JPS5873770A - 磁石とコイルの磁場を利用した高能率イオンプレ−テング装置 - Google Patents

磁石とコイルの磁場を利用した高能率イオンプレ−テング装置

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JPS5873770A
JPS5873770A JP17233881A JP17233881A JPS5873770A JP S5873770 A JPS5873770 A JP S5873770A JP 17233881 A JP17233881 A JP 17233881A JP 17233881 A JP17233881 A JP 17233881A JP S5873770 A JPS5873770 A JP S5873770A
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JP
Japan
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plasma
hearth
vessel
wall
beams
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JP17233881A
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English (en)
Inventor
Joshin Uramoto
上進 浦本
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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24—Vacuum evaporation
    • C23C14/32—Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 放電プラズマを利用するイオンプレーテン装置に於いて
は、そのイオン−コレクター領域（メッキ領域）ではプ
ラズマビームの直径を拡げる必要がある。何故なら従来
のイオンプレーテング装置の様に細いプラズマビームで
はメッキ領域はプラズマの拡散によって拡大されている
のでコレクターへのイオン電流密度の低下が著しく、メ
ッキ効率が悪化する。プラズマビームの直、径を拡げて
おけばプラズマの高密度領域を利用できる。この領域は
電子温度も高くまた陽極近くからイオンが加速されて逆
流するので拡散領域よりイオン電流密度が著しく高い。
従ってメッキ効率も飛躍的に改善される。一方陽極を構
成するハースの上では放電パワーを集中させて試料金属
を溶解、蒸発、−イオン化する必要があうｏ−’ｃ−ｊ
、うし７３−□１ｉゆればな、ない。他にハースを水平
に置く関係上プラズマ電子銃を横の器壁につけてメッキ
領域を大きく確保するにはプラズマビームを９０°近く
曲げる必要もある。最後に、メッキ効率を上げるために
は器壁へのプラズマイオンの拡散を抑えてメッキ試料に
イオンを集中させることも重要である。
以上の要請に答える高性能イオンプレーテング装置の概
略を図面に示した。放電部の新型陰極は既に特許出願（
５４−０５７３９５）　　済みのものであり、また環状
の永久磁石と空心コイルを組合せて放電プラズマビーム
を短い距離で大直径化する技術も特許出願（５５−ＯＱ
５０６３）％みのものである。図面で今回新しい部分は
ハースの下に強力な永久磁石を置いて局所的に強磁場を
作り、プラズマビームを曲げると同時にハースに収束さ
せていることである。またプラズマの器壁への損失を軽
減するために器壁の近くに７゜局所的に強い磁場をつく
るための磁石を配置していることである。なおハースの
下に置く永久磁石は鉄心入り電磁石でもよいが、真空中
にコイルを入れて電流を導入するのは技術的に非常な困
難を伴う。その点永久磁石は便利であり。
省エネルギー的でもある。
【図面の簡単な説明】
図に於いて、１は通常アルゴンガス導入口。 ２は新型陰極、３は第１．、中間電極と環状永久磁石、
４は第２中間電極と空心電磁石コイル、５は放電々源、
６は真空容器、７はハース兼陽極。 ８は棒状永久磁石、９は排気ポン゛プ、１０は反応用ガ
ス導へ口、１１はイオン集積用負バイアス電源、−１２
はイオンコレクター、１３は永久磁石（ＮＳは極性）、
１４はプラズマビーム。 なお新型陰極による放電特性、プラズマの大直径化のた
めの磁場分布については特許出願公報５４−０５７３９
５と５５−００５Ｑ６３を参照されたい。 、１：１

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 永久磁石または鉄心入り電磁石と、空心コイル（の磁場
    ）を組合せて放電プラズマビームを空間的に拡げ９曲げ
    、絞り且つ器壁へのプラズマ損失を軽減したイオンプレ
    ーテング装置
JP17233881A 1981-10-28 1981-10-28 磁石とコイルの磁場を利用した高能率イオンプレ−テング装置 Pending JPS5873770A (ja)

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Cited By (4)

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