JPS5876810A - 光ビ−ム走査装置 - Google Patents

光ビ−ム走査装置

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JPS5876810A
JPS5876810A JP56175541A JP17554181A JPS5876810A JP S5876810 A JPS5876810 A JP S5876810A JP 56175541 A JP56175541 A JP 56175541A JP 17554181 A JP17554181 A JP 17554181A JP S5876810 A JPS5876810 A JP S5876810A
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light beam
lens
light
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Toshio Muramatsu
敏夫 村松
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    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems
    • G02B26/12Scanning systems using multifaceted mirrors

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  • Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、光源からの光ビームを、回転多面鏡で反射し
、集光レンズを介して被走査面に与え、走査を行う光レ
ーム走査装置に関する。
この種の光ビーム走査装置は、その概略を第1図に示し
たように、本来は回転多面*/に入射したレーザコ等か
らの光ビームが、矢印方向に回転する回転多面鏡lの鏡
面で反射して、集光レンズ(f・θ レンズ)3t−通
って被走査面spの上に、走査方向(X方向)に一様な
速度で移動する光スポットを結ぶように構成されている
。ところが1回転多面鏡lの回転軸に対して各鏡面が平
行でなく、その角度に不揃い(倒れ角誤差)があると、
走査方向に直角な方向(y方向)に光スポットが不均一
にシフトし、例えば、第2図に示す如く、倒れ角誤差が
Δθあると、被走査面spでΔd=コf・Δθ(ただし
、fは集光レンズ3の焦点距離)のシフト量が生じてし
iう。この倒れ角誤差や回転軸のプレは走査線のピッチ
むらt生じさせるため、何らかの対策をとる必要がある
。その一つとして、工作精度を上げて倒れ角誤差を微小
化することが考えられるが、実際には工作精度上の限界
に近く、たとえ工作できるにしても、工数がかかり、量
産は雌しく、極めて高価になるという問題がある。又、
従来から、第3図及び第参図に示す如く、円柱レンズ弘
等を用いて、光ビームを回転多面鏡lに走査方向に平行
な線状のビームとして入射させ、回転多面鏡/と被走査
l1iSPとの間に配置した、円柱レンズ(あるいはト
ロイダルレンズ)!及び集光レンズ3により、前記線状
のビームと走査位置を走査方向と直角な方向に関し、光
学的共役として補正するもの(%開昭at−≠り31!
号)がある。しかし、円柱レンズjt−用いると、全走
査幅にわたって一様なスポットサイズを得ることができ
ないし、円柱レンズ!の代わりにトロイダルレンズを用
いると・一様なスポットサイズは得られるが、トロイダ
ルレンズが高価な丸め、光ビーム走査装置が高コストに
なるという新たな問題が生ずる。
更に、他の従来例として、第3図及び第6図に示す如く
、円柱レンズ6及び7によって偏平(第7図)で、且つ
平行に近い光ビームを回転多面鏡lに入射させると共に
、集光レンズ3と被走査gspとの閾に単に円柱レンズ
If設けたものもある。この装置についても、全走査幅
にわたって一様なスポットサイズが得られないという問
題がある。
本発明は上述の問題に鑑みてなされたもので、光源から
の光ビームを回転多面鏡で反射し、集光レンズを介して
被走査面に与え走査を行う光ビーム走査装置において、
前記光源と前記回転多面鏡との間に、走査方向に幅が広
く偏平なしかも略平行な光ビームを形成するビーム整形
手段を設けると共に、前記被走査面付近に、走査方向に
対し直角な方向にのみ光の収束効果t−有する光学素子
を設け、更に、前記回転多“面鏡の反射面と被走査面と
が幾何光学的共役関係にあるよう罠構成し、しかも、走
査方向に対し直角な方向に関し、前記集光レンズと前記
光学素子の間でi@lのビームウェストが生じ、前記被
走査面付近で第2のビームウェストが生じるように構成
することにより、全走査幅にわたって一様なスポットサ
イズが得られ、走f4mピッチむらを生じない光ビーム
走査装置t”簡単な構成で且つ安価に実現したものであ
る。
以下、本発明の詳細な説明する。
第を図は、本発明に係る光ビーム走査装置における、回
転多面鏡と被走査面の間の光ビーム及び光学系の概略構
成図で、(b)は上面図、(−)は走査中央でのIII
I面図、(−)は走査端での@面図を示している。図中
、l/は回転多面鏡で、その反射rfJ<鏡面)には1
図示しないビーム整形手段から、走査方向に幅が広く偏
平なしかも平行に近い光ビームが入射している。12は
回転多面鏡//の反射ビームを受ける集光レンズ(ここ
ではf・θ レンズが使用されている)、13は被走査
面一(通常、平面である)sp付近に配置された凸円柱
レンズである。この凸円柱レンズ13は一方向にのみ収
束効果を有する光学素子の一つで、走査方向(X方向)
に対し直角な方向(y方向)にのみ屈折力を有するレン
ズである。
本発明装置では、回転多面鏡//の反射面と被走査面s
pは、幾何光学的に共役罠なっており、集光レンズlコ
を通過し、走査幅の中央に向う光ビームは、円柱レンズ
13の手前で1方向に関し第1のビームウェストWIを
もち(X方向の集光レンズ/Jから被走査面BPに向い
一様に収束する)、その後、再び拡散する光ビームが、
円柱レンズ13により、被走査面SPで所望の大きさを
もった第一のビームウェストを生ずるように構成されて
いる。ここで、回転多面鏡/IによpfII向を受けた
光ビームが、走査中央から走査端へ移動するにつれて、
y方向の第1のビームウェストは弧を描き円柱レンズ1
3への入射点での1方向光東径は走査中央に比べ大とな
る。円柱レンズ13の実効的焦点距離は、光と一′ムが
斜めに入射することによシ輝くなるため、光ビームが走
査中央から離れるにつれて、円柱レンズ13通過後の光
ビームの第2のy方向ビームウェストは、被走査面sp
の前方に移動し、又、その位置におけるビームウェスト
径は、走査中央に比べて小さくなる。第2のy方向ビー
ムウェストを通過し九九ビームは、y方向に発散し、被
走査面spにおいて、光束径をやや増して被走査面に入
射する。
ここで回転多面鏡l/、集光レンズフコ1円柱レンズ1
3、被走査面spの相対位置、焦点距離、この系へ入射
する光ビームの径、波面曲率半径等を適当に定めること
により、被走査面BP上で、スポットの1方向直径が全
走査幅にわ九ってほぼ一様になるようにすることができ
る。
光ビームの集束1発散の状況を知ったり・光ビーム全追
跡して所望のスポットを得たりするときに#考になる関
係式として、次のものがある。ただし、光源としてレー
ザを用い、光ビーム内の光強度分布がガウス型であると
する。
(1) 、 (2)式H,ビームウェストにおいて、波
兼λで半径(中心の強度のl/−になる位置で定義され
る)がω。である光ビームが、ビームウェストから2だ
け離れた位置にて光束半径ωと波面曲率半径R1与える
。逆に、ある位置で光ビームの半径ωと波面曲率半径R
が与えられれば、その位置から、次式に基づき、ビーム
ウェストまでノ距離2・、ビームウェストにおける光束
半径ωoヲ求めることができる。
”=/+(、、)”   ・・・・・・(3)(3)式
より、Rが大きく、ωが小さいとき、ビームウェストは
、幾何光学的に定められる焦点ze =Rよりも手前に
生ずることがわかる。又、レンズのような屈折力をもつ
光学素子に入射し九九ビームは、屈折面で、波面曲率半
径のみ次式で示されるような変換を受ける。
l n < −−−)=n’(L−’−z)・・・・−・(
5)r8         r8 ここで、”wtl′は屈折面前後の媒質の屈折率・rは
屈折面の曲率半径、S%S′ は屈折面前後における波
面曲率半径でおる。尚、(5)式の代りにレンズの焦点
距離fを用い次式で概略の計算を行うことも可能である
このように、レーザから発した光ビームの収束1発散等
の状況は、(1)〜(6)式から知り得る。
スポットの一様性(スポットE)形状が真円である必g
7!はなく、楕円でも良いが、その形状は走査方向にわ
たって一様であること)を得るための条件としては、所
望のスポット径により、円柱レンズ13と伎走f面sp
の距離が制限され、スポット径が小さくなるにつれて、
円柱レンズ13が被走査面spに近いことが要求される
次に具体的な実施例を示す。
実施例 / 光源・・・H・−N・レーザ 集光レンズ・・・t−3to、(t・0レンズ)円柱レ
ンズ・・・t=10゜ 円柱レンズ・・・被走査面間圧ill  10.−21
w回転回転鏡への入射光束 y方向 光束半径=0.参λO関 y方向 波面曲率半径=j73りU 光源・・・H・−caレーザ 集光レンズ・・・f=3jOwa(f・θレンズ)円柱
レンズ・・・f=≠4’、4’/Iu円柱レンズ・・・
被走査面間距離 参1.!fru回転多面鏡への入射光
束 y方向 光束半径=0.260m5 y方向 波面曲率半径=10り0111上記実施例に対
して、集光レンズと円柱レンズとの間に第1のビームウ
ェストをもたない従来装置での特性は、次のとおりであ
る。
光源・・・H・−N・レーザ 回転多面鏡への入射光束 1方向 光束半径=0.JO/wa y方向 波面曲率半径=−311,,7ψ關(回転多面
鏡の前方にビームウェストラもつ) 集光レンズ・・・f=3j(hss(f・θレンズ)円
柱レンズ・・・f=jO□ 円柱レンズ・・・被走査面間圧@  16.1−間上記
データから明らかなように、本発明装置は、被走査面上
の入射点における光束半径が、従来装置に比べて格段に
優れている。、現実に、従来装置の光学系を主走査手段
とし、等速で移動する台に写真用印画紙t−J129付
け、文字記録全行ったところ、走査中央付近では、良好
な記録が得られたが、走査端では、線の太り、画像の切
れ等の劣化が生じた。これに対し、実施例/の光学系で
は、走査の全幅にわたって良好な記録が行われた。実施
例−2の光学系を露光システムとして、電子写真システ
ムに記録した所、全幅にわたって良好な記録が行われた
尚、第を図にはビーム整形手段を示さなかったが、この
ビーム整形手段は、例えば、第2図及び第10図に示す
如く、レーザl≠からのレーザビームを受ける球面レン
ズによるビーム拡大手Rigと、ビーム拡大手段/j通
過後のレーザビームが入射する兼焦点円柱レンズ16及
び短焦点円柱レンズとから構成できる。又、第1/図に
示す如く、レーザ/Fから出射されたレーザビームを変
調器/Iを介して受ける単一の円柱レンズlりと、円柱
レンズlり通過後のレーザビームが入射する球面レンズ
でなるビーム拡大手段−20とからも構成できる。この
ような光束でもって回転多面鏡IIに光ビーム全入射す
る理由は、回転多面鏡//へ入射する光ビームの1方向
波面曲率半径が非常に大であシ、光r−五幅が小さいこ
とから、光路長が極端に長くなることを避ける丸めであ
る。更に、第1図等には、一方向にのみ収束効果をもつ
光学素子として円柱レンズを用いたが、第7λ図に示す
ように、凹面円筒反射鏡!Of用いてもよい。
以上詳細に説明し九ように、本発明では、回転多面鏡の
反射面と被走査面とが、集光レンズと円柱レンズから成
る光学系で、y方向に関して幾何光学的にほぼ共役とな
るようになし、これによって、回転多面鏡の九おれた角
誤差による走査ピッチむらの発生を防止すると同時に集
光レンズと円柱レンズ等との中間に波動光学的に定めら
れるy方向ビームラ再ストを形成し、これによって、被
走査面上でのスポットの大きさを一様とするものである
。これは、前述のように光′束の主光線の進行方向が幾
何光学的に定まるのに対し、光束の収束、発散が波動光
学的に定まることも利用した結果、可能となったもので
ある。又、本発明によれば、低nKで低コストの回転多
面鏡を用いることができ、かつ高価なトロイダルレンズ
を用いる必要が゛ない。したがって、走査による読取り
を行う装置あるいは記碌を行う装置として、優れた性能
のものを、低コストで構成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は光ビーム走査装置の主要部の基本・的な構成図
、第2図は倒れ角誤差の説明図、第3図乃至第7図は従
来装置の説明図、第を図は本発明装置の構成図、第り図
乃至第11図はビーム整形手段の説明図、第1コ図は本
発明の他の実施例の説明図である。 ≠〜r、i3.tt、i7.iり・・・円柱し、/ズλ
、l参・・・レーザ  lj、λ0・・・ビーム拡大手
段it・・・変v4器    8P・・・被走査面特許
出願人 小西六写真工業株式会社 代理人升理士井14藤治

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光源からの光ビームを回転多面鏡で反射し、集光
    レンズを介して被走査面に与え、走査を行う光ビーム走
    査装置において、前記光源と前記回転多面鏡との間に、
    走査方向に幅が広く偏平な、しかも略平行な光ビームを
    形成するビーム整形子IRを設けると共に、前記被走査
    面付近に、走査方向に対し直角な方向にのみ光の収束効
    果を有する光学素子を設け、更に、前記回転多面鏡の反
    射面と被走査面とが幾何光学的共役関係にあるように構
    成し、しかも、走査方向に対し直角力方向に関し、前記
    集光レンズと前記光学素子の間に第1のビームウェスト
    が生じ、前記被走査面付近で第2の′ビームウェストが
    生じるように構成したことt%黴とする光ビーム走査装
    置。
  2. (2)  前記光ビームがレーザ光線であること金特徴
    とする%lFF請求の範囲第1項記載の光ビーム走査装
    置。
  3. (3)前記光学素子として、その光の収束効果が走査方
    向に亘って一様な円柱レンズ又は凹面反射鏡を用いたこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載の
    光ビーム走査装置0
  4. (4)前記ビーム整形手段として、球面レンズによるビ
    ーム拡大手段と、該ビーム拡大手段通過後の光ビームが
    入射する長焦点円柱レンズ及び短焦点円柱レンズとから
    成るものを用いたことt−特徴とする特許請求の範囲第
    1項、′s2項又は5g3項記載の光ビームた査装置。
  5. (5)前記ビーム整形手段として、単一の円柱レンズと
    、該円柱レンズ通過後の光ビームが入射する球面レンズ
    でなる拡大手段とから成るものを用いたことt−特徴と
    する特許請求の範囲第1項、第2項、又は第3項記載の
    光ビーム走査装置。
JP56175541A 1981-10-31 1981-10-31 光ビ−ム走査装置 Granted JPS5876810A (ja)

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US07/027,109 US4775205A (en) 1981-10-31 1987-03-13 Light-beam scanning apparatus having two beam waists

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JPS5876810A true JPS5876810A (ja) 1983-05-10
JPH049286B2 JPH049286B2 (ja) 1992-02-19

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