JPS587517A - 磁気スケ−ルの製作方法 - Google Patents
磁気スケ−ルの製作方法Info
- Publication number
- JPS587517A JPS587517A JP10599081A JP10599081A JPS587517A JP S587517 A JPS587517 A JP S587517A JP 10599081 A JP10599081 A JP 10599081A JP 10599081 A JP10599081 A JP 10599081A JP S587517 A JPS587517 A JP S587517A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- magnetic scale
- scale
- phosphorus
- detector
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は機械の構成部品の相対変位適度、加速度勢の測
定に１！用される磁気スケールの製作方法に関する。
定に１！用される磁気スケールの製作方法に関する。
従来、この種の磁気スケールの製作はレープ光線、熱ａ
勢を本末させてスケールとなる金属の素材を部分的に加
熱するととＫよりて行なわれているが、素材の表面よシ
エネルギーが供給されるので素材表面部のみが加熱され
内部まで加熱すること社容易ではなく、特に熱伝導車の
低い金属材料ではこうした傾向が著しい。
勢を本末させてスケールとなる金属の素材を部分的に加
熱するととＫよりて行なわれているが、素材の表面よシ
エネルギーが供給されるので素材表面部のみが加熱され
内部まで加熱すること社容易ではなく、特に熱伝導車の
低い金属材料ではこうした傾向が著しい。
本発明はかかる点にかんがみなされたもので、金属のｌ
Ｉｍにニラ介ルおよびリンを主成分とす変質部を所定間
隔で設けたことを１ｌＩｉ徴とする磁気スケールの製作
方法を提供するものである。
Ｉｍにニラ介ルおよびリンを主成分とす変質部を所定間
隔で設けたことを１ｌＩｉ徴とする磁気スケールの製作
方法を提供するものである。
以下、本発明の実施例を示す第１図ないし第２図によシ
詳細に説明する。第１図は本発明の実施例で油圧シリン
ダ、空圧シリンダのピストンロッド及び案内軸勢に多用
される円柱状の磁気スケール１１で、同スケール１１唸
鋼材等で作られた円柱状の基材１２０１１面に化学メッ
キによりニッケル及びリンを主成分として含有する薄膜
１．３を鍛着させ、更に該薄膜１３を所定間隔に加熱し
同薄膜１３０所定間隔を透磁率を変化させることによ）
磁気的な変質部１４を生じさせ、変質部１４を所定の間
隔でリング状にして設けである。前記薄１ＬＬＳの主成
分であるニッケル及びリン更に副成分である硼嵩−クロ
は資化するが変質部１４以外の薄膜１３０透磁率に比較
すゐと２０〜６０倍となるので、矢印ＩＳＯ方向に変位
が発生すると、磁気スケール１１に近接して設けられて
い石検出器１６は変質部１４の透磁率に対応し九大きさ
の電気信号を生じ、この信号を電気的に処理することに
よシ磁気スケール１１と検出器１６と０６対変位速度、
加速度の一定が行える。
詳細に説明する。第１図は本発明の実施例で油圧シリン
ダ、空圧シリンダのピストンロッド及び案内軸勢に多用
される円柱状の磁気スケール１１で、同スケール１１唸
鋼材等で作られた円柱状の基材１２０１１面に化学メッ
キによりニッケル及びリンを主成分として含有する薄膜
１．３を鍛着させ、更に該薄膜１３を所定間隔に加熱し
同薄膜１３０所定間隔を透磁率を変化させることによ）
磁気的な変質部１４を生じさせ、変質部１４を所定の間
隔でリング状にして設けである。前記薄１ＬＬＳの主成
分であるニッケル及びリン更に副成分である硼嵩−クロ
は資化するが変質部１４以外の薄膜１３０透磁率に比較
すゐと２０〜６０倍となるので、矢印ＩＳＯ方向に変位
が発生すると、磁気スケール１１に近接して設けられて
い石検出器１６は変質部１４の透磁率に対応し九大きさ
の電気信号を生じ、この信号を電気的に処理することに
よシ磁気スケール１１と検出器１６と０６対変位速度、
加速度の一定が行える。
なお、薄膜１３の厚すｔは検出器１６０電気信号を大き
くするためＫは大とするととが好ましいが、化学メッキ
工程、薄膜１３０基＃１２との書着度、検出器１６よ〕
発生する電気信号の８Ｎ比、等よりα１〜α８ｍ＠度が
好ましい。
くするためＫは大とするととが好ましいが、化学メッキ
工程、薄膜１３０基＃１２との書着度、検出器１６よ〕
発生する電気信号の８Ｎ比、等よりα１〜α８ｍ＠度が
好ましい。
第２図は第１ｇｏ磁気スケール１１を製作するための機
械装置Ｏ概略構造図で、図中１７はＩＩＷＫ化学メツ會
で得られた薄膜を有する素材で、その両端性支持台１Ｂ
、１Ｇによって回転自在に支持され、かつ回転板２０の
連動ビン２１及び駆動治具２２を介して、図示しない駆
動源からの回転運動が回転板２０よシ素材１７に伝えら
れ線素材１７は矢印２３の方向に回転して２４はブラケ
ット２８に固定されている電気絶縁材料の軸受２９によ
り支承されている軸２７に固着されており、かつ骸加熱
ロータ２４の尖端１１２５Ｃ）一部が素材１７Ｋｍ触し
矢印２６の方向に駆動装ｆｌ ｍ （図示されてい丸い
）Ｋよシ回転している。３０．３１は給電＠３２．３３
が連結されている給電ブラシで、これらの給電ブラシ３
０．３１はそれぞれ素材１７、軸２７に轟接しておシ、
給電１Ｉ９８２．３３を介して与えられる電流は径路３
４を通って流れ加熱ロータ２４は一種の電極を構成して
いる。前記素材１７は円筒であり加熱ロータ２４０尖端
部２５とＯＩＩ触は非常に小さな面と壜っていゐので、
素材１７の薄膜１３は高温度に加熱され所定の間隔で矢
印３５の方向に順次、加熱ロータ２４を移動させて行く
と、第１ｍＫ示すよ５′ｌｌ−磁気スケ−／Ｉ／１１が
製作される。
械装置Ｏ概略構造図で、図中１７はＩＩＷＫ化学メツ會
で得られた薄膜を有する素材で、その両端性支持台１Ｂ
、１Ｇによって回転自在に支持され、かつ回転板２０の
連動ビン２１及び駆動治具２２を介して、図示しない駆
動源からの回転運動が回転板２０よシ素材１７に伝えら
れ線素材１７は矢印２３の方向に回転して２４はブラケ
ット２８に固定されている電気絶縁材料の軸受２９によ
り支承されている軸２７に固着されており、かつ骸加熱
ロータ２４の尖端１１２５Ｃ）一部が素材１７Ｋｍ触し
矢印２６の方向に駆動装ｆｌ ｍ （図示されてい丸い
）Ｋよシ回転している。３０．３１は給電＠３２．３３
が連結されている給電ブラシで、これらの給電ブラシ３
０．３１はそれぞれ素材１７、軸２７に轟接しておシ、
給電１Ｉ９８２．３３を介して与えられる電流は径路３
４を通って流れ加熱ロータ２４は一種の電極を構成して
いる。前記素材１７は円筒であり加熱ロータ２４０尖端
部２５とＯＩＩ触は非常に小さな面と壜っていゐので、
素材１７の薄膜１３は高温度に加熱され所定の間隔で矢
印３５の方向に順次、加熱ロータ２４を移動させて行く
と、第１ｍＫ示すよ５′ｌｌ−磁気スケ−／Ｉ／１１が
製作される。
素材１７の直径ｄＣ）大きさ及び薄膜１３Ｃ）厚すｔに
よって給電＠３２．３３に寿えられゐ電流の大きさを変
えるがｄが３０■、ｔがα２雪、素材１７の、ｌＩ面回
転連膨が２０．■／Ｓ９９゜０場合に電流は！！ＳＡｇ
直で目的を達することが出来た。この際の加熱ロータ２
４の直径は１２０ｍであった。ヒリして得られ九磁気ス
ケール１１よシ検出１Ｂ１６を介して得られる電気信号
の波高値は５０！ＩＩＶＫ及び実用上曳好な特性を有す
る磁気スケールを製作出来た。
よって給電＠３２．３３に寿えられゐ電流の大きさを変
えるがｄが３０■、ｔがα２雪、素材１７の、ｌＩ面回
転連膨が２０．■／Ｓ９９゜０場合に電流は！！ＳＡｇ
直で目的を達することが出来た。この際の加熱ロータ２
４の直径は１２０ｍであった。ヒリして得られ九磁気ス
ケール１１よシ検出１Ｂ１６を介して得られる電気信号
の波高値は５０！ＩＩＶＫ及び実用上曳好な特性を有す
る磁気スケールを製作出来た。
咎に本発明の実施例における通電加熱では薄膜１３の電
気抵抗値が基材１２のそれよシも高いので加熱ロータ２
４より入る電流のほとんどが薄膜１３を通うて基材１２
に向りて流れ、薄膜１３０表面だけでなく薄膜１３の厚
す方向に均一に加熱されるようになるので薄膜１３の厚
すｔが比較的大きな場合有利である。
気抵抗値が基材１２のそれよシも高いので加熱ロータ２
４より入る電流のほとんどが薄膜１３を通うて基材１２
に向りて流れ、薄膜１３０表面だけでなく薄膜１３の厚
す方向に均一に加熱されるようになるので薄膜１３の厚
すｔが比較的大きな場合有利である。
上記の説明においては円柱状の磁気スケールの製作につ
いてのべたが、平板状の磁気スケールも加熱ロータを素
材の表面に接触させ転動させて作られている。更に素材
１７の薄膜１３にリング状ではなく、ネジ状の変質部１
４を生じさせて別の磁気スケールを作っている。この場
合加熱ロータ２４の軸２７をネジ状の変質部１４のリー
ド角に合せて第１図の紙面ｏｈ直方向く傾斜させ、加熱
ロータ２４を素材１７の回転に連係させて矢印３５の方
向に移動させる。
いてのべたが、平板状の磁気スケールも加熱ロータを素
材の表面に接触させ転動させて作られている。更に素材
１７の薄膜１３にリング状ではなく、ネジ状の変質部１
４を生じさせて別の磁気スケールを作っている。この場
合加熱ロータ２４の軸２７をネジ状の変質部１４のリー
ド角に合せて第１図の紙面ｏｈ直方向く傾斜させ、加熱
ロータ２４を素材１７の回転に連係させて矢印３５の方
向に移動させる。
以上説明したように本発明は一般に広く使用されている
ニッケルーリン化学メッキで薄膜を作れば良いので、磁
気スケールの素材の製作は至極容易であり、機械部品と
のものが磁気スケールを構成出来、自動機械の構造の簡
略化、製造価格の低減は容易に行われる。なお磁気スケ
ールを機械部品に使用する場合には表面にクロムメッキ
を施すことによシ耐摩耗性が得られる。
ニッケルーリン化学メッキで薄膜を作れば良いので、磁
気スケールの素材の製作は至極容易であり、機械部品と
のものが磁気スケールを構成出来、自動機械の構造の簡
略化、製造価格の低減は容易に行われる。なお磁気スケ
ールを機械部品に使用する場合には表面にクロムメッキ
を施すことによシ耐摩耗性が得られる。
第１図は本発明の実施例で主要な構造を説明する検出器
を含む磁気スケールＯ断面図、第２図は磁気スケールを
製作するためＯＩＩ械装置の゛主要部を示す簡略部分瞬
間図である。 １１・・磁気スケール、１２・・基材、１３・・薄膜、
１４・・変質部、１Ｂ、２Ｂ、２６．３５・・矢印、１
６・・検出畢、１７・・素材、１Ｂ、１９・・支持台、
２０・・回転板、２１・・ビン、２２・・駆動治具、２
４・・加熱ロータ、２５−・尖端部、２７・・軸、２８
・・ブラケット、２９・・軸受、３０．３１・・給電ブ
ラシ、３２．３３・・給電線、３４・・径路。 出願人 東芝機械株式会社 ２８２５び６２６５ 手続補正書（方式） ％式％ 乳 発明の名称 磁気スケールの製作方法 人補正をする者 緒と１縣 特許出願人 〒１０４ 住 所 東京都中央区銀座４−２−１１昭和５
６都１１月５日（発送日＝５６年１１月２４日）ミ補正
の対象 明細書の発明の名称の欄 ξ補正の内容
を含む磁気スケールＯ断面図、第２図は磁気スケールを
製作するためＯＩＩ械装置の゛主要部を示す簡略部分瞬
間図である。 １１・・磁気スケール、１２・・基材、１３・・薄膜、
１４・・変質部、１Ｂ、２Ｂ、２６．３５・・矢印、１
６・・検出畢、１７・・素材、１Ｂ、１９・・支持台、
２０・・回転板、２１・・ビン、２２・・駆動治具、２
４・・加熱ロータ、２５−・尖端部、２７・・軸、２８
・・ブラケット、２９・・軸受、３０．３１・・給電ブ
ラシ、３２．３３・・給電線、３４・・径路。 出願人 東芝機械株式会社 ２８２５び６２６５ 手続補正書（方式） ％式％ 乳 発明の名称 磁気スケールの製作方法 人補正をする者 緒と１縣 特許出願人 〒１０４ 住 所 東京都中央区銀座４−２−１１昭和５
６都１１月５日（発送日＝５６年１１月２４日）ミ補正
の対象 明細書の発明の名称の欄 ξ補正の内容
Claims (1)
- 金属材料の表ｗＫ化学メッキによシ得られるニッケルお
よびリンを主成分として含有する薄膜に電極を接触させ
、該薄膜を部分的に通電加熱し同薄膜に磁気的な変質部
を所定間隔で設けたことを特徴とする磁気スケールの製
作方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10599081A JPS587517A (ja) | 1981-07-07 | 1981-07-07 | 磁気スケ−ルの製作方法 |
| DE19823210716 DE3210716A1 (de) | 1981-03-24 | 1982-03-24 | Metallmessstab und verfahren zu seiner herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10599081A JPS587517A (ja) | 1981-07-07 | 1981-07-07 | 磁気スケ−ルの製作方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS587517A true JPS587517A (ja) | 1983-01-17 |
Family
ID=14422160
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10599081A Pending JPS587517A (ja) | 1981-03-24 | 1981-07-07 | 磁気スケ−ルの製作方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS587517A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6283620A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 磁気目盛 |
| JPS63259413A (ja) * | 1987-04-15 | 1988-10-26 | Kayaba Ind Co Ltd | 磁気スケ−ルの製造方法 |
| CN102803749A (zh) * | 2010-03-16 | 2012-11-28 | 伊顿公司 | 耐腐蚀位置测量系统及该系统的形成方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5629838A (en) * | 1979-08-21 | 1981-03-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS5661032A (en) * | 1979-10-22 | 1981-05-26 | Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> | Optical magnetic recording medium |
-
1981
- 1981-07-07 JP JP10599081A patent/JPS587517A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5629838A (en) * | 1979-08-21 | 1981-03-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
| JPS5661032A (en) * | 1979-10-22 | 1981-05-26 | Kokusai Denshin Denwa Co Ltd <Kdd> | Optical magnetic recording medium |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6283620A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 磁気目盛 |
| JPH0132448B2 (ja) * | 1985-10-09 | 1989-06-30 | Sumitomo Kinzoku Kogyo Kk | |
| JPS63259413A (ja) * | 1987-04-15 | 1988-10-26 | Kayaba Ind Co Ltd | 磁気スケ−ルの製造方法 |
| CN102803749A (zh) * | 2010-03-16 | 2012-11-28 | 伊顿公司 | 耐腐蚀位置测量系统及该系统的形成方法 |
| CN102803749B (zh) * | 2010-03-16 | 2015-11-25 | 伊顿公司 | 耐腐蚀位置测量系统及该系统的形成方法 |
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