JPS5868041A - 印刷方法 - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/14—Production of collotype printing forms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Printing Methods (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は印刷方法、特にコロタイプ法を改1(シた写真
印刷方法に関するものである。
印刷方法に関するものである。
この釉のコロタイプ写真印刷法に」:れば、光架橋剤と
して重クロム酸アンモニウム等の重クロム酸塩を含有す
るゼラチンをガラス板上に塗布し、ネガ又はポジを露光
マスクとして上記の感光性ゼラチン膜を露光処理後、水
で処理1〜てその非露光部分に充分水を吸収させ、かつ
その露光部は光硬化によって疎水性(親油性)に変質せ
しめている。
して重クロム酸アンモニウム等の重クロム酸塩を含有す
るゼラチンをガラス板上に塗布し、ネガ又はポジを露光
マスクとして上記の感光性ゼラチン膜を露光処理後、水
で処理1〜てその非露光部分に充分水を吸収させ、かつ
その露光部は光硬化によって疎水性(親油性)に変質せ
しめている。
そして、油性の印刷インキを露光面に塗布すれば、その
インキは親水性の非露光部には付着せず、疎水性の露光
部分のみに選択的に付着するので、インキ塗布面に紙を
押圧することによって露光部分に対応したパターンの印
刷を紙面に怖すことができる。 このコロタイプ法は網
目凸版やグラビア凹版による印刷とは全く異なり、製版
に際して原図を網目点に分割することを要しない点で有
利な方法である。
インキは親水性の非露光部には付着せず、疎水性の露光
部分のみに選択的に付着するので、インキ塗布面に紙を
押圧することによって露光部分に対応したパターンの印
刷を紙面に怖すことができる。 このコロタイプ法は網
目凸版やグラビア凹版による印刷とは全く異なり、製版
に際して原図を網目点に分割することを要しない点で有
利な方法である。
しかしながら、本発明者が上記コロタイプ法を検討した
結果、次のような欠陥があることが判明した。 即ち、
光架橋剤として使用する重クロムti9塩は人体に有害
なりロムイオンを生じるから、環境破壊や公害面で不適
当である。 寸だ、製造プロセス上、ゼラチンを基板上
に均一に塗布するのが困傭、であり、しかもゼラチン自
体の精製も容易ではない。
結果、次のような欠陥があることが判明した。 即ち、
光架橋剤として使用する重クロムti9塩は人体に有害
なりロムイオンを生じるから、環境破壊や公害面で不適
当である。 寸だ、製造プロセス上、ゼラチンを基板上
に均一に塗布するのが困傭、であり、しかもゼラチン自
体の精製も容易ではない。
従って、本発明の目的は、無害でかつ作業性容易な感光
材料を使用して、上記コロタイプ法を改良することにあ
る。
材料を使用して、上記コロタイプ法を改良することにあ
る。
この目的を達成するために、本発明によれば、ジアゾニ
ウム塩及び/又はアジド化合物を光架橋剤とする水浴性
合成樹脂層を感光層とし、これを所定パターンに露光後
にその非露光部分にのみ水を吸収さぜ、印刷インキを選
択的に付着させるようにしている。 従って、使用する
光架(,16剤は殆んど人体に無害であり、水溶性合成
樹脂も溶液状態で均一塗布が容易である上にその合成も
容易であるから、従来のコロタイプ法では+1111侍
できない幾つかの利点が得られるのである。
ウム塩及び/又はアジド化合物を光架橋剤とする水浴性
合成樹脂層を感光層とし、これを所定パターンに露光後
にその非露光部分にのみ水を吸収さぜ、印刷インキを選
択的に付着させるようにしている。 従って、使用する
光架(,16剤は殆んど人体に無害であり、水溶性合成
樹脂も溶液状態で均一塗布が容易である上にその合成も
容易であるから、従来のコロタイプ法では+1111侍
できない幾つかの利点が得られるのである。
本発明の方法において使用可能な光架4ji剤t;1す
べて水溶性であって有害性の少ないものであり、例えば
下記の一般式で表わされる芳香族ジアゾニウム塩が挙け
られる。
べて水溶性であって有害性の少ないものであり、例えば
下記の一般式で表わされる芳香族ジアゾニウム塩が挙け
られる。
℃防NミNX
(但、Xは塩素原子等のハロゲン1.llSO4等の陰
性元素又は:J+*を示し、Yは水素原子、ハロゲン、
アルコキシ基、他の苦行族基、アルギル基、アルケニル
基等の置換基を示す。) 例えば、ベンゼンジアゾニウム塩やI)−メトキシベン
センジアゾニウム塩、p−ジアゾジフェニルアミンが使
用できる。 また、このジアゾニウム塩のうち1分子内
に2個以上のジアゾ基を含むもの、例えばビスフェニル
テトラジアゾニウム塩(この縮合体は感度及び熱的安定
性において優れている。 また、上記ジアゾニウム塩に
代えて、或いはジアゾニウム塩と併用して、芳香族アジ
ド化合物が使用可能である。 これにはビスアジド化合
物、例えば4,4′−ジアジドジフェニル、4゜4′−
ジアジドジフェニルアミン、4,47−ジアジドジフェ
ニルメタン、4,4′〜ジアジドスチルベン、4,47
−ジアジドジフェニルケトン、4. 4’−ジアジドス
チルベン−2,2′−ジスルホン酸ナトリウム等が単げ
られる。
性元素又は:J+*を示し、Yは水素原子、ハロゲン、
アルコキシ基、他の苦行族基、アルギル基、アルケニル
基等の置換基を示す。) 例えば、ベンゼンジアゾニウム塩やI)−メトキシベン
センジアゾニウム塩、p−ジアゾジフェニルアミンが使
用できる。 また、このジアゾニウム塩のうち1分子内
に2個以上のジアゾ基を含むもの、例えばビスフェニル
テトラジアゾニウム塩(この縮合体は感度及び熱的安定
性において優れている。 また、上記ジアゾニウム塩に
代えて、或いはジアゾニウム塩と併用して、芳香族アジ
ド化合物が使用可能である。 これにはビスアジド化合
物、例えば4,4′−ジアジドジフェニル、4゜4′−
ジアジドジフェニルアミン、4,47−ジアジドジフェ
ニルメタン、4,4′〜ジアジドスチルベン、4,47
−ジアジドジフェニルケトン、4. 4’−ジアジドス
チルベン−2,2′−ジスルホン酸ナトリウム等が単げ
られる。
これらのジアゾニウム塩又はアジド化合物は夫々、光の
照射によって分解し、生じた活性中間体(フリーラジカ
ル)が水溶性合成樹脂と反応してこれを架橋、不溶化せ
しめるものである。 また水溶性であることから、水溶
性樹脂と混合して感光材塗料を調製し易く、基板上への
均一コーテイング性も優れている。
:水溶性合成樹脂としては、ポリ
ビニル系、水溶性ナイロン、水溶性(メタ)アクリル酸
樹脂が使用可能である。 ポリビニル系には、ポリビニ
ルH2 上記光架橋剤を所定量含有する上記水溶性合成樹脂層を
選択的に露光後、非露光部分に水を吸収させるだめの処
理液としては例えば、ポリビニルアルコール系に対して
はメチルアルコール、エチルアルコール等の水溶液がよ
く、壕だナイロン系に対してはホウ酸の飽和水溶液がよ
い。
照射によって分解し、生じた活性中間体(フリーラジカ
ル)が水溶性合成樹脂と反応してこれを架橋、不溶化せ
しめるものである。 また水溶性であることから、水溶
性樹脂と混合して感光材塗料を調製し易く、基板上への
均一コーテイング性も優れている。
:水溶性合成樹脂としては、ポリ
ビニル系、水溶性ナイロン、水溶性(メタ)アクリル酸
樹脂が使用可能である。 ポリビニル系には、ポリビニ
ルH2 上記光架橋剤を所定量含有する上記水溶性合成樹脂層を
選択的に露光後、非露光部分に水を吸収させるだめの処
理液としては例えば、ポリビニルアルコール系に対して
はメチルアルコール、エチルアルコール等の水溶液がよ
く、壕だナイロン系に対してはホウ酸の飽和水溶液がよ
い。
次に、本発明による方法を図面についてより具体的に説
明する。
明する。
1ず第1A図のように、所定]11のジアゾニウム塩又
はアジド化合物(例えば4,4′−ジアジドスチルベン
−2,2’−ジスルホン酸すトリウム)ヲ含むポリビニ
ルアルコール水溶液をガラス板等の基板1上に均一に塗
布し、乾燥して厚さ0,1〜1.5−(例えば07−)
の感光性ポリビニルアルコール層2を得る。 この塗布
作業は容易であり、また均一塗布が可能である。
はアジド化合物(例えば4,4′−ジアジドスチルベン
−2,2’−ジスルホン酸すトリウム)ヲ含むポリビニ
ルアルコール水溶液をガラス板等の基板1上に均一に塗
布し、乾燥して厚さ0,1〜1.5−(例えば07−)
の感光性ポリビニルアルコール層2を得る。 この塗布
作業は容易であり、また均一塗布が可能である。
次いで第1B図のように、表面上にポジ又はネガの露光
マスク3をセットし、露光用の光4を照射する。 これ
によって、マスク3の透明部分5a下の樹脂層2は選択
的に光架橋(光硬化)され、疎水性又は親油性物質2a
に変化する。 他方、マスク3の不透明部分5b下の樹
脂層2は露光されないので、水溶性又は吸水性物質2b
のまま保持される。 なお、この露光処理には種々の光
源が使用可能であるが、露光強度の点でハロゲンランプ
が望ましい。
マスク3をセットし、露光用の光4を照射する。 これ
によって、マスク3の透明部分5a下の樹脂層2は選択
的に光架橋(光硬化)され、疎水性又は親油性物質2a
に変化する。 他方、マスク3の不透明部分5b下の樹
脂層2は露光されないので、水溶性又は吸水性物質2b
のまま保持される。 なお、この露光処理には種々の光
源が使用可能であるが、露光強度の点でハロゲンランプ
が望ましい。
次いで樹脂層2をメチルアルコール又はエチルアルコー
ルの水溶液(アルコール;水の割合は容量比で例えば8
0 : 20 )中に所定時間浸漬する。
ルの水溶液(アルコール;水の割合は容量比で例えば8
0 : 20 )中に所定時間浸漬する。
これによって、第1C図のように、吸水性の非露光部分
2bに充分水を吸収させる。 この水の吸収は疎水性の
露光部分2aでは起こらず、非露光部2bのみに選択的
に生じる。 非露光部分2bは吸水によって幾分膨潤す
る。
2bに充分水を吸収させる。 この水の吸収は疎水性の
露光部分2aでは起こらず、非露光部2bのみに選択的
に生じる。 非露光部分2bは吸水によって幾分膨潤す
る。
次いで露光面に油性の印刷インキをローラー籠で塗布す
れば、第1D図のように、そのインキ6は親油性の硬化
樹脂部分2aにのみ選択的に付着し、水を吸収した未硬
化樹脂部分2))には付着しない。 この結果、上記マ
スク3とは逆パターンに印刷インキ5を塗布でき、しか
も親、油性部分に正確に一致したパターンに塗布できる
。
れば、第1D図のように、そのインキ6は親油性の硬化
樹脂部分2aにのみ選択的に付着し、水を吸収した未硬
化樹脂部分2))には付着しない。 この結果、上記マ
スク3とは逆パターンに印刷インキ5を塗布でき、しか
も親、油性部分に正確に一致したパターンに塗布できる
。
次いでこのインキ塗布面に印刷用の紙7を当てがい、押
圧すると、第1E図のように紙711111にインキ6
が転写される。 これによって、元のマス水処理後の樹
脂層2をロール8上に取付け、対向する押圧ロール9間
に紙7を通しなからJ11\続的に印刷してよい。
圧すると、第1E図のように紙711111にインキ6
が転写される。 これによって、元のマス水処理後の樹
脂層2をロール8上に取付け、対向する押圧ロール9間
に紙7を通しなからJ11\続的に印刷してよい。
以」−説明した如く、本実施例の方法によれば、1M光
性樹脂としてジアゾニウムj:+7it又C1,アジド
化合物の如き無害外光架橋剤を含有し/こポリビニルア
ルコール等を使用しているので、環」シχ破II燈や公
害問題を引起こすことがなく、作業も安全に行ガうこと
かできる。しかも、使用する感光性樹脂は塗布が容易で
あるから均一な感光層を形成し得く、壕だその合成も容
易である。
性樹脂としてジアゾニウムj:+7it又C1,アジド
化合物の如き無害外光架橋剤を含有し/こポリビニルア
ルコール等を使用しているので、環」シχ破II燈や公
害問題を引起こすことがなく、作業も安全に行ガうこと
かできる。しかも、使用する感光性樹脂は塗布が容易で
あるから均一な感光層を形成し得く、壕だその合成も容
易である。
以上、本発明を例示しだが、上述の実施例は本発明の技
術的思想に基いて更に変形が可能である。
術的思想に基いて更に変形が可能である。
例えば、印刷パターンは種々変更してよい。 壕だ使用
する印刷インキとして水性のものを使用した場合、親水
性非露光部分にのみインキが付着するから、露光マスク
の不透明部分に対応したパターンの印刷かり能である。
する印刷インキとして水性のものを使用した場合、親水
性非露光部分にのみインキが付着するから、露光マスク
の不透明部分に対応したパターンの印刷かり能である。
図面は本発明を例示するものであって、第1A図〜第1
E図は写真印刷プロセスを順次示す各断面図、第2図は
印刷機の概略図である。 なお、図面に用いられている符号において、1−−−−
−−−一基板 2、−−−−−−−一感光性合成樹脂層2a−−−−−
−一露光部分 2b−−−−−−−非露光部分 3−−−−−−−一露光マスク 6−−−−−−−一印刷インギ 7−−−−−−−−紙 である。 代理人 弁理士 逢1反 宏
E図は写真印刷プロセスを順次示す各断面図、第2図は
印刷機の概略図である。 なお、図面に用いられている符号において、1−−−−
−−−一基板 2、−−−−−−−一感光性合成樹脂層2a−−−−−
−一露光部分 2b−−−−−−−非露光部分 3−−−−−−−一露光マスク 6−−−−−−−一印刷インギ 7−−−−−−−−紙 である。 代理人 弁理士 逢1反 宏
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ジアゾニウム塩とアジド化合物との少なくとも一方
を光架橋剤として含む水溶性合成樹脂層を形成する工程
と、曙光マスクを用いて前記水溶性合成樹脂層を所定パ
ターンに露光処理してその露光部分を疎水性物質に変化
させる工程と、この露光面における非露光部分に水を選
択的に吸収させる工程と、しかる後に前記露光面に印刷
インキを塗布してこの印刷インキを前記疎水性露光部分
又は親水性非″12に先部分のみに選択的に付着させる
工程と、との付廻しだ印刷インキを所定の印刷面に転写
する工程とを夫々有することを%徴とする印刷方法。 2水溶性合成樹脂として、水溶性ポリビニル系樹脂、水
溶性ナイロン、水溶性アクリル1夜樹脂を用いる、特許
請求の範囲の第1項に記載した方法。 3、水溶性合成樹脂層の非露光部分に水を吸収させる処
理液として、水溶性ポリビニル系合成樹脂に対してはア
ルコール水溶液を使用し、水溶性ナイロンに対してはホ
ウ酸水溶液を特徴する特許請求の範囲の第2項に記載し
た方法。 4、油性の印刷インキを特徴する特許H1’4求の範囲
の第1項〜第3項のいずれか1項に11″i載した方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16750881A JPS5868041A (ja) | 1981-10-20 | 1981-10-20 | 印刷方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16750881A JPS5868041A (ja) | 1981-10-20 | 1981-10-20 | 印刷方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5868041A true JPS5868041A (ja) | 1983-04-22 |
Family
ID=15850974
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16750881A Pending JPS5868041A (ja) | 1981-10-20 | 1981-10-20 | 印刷方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5868041A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018036542A1 (zh) * | 2016-08-26 | 2018-03-01 | 纳晶科技股份有限公司 | 发光器件的制作方法、发光器件及混合发光器件 |
-
1981
- 1981-10-20 JP JP16750881A patent/JPS5868041A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018036542A1 (zh) * | 2016-08-26 | 2018-03-01 | 纳晶科技股份有限公司 | 发光器件的制作方法、发光器件及混合发光器件 |
US10943781B2 (en) | 2016-08-26 | 2021-03-09 | Najing Technology Corporation Limited | Manufacturing method for light emitting device, light emitting device, and hybrid light emitting device |
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