JPS5877680A - 表面汚染領域直視装置 - Google Patents
表面汚染領域直視装置Info
- Publication number
- JPS5877680A JPS5877680A JP17564081A JP17564081A JPS5877680A JP S5877680 A JPS5877680 A JP S5877680A JP 17564081 A JP17564081 A JP 17564081A JP 17564081 A JP17564081 A JP 17564081A JP S5877680 A JPS5877680 A JP S5877680A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- radioactive
- contaminated
- spark chamber
- distributions
- light
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/169—Exploration, location of contaminated surface areas
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は放射線検出装置に係り、特に放射性物質によシ
汚染したものの二次元汚染分布を直接目視するに好適な
表面汚染検査用放射線検出装置に関する。
汚染したものの二次元汚染分布を直接目視するに好適な
表面汚染検査用放射線検出装置に関する。
従来の表面汚染検査用放射線検出装置としてはGM管を
使用した0Mサーベイメータ、NaIを使用シたシン千
し−ショ/サーベイメータ、ガスフローカウンタを使用
したフロアモニタ等が代表的でるる。これらの装置はい
づれも表面汚染量を検出器に入射した放射線の数として
アナログ表示又はディジタル表示しているので汚染した
ものの二次元汚染分布を直接目視できない。そこで、二
次元汚染分布を求めるには測定位置と放射線の数を二次
元グラフに作図している。このため、汚染分布を求める
のに時間を要する欠点がある。
使用した0Mサーベイメータ、NaIを使用シたシン千
し−ショ/サーベイメータ、ガスフローカウンタを使用
したフロアモニタ等が代表的でるる。これらの装置はい
づれも表面汚染量を検出器に入射した放射線の数として
アナログ表示又はディジタル表示しているので汚染した
ものの二次元汚染分布を直接目視できない。そこで、二
次元汚染分布を求めるには測定位置と放射線の数を二次
元グラフに作図している。このため、汚染分布を求める
のに時間を要する欠点がある。
本発明の目的は、放射性物質により汚染されたものの汚
染領域をスパークチェンバを利用して二次元発光分布に
変換し、撮像装置、監視装置等を介して直接映像として
目視でき得る表面汚染領域監視装置を提供することにあ
る。
染領域をスパークチェンバを利用して二次元発光分布に
変換し、撮像装置、監視装置等を介して直接映像として
目視でき得る表面汚染領域監視装置を提供することにあ
る。
放射性物質により汚染されたものの汚染領域を直接目視
するには放射線を目視する必要がある。
するには放射線を目視する必要がある。
この手段としてスパークチェンバにより放射線を可視光
に変換する。スパークチェンバからの可視光は入射放射
線に対応してランダムに発生するので、この光を撮像装
置、信号処理器等で積算し、監視装置のビデイオモニタ
で汚染領域像として表示する。
に変換する。スパークチェンバからの可視光は入射放射
線に対応してランダムに発生するので、この光を撮像装
置、信号処理器等で積算し、監視装置のビデイオモニタ
で汚染領域像として表示する。
以下、本発明の一実施例を詳細に説明する。第1図は本
発明の一実施例を示すブロック線図であり、8はスパー
クチェンバで、放射線光変換器1、高圧電源5、スケー
ラ7で構成する。2は撮像装置、3は信号処理器、4は
監視装置である。放射線光変換器1は第2図に示すよう
に導電ガラスでるる第1電極11と、ステンレメッシュ
である第2電極12、第3電極13で構成する。また測
定時には第1電極11、第2電極12、第3電極13は
ガスボンベ6より供給されるQガスで満たされ、第1電
極11、第2電極13は高圧電源5より2kV〜4kV
の直流が印加される。ここで、放射性物質を含むサンプ
ル14からの放射線が入射すると放電が起こり、この放
電は導電ガラスである第1電極11の表面で光として観
測できる。また、放電回数(放射線入射数に比例)はス
ケーラ7で計数される。第1電極11からの光は光学レ
ンズ16を介してテレビカメラ16で撮影される。
発明の一実施例を示すブロック線図であり、8はスパー
クチェンバで、放射線光変換器1、高圧電源5、スケー
ラ7で構成する。2は撮像装置、3は信号処理器、4は
監視装置である。放射線光変換器1は第2図に示すよう
に導電ガラスでるる第1電極11と、ステンレメッシュ
である第2電極12、第3電極13で構成する。また測
定時には第1電極11、第2電極12、第3電極13は
ガスボンベ6より供給されるQガスで満たされ、第1電
極11、第2電極13は高圧電源5より2kV〜4kV
の直流が印加される。ここで、放射性物質を含むサンプ
ル14からの放射線が入射すると放電が起こり、この放
電は導電ガラスである第1電極11の表面で光として観
測できる。また、放電回数(放射線入射数に比例)はス
ケーラ7で計数される。第1電極11からの光は光学レ
ンズ16を介してテレビカメラ16で撮影される。
テレビカメラ16からの映像信号は第3図に示す信号処
理器3に入力される。信号処理器3はスライサ21、フ
レームメモリ22で構成する。テレビカメラ16からの
映像信号はスライサ21で2値化される。つまり第1電
極11が発光した部分に相当する映像信号はf′1tl
として出力し、他は110”として出力する。スライサ
21からの2値化信号はフレームメモリ22で記憶され
る。フレームメモリ22は例えばテレビカメラ16で撮
影した全画面を512X512に分割し、1分割(画素
)当り255カウント(第1電極11での1発光を1カ
ウントとする)まで加算して記憶できる。フレームメモ
リ22からの信号S1はDMA(ダイレクトメモリアク
セス)により第4図に示す監視装置4に入力する。監視
装置4はバッファーメモリ23、インターフェース24
、CR,T25で構成する。バッファーメモリ23はフ
レームメモリ22の全情報をDMAで一括伝達できない
ため、1時記憶するのに用いる。バッファーメモリ23
からの信号は、バッファーメモリ23とCRT25をハ
ード的に接続するインターフェース24を介してCRT
25に伝達される。以上述べたように、第2図に示す放
射性物質を含むサンプル14の放射射を−・定時間測定
すると、第3図に示すフレームメモリ22には、放射線
発生領域(汚染領域)およびその強度が記憶され、CR
,T25には強度に応じた白黒濃度分布又はカラー分布
として画面に表示される。第5図は床面56の汚染を観
測する表面汚染領域直視装置50の外観を示す図である
。51はスパークチェンバ8およびテレビカメラ15を
組み込んだ検出部で、スパークチェンバ8にはガスボン
ベ6から減圧弁35、ホース55、流量計36を介して
Qガスが供給される。なお34はポンベ6のガス圧力を
指示する圧力計である。検出部51のテレビカメラ15
からの信号はケーブル54を介して信号処理器3、監視
装置4が組込まれている計測器本体32に送くられる。
理器3に入力される。信号処理器3はスライサ21、フ
レームメモリ22で構成する。テレビカメラ16からの
映像信号はスライサ21で2値化される。つまり第1電
極11が発光した部分に相当する映像信号はf′1tl
として出力し、他は110”として出力する。スライサ
21からの2値化信号はフレームメモリ22で記憶され
る。フレームメモリ22は例えばテレビカメラ16で撮
影した全画面を512X512に分割し、1分割(画素
)当り255カウント(第1電極11での1発光を1カ
ウントとする)まで加算して記憶できる。フレームメモ
リ22からの信号S1はDMA(ダイレクトメモリアク
セス)により第4図に示す監視装置4に入力する。監視
装置4はバッファーメモリ23、インターフェース24
、CR,T25で構成する。バッファーメモリ23はフ
レームメモリ22の全情報をDMAで一括伝達できない
ため、1時記憶するのに用いる。バッファーメモリ23
からの信号は、バッファーメモリ23とCRT25をハ
ード的に接続するインターフェース24を介してCRT
25に伝達される。以上述べたように、第2図に示す放
射性物質を含むサンプル14の放射射を−・定時間測定
すると、第3図に示すフレームメモリ22には、放射線
発生領域(汚染領域)およびその強度が記憶され、CR
,T25には強度に応じた白黒濃度分布又はカラー分布
として画面に表示される。第5図は床面56の汚染を観
測する表面汚染領域直視装置50の外観を示す図である
。51はスパークチェンバ8およびテレビカメラ15を
組み込んだ検出部で、スパークチェンバ8にはガスボン
ベ6から減圧弁35、ホース55、流量計36を介して
Qガスが供給される。なお34はポンベ6のガス圧力を
指示する圧力計である。検出部51のテレビカメラ15
からの信号はケーブル54を介して信号処理器3、監視
装置4が組込まれている計測器本体32に送くられる。
計測器本体32にはパネル52が取付られていて、該パ
ネル52にはCRT25.スケーラ7、高圧電圧調整つ
まみ33が組込まれている。表面汚染領域直視装置50
はハンドル30を押すことにより車輪31で簡単に移動
できるようになっている。また、床面以外の小物の汚染
を観測できるよう検出部51を取りはづせるようになっ
ている。第6図は小物の汚染領域を観測するときの装置
の一例を示したもので、検出部51は、引出し60付き
の受は台61にセットする。サンプル61は引出し60
内に置き、引出し60を押込むことにより検出部51下
部にセットする。以上のべたように本発明装置によれば
、放射性物質により汚染されたものの汚染領域を直接目
視することができる。
ネル52にはCRT25.スケーラ7、高圧電圧調整つ
まみ33が組込まれている。表面汚染領域直視装置50
はハンドル30を押すことにより車輪31で簡単に移動
できるようになっている。また、床面以外の小物の汚染
を観測できるよう検出部51を取りはづせるようになっ
ている。第6図は小物の汚染領域を観測するときの装置
の一例を示したもので、検出部51は、引出し60付き
の受は台61にセットする。サンプル61は引出し60
内に置き、引出し60を押込むことにより検出部51下
部にセットする。以上のべたように本発明装置によれば
、放射性物質により汚染されたものの汚染領域を直接目
視することができる。
本発明によれば、放射性物質により汚染されたものの汚
染領域をスパークチェンバを利用して二次元発光分布に
変換し、撮像装置、監視装置等を介して直接映像として
目視できる新しい機能を有するので短時間に汚染領域を
把握できる効果がある。さらに汚染領域が明確になるの
で汚染されたものの除染に際して、汚染の拡大を防止に
有効である。
染領域をスパークチェンバを利用して二次元発光分布に
変換し、撮像装置、監視装置等を介して直接映像として
目視できる新しい機能を有するので短時間に汚染領域を
把握できる効果がある。さらに汚染領域が明確になるの
で汚染されたものの除染に際して、汚染の拡大を防止に
有効である。
第1図は本発明の一実施例を示すブロック線(財)、第
2図は放射線光変換の原理説明図、第3図は撮像装置、
信号処理器のブロック線図、第4図は監視装置のブロッ
ク線図、第5図は床面の汚染を観測する表面汚染領域直
視装置の外観図、第6図は小物の汚染領域を観測する装
置の一例を示す図である。 1・・・放射線光変換器、2・・・撮像装置、3・・・
信号処理器、4・・・監視装置、15・・・テレビカメ
ラ、25・・・CR,T、50・・・表面汚染領域監視
装置、51・・・第10 箔20 不50 2 茅40 、.1 竿S口 第6目
2図は放射線光変換の原理説明図、第3図は撮像装置、
信号処理器のブロック線図、第4図は監視装置のブロッ
ク線図、第5図は床面の汚染を観測する表面汚染領域直
視装置の外観図、第6図は小物の汚染領域を観測する装
置の一例を示す図である。 1・・・放射線光変換器、2・・・撮像装置、3・・・
信号処理器、4・・・監視装置、15・・・テレビカメ
ラ、25・・・CR,T、50・・・表面汚染領域監視
装置、51・・・第10 箔20 不50 2 茅40 、.1 竿S口 第6目
Claims (1)
- 1、放射性物質からの放射線を光に変換するスパークチ
ェンバト、該スパークチェンバからの光の発光位置及び
発光数を検知する撮像装置と、該撮像装置からの検知信
号を記憶処理する信号処理器と、上記検知信号から放射
性物質の分布を演算処理、表示する監視装置とを具備し
、放射性物質により汚染したものの二次元汚染分布を直
接目視できることを特徴とした表面汚染領域直視装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17564081A JPS5877680A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 表面汚染領域直視装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17564081A JPS5877680A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 表面汚染領域直視装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5877680A true JPS5877680A (ja) | 1983-05-11 |
Family
ID=15999615
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17564081A Pending JPS5877680A (ja) | 1981-11-04 | 1981-11-04 | 表面汚染領域直視装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5877680A (ja) |
-
1981
- 1981-11-04 JP JP17564081A patent/JPS5877680A/ja active Pending
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