JPS5857970B2 - 高粘性流体の連続希釈装置 - Google Patents
高粘性流体の連続希釈装置Info
- Publication number
- JPS5857970B2 JPS5857970B2 JP51077042A JP7704276A JPS5857970B2 JP S5857970 B2 JPS5857970 B2 JP S5857970B2 JP 51077042 A JP51077042 A JP 51077042A JP 7704276 A JP7704276 A JP 7704276A JP S5857970 B2 JPS5857970 B2 JP S5857970B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- high viscosity
- viscosity fluid
- dilution device
- diluent
- spray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は高粘度の高濃度スラリーや高粘性液体（これら
を総称して高粘性流体という）を連続的に希釈する装置
に関するものである。
を総称して高粘性流体という）を連続的に希釈する装置
に関するものである。
近年の化学工業の細分化と進展につれて、高粘性流体を
季釈処理することが必要とされる場合が多々ある。
季釈処理することが必要とされる場合が多々ある。
例えば薬品製造分野、樹脂処理分野、汚泥処理分野、無
機材料処理分野その他で、稠密に濃縮された粘性の高い
物質を同種または異種の希釈液に均一に希釈することが
しばしば必要となる。
機材料処理分野その他で、稠密に濃縮された粘性の高い
物質を同種または異種の希釈液に均一に希釈することが
しばしば必要となる。
従来、かかる高粘性流体を希釈するには、高粘性流体中
に希釈液をノズルで噴射する方法や、管路中において高
粘性流体と希釈液を接触させて混合希釈する方法等、が
実施されている。
に希釈液をノズルで噴射する方法や、管路中において高
粘性流体と希釈液を接触させて混合希釈する方法等、が
実施されている。
しかし、使用する物質によっては混合効果はある程度期
待できるが均一に希釈するまでには到らないという問題
があり、しかもこれを連続化する場合には拡散に要する
時間的制約もあって、微細粒が均一に分散した分散液ま
たは固溶した希釈液を連続的かつ迅速に得ることが困難
であった。
待できるが均一に希釈するまでには到らないという問題
があり、しかもこれを連続化する場合には拡散に要する
時間的制約もあって、微細粒が均一に分散した分散液ま
たは固溶した希釈液を連続的かつ迅速に得ることが困難
であった。
例えば、廃糖の如き粘稠物質や、汚泥スラリーや粘土等
の高粘性流体の希釈を連続的かつ大量生産的に行なわん
としても適切な装置が見あたらないのが現状である。
の高粘性流体の希釈を連続的かつ大量生産的に行なわん
としても適切な装置が見あたらないのが現状である。
本発明はかかる要望を満たす高粘性流体の連続希釈装置
を提供するもので、その要部は添付図を参照するに、高
粘性流体を圧縮空気によって噴霧する噴霧ノズル１を、
円筒形容器２内に装入した希釈液３の液面４より下方の
位置であってかつこの円筒形容器２の内壁面の内周に沿
う方向に横向き（はぼ水平方向）に配置してなり、高粘
性流体の噴霧流５によって希釈液３に連続旋回流を形成
させる構成としたことを特徴とする。
を提供するもので、その要部は添付図を参照するに、高
粘性流体を圧縮空気によって噴霧する噴霧ノズル１を、
円筒形容器２内に装入した希釈液３の液面４より下方の
位置であってかつこの円筒形容器２の内壁面の内周に沿
う方向に横向き（はぼ水平方向）に配置してなり、高粘
性流体の噴霧流５によって希釈液３に連続旋回流を形成
させる構成としたことを特徴とする。
本装置の実施例に従いさらに詳述すると、ホッパー６内
の高粘性流体７は、圧送用スクリューコンベアー８によ
ってスプレー用ポンプ９に供給され、管路１０を経て噴
霧ノズル１に圧送され、一方圧縮空気はコンプレッサー
１１から管路１２を経て噴霧ノズル１に圧送される。
の高粘性流体７は、圧送用スクリューコンベアー８によ
ってスプレー用ポンプ９に供給され、管路１０を経て噴
霧ノズル１に圧送され、一方圧縮空気はコンプレッサー
１１から管路１２を経て噴霧ノズル１に圧送される。
この噴霧ノズル１は通常のスラリー噴霧用の２流体ノズ
ル構造を有し、高粘性流体を希釈液３中で連続噴霧する
。
ル構造を有し、高粘性流体を希釈液３中で連続噴霧する
。
この噴霧ノズル１は円筒形容器２の内周面に沿う方向に
ほぼ水平に向けて配置されているので、噴霧ノズル１か
ら噴出する高粘性流体の微細粒と圧縮空気によって希釈
液は旋回運動を起こし、この希釈液に懸濁する高粘性流
体の微細粉はこの旋回流に従って遠心運動が誘起される
。
ほぼ水平に向けて配置されているので、噴霧ノズル１か
ら噴出する高粘性流体の微細粒と圧縮空気によって希釈
液は旋回運動を起こし、この希釈液に懸濁する高粘性流
体の微細粉はこの旋回流に従って遠心運動が誘起される
。
この遠心運動によって粒径の比較的小さくなって希釈液
に希釈または分散された部分は求心移動して下部に移行
するが、比較的粒径が大きなものは遠心運動を続けて周
回し、希釈されてね径が小さくなると求心移動して下降
する。
に希釈または分散された部分は求心移動して下部に移行
するが、比較的粒径が大きなものは遠心運動を続けて周
回し、希釈されてね径が小さくなると求心移動して下降
する。
すなわち、円筒形容器２の中央底部には処理済液取出口
１３が設けられて連続的に処理済液がポンプ１４によっ
て抜き出されると共に、希釈液はポンプ１５によって注
入口１６から容器２内に連続的に注入されるので、容器
２内では常に連続流れが形成され、旋回流に伴う粒滴の
遠心運動による希釈化現象が連続的に進行する。
１３が設けられて連続的に処理済液がポンプ１４によっ
て抜き出されると共に、希釈液はポンプ１５によって注
入口１６から容器２内に連続的に注入されるので、容器
２内では常に連続流れが形成され、旋回流に伴う粒滴の
遠心運動による希釈化現象が連続的に進行する。
なお、希釈液の上澄オーバーフロー液はオーバーフロー
管１７から流出し、希釈液の貯蔵タンク（図示しない）
に戻される。
管１７から流出し、希釈液の貯蔵タンク（図示しない）
に戻される。
このように本装置は高粘性流体の噴霧流によって希釈液
に連続旋回流を形成させるような横取としたので、希釈
効果が非常に高く、従来困難とされていた高粘性流体の
希釈処理を単純操作で大量的に行なうことができ、装置
の簡略さと相まって操業性が非常によい。
に連続旋回流を形成させるような横取としたので、希釈
効果が非常に高く、従来困難とされていた高粘性流体の
希釈処理を単純操作で大量的に行なうことができ、装置
の簡略さと相まって操業性が非常によい。
特に本装置の利点は、噴霧ノズル１を複数個設けること
によって２種以上の高粘性流体の複合処理が簡単に行な
えることにある。
によって２種以上の高粘性流体の複合処理が簡単に行な
えることにある。
そして噴霧ノズルからの噴霧量の調整によって所望濃度
に容易にコントロールができる。
に容易にコントロールができる。
第１図は本発明装置の全体図、第２図は第１図の■−■
′線矢視断面図である。 １・・・・・・噴霧ノズル、２・・・・・・円筒形容器
、３・・・・・・希釈液、５・・・・・・噴霧流、７・
・・・・・高粘性流体、１１・・・・・・コンフレッサ
ー
′線矢視断面図である。 １・・・・・・噴霧ノズル、２・・・・・・円筒形容器
、３・・・・・・希釈液、５・・・・・・噴霧流、７・
・・・・・高粘性流体、１１・・・・・・コンフレッサ
ー
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 高粘性流体を圧縮空気によって噴霧する噴霧ノズル
を、円筒形容器内に装入した希釈液の液面下の位置であ
ってかつ該円筒形容器内壁面の内周に沿う方向に横向き
に配置してなり、高粘性流体の噴霧流によって希釈液に
連続旋回流を形成させる構成とした高粘性流体の連続希
釈装置。 ２ 噴霧ノズルは互いに間隔をおいて２個以上配置され
、各噴霧ノズルには同種または異種の高粘性流体が供給
される特許請求の範囲第１項記載の高粘性流体の連続希
釈装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51077042A JPS5857970B2 (ja) | 1976-07-01 | 1976-07-01 | 高粘性流体の連続希釈装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51077042A JPS5857970B2 (ja) | 1976-07-01 | 1976-07-01 | 高粘性流体の連続希釈装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS537576A JPS537576A (en) | 1978-01-24 |
| JPS5857970B2 true JPS5857970B2 (ja) | 1983-12-22 |
Family
ID=13622705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51077042A Expired JPS5857970B2 (ja) | 1976-07-01 | 1976-07-01 | 高粘性流体の連続希釈装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5857970B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01117366U (ja) * | 1988-01-30 | 1989-08-08 | ||
| JPH02133038A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電源システム |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5829094Y2 (ja) * | 1978-12-13 | 1983-06-25 | 株式会社フジクラ | 線条体巻取案内用トラバ−サ装置 |
| US4895452A (en) * | 1988-03-03 | 1990-01-23 | Micro-Pak, Inc. | Method and apparatus for producing lipid vesicles |
| JPH02303529A (ja) * | 1989-05-18 | 1990-12-17 | Honda Motor Co Ltd | 高粘度塗料の撹拌方法とその装置 |
| US20040004717A1 (en) * | 1996-11-13 | 2004-01-08 | Reed Wayne F. | Automatic mixing and dilution methods and apparatus for online characterization of equilibrium and non-equilibrium properties of solutions containing polymers and/or colloids |
-
1976
- 1976-07-01 JP JP51077042A patent/JPS5857970B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01117366U (ja) * | 1988-01-30 | 1989-08-08 | ||
| JPH02133038A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電源システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS537576A (en) | 1978-01-24 |
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