JPS5879537A - 多孔管内包式スクリ−ン筒 - Google Patents
多孔管内包式スクリ−ン筒Info
- Publication number
- JPS5879537A JPS5879537A JP56177901A JP17790181A JPS5879537A JP S5879537 A JPS5879537 A JP S5879537A JP 56177901 A JP56177901 A JP 56177901A JP 17790181 A JP17790181 A JP 17790181A JP S5879537 A JPS5879537 A JP S5879537A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipe
- wire
- catalyst
- screen
- support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/0278—Feeding reactive fluids
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/04—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid passing successively through two or more beds
- B01J8/0492—Feeding reactive fluids
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明は充填塔式の触媒反応装置、脱臭装置などにお
いて充填塔内に設置されるデイストリビュータ（液分配
器）あるいはコレクター（果液器）として用いることが
できるスクリーン筒に関する。 充填塔式の触媒反応装置は例えば５３１図に示すよ５に
、塔１内に設置されたスクリーン状の触媒受２上に触媒
３を充填し、その上方に液体、ガス等所定の流体（ここ
では便宜上液体な例にとって説明する）を供給するディ
ストリビュータ４を設置して構成されるもので、ディス
トリビュータ４に形成した多数の小孔４＆から液体を分
散滴下させ、触媒３を通して反応させ１反応液を触媒受
２を介して出口１ａから増出すよ５にしている。 このように従来の触媒反応装置はディストリビュータと
□触媒
受が別々に設置される構造となっているが。 このような構造は充填塔が大規模となり、充填する触媒
層が多層になると触媒受も多数必要となり。 構造が複雑でコスト高となる上に、触媒が多層に分断さ
れると触媒が充填されていない空間も多くなり充填塔内
の空間の８＃１効率も良くない、またディストリビュー
タは液が均等Ｋ１１ｌ出することを必要とするためその
取付工事は極めて面倒でありディストリビュータを多数
取付けるための工事に要する労力は極めて大きい。 この発明は多層触媒充填塔微触媒反応装置の上記離点を
解決することを目的としてなされたものであって、＋５
！体の分配、果合機能と触媒保持ｍ能とを葦ね備えた＊
＊な構成のスクリーン筒な触媒中に堀設することにより
、従来必須とされていた触媒受けを必要とせず、またデ
ィストリビュータの畷付工事に多大の労力を必要とせず
、しかも触媒を一層化することＫより充填塔内の空間利
用率を大幅忙改轡しようとするものである。 ディストリビュータを触媒中に！！設する場合問題とな
るのは、ディストリビュータから放散される流体が乱流
を生じると触媒中に均一に分布されないこと、および特
に触媒を常時移紬させる方式の反応装［においては触媒
の移動が円滑に行われずまた目詰りを起すおそれがある
ことである。 本発明においては、多孔パイプを所定の間隔をおいて包
ＦＭ″ｆるスクリーン筒な適宜のピッチで巻かれたワイ
ヤとこれＶ支持てるサポート部材で形成することＫより
乱流と目詰りを完全に防止することができる。 以下、この発明の＊適例を添付図面を参照して詳しく説
明する。 第２図はこの発明の基本的な冥適例を示すものである。 第２図のスクリーン筒１ｏにおいて、サポートロッド１
３はワイヤ１２を支持するためのもので。 複数本が適宜の間隔で円筒状に配置されている。 ワイヤには断面がくさび形のものでロンドｌ］上に適宜
のピッチ（触媒等が入り込まない間隔〕でらせん状に巻
付けており、各ワイヤ内にはスリット１２暴が形成され
ている。ロッドｌ】とワイヤ１２とＫより構成される円
筒（両端は閉じられている）内にはその軸上にパイプ１
３が配置されている。このは枝管１４が数付けられ、配
管１５から結合７ランジ１６、枝管１４を介してパイプ
１３につながる連通路が形成されている。パイプ１３に
はサポートディスク１７が４嘗の間隔をおいて固定され
ている。このサポートディスク１７はサポートロッドｌ
】を内働から支持するとともに、パイプ１３を円筒の軸
上に保持する働きをするものである。サポートディスク
１７にはそれによって隔絶された円筒内の空間を連通さ
せるための流通孔１７ｍが開設されている。 第２図のスクリーン筒１２を製造する場合は、まずパイ
プ１３にサポートディスク１７を適宜の間隔で差込み、
０ｃいでサポートディスク１７のまわりにサポートロッ
ド１】を適宜の間隔でスボツ）ｆｉｌ接なとＫより固定
し、更にそのまわりにワイヤ５２を適宜のピッチで巻付
けてスポット溶接などＫより固定丁ればよい。またワイ
ヤ校をサポートロッド１１の
いて充填塔内に設置されるデイストリビュータ（液分配
器）あるいはコレクター（果液器）として用いることが
できるスクリーン筒に関する。 充填塔式の触媒反応装置は例えば５３１図に示すよ５に
、塔１内に設置されたスクリーン状の触媒受２上に触媒
３を充填し、その上方に液体、ガス等所定の流体（ここ
では便宜上液体な例にとって説明する）を供給するディ
ストリビュータ４を設置して構成されるもので、ディス
トリビュータ４に形成した多数の小孔４＆から液体を分
散滴下させ、触媒３を通して反応させ１反応液を触媒受
２を介して出口１ａから増出すよ５にしている。 このように従来の触媒反応装置はディストリビュータと
□触媒
受が別々に設置される構造となっているが。 このような構造は充填塔が大規模となり、充填する触媒
層が多層になると触媒受も多数必要となり。 構造が複雑でコスト高となる上に、触媒が多層に分断さ
れると触媒が充填されていない空間も多くなり充填塔内
の空間の８＃１効率も良くない、またディストリビュー
タは液が均等Ｋ１１ｌ出することを必要とするためその
取付工事は極めて面倒でありディストリビュータを多数
取付けるための工事に要する労力は極めて大きい。 この発明は多層触媒充填塔微触媒反応装置の上記離点を
解決することを目的としてなされたものであって、＋５
！体の分配、果合機能と触媒保持ｍ能とを葦ね備えた＊
＊な構成のスクリーン筒な触媒中に堀設することにより
、従来必須とされていた触媒受けを必要とせず、またデ
ィストリビュータの畷付工事に多大の労力を必要とせず
、しかも触媒を一層化することＫより充填塔内の空間利
用率を大幅忙改轡しようとするものである。 ディストリビュータを触媒中に！！設する場合問題とな
るのは、ディストリビュータから放散される流体が乱流
を生じると触媒中に均一に分布されないこと、および特
に触媒を常時移紬させる方式の反応装［においては触媒
の移動が円滑に行われずまた目詰りを起すおそれがある
ことである。 本発明においては、多孔パイプを所定の間隔をおいて包
ＦＭ″ｆるスクリーン筒な適宜のピッチで巻かれたワイ
ヤとこれＶ支持てるサポート部材で形成することＫより
乱流と目詰りを完全に防止することができる。 以下、この発明の＊適例を添付図面を参照して詳しく説
明する。 第２図はこの発明の基本的な冥適例を示すものである。 第２図のスクリーン筒１ｏにおいて、サポートロッド１
３はワイヤ１２を支持するためのもので。 複数本が適宜の間隔で円筒状に配置されている。 ワイヤには断面がくさび形のものでロンドｌ］上に適宜
のピッチ（触媒等が入り込まない間隔〕でらせん状に巻
付けており、各ワイヤ内にはスリット１２暴が形成され
ている。ロッドｌ】とワイヤ１２とＫより構成される円
筒（両端は閉じられている）内にはその軸上にパイプ１
３が配置されている。このは枝管１４が数付けられ、配
管１５から結合７ランジ１６、枝管１４を介してパイプ
１３につながる連通路が形成されている。パイプ１３に
はサポートディスク１７が４嘗の間隔をおいて固定され
ている。このサポートディスク１７はサポートロッドｌ
】を内働から支持するとともに、パイプ１３を円筒の軸
上に保持する働きをするものである。サポートディスク
１７にはそれによって隔絶された円筒内の空間を連通さ
せるための流通孔１７ｍが開設されている。 第２図のスクリーン筒１２を製造する場合は、まずパイ
プ１３にサポートディスク１７を適宜の間隔で差込み、
０ｃいでサポートディスク１７のまわりにサポートロッ
ド１】を適宜の間隔でスボツ）ｆｉｌ接なとＫより固定
し、更にそのまわりにワイヤ５２を適宜のピッチで巻付
けてスポット溶接などＫより固定丁ればよい。またワイ
ヤ校をサポートロッド１１の
【り
まわケ論回してワイヤ１２の弾性により固定するように
ｆれば浴接を省くことも可能である。 第２図のスクリーン筒１０を充填塔式の触媒反応装置の
ディストリビュータ（分配管）として使用する場合の一
例を第３図に示す（（１１は正面図、 （ｂ）は（ａｌ
ｉ７）Ａ −ＡＷｒ面図、（耐はｌａＪのＢ−Ｂ断面図
である）。この実施例においては、ディストリビュータ
２１ｖ上下２段に配列している。ディストリビュータ２
】は第３図（ｂｌ＆Ｃ水すように配管１５から）２ンジ
１６および枝管１４を介して、複数のスクリーン筒１０
を枝状に配している。各スクリーン筒１０は両端がそれ
ぞれ１２ＪＫより閉じられ、充填塔加の内面に形成され
たフランジ２０＠上に固定されている。 ディストリビュータ２１を以上のようＫｍ置したら、光
１ｊｌ塔加の頂部に開設された開口部２０＠から触媒６
をディストリビュータ２１が完全に埋もれる高さまで注
入する。 これにより、充填塔加内の準［はすべて完了し。 ディストリビュータ２１の配管１５に所定の液体を注入
すれば、各スクリーン簡ｌＯ内においてパイプ１３の孔
１３ｍからこの液体が四方に放散される。この状態を第
４図に示す。この図に示すようにパイプ１３からワイヤ
化までは距離があるので、単にパイプ１３をそのまま埋
め込んで放散する場合に比べて。 広い範囲に均一に放散することができる。また液体は上
下のスリン） １２ ｍから上下各方向に放散されるの
で上下方向に着るしいｇｌ流効果を有する。 ディストリビュータ２１により放散された液体は触媒６
内を所定の反応を行いながら下降する。梗− °
反応を完了した液は充填塔Ｗの下部に：に置さ
れた触媒受は茨の開口ρ１を通って充填塔出口２０ｄか
ら嘲り出される。この実施例においては、触媒６は一層
となり、途中に空間を設ける必要がな（、充填塔内の触
媒の占める容積が増大する上忙触媒受け４は一段だけ設
ければ丁むので従来の装置に比べ触媒受けの設置数を減
少することができる。上記実施例はディストリビュータ
カを上下２列にしたものであろうζディストリビュータ
の列数を増加するほど上記のメリットは増大することは
明らかであろう。 本発明にかかる多孔管内包スクリーン筒はディストリビ
ュータとしてのみでなくコレクター（集液管）としても
用いることができる。この湯釜はたとえば＠３図におい
て下段のディストリビュータカをコレクターとして用い
触媒層の下部に下降した反応ずみの液をスクリーン筒な
通してパイプ１３内に吸入し外部Ｋ［６丁よ５Ｋｊれば
よい。なおこの場合第３図にボ丁ような開口匿ａを有す
る触媒受けηは使用せず充填塔の下部出口２０ｄは閉じ
て置くようにする。またこのような装置において、上下
各段の多孔管内包スクリーン筒な一定時間デイストリピ
ユータとして使用し１Ｍ媒層に液を供給して所定の反応
を完了した倹今度は同じ多孔管内包スクリーン筒なコレ
クターとして使用し。 反応ずみの液を回収するよ５にして、この操作を反復す
るように利用することもできる。 なお、スクリーン筒ｌＯの配列は第３図のような慣置き
Ｋかぎらず、第５図慣１のＬ５にスクリーンに第１図の
スクリーン２を用い、その上にディストリビュータ１０
を縦置きＫしたり、＃！５図１ｋｌｊのように千鳥格子
状ＫＭ＜こともできる。あるいは同じ横置きでも第５図
ｔｅ）のようにジグザグ和することもできる。 第６図の実施例はサポートディスク１７の相互間にサポ
ートビーム３ｏｖ渡して更に＊ｔｔを高めるようＫした
ものである。 、Ｉ第７図の実施例はサポートビームとして幅の広いも
の３１人、３１Ｂを用い、牛円状に分断したワイヤ２を
一方のサポートビーム３１ムから他方のすポートビーム
３１８ Ｋかけてそれぞれ固着するよう圧したものであ
る。 第８図の実施例はサポートビーム３２により円筒内の空
間ｖ２つに分割し、それぞれにノくイブ１３−１．１３
−２を配置するようにしたものである。 なお、上記実施例のスクリーン筒は断面を円筒状とした
がこれに限らず、だ円あるいはその８角簡、６角簡等他
の筒形とすることもできる。またワイヤ１２の断面形状
はくさび形のものが好適であるがこれに限らず、方形１
円形等遍宜の形状のものを用いることができる。 また、上記実施例では触媒反応装ｆｌｌｌＫ適用した場
合について示したが、その他の化学プロセス例えば脱臭
装置、濾過装置等広い範囲の用途に用いることができる
。第９図はＦ遍Ｗ装置に適用Ｔる場合の一例で、沈でん
層４１の底部４２にスクリーン筒ｌＯを縦に置き、この
底部弦なつきぬけてノくイブ１３を引出し、ワイヤ１０
で濾過した液をこのノ（イブ１３を経て収出丁ようにし
たものである。第１０図は攪拌しながら流体を分配およ
び果合させるようにしたものである。ここでは配管５１
を塔犯の中心に置き、その下端にスクリーン筒１０を放
射状ＫＷＲ付ゆて、配管５１を回転して攪拌しながら分
配および集合を行なうようにしている。第１３図はワイ
ヤ１２−１．１２−２．１２−３を多層に巻き、それぞ
れの関Ｋ１４なる触媒を注入し、パイプ２から放出され
た液体が外方向く広がるにしたがって各層で願人反応が
行なわれるようにしたものである。 以上説明したようＫこの発明のスクリーン筒はディスト
リビュータとしても、あるいはコレクターとしても用い
ることができ広範囲の目的に使用することかできる。特
にディストリビュータとして利用した場合触媒層が分断
されず充填塔内の空間の利用率を高めることができる上
に多数の触媒受けを節約することができる。また多孔パ
イプを所定の間隔を置いて包囲するスクリーン筒を適宜
のピッチで巻かれたワイヤとこれを支持するサポート部
材で形成したので、流体の分配および果合が非常に効率
良く行うことができ、乱流の発生を完全に防止すること
かできる。さらに触媒移動方式の装置に用いても触媒の
ＳＯが円滑に行われ目詰りを住じない等の優れた効果を
有するものである。
ｆれば浴接を省くことも可能である。 第２図のスクリーン筒１０を充填塔式の触媒反応装置の
ディストリビュータ（分配管）として使用する場合の一
例を第３図に示す（（１１は正面図、 （ｂ）は（ａｌ
ｉ７）Ａ −ＡＷｒ面図、（耐はｌａＪのＢ−Ｂ断面図
である）。この実施例においては、ディストリビュータ
２１ｖ上下２段に配列している。ディストリビュータ２
】は第３図（ｂｌ＆Ｃ水すように配管１５から）２ンジ
１６および枝管１４を介して、複数のスクリーン筒１０
を枝状に配している。各スクリーン筒１０は両端がそれ
ぞれ１２ＪＫより閉じられ、充填塔加の内面に形成され
たフランジ２０＠上に固定されている。 ディストリビュータ２１を以上のようＫｍ置したら、光
１ｊｌ塔加の頂部に開設された開口部２０＠から触媒６
をディストリビュータ２１が完全に埋もれる高さまで注
入する。 これにより、充填塔加内の準［はすべて完了し。 ディストリビュータ２１の配管１５に所定の液体を注入
すれば、各スクリーン簡ｌＯ内においてパイプ１３の孔
１３ｍからこの液体が四方に放散される。この状態を第
４図に示す。この図に示すようにパイプ１３からワイヤ
化までは距離があるので、単にパイプ１３をそのまま埋
め込んで放散する場合に比べて。 広い範囲に均一に放散することができる。また液体は上
下のスリン） １２ ｍから上下各方向に放散されるの
で上下方向に着るしいｇｌ流効果を有する。 ディストリビュータ２１により放散された液体は触媒６
内を所定の反応を行いながら下降する。梗− °
反応を完了した液は充填塔Ｗの下部に：に置さ
れた触媒受は茨の開口ρ１を通って充填塔出口２０ｄか
ら嘲り出される。この実施例においては、触媒６は一層
となり、途中に空間を設ける必要がな（、充填塔内の触
媒の占める容積が増大する上忙触媒受け４は一段だけ設
ければ丁むので従来の装置に比べ触媒受けの設置数を減
少することができる。上記実施例はディストリビュータ
カを上下２列にしたものであろうζディストリビュータ
の列数を増加するほど上記のメリットは増大することは
明らかであろう。 本発明にかかる多孔管内包スクリーン筒はディストリビ
ュータとしてのみでなくコレクター（集液管）としても
用いることができる。この湯釜はたとえば＠３図におい
て下段のディストリビュータカをコレクターとして用い
触媒層の下部に下降した反応ずみの液をスクリーン筒な
通してパイプ１３内に吸入し外部Ｋ［６丁よ５Ｋｊれば
よい。なおこの場合第３図にボ丁ような開口匿ａを有す
る触媒受けηは使用せず充填塔の下部出口２０ｄは閉じ
て置くようにする。またこのような装置において、上下
各段の多孔管内包スクリーン筒な一定時間デイストリピ
ユータとして使用し１Ｍ媒層に液を供給して所定の反応
を完了した倹今度は同じ多孔管内包スクリーン筒なコレ
クターとして使用し。 反応ずみの液を回収するよ５にして、この操作を反復す
るように利用することもできる。 なお、スクリーン筒ｌＯの配列は第３図のような慣置き
Ｋかぎらず、第５図慣１のＬ５にスクリーンに第１図の
スクリーン２を用い、その上にディストリビュータ１０
を縦置きＫしたり、＃！５図１ｋｌｊのように千鳥格子
状ＫＭ＜こともできる。あるいは同じ横置きでも第５図
ｔｅ）のようにジグザグ和することもできる。 第６図の実施例はサポートディスク１７の相互間にサポ
ートビーム３ｏｖ渡して更に＊ｔｔを高めるようＫした
ものである。 、Ｉ第７図の実施例はサポートビームとして幅の広いも
の３１人、３１Ｂを用い、牛円状に分断したワイヤ２を
一方のサポートビーム３１ムから他方のすポートビーム
３１８ Ｋかけてそれぞれ固着するよう圧したものであ
る。 第８図の実施例はサポートビーム３２により円筒内の空
間ｖ２つに分割し、それぞれにノくイブ１３−１．１３
−２を配置するようにしたものである。 なお、上記実施例のスクリーン筒は断面を円筒状とした
がこれに限らず、だ円あるいはその８角簡、６角簡等他
の筒形とすることもできる。またワイヤ１２の断面形状
はくさび形のものが好適であるがこれに限らず、方形１
円形等遍宜の形状のものを用いることができる。 また、上記実施例では触媒反応装ｆｌｌｌＫ適用した場
合について示したが、その他の化学プロセス例えば脱臭
装置、濾過装置等広い範囲の用途に用いることができる
。第９図はＦ遍Ｗ装置に適用Ｔる場合の一例で、沈でん
層４１の底部４２にスクリーン筒ｌＯを縦に置き、この
底部弦なつきぬけてノくイブ１３を引出し、ワイヤ１０
で濾過した液をこのノ（イブ１３を経て収出丁ようにし
たものである。第１０図は攪拌しながら流体を分配およ
び果合させるようにしたものである。ここでは配管５１
を塔犯の中心に置き、その下端にスクリーン筒１０を放
射状ＫＷＲ付ゆて、配管５１を回転して攪拌しながら分
配および集合を行なうようにしている。第１３図はワイ
ヤ１２−１．１２−２．１２−３を多層に巻き、それぞ
れの関Ｋ１４なる触媒を注入し、パイプ２から放出され
た液体が外方向く広がるにしたがって各層で願人反応が
行なわれるようにしたものである。 以上説明したようＫこの発明のスクリーン筒はディスト
リビュータとしても、あるいはコレクターとしても用い
ることができ広範囲の目的に使用することかできる。特
にディストリビュータとして利用した場合触媒層が分断
されず充填塔内の空間の利用率を高めることができる上
に多数の触媒受けを節約することができる。また多孔パ
イプを所定の間隔を置いて包囲するスクリーン筒を適宜
のピッチで巻かれたワイヤとこれを支持するサポート部
材で形成したので、流体の分配および果合が非常に効率
良く行うことができ、乱流の発生を完全に防止すること
かできる。さらに触媒移動方式の装置に用いても触媒の
ＳＯが円滑に行われ目詰りを住じない等の優れた効果を
有するものである。
第１図は従来における充填塔式触媒反応装置を示−ｒｒ
ｒｒ面図、第２図はこの発明の一実施例を示す一部切欠
き斜視図、第３図は第３図のスクリーン簡を充＊塔式触
媒反応装置に４用した一例を示す図でｔａ＋は正面図、
（ｂＪは半面図、 −−（ｅＪは（１３のＡ
−Ａ断面図、第４図は第３図のディストリビュータカか
ら流体が放散される状態をボ丁図、第５図は充填塔内圧
おけるスクリーン簡の配列し方の別の例を水て図、第６
図。 第７図、第８図はこの発明の他の実施例を示す一部切欠
き斜視図、第９図、＠１０図、第１１図はこの発明の他
の応用例を示す縦断面図である。 １０・・・スクリーン簡、 １１・・・サポートロッド
、 １２・・・ワイヤ％１３・・・パイプ、１４・・・
枝管、１５・・・配管％１７・・・サポートディスク。 第１図 第４図 第５図
ｒｒ面図、第２図はこの発明の一実施例を示す一部切欠
き斜視図、第３図は第３図のスクリーン簡を充＊塔式触
媒反応装置に４用した一例を示す図でｔａ＋は正面図、
（ｂＪは半面図、 −−（ｅＪは（１３のＡ
−Ａ断面図、第４図は第３図のディストリビュータカか
ら流体が放散される状態をボ丁図、第５図は充填塔内圧
おけるスクリーン簡の配列し方の別の例を水て図、第６
図。 第７図、第８図はこの発明の他の実施例を示す一部切欠
き斜視図、第９図、＠１０図、第１１図はこの発明の他
の応用例を示す縦断面図である。 １０・・・スクリーン簡、 １１・・・サポートロッド
、 １２・・・ワイヤ％１３・・・パイプ、１４・・・
枝管、１５・・・配管％１７・・・サポートディスク。 第１図 第４図 第５図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 筒状に配置された複数本のロッドと、前記ロッドのまわ
りに適宜のピッチで巻かれたワイヤと。 内周から外周にわたって複数の貫通孔が開設され。 前記ロッドとワイヤとにより形成される筒内の空間にお
いてＩＷｌｌＩＩの内面と適宜の間隔をおいた位置Ｋｔ
ｌ！簡に沿って配置されたパイプと、前記筒内において
ａｔ ＠ Ｋ沿って１實の間隔で配置され、１簡の内面
を支持てるとともに、前記パイプを前記空間内の位置Ｋ
ｇｌＬ！するサポート部材とを具えた多孔管内包式スク
リーン筒。
Priority Applications (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56177901A JPS5932178B2 (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 多孔管内包式スクリ−ン筒 |
| GB08231214A GB2110106B (en) | 1981-11-06 | 1982-11-01 | Distributor/collector assembly |
| AU90062/82A AU537473B2 (en) | 1981-11-06 | 1982-11-01 | Distributor/collector assembly for catalyst reactor |
| KR8204942A KR880001995B1 (ko) | 1981-11-06 | 1982-11-02 | 디스트리뷰터 또는 콜렉터 결합체 |
| DE3240987A DE3240987C2 (de) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Verteil- und Sammelvorrichtung |
| FR8218569A FR2515982B1 (fr) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Dispositif distributeur ou collecteur, notamment pour reacteur catalytique du type en forme de colonne ou dispositif analogue |
| IT24109/82A IT1218329B (it) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Complesso distributore collettore per l'impiego in un reattore a colonna per processi catalitici o in dispositivi similari |
| BR8206427A BR8206427A (pt) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Conjunto distribuidor/coletor |
| CA000415019A CA1201876A (en) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Distributor/collector assembly |
| BE2/59900A BE894919A (fr) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Ensemble distributeur-collecteur |
| AR291213A AR228692A1 (es) | 1981-11-06 | 1982-11-05 | Conjunto de distribuidor/colector apropiado para usarlo en un tipo de columna de reactor de catalizador,aparato de desodorizacion o dispositivo similar |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56177901A JPS5932178B2 (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 多孔管内包式スクリ−ン筒 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5879537A true JPS5879537A (ja) | 1983-05-13 |
| JPS5932178B2 JPS5932178B2 (ja) | 1984-08-07 |
Family
ID=16039037
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56177901A Expired JPS5932178B2 (ja) | 1981-11-06 | 1981-11-06 | 多孔管内包式スクリ−ン筒 |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5932178B2 (ja) |
| KR (1) | KR880001995B1 (ja) |
| AR (1) | AR228692A1 (ja) |
| AU (1) | AU537473B2 (ja) |
| BE (1) | BE894919A (ja) |
| BR (1) | BR8206427A (ja) |
| CA (1) | CA1201876A (ja) |
| DE (1) | DE3240987C2 (ja) |
| FR (1) | FR2515982B1 (ja) |
| GB (1) | GB2110106B (ja) |
| IT (1) | IT1218329B (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101147852B (zh) * | 2006-09-20 | 2010-09-01 | 中国石油化工股份有限公司 | 多段绝热固定床反应器 |
| DE102006060509A1 (de) * | 2006-12-19 | 2008-06-26 | Basf Se | Reaktor zur Durchführung einer kontinuierlichen Oxidehydrierung sowie Verfahren |
| DE102006060507A1 (de) | 2006-12-19 | 2008-06-26 | Basf Se | Reaktor zur Durchführung einer Reaktion zwischen zwei fluiden Edukten an einem Katalysatorbett mit Vorvermischen der fluiden Edukte in einer Einmischvorrichtung |
| TW200936245A (en) * | 2007-10-30 | 2009-09-01 | Basf Se | Horizontal reactor for reacting a fluid feed stream with a fluid oxidant stream in the presence of a solid catalyst |
| FR2974739B1 (fr) * | 2011-05-03 | 2016-03-11 | Commissariat Energie Atomique | Module de reacteur solide / gaz caloporteur comprenant des diffuseurs de gaz a risques d'obturation reduits |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| AT139112B (de) * | 1931-10-17 | 1934-10-25 | Houdry Process Corp | Vorrichtung zum Verteilen eines Mediums in einer eine Reaktionsvorrichtung füllenden Kontaktmasse. |
| FR1529137A (fr) * | 1966-10-28 | 1968-06-14 | Exxon Research Engineering Co | Distributeur d'écoulement d'un fluide |
| US3592613A (en) * | 1968-12-30 | 1971-07-13 | Universal Oil Prod Co | Apparatus for fluid distribution in a fluid-solids contacting chamber |
| GB2065492B (en) * | 1979-12-21 | 1983-10-19 | Uop Inc | Fluid distributor for fixed-bed catalytic reaction zones |
-
1981
- 1981-11-06 JP JP56177901A patent/JPS5932178B2/ja not_active Expired
-
1982
- 1982-11-01 AU AU90062/82A patent/AU537473B2/en not_active Ceased
- 1982-11-01 GB GB08231214A patent/GB2110106B/en not_active Expired
- 1982-11-02 KR KR8204942A patent/KR880001995B1/ko active
- 1982-11-05 CA CA000415019A patent/CA1201876A/en not_active Expired
- 1982-11-05 BE BE2/59900A patent/BE894919A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-11-05 BR BR8206427A patent/BR8206427A/pt not_active IP Right Cessation
- 1982-11-05 FR FR8218569A patent/FR2515982B1/fr not_active Expired
- 1982-11-05 AR AR291213A patent/AR228692A1/es active
- 1982-11-05 DE DE3240987A patent/DE3240987C2/de not_active Expired
- 1982-11-05 IT IT24109/82A patent/IT1218329B/it active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3240987C2 (de) | 1985-09-19 |
| GB2110106B (en) | 1985-04-24 |
| KR880001995B1 (ko) | 1988-10-11 |
| BR8206427A (pt) | 1983-09-27 |
| IT8224109A0 (it) | 1982-11-05 |
| AR228692A1 (es) | 1983-03-30 |
| AU537473B2 (en) | 1984-06-28 |
| CA1201876A (en) | 1986-03-18 |
| IT1218329B (it) | 1990-04-12 |
| FR2515982B1 (fr) | 1987-04-30 |
| FR2515982A1 (fr) | 1983-05-13 |
| AU9006282A (en) | 1983-05-26 |
| GB2110106A (en) | 1983-06-15 |
| KR840002257A (ko) | 1984-06-25 |
| DE3240987A1 (de) | 1983-07-14 |
| BE894919A (fr) | 1983-03-01 |
| JPS5932178B2 (ja) | 1984-08-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3817303C2 (ja) | ||
| US3466151A (en) | Fluid exchange column | |
| US3479146A (en) | Fluid flow distributor | |
| US3572391A (en) | Flow uniformizing baffling for closed process vessels | |
| DE102012220926A1 (de) | Festbettreaktor | |
| JP4298795B2 (ja) | 触媒蒸留装置 | |
| US7749467B2 (en) | Optimizer hydraulic enhancement using milled plate | |
| US4788040A (en) | Inlet distributor for fixed bed catalytic reactor | |
| US4060127A (en) | Shell-and-tube heat exchanger | |
| US20030086844A1 (en) | Flow distributor for monolith reactors | |
| BR102015010744B1 (pt) | reator de leito radial multitubular | |
| JPS5879537A (ja) | 多孔管内包式スクリ−ン筒 | |
| JPS6344008B2 (ja) | ||
| US4578248A (en) | Distributor/collector assembly | |
| US5366188A (en) | Support for sheaves of pipe | |
| KR102514664B1 (ko) | 방사상 반응기를 위한 가스 유체용 수집기 조립체 | |
| US4473600A (en) | Catalytic converter with fluid injector for catalyst-free enclosure of catalyst bed | |
| JPH03131336A (ja) | ガス反応器 | |
| JPS6219240A (ja) | 触媒反応器 | |
| EP0997187A1 (de) | Wirbelschicht-Reaktor zur Oxichlorierung von Ethylen, Sauerstoff und HC1 | |
| JPS61122236A (ja) | メタノールの製造用直立反応器 | |
| CN211754819U (zh) | 上行式气液分配器和烃油加氢反应器 | |
| SU1710117A1 (ru) | Реакционный элемент гетерогеннокаталитического реактора | |
| EP1199099A1 (en) | Reactor | |
| JPS6215244B2 (ja) |