JPS5870198A - 放射性廃ガス処理装置 - Google Patents
放射性廃ガス処理装置Info
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- JPS5870198A JPS5870198A JP56168973A JP16897381A JPS5870198A JP S5870198 A JPS5870198 A JP S5870198A JP 56168973 A JP56168973 A JP 56168973A JP 16897381 A JP16897381 A JP 16897381A JP S5870198 A JPS5870198 A JP S5870198A
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- absorption tank
- water
- gas
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１）発明の技術分野
本発明は、たとえば原子カプラントの使用済燃料の再処
理時に脱硝反応によって生成される、Ｐｕ−Ｕの建スト
を含むＮｏ／ＮＯＩ成分よシなる放射性廃ガスを処理す
る放射性廃ガス処理装置に関する。
理時に脱硝反応によって生成される、Ｐｕ−Ｕの建スト
を含むＮｏ／ＮＯＩ成分よシなる放射性廃ガスを処理す
る放射性廃ガス処理装置に関する。
＋２）従来技術
原子カプラントの使用済燃料の再処理時において、まず
硝酸ウラニル及び硝酸プルトニウムを含む混合溶液が得
られる。
硝酸ウラニル及び硝酸プルトニウムを含む混合溶液が得
られる。
そこで、第１図の如（上記混合溶液Ｉは、皿状の容ｒｊ
１２に入れてマイクロ波加熱ｌＳｓ内に収容され、マイ
クロ波発振器４よシマイクロ波を照射されて加熱脱硝さ
れる。
１２に入れてマイクロ波加熱ｌＳｓ内に収容され、マイ
クロ波発振器４よシマイクロ波を照射されて加熱脱硝さ
れる。
このとき、マイク胃液加熱５７の内部に祉Ｐｕ−Ｕの建
ストを含むＮｏ／Ｎｏ、成分よシなる放射性廃ガスが生
成されるので、この廃ガスを放射性廃ガス処理装置５へ
導いて放射性物賞及び人体に有害なＮＯガスを除去する
必要がある。
ストを含むＮｏ／Ｎｏ、成分よシなる放射性廃ガスが生
成されるので、この廃ガスを放射性廃ガス処理装置５へ
導いて放射性物賞及び人体に有害なＮＯガスを除去する
必要がある。
従・来の放射性廃ガス処理装置５は、第１図に示すよう
に第１、第２の吸収槽６に、ＩＩＢを一列に接続して構
成され、各吸収槽６ｋ 、６Ｂの外部には循環ポンプ７
人、ＦＢが装備されている。
に第１、第２の吸収槽６に、ＩＩＢを一列に接続して構
成され、各吸収槽６ｋ 、６Ｂの外部には循環ポンプ７
人、ＦＢが装備されている。
また、各吸収槽６に、６Ｂの内部には、底部にＮＯ雪ガ
ス吸収用の水ＪＩＡ、ＪＢが収容式れ、その上方位置に
は陶ｍラシヒリング１１に、９Ｂが収容されている。
ス吸収用の水ＪＩＡ、ＪＢが収容式れ、その上方位置に
は陶ｍラシヒリング１１に、９Ｂが収容されている。
そして、前記マイクロ波加熱＠Ｊと第１の吸収槽６人の
上端との間、はガス配管１０ ＡＫて接続され、を九第
１の吸収槽６人の周壁中間部位と第２の吸収槽６Ｂの上
端との間はガス配管１０ ＢＫて接続されている。
上端との間、はガス配管１０ ＡＫて接続され、を九第
１の吸収槽６人の周壁中間部位と第２の吸収槽６Ｂの上
端との間はガス配管１０ ＢＫて接続されている。
また、第１の吸収槽σ人の周壁底部と周部上部との間は
前記ポン１１人を介して水配管１１ｋにて接続されてい
る。同様に、第２の吸収槽６Ｂの同感底部と周差上部と
の間は前記ポンプＩＢを介して水配管Ｉ Ｊ ＢＫで接
続されている。
前記ポン１１人を介して水配管１１ｋにて接続されてい
る。同様に、第２の吸収槽６Ｂの同感底部と周差上部と
の間は前記ポンプＩＢを介して水配管Ｉ Ｊ ＢＫで接
続されている。
前記第２の吸収槽−Ｂの周壁中間部位には排気管１２が
接続され、この排気管１ｓの途中には廃ガス中のＰｕ−
Ｕ の電ストを捕捉する電ストキャッチャ−１４が介挿
されている。
接続され、この排気管１ｓの途中には廃ガス中のＰｕ−
Ｕ の電ストを捕捉する電ストキャッチャ−１４が介挿
されている。
そこで、前記マイクロ波加熱装置１内に生成された廃ガ
スはガス配管１０ｋを介して第１の吸収槽６入内にその
上端より導入される。そしてラシヒリング９Ａを透過し
た後、ガス配管１０Ｂを介して第２の吸収槽６Ｂ内にそ
の上端よシ導入される。さらにラシヒリング９Ｂを透過
した後、排気管Ｉ３よシ排出され、廃ガス二次処理系へ
向う。
スはガス配管１０ｋを介して第１の吸収槽６入内にその
上端より導入される。そしてラシヒリング９Ａを透過し
た後、ガス配管１０Ｂを介して第２の吸収槽６Ｂ内にそ
の上端よシ導入される。さらにラシヒリング９Ｂを透過
した後、排気管Ｉ３よシ排出され、廃ガス二次処理系へ
向う。
一方、第１の吸収槽６人においてはポンプｒＡにより槽
６入内の水８人が槽内上部へ汲上げラレ、う／上リング
９Ａに上方より散水されている。同様に、第２の吸収槽
６Ｂにおいてはポンプ７Ｂにより槽６Ｂ内の水８Ｂが槽
内上部に汲上げられ、ラシヒリング９ＢＫ上方より散水
されている。
６入内の水８人が槽内上部へ汲上げラレ、う／上リング
９Ａに上方より散水されている。同様に、第２の吸収槽
６Ｂにおいてはポンプ７Ｂにより槽６Ｂ内の水８Ｂが槽
内上部に汲上げられ、ラシヒリング９ＢＫ上方より散水
されている。
そこで、第１の吸収槽６入内に導入された廃ガスは２シ
ヒリング９Ａを透過する際、水と接触し、廃ガス中のＮ
ｏガスの一部は水中の酸素と反応してＮｏ、ガスとなシ
、水に吸収される。
ヒリング９Ａを透過する際、水と接触し、廃ガス中のＮ
ｏガスの一部は水中の酸素と反応してＮｏ、ガスとなシ
、水に吸収される。
また第２の吸収槽６Ｂ内のりシヒリング９Ｂを透過する
際、再度、水と接触して廃ガス中のＮＯガス成分紘さら
に減少する。
際、再度、水と接触して廃ガス中のＮＯガス成分紘さら
に減少する。
そして第２の吸収槽６Ｂよシ排出された廃ガスは建スト
キャッチャ−１４によＪ）Ｐｕ−Ｈのミストを捕捉され
、廃ガス二次処理系へ向うことになる。
キャッチャ−１４によＪ）Ｐｕ−Ｈのミストを捕捉され
、廃ガス二次処理系へ向うことになる。
（３）従来技術の間融点
第１、第２の吸収槽６に、６Ｂ内に収納されたラシヒリ
ング＃Ａ、＃Ｂは頻繁に交換しなければ々らない。よっ
てメンテナンスが困礫である。
ング＃Ａ、＃Ｂは頻繁に交換しなければ々らない。よっ
てメンテナンスが困礫である。
ま九廃ガスと水との接触面積を拡大することによシＮＯ
ガスの除去率を高めることができるが、上記接触面積を
拡大するには吸収槽を大きくしなければならず、設備を
大形化することなしにＮｏガスの除去率を高めるには限
界がある。
ガスの除去率を高めることができるが、上記接触面積を
拡大するには吸収槽を大きくしなければならず、設備を
大形化することなしにＮｏガスの除去率を高めるには限
界がある。
よってＮｏガスの除去率向上はあま）望めない。
（４）発明の目的
メンテナンスが容易であシ、また小形で、しかもＮｏガ
ス除去率を高めうる放射性廃ガス処理装置を提供するこ
とを目的とする。
ス除去率を高めうる放射性廃ガス処理装置を提供するこ
とを目的とする。
（５）発明の構成
吸収槽の内底部にはＮｏ、ガス吸収用の水、吸収槽内上
部には建ストキャッチャ−が収容され、吸収槽の上端に
は排気口が設けられる。
部には建ストキャッチャ−が収容され、吸収槽の上端に
は排気口が設けられる。
また吸収槽内の水を循環ポンプにょシ汲上げて、スプレ
ーノズルによシ吸収槽内の散布する。
ーノズルによシ吸収槽内の散布する。
また廃ガスには吸収槽内に導入される前に予備反応器に
おいてＯｌが混入され、廃ガス中のＮｏガスの一部ＫＯ
，を反応させてＮｏ置方スとし、その廃ガスを吸収槽内
の水中へ導入するように構成される。
おいてＯｌが混入され、廃ガス中のＮｏガスの一部ＫＯ
，を反応させてＮｏ置方スとし、その廃ガスを吸収槽内
の水中へ導入するように構成される。
そこで、廃ガス中のＮｏガスは、予備反応器においてＮ
ＯＩガヌとな）、吸収槽内０水及びスプレーノズルよシ
赦布される水粒子に十分接触し、 。
ＯＩガヌとな）、吸収槽内０水及びスプレーノズルよシ
赦布される水粒子に十分接触し、 。
３ＮＯ鵞＋Ｈ雪ＯＷ ！ ＨＮＯ，’＋ Ｎ。
なる反応によ多水中に吸収除去されることになる。
そしてさらに吸収槽内を上昇する放射性塵ガスは、ミス
トキャッチャ−を通過する際に放射性物質であるＰｕ−
Ｕのζストを捕捉されて、吸収槽の外部へ排出されるこ
とＫなる。
トキャッチャ−を通過する際に放射性物質であるＰｕ−
Ｕのζストを捕捉されて、吸収槽の外部へ排出されるこ
とＫなる。
（６）発明の効果
廃ガスに紘吸収槽へ導入される前にＯｌが混入され、Ｎ
Ｏガスは水溶性のＮＯＩとなるので、廃ガス中のＮｏガ
ス杜効皐よく除去される。
Ｏガスは水溶性のＮＯＩとなるので、廃ガス中のＮｏガ
ス杜効皐よく除去される。
また吸収槽内にはラシヒリングを収容しないので、メン
テナンスが容易である。
テナンスが容易である。
またミストキャッチャ−線吸収槽内に収容されるので、
ミストキャッチャ−よシ滴下する放射性物質を含んだ水
は吸収槽の内底部で受けられる。よってずストキャッチ
ャ−用の水受は祉格別必要でなく、構成が簡単になる。
ミストキャッチャ−よシ滴下する放射性物質を含んだ水
は吸収槽の内底部で受けられる。よってずストキャッチ
ャ−用の水受は祉格別必要でなく、構成が簡単になる。
（７）発明の実施例
第２図に示す如く、吸収槽ｊＺは、内底部にＮｏ、ガス
吸収用の水２２を収容し、上端に排気口２３、下端にド
レン口２４を有している。
吸収用の水２２を収容し、上端に排気口２３、下端にド
レン口２４を有している。
また吸収槽２１内の上部Ｋｉｔ、ζストキャッチャ−２
５が収容されている。この建ストキャッチャ−２４は、
たとえばステンレス鋼製の複数枚の金網を積層して形成
されるものである。
５が収容されている。この建ストキャッチャ−２４は、
たとえばステンレス鋼製の複数枚の金網を積層して形成
されるものである。
前記吸収槽２１の両側には、１対のヘッダー２６に、２
６Ｂが配設され、各ヘッダーには多数のスプレーノズル
Ｚ７Ａ・・・、２７Ｂ・−が接続されている。これらの
ノズルは吸収槽２１の周裾を頁通し、吸収槽ｚ１内にお
いて上下方向に配タリされている。
６Ｂが配設され、各ヘッダーには多数のスプレーノズル
Ｚ７Ａ・・・、２７Ｂ・−が接続されている。これらの
ノズルは吸収槽２１の周裾を頁通し、吸収槽ｚ１内にお
いて上下方向に配タリされている。
前記排気口２３に社排気管２８が接続されている。また
前記ドレン口２４にはドレン管！＃が接続されている。
前記ドレン口２４にはドレン管！＃が接続されている。
そして、とのドレン管２りの途中には給水管３０の一端
が接続され、同給水管３０の他端は２本に分岐して（分
岐管３０Ａ、３０Ｂ）、それぞれ前記各ヘッダ−２＃人
。
が接続され、同給水管３０の他端は２本に分岐して（分
岐管３０Ａ、３０Ｂ）、それぞれ前記各ヘッダ−２＃人
。
２６Ｂの上端に接続されている。
前記給水管３０の途中に杜、ドレン管２９１４よシヘツ
ダ−２６に、ｌ１ｌｊＢ＠へ向けて循環ポンプＳ１及び
逆止弁３２が順次介挿され、逆止弁３２０両１１には圧
力計Ｊ３及び流量計１４がそれぞれ接続されている。な
お、循環ポンプ３１は吸収槽２１内の水２２を汲上げて
両ヘッダー２６に、２６Ｂへ供給するためのものであり
、逆止弁３２はその逆流を防止するためのものである。
ダ−２６に、ｌ１ｌｊＢ＠へ向けて循環ポンプＳ１及び
逆止弁３２が順次介挿され、逆止弁３２０両１１には圧
力計Ｊ３及び流量計１４がそれぞれ接続されている。な
お、循環ポンプ３１は吸収槽２１内の水２２を汲上げて
両ヘッダー２６に、２６Ｂへ供給するためのものであり
、逆止弁３２はその逆流を防止するためのものである。
まえ各分岐管ｊ＃Ａ、ＪＯＢＫ紘それぞれ流量調節弁ｊ
ｇＡ、ｊ５Ｂが介挿されている。なお、前記ドレン管２
＃には、給水管Ｓ０の接続部よシ下流伺にドレン弁３６
が介挿されている。
ｇＡ、ｊ５Ｂが介挿されている。なお、前記ドレン管２
＃には、給水管Ｓ０の接続部よシ下流伺にドレン弁３６
が介挿されている。
図中３１は両端を上方へ向けて配設されたＵ字形ジャケ
ットで、このＵ字形ジャケット１１の一端には前記排気
管２８が接続されている。
ットで、このＵ字形ジャケット１１の一端には前記排気
管２８が接続されている。
また図中３８は流入側を下方に向けて配設され先々スト
セパレータで、この建ストセパレータ３８の流入口は排
気管３＃を介して前記Ｕ字形ジャケット３１の他端Ｋｌ
！絖されている。
セパレータで、この建ストセパレータ３８の流入口は排
気管３＃を介して前記Ｕ字形ジャケット３１の他端Ｋｌ
！絖されている。
そして、この排気管１ｔの最低部と前記吸収槽２１の周
壁下部との間はドレン管４０にて接ｋｌ嘔れている。こ
のドレン管４０は排気管３９関よシ吸収槽２２＠へ向っ
て漸次下シ傾斜となっており、その上端部には吸収槽２
１よシ排気管３９への逆流を防止する逆止弁４１が介挿
されている。また前記Ｕ字形ジャケット３１の最低部は
ドレン管４０の途中に別のドレン管４２を介して接続さ
れ、とのドレン管には吸収槽２１よりＵ字形ジャケット
３７への逆流を防止する逆止弁４３が介挿されている。
壁下部との間はドレン管４０にて接ｋｌ嘔れている。こ
のドレン管４０は排気管３９関よシ吸収槽２２＠へ向っ
て漸次下シ傾斜となっており、その上端部には吸収槽２
１よシ排気管３９への逆流を防止する逆止弁４１が介挿
されている。また前記Ｕ字形ジャケット３１の最低部は
ドレン管４０の途中に別のドレン管４２を介して接続さ
れ、とのドレン管には吸収槽２１よりＵ字形ジャケット
３７への逆流を防止する逆止弁４３が介挿されている。
前記ミストセパレータ３８の上端に設けられた流出口に
は排気管４４が接続され、この排気ｆ４４には排気ブー
ロア４５が介挿されている。
は排気管４４が接続され、この排気ｆ４４には排気ブー
ロア４５が介挿されている。
また吸収槽２１の内部には、その周壁下部を懺通して廃
ガス導入管４６が導入されている。
ガス導入管４６が導入されている。
この廃ガス導入管４６の導入端は下方へ屈曲し、吸収４
２１内の水中に開口させである。
２１内の水中に開口させである。
廃ガス導入管４６の途中には予備反応管４７が介挿され
ている。そして、この予備反応器４１には酸素供給管４
８を介して酸素供給＃（たとえば酸素ボンベ）４９゛が
接続され、酸素供給管４８の途中には酸素濃度計５０が
接続されている。
ている。そして、この予備反応器４１には酸素供給管４
８を介して酸素供給＃（たとえば酸素ボンベ）４９゛が
接続され、酸素供給管４８の途中には酸素濃度計５０が
接続されている。
以上の装置において、マイクロ波加熱器内で生成され九
放射性廃ガスは、まず廃ガス導入管４６を通して予備反
応ｇ４ｙへ導かれる。ま九酸素供給管４８を通して酸素
供給源４９よりＯ２が導かれる。そこで予備反応器４１
では２ＮＯ＋ Ｏ１＠ ２ＮＯ。
放射性廃ガスは、まず廃ガス導入管４６を通して予備反
応ｇ４ｙへ導かれる。ま九酸素供給管４８を通して酸素
供給源４９よりＯ２が導かれる。そこで予備反応器４１
では２ＮＯ＋ Ｏ１＠ ２ＮＯ。
なる反応が起シ、廃ガス中のＮｏガスは減少する。
次に予備反応器４１を通過した廃ガスは吸収槽２Ｉ内に
収容された水中へ導入され、３ＮＯ麓＋ ＨｍＯ＝ ２
ＨＮＯｓ ＋ＮＯの反応によ〕廃ガヌ中に含まれている
ＮＯ８ガスは水２２中に吸収される。なお吸収槽２１内
の水２２は、後にドレン弁３Ｃを開弁して排出される。
収容された水中へ導入され、３ＮＯ麓＋ ＨｍＯ＝ ２
ＨＮＯｓ ＋ＮＯの反応によ〕廃ガヌ中に含まれている
ＮＯ８ガスは水２２中に吸収される。なお吸収槽２１内
の水２２は、後にドレン弁３Ｃを開弁して排出される。
さらに水中より脱した廃ガスは吸収槽２１内を上昇する
が、このときスプレーノズル２ｒ＾・・・、２１Ｂ−・
よシ散布される直径ｘ２ＧＧ−Ａ＆ｌ下の水粒子の雰囲
気中を通過する。そこで吸収槽２１内を上昇する廃ガス
は水の微粒子に十分硬触し、ここでも ３ＮＯ，＋ＨＮＯ０＝ ２ＨＮＯ，十Ｎ。
が、このときスプレーノズル２ｒ＾・・・、２１Ｂ−・
よシ散布される直径ｘ２ＧＧ−Ａ＆ｌ下の水粒子の雰囲
気中を通過する。そこで吸収槽２１内を上昇する廃ガス
は水の微粒子に十分硬触し、ここでも ３ＮＯ，＋ＨＮＯ０＝ ２ＨＮＯ，十Ｎ。
の反応によりＮＯＩが水によって吸収除去される。
かくして、Ｎｏガスを除去された廃ガスは言ストキャッ
チャ−２５を通過する際に放射性物質であるＰｕ−Ｕの
電ストを除去されて、排気管２８よｌ＞ｕ字形ジャケッ
ト３７内へ導入され、さらに排気プロア４５に引かれて
排気管３９よりミストセパレータ３８を通過し、排気管
を通して胸ガス二次処理系（図示せず）へ送出される。
チャ−２５を通過する際に放射性物質であるＰｕ−Ｕの
電ストを除去されて、排気管２８よｌ＞ｕ字形ジャケッ
ト３７内へ導入され、さらに排気プロア４５に引かれて
排気管３９よりミストセパレータ３８を通過し、排気管
を通して胸ガス二次処理系（図示せず）へ送出される。
ここで、吸収槽２Ｉよシ廃ガス二次処理系へ向う魔ガス
は、Ｕ字形ジャケット３１を通過する隙、及び電ストセ
パレータ３８を通過する除に水分を除去される。また廃
ガスよシ除去された水分はドレン管４０を通して吸収槽
２１内へ戻される。
は、Ｕ字形ジャケット３１を通過する隙、及び電ストセ
パレータ３８を通過する除に水分を除去される。また廃
ガスよシ除去された水分はドレン管４０を通して吸収槽
２１内へ戻される。
以上の如く、マイクロ波加熱装置３にて生成された放射
性廃ガス紘、まず予備反応器においてＮｏガスをＮＯ８
とされ、そのＮＯ鵞ガスは吸収槽２１の内底部に収容さ
れた水２２及びスプレーノズル２１Ａ・−・、 ｊ Ｆ
Ｂ−・・よシ散布される水粒子によシ吸収除去される
。し九がって、廃ガス中のＮｏガス成分の除去率は飛躍
的に向、上する。
性廃ガス紘、まず予備反応器においてＮｏガスをＮＯ８
とされ、そのＮＯ鵞ガスは吸収槽２１の内底部に収容さ
れた水２２及びスプレーノズル２１Ａ・−・、 ｊ Ｆ
Ｂ−・・よシ散布される水粒子によシ吸収除去される
。し九がって、廃ガス中のＮｏガス成分の除去率は飛躍
的に向、上する。
また従来装置のようにラシヒリングを使用しないので、
メンテナンスが容易になシ、シかも吸収槽を多段に接続
する必要がないので装置の小形化が図られる。
メンテナンスが容易になシ、シかも吸収槽を多段に接続
する必要がないので装置の小形化が図られる。
またミストキャッチャ−２５を吸収槽２１内に配置した
ことＫよシ、構成の簡略化が図られるとともに、ミスト
キャッチャ−用の水受けを省略できる効果も帰られる。
ことＫよシ、構成の簡略化が図られるとともに、ミスト
キャッチャ−用の水受けを省略できる効果も帰られる。
第１図は放射性廃ガス処理装置の従来列を示す系統図、
第２図は本−明の一実施例を示す系統図である。 ２１−・吸収槽、２２−・水、２Ｓ・・・排気口、２５
−・さストキャッチャ−１ｊ７Ａ、ＪＯＢ・・・スプレ
ーノズル、３１・−循環ポンプ、４１−・予備反応器。 出−人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１３！！１ ｓ２因
第２図は本−明の一実施例を示す系統図である。 ２１−・吸収槽、２２−・水、２Ｓ・・・排気口、２５
−・さストキャッチャ−１ｊ７Ａ、ＪＯＢ・・・スプレ
ーノズル、３１・−循環ポンプ、４１−・予備反応器。 出−人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第１３！！１ ｓ２因
Claims (1)
- （１）Ｐｕ−Ｕ ｅ）ｔ Ｘトを含むＮｏ／ＭＯ電成分
ヨ〉する放射性廃ガスを処理する放射性塵ガヌ処塩装置
におｉて、内庭部に水を収容し上端に排気口を有する吸
収槽と、廃ガス中ＫＯ雪を混入して前記吸収槽内の水中
へ導入する予備反応器と、前記吸収槽内の水を汲上げる
循環ポンプと、このポンプに汲上げられた水を吸収槽内
に散布するスプレーノズルと、前記吸収槽内の前記スプ
レーノズルよ）上方の位置に収容され廃ガス中のＰｕ−
ＵＯζストを捕捉す・る電ストキャッチャ−とを真値し
良ことを特徴とする放射性廃ガス処理装置。 （動前記擢スト中ヤツチャーは、複数枚の金網を積層し
て形成されていることを特徴とする特許請求の範囲第（
υ項記戦の放射性廃ガス処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56168973A JPS5870198A (ja) | 1981-10-22 | 1981-10-22 | 放射性廃ガス処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56168973A JPS5870198A (ja) | 1981-10-22 | 1981-10-22 | 放射性廃ガス処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5870198A true JPS5870198A (ja) | 1983-04-26 |
| JPS6160398B2 JPS6160398B2 (ja) | 1986-12-20 |
Family
ID=15877995
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56168973A Granted JPS5870198A (ja) | 1981-10-22 | 1981-10-22 | 放射性廃ガス処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5870198A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5999228B1 (ja) * | 2015-07-01 | 2016-09-28 | 富士電機株式会社 | 排ガス処理装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6614854B2 (ja) * | 2015-08-10 | 2019-12-04 | 株式会社クボタ | 空気清浄装置 |
-
1981
- 1981-10-22 JP JP56168973A patent/JPS5870198A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5999228B1 (ja) * | 2015-07-01 | 2016-09-28 | 富士電機株式会社 | 排ガス処理装置 |
| WO2017002537A1 (ja) * | 2015-07-01 | 2017-01-05 | 富士電機株式会社 | 排ガス処理装置 |
| JP2017013005A (ja) * | 2015-07-01 | 2017-01-19 | 富士電機株式会社 | 排ガス処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6160398B2 (ja) | 1986-12-20 |
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