JPS588486B2 - プログラムカノウナカイセツゴウシ - Google Patents

プログラムカノウナカイセツゴウシ

Info

Publication number
JPS588486B2
JPS588486B2 JP49074195A JP7419574A JPS588486B2 JP S588486 B2 JPS588486 B2 JP S588486B2 JP 49074195 A JP49074195 A JP 49074195A JP 7419574 A JP7419574 A JP 7419574A JP S588486 B2 JPS588486 B2 JP S588486B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic field
film
magnetic
domain
orientation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP49074195A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5034555A (ja
Inventor
アーニスト・ジエイムズ・トロク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ABERCOM AFRICA Ltd
Original Assignee
ABERCOM AFRICA Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ABERCOM AFRICA Ltd filed Critical ABERCOM AFRICA Ltd
Publication of JPS5034555A publication Critical patent/JPS5034555A/ja
Publication of JPS588486B2 publication Critical patent/JPS588486B2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/09—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on magneto-optical elements, e.g. exhibiting Faraday effect
    • G02F1/091—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on magneto-optical elements, e.g. exhibiting Faraday effect based on magneto-absorption or magneto-reflection
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
    • G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
    • G03H1/22—Processes or apparatus for obtaining an optical image from holograms
    • G03H1/2294—Addressing the hologram to an active spatial light modulator

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Holo Graphy (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)
  • Viewfinders (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 発明の背景 本発明はプログラム可能な回折格子に係り，殊に磁気的
ストライプ・ドメインを支持する能力を有している磁気
材料製のフイルム層と、直交ＤＣ磁界成分を発生する手
段であって個別にアドレス可能なセルからなるマトリク
スに配置された手段と、ＡＣ磁界を発生する手段とを具
備している、プログラム可能な回折格子に係る。
デイジタルコンピュータを使用するフーリエ変換技術に
よる如き、例えば航空写真の像処理は従来から周知であ
る．しかし乍ら、斯かる像に関しては高度に洗練された
処理を必要とするので、当該処理を施こすためには不合
理な程長期に亘りコンピュータを作動させねばならない
。
従って、コンピュータ操作を最小化してリアルタイムに
航空写真を処理し得るようになすことが望ましい。
文献「Ｔｈｅ Ｕｌｔｉｍａｔｅ ＣｏｍｐｕｔｅｒＢ
ＩＥＥＥ Ｓｐｅｃ−ｔｒｕｍ，第８４−９１頁（１
９７２年３月）を参照され度い。
本発明はホログラフ技術を利用して、リアルタイムの光
学的処理システムで像を処理しようとするものである。
一方、本出願人の出願に係る特願昭４６−８３４４号（
特開昭４６−１６４０号、米国特許第３７５２５６３号
）には、磁気フイルムのストライプ・ドメイン間のドメ
イン壁を回折格子として利用する光偏向システムが開示
されている。
該システムには、隣接ドメインの分離及び平行ストライ
プ・ドメインの回転可能な配向を変化させる手段が設け
られている。
このシステムは、フィルム面に指向された光線の焦点を
カー効果乃至ファラデイ効果によって制御するのに利用
されている。
発明の概要 本発明は上記特願昭４６−８３４４号に係る発明の改良
発明と見做されるべき発明に係るものであって、上記特
許願に開示されているシステムを複数個のストリップラ
イン・アレーを有するシステムに拡張して、フイルムの
各部におけるドメイン壁の分離と配向の制御を個々に且
つ選択的になし得るようにするものである。
フイルムの各部におけるドメイン壁の分離と配向に関す
るこの選択的制御は間隔と配向とを実際上連続的に変化
させてドメイン壁が任意の形状となるのを可能にする．
種々形状でのドメイン壁配置が種々の像処理機能をもた
らすのである。
好適な実施例の説明 第１図には、本発明を具体化する電気的に変更できる回
折格子１０の透視図が示されている。
格子１０は、プレーナ表面から近い方から挙げられた以
下のコンポーネント部品から成る。
（ａ） Ｘ及びＹ方向磁界発生用の、夫々Ｘ及びＹ素
子のプレーナ・マトリクス・アレイ１２、それらの素子
の各々は平行なストリツプライン１３の一組から成って
いる； Ｘ素子ストリップラインはＹ素子ストリップラインに重
ねて直角に置かれており、その結果Ｘ及びＹ素子に接続
される電流によって格子１０の表面全体に直角なＸ及び
Ｙ方向磁界が発生する。
その様な素子は誘電体基板を被覆しダブル・カッパ−（
ａ ｄｏｕｂｌｅ ｃｏｐｐｅｒ）から、周知の化学
的エツチングの方法によって形成されてもよい。
（ｂ） Ｘ及びＹ素子のマトリクス・アレイの或る関
連したＸ，Ｙ素子へ夫々のＸ及びＹの選択ラインを結合
するため多層印刷回路板構造から成る相互交叉マトリク
ス１４。
（Ｃ） ストリップラインに一番近いフイルム１８の
一側にデポジットされたオプテイカル・ミラー１６。
（ｄ） 前述のＥ ． Ｊ ． Ｔｏｒｏｋ他による
特許出願の中で論じられている様な、例えばＹＩＧクリ
スタルのストライプ・ドメイン・フイルム層１８．フイ
ルム層１８は格子１０のプレーナ寸法全体に亘ってむし
ろ連続的な層である。
そしてその個個の部分は、事実、ストライプ・ドメイン
の分離と方位がフイルム上のＤＣ磁界の強さと方向に変
化を与えることによって変えられる処のオプテイカル・
セルを形成するためにアレイ１２の重ねられたＸ及びＹ
素子と夫々関連している。
フイルム層１８に於けるヒステリシスは同時に格子１０
の面に対して直角をなして向けられるＡＣテイツクル（
ｔｉｃｋｌｅ ）磁界によって消去される。
特に第２図には、重ねて結合されたＸ素子２２及びＹ素
子２４に特に誘導的に結合される処の第１図のフイルム
層１８の部分であるフイルム２６、単一の重ねられるＸ
素子２２及びＹ素子２４によって形成される典型的なオ
プテイカル・セル２０が示されている。
更に第２図には、夫々関連したＸ方向磁界Ｈｘ及びＹ方
向磁界ＨＹを発生させるためＸ素子２２及びＹ素子２４
に結合されるＸ及びＹ選択電流源である処の電流信号源
２３及び２５が示されている。
磁界Ｈｘ及びＨＹは、フイルム２６に誘導的に結合され
ており、フイルム２６の平面上で直交ベクトル磁界ＨＸ
及びＨＹの極性及び大きさのベクトルの合成として生じ
た磁界ＨＲを発生させる。
この様にしてベクトル磁界ＨＸ及びＨＹの極性及び大き
さを絶えず変化させることによってフイルム２６の平面
にあらゆる所望の方向及び大きさのＤＣ合成磁界ＨＲ，
を発生させることができる。
Ｘ素子２２及びＹ素子２４は、４本の平行線、例えば線
２２ｅ，２２ｆに結合される平行な２２ａ，２２ ｂ
，２２ｃ ，２２ｄから成っているように図示されてい
る。
更に磁界ＨＸ及びＨＹを与えている間フイルム２６のヒ
ステリシスを消去するためにフイルム２６の平面に対し
、直角あるいは垂直であるＡＣテイツクル磁界ＨＴ．の
源２８が示されている。
特に第３図には、フイルム２６の平面に於て、同時に供
給されるＤＣ直交磁界ＨＸとＨＹ及びフイルム２６の平
面に対し直角に供給されるＡＣ磁界ＨＴの理想的なタイ
ミング図が示されている。
示されている如く、各々があらゆる種々の可能な極性及
び大きさであってもよい磁界Ｈｘ及びＨＹは、ほとんど
同時に開始及び終結されてよい。
一方減衰する振幅のＡＣテイツクル磁界ＨＴは磁界ＨＸ
及びＨＹの開始時でのみ起こる。
第４図は、関連したベクトル４／ａ ４／ｉによって
示される関連したドメイン壁方位が形成されるフイルム
２６ａ−２６ｉのＸＹアレイから成る格子４０の概要図
である。
夫々関連したフイルム２６ａ−２６ｉの夫々に於けるか
ゝるベクトル４１ａ−４１ｉは壁分離を変化させること
によって分離される処の隣接するドメイン壁４２，４３
４４，４５のほとんど連続的な曲線に沿って方位づけら
れるものとして示されている。
サイズを考慮するために、夫々のフイルム２６ａ−２６
ｉは、隣接する線４ ２−４ ５間の分離を変化させる
ことによって図で示される夫々のフイルム２６ａ−２６
ｉの壁分離の変化を伴って関連した連続線４２−４５に
沿って方位づけられている単一のドメイン壁を有するも
のとして説明されている。
フイルム２６は格子１０の上で連続的に存在し、そして
Ｘ及びＹ素子は限定されている距離をフイルム２６から
分離されるので、フイルム２６ａ ２６ｉの夫々の合
成磁界ＨＲは、フイルム２６の平面上でならされる。
この様にして、フイルム２６ａ−２６ｉの夫々のドメイ
ン壁方位は，隣接フイルム２６ａ−２６ｉの方位によっ
て影響されて壁間分離が変化する実質的に連続的な曲線
ドメイン壁の形状を発生させ、これらの全ては夫夫関連
したＸ及びＹ素子に結合された、選択電流Ｉｘ及び■Ｙ
の夫々の極性及び大きさとに応じて決定される・・・第
２図参照。
第５図を特に参照すると、特にフイルム２６ｅに関して
第４図のドメイン壁４３．４４の間に存在し得るドメイ
ン壁のある例についての概要図が示されている。
第５図には、フイルム２６ｅが、ドメイン壁４３と４４
との間に別の三つのドメイン壁４３ａ，ｂ，ｃを有する
ものとして示されており、隣接ドメイン壁間の各ドメイ
ンは、それに関連した磁化ベクトル５０，５１ ，５２
，５３を有するものとして示されている。
第４図のドメイン壁方位４３，４５を有するフイルム２
６ｅは、それらドメイン壁間に第５図に示されているよ
りも多いか或るいは少ない数のドメイン壁を有すること
ができるということが認められるはずである。
そして、それは、変化する壁分離及び方向を持ったほと
んど連続的曲線のドメイン壁を示すために提示されてい
る。
第６図は、プログラム可能な回折格子システム６０のブ
ロック図であって、それは格子６２のストライプ・ドメ
イン・フイルム層をして壁間分離と方位とが変化する実
質的に連続した曲線ドメイン壁をその中に生ぜしめる。
制御器６４は、第２及び第３図で詳細に論じられた方法
で、格子６２中のＸＹアレイに於て形成されるオプテイ
カル・セルの夫々に選択された大きさ及び極性のＸ及び
Ｙ選択電流士ＩＸ及び±ＩＹを選択的に連結するために
、Ｘセレクト６６、Ｙセレクト６８及びＡＣ源７０を制
御する．かゝるシステムは、オプテイカル・セルのフイ
ルムのＸＹアレイによって形成されるプレーナ・ストラ
イプ・ドメイン・フイルムに於て、あらゆる所望の形の
ドメイン壁の配置を形成するために夫々対応するオプテ
イカル・セルの各々のフイルム素子の平面に於て、各合
成ＤＣ磁界ＨＲの方位、大きさ及び極性を選択的に決定
する。
第６図のシステムは、すべてのオプテイカル・セルに選
択電流が同時に用いられる変化し易い配置で、或いは強
固な保磁性のフイルムが用いられそしてまた選択電流が
夫々のオプテイカル・セルに順次に用いられるような変
化しない配置のどちらかの方法で行われてもよい。
先のＥ ， Ｊ ， Ｔｏｒｏｋ他による特許出願で論
じられた様に、例えばＹＩＧクリスタルの磁化可能なフ
イルム層１８は多数のストライプ・ドメインに於て配列
された磁化を有している。
フイルム１８はファラデー効果型のものでもカー効果型
のものであってもよい。
然し乍ら、第５図に於てより詳細に説明された如く、複
数の実質的に平行なストライプ・ドメイン内にその磁化
方向を配列させるような磁化特性を有していなければな
らない。
隣接したストライプ・ドメインは夫々ドメイン壁、例え
ば４３Ｃ、によって分離されており、そしてフイルムの
平面にある角度で、反対方向、上・下、に整列された夫
々の磁化を有しており、それらの平均磁化は、磁化ベク
トル５２及び５３により示された如くフイルム平面に整
列される。
適当な極性及び大きさの合成ＤＣ磁界ＨＲ及びフィルム
のドメイン壁に対して直角であるような、同時に生ずる
ＡＣテイツクル磁界ＨＴを供給することによって、スト
ライプ・ドメイン壁方位及び分離は選択的に制御されて
得る。
この様にして、大きさが減少傾向にあるフイルム上の磁
気ベクトルと即ち平行に、合成ＤＣ磁界ＨＲを供給する
ことによって壁分離は減少する。
しかし大きさが増加すると壁分離は増加する。
逆に、仮に合成ＤＣ磁界ＨＲが、大きさが減少傾向にあ
るフイルム上の磁気ベクトルと反対方向に逆平行である
と、壁分離は増加する。
しかし大きさが増加すると壁分離は減少する。
そして前述の如く合成ＤＣ磁界ＨＲの方位は、フイルム
の平面に於てドメイン壁の方位を決定する。
これらの関係を用いると第６図の該システムは格子６２
に於ける多くのドメイン壁配置を達成するために用いら
れ得る。
上述された様に，本発明の格子はオプテイカル処理シス
テムに於て用いられることが意図されている．このよう
にして、変化する壁分離及び方位のほとんど連続的な曲
線のドメイン壁の種々な配置の、種々の回折格子配置は
、空中写真或いはレーダ写真のリアル・タイム処理を形
成するために用いられてもよい。
第７ａ−７ｆ図を参照すると、関連した図と共に示され
た如く、特定のオプテイカル・処理作業を遂行するため
のいくつかの典型的な格子配置が示されている。
本発明は以下の如く実施される。
（１）、プログラム可能な回折格子であって、以下の要
素から成る。
オプテイカル・セルのアレイ、各オプテイカル・セルは
以下を含む。
プレーナ・ストライプ・ドメイン・フイルム素子、 前記フイルム素子中に、予じめ定められた可変の方位及
び大きさの合成ＤＣ磁界を発生するための選択手段、 前記オプテイカル・セルのアレイにＡＣ磁界を誘導的に
結合するための手段、 前記オプテイカル・セルのアレイのフイルム素子中に、
変化する壁分離のほとんど連続的な曲線のドメイン壁の
配置を発生させるため、前記フイルム素子の夫々の平面
に各合成ＤＣ磁界の特に方位と大きさとを決定するため
に前記選択手段を制御する制御手段。
（２）、前記ＡＣ磁界が、前記フイルム素子の平面に対
して、ほとんど垂直に方向づけられる処の（１）の格子
。
（３）、前記ＡＣ磁界が、前記合成ＤＣ磁界を最初に与
える間、前記フイルム素子のヒステリシスを消去するに
充分な大きさを有する処の（１）の格子１（４）、前記
ＡＣ磁界が、前記ドメイン壁に対しほとんど垂直に方向
づけられる処の（１）の格子。
（５）、前記オプテイカル・セルのアレイのフイルム素
子が、連続的な層の個々の部分である処の（１）の格子
。
（６）、プログラム可能な回折格子であって、以下の要
素から成る。
Ｘ素子を生じるＸ方向磁界のプレーナ・マトリクス・ア
レイ； Ｙ素子を生じるＹ方向磁界のプレーナ・マトリクス・ア
レイ； 相互に作用するＸ及びＹ方向磁界配置に配列された夫々
の前記Ｘ及びＹ素子の相互に作用するものゝ対； 前記Ｘ素子の選択された１つに選択可能な極性及び振幅
のＹ選択電流を選択的に結合するため、前記Ｙ素子の夫
々に選択的に結合されたＹ電流源選択手段； 複数の共同プレーナ・ストライプ・ドメイン・フイルム
素子、ＸＹオプテイカル・セルを形成するため前記相互
に作用するＸ及びＹ素子の分離した一対にのみ誘導的に
結合された分離したもの； ストライプ・ドメイン・フイルム素子を誘導的に結合さ
れたものＸ平面に於て、予じめ定められた可変の方位及
び大きさの合成ＤＣ磁界ＨＲを発生させるため、前記相
互に作用するＸ及びＹ素子の前記対の選択された１つに
選択された極性及び振幅の選択されたＸ及びＹ選択電流
を同時に結合するため前記Ｘ及びＹ電流源選択手段を同
時に制御する電流制御手段； 前記複数の共同プレーナ・ストライプ・ドメイン・フイ
ルム素子に於て、ほとんど連続的可変のストライプ・ド
メイン壁分離の選択された配置を発生させるため、前記
ＸＹオプテイカル・セルに誘導的に結合され、そして関
連した合成ＤＣ磁界ＨＲと協働するＡＣ磁界手段。
（７）、前記ＡＣ磁界が、前記フイルム素子の平面に対
して、ほとんど垂直に方向づけられる処の（６）の格子
。
（８）、前記フイルム素子が連続的な層の個々の部分で
ある処の（６）の格子。
（９）、磁気的ストライプ・ドメインを支持することの
できる磁性材料のフイルムと、該フイルムにＡＣ磁界を
発生する手段と、該フイルム平面内にＤＣ磁界を発生す
る別個にアドレス可能なセルのマトリクス状に配列され
た手段とを含み、それによって該ＤＣ磁界の強度と方位
とが該フイルムの異なる部分に於て変化せしめられて異
なった像転送学格子を発生することができるところの、
プログラム可能な回折格子。
（１０）上記（９）記載のプログラム可能な回折格子で
あって、上記フイルムが該ＤＣ磁界の発生される複数の
セルに亘って連続した一つの磁性層を含んでいるところ
のもの。
（１１）上記（９）又は（１０）記載のプログラム可能
な回折格子であって、上記ＡＣ磁界が該フイルム平面に
実質的に垂直に与えられているところのもの。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明のプログラム可能な回折格子の透視図
である。 第２図は、第１図の格子のオプテイカル・セルのＸＹマ
トリクス・アレイの単一のオプテイカル・セルを図示し
たものである。 第３図は、本発明で用いられる典型的な駆動磁界の波形
及びそのタイミングの図である。 第４図は、典型的なドメイン壁及び磁化ベクトル方位を
もった第１図の格子の９つのオプテイカル・セルのＸＹ
アレイの図である。 第５図は、第４図で概略的に示されたドメイン壁及び磁
化方位をより詳細に説明している第４図の単一のフイル
ム素子の図である。 第６図は，本発明を具体化するプログラム可能な回折格
子のブロック図である。 第７ａ−７ｆ図は、本発明の格子によって得られるかも
しれない種々の格子の形態の図である。 符号説明、１０：格子、１２：プレーナ・マトリクス・
アレイ、１３：ストリップライン、１４：相互交叉マト
リクス、１６：オプテイカル・ミラー、１８：フイルム
、２０：オプテイカル・セル、２２：Ｘ素子、２３，２
５：電流信号源、２４：Ｙ素子、２６：フイルム、４０
：格子、４１：ベクトル、４２〜４５：ドメイン壁、５
０〜５３：磁化ベクトル、６２：格子、６４：制御器、
６６：Ｘセレクト、６８：Ｙセレクト、７０：ＡＣ源。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １ 磁気的ストライプ・ドメインを支持する能力を有し
    ている磁気材料製のフイルム層１８と、直交ＤＣ磁界成
    分（Ｈｘ及びＨｙ）を発生する手段であって個別にアド
    レス可能なセル２０からなるマトリクスに配置された手
    段１２，２２，２３，２４，２５と、ＡＣ磁界を発生す
    る手段２８とを具備しているプログラム可能な回折格子
    においてＤＣ磁界成分を発生する上記手段１２，２２，
    ２３，２４，２５が各セル２０につき当該セルにのみ関
    連づけられた２つの電流源２３及び２５を具備しており
    、該電流源の出力電流（±Ｉｘ及び±Ｉｙ）を強度及び
    極性の両者について従って当該電流により発生せしめら
    れる直交ＤＣ磁界成分（Ｈｘ及びＨｙ）の強度及び方法
    について選択することができ、これによって各セル２０
    に印加される生成ＤＣ磁界ＨＲを磁気材料製フイルム層
    の異なる部分において所望の強度及び方位となして種種
    の像転送光学格子を発生させることができ、且つＡＣ磁
    界を発生する上記手段２８がＡＣ減衰磁界を発生するよ
    うに配置されていることを特徴とする、プログラム可能
    な回折格子。
JP49074195A 1973-06-29 1974-06-28 プログラムカノウナカイセツゴウシ Expired JPS588486B2 (ja)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US375255A US3861784A (en) 1973-06-29 1973-06-29 Programmable diffraction grating

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5034555A JPS5034555A (ja) 1975-04-02
JPS588486B2 true JPS588486B2 (ja) 1983-02-16

Family

ID=23480155

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP49074195A Expired JPS588486B2 (ja) 1973-06-29 1974-06-28 プログラムカノウナカイセツゴウシ

Country Status (6)

Country Link
US (1) US3861784A (ja)
JP (1) JPS588486B2 (ja)
DE (1) DE2430619A1 (ja)
FR (1) FR2235378B1 (ja)
GB (1) GB1481841A (ja)
IT (1) IT1015253B (ja)

Families Citing this family (68)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4322134A (en) * 1975-04-04 1982-03-30 Director, National U.S. Government, Security Agency Electronic lens
US4011009A (en) * 1975-05-27 1977-03-08 Xerox Corporation Reflection diffraction grating having a controllable blaze angle
NO138677C (no) * 1976-06-09 1978-10-18 Sentralinst For Ind Forskning Fremgangsmaate til fremstilling av syntetisk hologram, og middel for utfoerelse av fremgangsmaaten
US4246549A (en) * 1977-10-04 1981-01-20 Sperry Rand Limited Magneto-optical phase-modulating devices
US4408277A (en) * 1980-08-06 1983-10-04 Moorfeed Corporation Holographic imager
US4615619A (en) * 1984-03-19 1986-10-07 D.O.M. Associates, Inc. Stationary, electrically alterable, optical masking device and spectroscopic apparatus employing same
US4750834A (en) * 1986-01-07 1988-06-14 D.O.M. Associates, Inc. Interferometer including stationary, electrically alterable optical masking device
NL8701749A (nl) * 1987-07-24 1989-02-16 Philips Nv Inrichting voor het met optische straling aftasten van een informatievlak.
US4856897A (en) * 1987-08-14 1989-08-15 D.O.M. Associates, Inc. Raman spectrometer having Hadamard electrooptical mask and diode detector
US4927220A (en) * 1987-12-31 1990-05-22 Microelectronic & Computer Technology Corp. System and method for photorefractive holographic recording and signal processing
JP2857273B2 (ja) * 1991-12-24 1999-02-17 科学技術振興事業団 収差補正法及び収差補正装置
US5991078A (en) * 1992-08-19 1999-11-23 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Display medium employing diffraction grating and method of producing diffraction grating assembly
US6404553B1 (en) * 1994-02-07 2002-06-11 Engineered Support Systems, Inc. Phase active diffractive optical method
US5757536A (en) * 1995-08-30 1998-05-26 Sandia Corporation Electrically-programmable diffraction grating
US5905571A (en) * 1995-08-30 1999-05-18 Sandia Corporation Optical apparatus for forming correlation spectrometers and optical processors
JPH10133150A (ja) * 1996-10-29 1998-05-22 Canon Inc 回折光学装置及びこれを用いた露光装置
JP4344090B2 (ja) * 1998-03-10 2009-10-14 イギリス国 ３次元像形成システム
US6872984B1 (en) 1998-07-29 2005-03-29 Silicon Light Machines Corporation Method of sealing a hermetic lid to a semiconductor die at an angle
US6303986B1 (en) * 1998-07-29 2001-10-16 Silicon Light Machines Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die
US6014257A (en) * 1998-10-14 2000-01-11 Eastman Kodak Company Light modulator
US5991079A (en) * 1998-10-14 1999-11-23 Eastman Kodak Company Method of making a light modulator
US6387723B1 (en) * 2001-01-19 2002-05-14 Silicon Light Machines Reduced surface charging in silicon-based devices
US7177081B2 (en) * 2001-03-08 2007-02-13 Silicon Light Machines Corporation High contrast grating light valve type device
US20030208753A1 (en) * 2001-04-10 2003-11-06 Silicon Light Machines Method, system, and display apparatus for encrypted cinema
US6707591B2 (en) * 2001-04-10 2004-03-16 Silicon Light Machines Angled illumination for a single order light modulator based projection system
US6865346B1 (en) 2001-06-05 2005-03-08 Silicon Light Machines Corporation Fiber optic transceiver
US6747781B2 (en) * 2001-06-25 2004-06-08 Silicon Light Machines, Inc. Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle
US6782205B2 (en) * 2001-06-25 2004-08-24 Silicon Light Machines Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing
US6646778B2 (en) * 2001-08-01 2003-11-11 Silicon Light Machines Grating light valve with encapsulated dampening gas
US6639722B2 (en) * 2001-08-15 2003-10-28 Silicon Light Machines Stress tuned blazed grating light valve
US6829092B2 (en) * 2001-08-15 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Blazed grating light valve
US6930364B2 (en) 2001-09-13 2005-08-16 Silicon Light Machines Corporation Microelectronic mechanical system and methods
US6956995B1 (en) 2001-11-09 2005-10-18 Silicon Light Machines Corporation Optical communication arrangement
US6692129B2 (en) * 2001-11-30 2004-02-17 Silicon Light Machines Display apparatus including RGB color combiner and 1D light valve relay including schlieren filter
US6800238B1 (en) 2002-01-15 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics
US6767751B2 (en) * 2002-05-28 2004-07-27 Silicon Light Machines, Inc. Integrated driver process flow
US6728023B1 (en) 2002-05-28 2004-04-27 Silicon Light Machines Optical device arrays with optimized image resolution
US6839479B2 (en) * 2002-05-29 2005-01-04 Silicon Light Machines Corporation Optical switch
US7054515B1 (en) 2002-05-30 2006-05-30 Silicon Light Machines Corporation Diffractive light modulator-based dynamic equalizer with integrated spectral monitor
US6822797B1 (en) 2002-05-31 2004-11-23 Silicon Light Machines, Inc. Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light
US6829258B1 (en) 2002-06-26 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Rapidly tunable external cavity laser
US6813059B2 (en) * 2002-06-28 2004-11-02 Silicon Light Machines, Inc. Reduced formation of asperities in contact micro-structures
US6714337B1 (en) 2002-06-28 2004-03-30 Silicon Light Machines Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response
US6908201B2 (en) * 2002-06-28 2005-06-21 Silicon Light Machines Corporation Micro-support structures
US7057795B2 (en) * 2002-08-20 2006-06-06 Silicon Light Machines Corporation Micro-structures with individually addressable ribbon pairs
US6801354B1 (en) 2002-08-20 2004-10-05 Silicon Light Machines, Inc. 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses
US6712480B1 (en) 2002-09-27 2004-03-30 Silicon Light Machines Controlled curvature of stressed micro-structures
US6928207B1 (en) 2002-12-12 2005-08-09 Silicon Light Machines Corporation Apparatus for selectively blocking WDM channels
US6987600B1 (en) * 2002-12-17 2006-01-17 Silicon Light Machines Corporation Arbitrary phase profile for better equalization in dynamic gain equalizer
US7057819B1 (en) 2002-12-17 2006-06-06 Silicon Light Machines Corporation High contrast tilting ribbon blazed grating
US6934070B1 (en) 2002-12-18 2005-08-23 Silicon Light Machines Corporation Chirped optical MEM device
US6927891B1 (en) 2002-12-23 2005-08-09 Silicon Light Machines Corporation Tilt-able grating plane for improved crosstalk in 1×N blaze switches
US7068372B1 (en) 2003-01-28 2006-06-27 Silicon Light Machines Corporation MEMS interferometer-based reconfigurable optical add-and-drop multiplexor
US7286764B1 (en) 2003-02-03 2007-10-23 Silicon Light Machines Corporation Reconfigurable modulator-based optical add-and-drop multiplexer
US6947613B1 (en) 2003-02-11 2005-09-20 Silicon Light Machines Corporation Wavelength selective switch and equalizer
US6922272B1 (en) 2003-02-14 2005-07-26 Silicon Light Machines Corporation Method and apparatus for leveling thermal stress variations in multi-layer MEMS devices
US6806997B1 (en) 2003-02-28 2004-10-19 Silicon Light Machines, Inc. Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction
US7027202B1 (en) 2003-02-28 2006-04-11 Silicon Light Machines Corp Silicon substrate as a light modulator sacrificial layer
US6922273B1 (en) 2003-02-28 2005-07-26 Silicon Light Machines Corporation PDL mitigation structure for diffractive MEMS and gratings
US6829077B1 (en) 2003-02-28 2004-12-07 Silicon Light Machines, Inc. Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane
US7391973B1 (en) 2003-02-28 2008-06-24 Silicon Light Machines Corporation Two-stage gain equalizer
US7042611B1 (en) 2003-03-03 2006-05-09 Silicon Light Machines Corporation Pre-deflected bias ribbons
US7420737B2 (en) * 2005-12-21 2008-09-02 Intel Corporation Reconfigurable zone plate lens
US9459451B2 (en) 2013-12-26 2016-10-04 Microsoft Technology Licensing, Llc Eye tracking apparatus, method and system
US9377623B2 (en) 2014-08-11 2016-06-28 Microsoft Technology Licensing, Llc Waveguide eye tracking employing volume Bragg grating
US9494799B2 (en) 2014-09-24 2016-11-15 Microsoft Technology Licensing, Llc Waveguide eye tracking employing switchable diffraction gratings
CN104777539A (zh) * 2015-04-15 2015-07-15 重庆大学 微镜阵列可编程菲涅尔波带片
CN114593819A (zh) * 2020-12-07 2022-06-07 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种可编程衍射光栅型阿达玛变换光谱仪

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3752563A (en) * 1971-09-01 1973-08-14 Sperry Rand Corp Magnetic film stripe domain diffraction

Also Published As

Publication number Publication date
FR2235378A1 (ja) 1975-01-24
DE2430619A1 (de) 1975-01-16
US3861784A (en) 1975-01-21
GB1481841A (en) 1977-08-03
JPS5034555A (ja) 1975-04-02
FR2235378B1 (ja) 1982-07-09
IT1015253B (it) 1977-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS588486B2 (ja) プログラムカノウナカイセツゴウシ
US4398798A (en) Image rotating diffraction grating
US3752563A (en) Magnetic film stripe domain diffraction
US5515084A (en) Method for non-impact printing utilizing a multiplexed matrix of controlled electrode units and device to perform method
CA1331162C (en) Techniques for enhancing the permeability of ions through membranes
US5143588A (en) Techniques for enhancing the permeability of ions through membranes
JP2004511017A5 (ja)
EP0747662A1 (en) Position and orientation measuring system having anti-distortion source configuration
US20220199447A1 (en) Micro assembler with fine angle control
US5215633A (en) Techniques for enhancing the permeability of ions through membranes
Crooker A split separator line merging model of the dayside magnetopause
CN109182965B (zh) 利用交流电场驱动及定向输运微纳米颗粒的系统与方法
JPH0220821A (ja) フィルタリング方法及びフレキシブルマッチドフィルタ
CN110766162A (zh) 一种可扩展的量子信息处理系统及方法
JPS5824868B2 (ja) 磁気バブルメモリ
US4023150A (en) Bubble translation system
Bastidas Topological Thouless pumping in arrays of coupled spin chains
Chui Fluctuation and elastic properties of domain walls in two-dimensional dipolar systems
SE9904234D0 (sv) Scanning continuous lens antenna device
JP2991259B2 (ja) 画像形成装置
Kapra et al. Controlling magnetic flux motion by arrays of zigzag-arranged magnetic bars
Eszes et al. Determine the current distribution for an arbitrary shaped thin-wire antenna by solving its Dyadic Green’s Function
CA1116751A (en) Bubble domain propagation using oscillating stripe domains
GB2095062A (en) Magnetic bubble display device
JPS5811631B2 (ja) 磁気バブル表示装置