JPS5874356U - 発光ダイオ−ド - Google Patents

発光ダイオ−ド

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Publication number
JPS5874356U
JPS5874356U JP17039181U JP17039181U JPS5874356U JP S5874356 U JPS5874356 U JP S5874356U JP 17039181 U JP17039181 U JP 17039181U JP 17039181 U JP17039181 U JP 17039181U JP S5874356 U JPS5874356 U JP S5874356U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light emitting
emitting diode
layer
epitaxially grown
semiconductor substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP17039181U
Other languages
English (en)
Inventor
野村 秀徳
明 鈴木
Original Assignee
日本電気株式会社
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS5874356U publication Critical patent/JPS5874356U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例の断面図である。図中、1は
半導体基板、2は活性層、2aは発光領域、3はオラツ
ド層、4は電極形成層、5は絶縁層、6はn側電極、7
はAu電極層、8はn側電極、9は発光窓である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体基板上のエピタキシャル成長層によって形成され
    た二重へテロ接合構造と前記エピタキシャル成長層とは
    反対側の前記半導体基板表面上に発光窓を有する発光ダ
    イオードにおいて、前記エピタキシャル成長層の最上層
    が前記発光ダイオードの発5光波長よりも長い吸収端波
    長と前記発光波−長に対する吸収長の172よりも薄い
    厚さと1018CrIt−3よりも高い不純物ドーピン
    グ濃度を有し、その最上層表面に電極が設けられたこと
    を特徴とする発光ダイオード。
JP17039181U 1981-11-16 1981-11-16 発光ダイオ−ド Pending JPS5874356U (ja)

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JP17039181U JPS5874356U (ja) 1981-11-16 1981-11-16 発光ダイオ−ド

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JP17039181U JPS5874356U (ja) 1981-11-16 1981-11-16 発光ダイオ−ド

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JPS5874356U true JPS5874356U (ja) 1983-05-19

Family

ID=29962351

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JP17039181U Pending JPS5874356U (ja) 1981-11-16 1981-11-16 発光ダイオ−ド

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