JPS5858704A - 非直線抵抗体の製造方法 - Google Patents

非直線抵抗体の製造方法

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JPS5858704A
JPS5858704A JP56158469A JP15846981A JPS5858704A JP S5858704 A JPS5858704 A JP S5858704A JP 56158469 A JP56158469 A JP 56158469A JP 15846981 A JP15846981 A JP 15846981A JP S5858704 A JPS5858704 A JP S5858704A
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JP
Japan
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temperature
heat treatment
temperature range
zno
peak
Prior art date
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Pending
Application number
JP56158469A
Other languages
English (en)
Inventor
平野 真志
渡辺 三鈴
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Meidensha Corp
Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Meidensha Corp
Meidensha Electric Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はZnOを主成分とする非直線抵抗体の製造方法
に関するものである。
一般にZnOを主成分とする非直線抵抗体(以下ZnO
素子と称する。)は1100℃以上の高温で焼成して得
られるセラミクス半導体で、その高い非直線性により広
い分野で実用化されているが、ギャップレス避雷器用素
子きしては直流課電寿命特性の点で不充分であった。そ
こで最近では焼成後さらに熱処理を行うことにより直流
寿命を改善することが行われている。これはZnO素子
の粒界ニOjA析L TイルI 、  a−Ei、 O
,が400〜1000”Cの熱処理によってγ−Bi、
 O,に変態し、この結果直流寿命が向上することを利
用したものである。
しかし、実際にZnO素子を熱処理すると最適処理温度
範囲以下では寿命特性はあまり改畳されず、又最適処理
温度より高過ぎると再び寿命特性は悪くなり、かつv−
1特性も非常に悪くなる。しかるにX線回折により調べ
るとどの処理温度領域でも7− Bi、03に変態して
おり、しかも寿命特性を最も向上させる最適処理温度幅
は100〜150度と狭く、原料の配合やロットによっ
ても変化する。従って、Bi、Osが変態するという現
象だけでは直流寿命を改畳するための最適熱処理温度範
囲を決めることはできず、素子製造工程上は経験的に処
理温度を決めてしまうかあるいは種々の処理温度で作成
した素子について実際に長時間の課電を行うことにより
最適の処理温度を決定するしかない。このため、最適な
熱処理温度を決定するための新しい方法が必要となって
いる。
本発明は上記の点を考慮して、znOを主成分とする非
直線抵抗体の製造において、焼成後の熱処理工程におけ
る熱処理温度を最適に決定することができ、これによっ
て直流寿命の良い非直線抵抗体を得ることができる非直
線抵抗体の製造方法を提供することを目的とする。
以下本発明の実施例を図面とともに説明する。
まず、Zn○ (80〜95 molTo ) 、Bi
ton  (0,1〜 5 mol %) 、 日t’
yos  (0,1〜5  mol  %)  Mn0
1(0,05〜3mo1%) 、 0olOs(0,0
5〜3mo1%)、0r20B  (0,05〜3 m
o1%) 、Sin、 (0,05〜5mol 4)、
NiO(0,05〜5 mol %> 、 A40B(
0,5/1000〜100/1000 rno1%)を
カッコ内の範囲で全体が100moJ  %となるよう
−こ秤量し、これらに水や結合剤を加えて混合してスラ
リーを形成する。しかる徐にこのスラリーをスプレード
ライヤー等により造粒し、圧縮成形して例えば3oφX
1tの円板状の成形体を形成する・そしてこの成形体を
仮焼成した後に側面に無機質の側面絶縁材を塗布し、例
えば1250℃で1時間焼成する。さらにこの焼成工程
の後にzno素子の直流原電寿命特性を向上させるため
に熱処理を行った後、両端面を研早してムg電極を焼付
けてZnO素子は完成する。
ところで、ZnO素子のPr+s −1rreakdo
vn r@gion(v−1特性が1軸にほぼ平行にな
る直前の領域)の漏れ電流は工=工*eXp((−φ+
β′/7 )/kT)で表わされる。ここで、工・、は
常数、■は電圧、β′は電圧に関する比例項、kはボル
ツマン定数、Tは絶対温度である。又、第1図はZnO
g子のバンド・ダイアグラムを示し、φはZnO粒子と
粒界層との間の障壁イの高さ、口はフェルミ準位線、/
1は伝導帯の底線、Wは空乏層の幅、φ2は幅Wにおけ
るr#使イの最高位から伝導帯の底線ハまでの距離、△
fは幅Wにおけるフェルミ準位線口と伝導帯の底線ハと
の間の距離であり、φ2=φ−Δfである。
φとβ′はv−1温匿特性の測定結果より求められる。
ただし、β′=β/Pvrで、β=P、7.πである。
(暑は誘電率、nは障壁イの11当りで遮られるZnO
の粒子数。) 第2図は前述した焼成工f8Hの熱処理工程において、
熱処理温度を100℃〜900℃に変化させて各@度で
1時間の熱処理を行ろた場合のφ(障壁イの?&さ)、
W(空乏層の幅)およびNgC界面電荷密IK)の変化
を示したものである。Nsはφ(ただしqは電荷、ND
はドナー密度)、N、=ND・f =頁(φ−Δf)となる。
又、第3図はやはり熱処理温度を変化させるかあるいは
熱処理なしの場合の各ZnO素子の低温域熱刺激電流(
TSO)の測定結果を示したもので、aは熱処理なしの
場合、b−aは夫々熱処理温度が550℃、700℃お
よび900℃の場合を示す。工り1雪* xl+工、′
は熱刺激電流の各ピークを示す。又、第4図は上記のa
 4 dの各ZnO素子において130℃、70967
   で直fLatした場合inム の時間とlog /工。の関係即ち直流寿命の測定結果
を示したものである。第4図からCの場合即ち700℃
で熱処理した場合に最も直流寿命が長くなり、以下a、
bの拳で直流寿命は次第に短くなり、aの場合即ち熱処
理なしの場合に極端に短くなることが判明する。
又、第5〜7図は上記と同じ製造工程で別のロットのZ
nO素子に関するもので夫々第2〜4図に対応している
。ただし、第6.7図におけるaは熱処理なしの場合、
bは500℃で処理した場合、Cは600℃で処理した
場合、dは750℃で処理した場合を示し、この場合も
第7図から明らかなように直流寿命はc、 eL、 b
の順で良好で、aの場合は極端番こ悪くなる。
上記した各場合において、熱処理@度が400℃以上に
なるといずれの場合もγ−Bi、O,が存在するが、第
4.7図のb−aに示すように熱処理温度によって直流
寿命が異る。そこで、第2,3図を第4図と比較し、第
5.6図を第7図と比較すると、φ、W、Nsの変化お
よび熱刺激電流のピークの変化が直fin命と対応して
いることが判明し、熱処理の最適温度範囲を次のように
決定することができる。即ち、 ■ 障壁の高さφが温度上昇に従って減少した後の増加
する温度範囲(450℃〜700℃)。
■ 空乏層の幅Wが温度上昇に従って飯も減少した直後
の温度範囲(600℃〜700℃)。
■ 界面電界密度N8が最大となる温度範囲(600℃
〜700℃)。
■ 低温域熱刺激電流Tooの工1ビークが最も高くな
り、1烏ビークが比較的低(なる温If@囲(500℃
〜700℃)。
■ 低温域熱刺激電流T80の工、ピークまでの電荷(
1雪ビークまでの積分値)が熱処理なしの場合より少な
くない温度範囲(500℃〜700℃)。
の五つの条件のうちの一つ以上の条件を包含する温度範
囲(全部の条件を包含する場合には450℃〜700℃
とムる。)が最適な熱処理温度範囲となる。従って本実
施例ではこの温度範囲で焼成工程後の熱処理を行う。伺
、この熱処理工程の際に同時に側面絶縁を向上するため
に側面絶縁材にガラスコーティングを行うと好都合であ
る。
以上のように本発iにおいては、ZnOを主成分とする
非直線抵抗体の製造において、焼成工程後の直流寿命を
向上するための熱処理工程における最適な熱処理@度を
電気物性的に正確に求めており、該温度によって熱処理
することにより直流寿命の良い非直線抵抗体を得ること
ができる◎又、これことよって原料の若干の配合の相違
1こよる最適熱処理温度の変更も長期課電を行うことな
く正確に決定することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図はZnOを主成分とする非曲線抵抗体(ZnO素
子)のバンド・ダイアグラム、第2図はZnO素子の熱
処理温度とφq”e”eとの関係図、第3図はZnO素
子の温度と熱刺激電流との関係図、第4図はZnO素子
の時間とlog/x0との関係図、第5〜7図は他のロ
フトのZnO素子に関するもので、第5図は熱処理温度
とφ*”*N8との関係図、第6図は温度と熱刺激電流
との関係図、第7図は時間とlog工4゜との関係図口 φ・・・障壁の高さ、W・・・空乏層の幅、N8・・・
界面電荷密度、Tic・・・熱刺激電流、工、〜工、・
・・熱刺激電流のピーク値、工・・・漏れ電流。 第1図 第2図 第4図 第5図  、 然怨理藷(0C)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ZnOを主成分とし、これに少くともビスマス酸化物を
    含む酸化物を添加して成る非直線抵抗体の焼成工程後の
    熱処理工程において、■ZnO粒子と粒界層の間の障壁
    の高さが温度上昇に従って減少した後の増加する温度範
    囲、■空乏層の幅が温度上昇に従って最も減少した直後
    のagI範囲、■界面電荷密度が最大となる温度範囲、
    ■低温域熱刺激電流の工、ピークが最も高くなり、工、
    ピークが比較的低くなる温度範囲、■低温域熱刺激電流
    のIlビークまでの電荷が熱処理なしの場合より少なく
    ない温度範囲、の五つの条件のうちの一つ以上の条件を
    包含する温度範囲で熱処理することを4!篭とする非直
    線抵抗体の製造方法。
JP56158469A 1981-10-05 1981-10-05 非直線抵抗体の製造方法 Pending JPS5858704A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61204902A (ja) * 1985-03-08 1986-09-11 三菱電機株式会社 電圧非直線抵抗体の製造方法
JP2007015903A (ja) * 2005-07-11 2007-01-25 Kansai Electric Power Co Inc:The 酸素吸蔵合金

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JPS56101709A (en) * 1980-01-18 1981-08-14 Tokyo Shibaura Electric Co Method of manufacturing metal oxide nonnlinear resistor

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