分（７０）と、１ｕ配人口柚分（１０）の谷
   々に配置された停止部材（１４）と′を鳴し、ｍ配弁装
   置の各々は＋ＩＪ紀停止部材から入口流れの下流に配置
   され°Ｃいる弁部材（６８）を有し、ｆＦ部＠は、前記
   入口部分（１０）と密封係合する九めの外面と、Ｐｉｌ
   ｌ記所定の入口Ｒ墓を確立するための中央入口とを南し
   、かつ１記入口部分との保合から離れて前記隣接する停
   止部材（１４）に−って移動し外面の周りと、前記中央
   入口を介して、前記出口流蓋を確立することを特徴とす
   る特許請求の範囲第７０項に記載の組立体。 ｌコ）前記入口部分（Ｔｏ）各々は円錐形であり、各弁
   部材の外部は前記入口部分と同じ円錐形であり、各弁部
   材の前記中央入口開口部は円筒形の出口まで延びている
   円錐形入口を有し、前記停止部材（Ｔ４）は１記入口部
   分の凹部に配置されているリングからなることｔ特徴と
   する特許請求の範囲第１／項に記載の組立体。 ／３）前記真空１ｉｉｔｉ非導電性管（１６）と、前記
   管（Ｔ６）の各端と密封係合している導電性端キャップ
   （２−１２８′）−七を有し、前記キャップ（２８，２
   ８’　　）は前記流れ通路（３０）を構成し、前記管状
   部材（４Ｇ、４０′）は非導電性物質からな夛、前記真
   空ｍは電界発生装置（１１０）を有し、電界発生装置（
   ８０）は電界を発生させて、ガスで汚染された粒状物質
   が電界を受けて、ガス状汚染物質を電気的に荷電させ、
   ガス状汚染物質會粒状物質から分離させ、前記真空富か
   ら前記真空出口を通してガス状汚染物質の除去を容易に
   し、前記真空富は前記端キャップの電荷を交互に中性に
   する九めの中性用装置（Ｓ６）を有することｔ％黴とす
   る特許請求の範囲第一項に記載の組立体、・ ／＋）　１ｌｔｌ記電界発生懺置（・Ｏ）は前記真空出
   口（２＠）内に位置決めされ、前記中性用装置（−６）
   は前記真空富から粒状物質の流出する端キャップを接地
   することを特徴とする特許請求の範囲第７３項に記載の
   組立体。 ／Ｓ）導電性スクリーン（−２）が、前記管状部材（４
   ０，４０′　）から出て前記真空出口（２＠）に向う粒
   状物質の移動を制＠するため、前記管状部材（４０，４
   ０′）の周９にその各港に隣接して配置されていること
   を特徴とする特許請求の範囲第１４！項に記載の組立体
   。 ／６）　前記分散装置は少くとも１つの分散部材（４り
   を有しζ腋分散部材は、一つの小さな出口開口部（３＠
   ）からの粒状物質の流れに係合してこれを反対側の小さ
   な出口開口部（３・）を取り囲んでいるカーテンに分割
   するための外方かつ内方に傾斜した面（４＠）で取ｌ■
   れている高い点（４０）を有し、前記分散装置は、前記
   真空窩内に前配管状部材（４０，４０′　）に懸架する
   ために前記管状部材（４０４０’　）の各１１１１Ｋ配
   置されたバネ（！！ＩＩ、　５６’　）と、前記真空窩
   内への粒状物質の流量を所定の入口流量に制限し、前記
   真空富からの粒状物質の出口流量を前記所定の入口流量
   １９大きくさせるための、前記流れ通路（＄０）の各々
   に設けられ九弁部材（＠口）とを有し、前記真空１１は
   非導電性管（Ｔ６）と、前記管（７１）の各端と密封係
   合している導電性端キャップ（２−１２１１’　　）と
   を有し、前記キャラ７’（２８，２・′）は前記流れ通
   路を構成しておシ、前記管状部材（４０，４０’　　）
   は非導電性物質からなプ、前記真空富は電界発生装置（
   ８０）を有し、電界発生装置（８０）は電界を発生させ
   て、ガスで汚染された粒状物質が電界を受けて、ガス状
   汚染物質を電気的に荷電させ、ガス状汚染物質を粒状１
   質から分離させ、前記真空室から前記真空出口（２＠）
   ｔ−通して、ガス状汚染物質の除去を容易にし、 前記真空ｉ１は前記趨キャップの電荷を交互に中性にさ
   せる中性用装置（８＠）を有していることに％黴とする
   特許請求の範囲第２１ＡＫ記載の組立体。