JPS5883141U - 半導体拡散装置 - Google Patents

半導体拡散装置

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JPS5883141U
JPS5883141U JP17870581U JP17870581U JPS5883141U JP S5883141 U JPS5883141 U JP S5883141U JP 17870581 U JP17870581 U JP 17870581U JP 17870581 U JP17870581 U JP 17870581U JP S5883141 U JPS5883141 U JP S5883141U
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JP
Japan
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semiconductor
semiconductor diffusion
diffusion
diffusion equipment
resistant
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JP17870581U
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Inventor
平塚 宣行
福原 俊明
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株式会社日立製作所
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Publication date
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  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は、本考案の要部の上部よりみた長手方向の断面
図、第2図は同じく要部正断面図、第3図は第2図の■
−■矢視図である。 1・・・放出管、2・・・半導体、3・・・炉心管、4
・・・気体状拡散源供給管、5・・・炉心管キャップ、
6・・・接触部分。    ゛

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 横型拡散炉心に挿入、設置された耐熱耐高、陽化学安定
    性物質から成る炉心管内に、半導体装置し、気体状拡散
    源を放出する半導体拡散炉に於いて、半導体装置領域ま
    で、気体状拡散源放出口をもたらすように、前記炉心管
    内に前記耐熱耐化学安定性物質の細管から成る放出管を
    設置したことを特徴とする半導体拡散装置。
JP17870581U 1981-12-02 1981-12-02 半導体拡散装置 Granted JPS5883141U (ja)

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JP17870581U JPS5883141U (ja) 1981-12-02 1981-12-02 半導体拡散装置

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JPS626685Y2 JPS626685Y2 (ja) 1987-02-16

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4944517U (ja) * 1972-07-21 1974-04-19
JPS5720142U (ja) * 1980-07-09 1982-02-02

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5720142B2 (ja) * 1973-11-13 1982-04-27

Patent Citations (2)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4944517U (ja) * 1972-07-21 1974-04-19
JPS5720142U (ja) * 1980-07-09 1982-02-02

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