JPS5857754A - 半導体圧力電気変換装置 - Google Patents

半導体圧力電気変換装置

Info

Publication number
JPS5857754A
JPS5857754A JP15726281A JP15726281A JPS5857754A JP S5857754 A JPS5857754 A JP S5857754A JP 15726281 A JP15726281 A JP 15726281A JP 15726281 A JP15726281 A JP 15726281A JP S5857754 A JPS5857754 A JP S5857754A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
stress absorbing
semiconductor
absorbing member
thermal stress
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP15726281A
Other languages
English (en)
Inventor
Kozo Yamagami
山上 倖三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP15726281A priority Critical patent/JPS5857754A/ja
Publication of JPS5857754A publication Critical patent/JPS5857754A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/66Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/84Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by variation of applied mechanical force, e.g. of pressure

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Pressure Sensors (AREA)
  • Measuring Fluid Pressure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は改良された半導体圧力電気変換装置に関するも
のである。
一部にシリコンやゲルマニウムなどの半導体結晶に圧力
が加わることによって応力が発生すると電気抵抗が変化
することはピエゾ効果としてよく知られている。このピ
エゾ効果を有効に利用した半導体]モカ電気変換装置が
最近よく用いられるようになってきている。
このような半導体電気変換装置に用いられるピエゾ効果
を有する感圧素子はシリコンやゲルマニウムなどの半導
体単結晶基板を用い、有効な結晶面を選び、この結晶面
に半導体単結晶基板と逆の導電型の不純物を選択的に導
入して拡散抵抗層を形成しこの拡散抵抗層を形成した而
と反対の面側の前記拡欽抵°抗層形成部分と対向した部
分を研磨法やエツチング法などで肉#部とじ川辺は肉厚
部とし残すようにして形成される。この肉薄部は起歪部
となりここに流体又は気体により圧力を加えて歪を発生
させると、そのIsに生じる圧縮応力及び引張応力によ
って拡散抵抗層の抵抗値が変化し、その変化蝋を電気信
号に変換し収り出すことができる。このような原理を用
いた半導体圧力電気変換装置は、金属ダイヤプラムなど
を用い機械的に圧力を電°気に変換する装置やストレイ
ンゲージを接着剤などで貼り付゛けた圧力電気変換装置
に比較し著るしく高感度であり軽量、小型化が可能とな
り又、ストレインゲージを接着層などで貼り付けtもの
と途ってクリープ現象が生じないなどの特徴がある。父
製造方法においてFi、現在の高度に進歩したプレーナ
IC技術を駆使することによって特性の均一なものを大
量生産することが可能となりコスト的にも安い吃のが得
られるという利点もあり、最近この半導体圧力電気変換
装置が一役に広く使用されるようになってきている。
半導体圧力電気変換装置においては子方に対する感度を
よくするために起歪部として数十pmの厚みの肉薄部を
形成しその肉薄部に抵抗層が形成されている。従って、
圧力以外の原因による応力による特性への彰゛響を権力
なくする工夫が構造上、又製法上考慮される。このため
、半導体圧力電気変換装置のシリコンやゲルマニクム等
半導体申結晶基板はこれと熱膨張係数が似かよった異種
材料の熱応力吸収部材を介して金属製の外装用支持体に
接着する方法が採用されている。この場合でも半導体千
力電気変換装置と熱応力吸収部材とを全く同じ材料にす
ることが不可能なため、それらの熱膨張係数の差からく
る応力が多かれ少々かれ半導体単結晶基板の起歪部に加
わり、所望の子方以外の応力による影響が特性にでてく
ることになる。
第1図は従来の半導体千力電気変換装置を示す断面図で
ある。図に於て、(1)はシリコン単結晶基板の一方の
表面に拡散抵抗層(la)を形成し、他方の表面の前記
拡散抵抗層(la )と対向する部分を凹状に加工し、
起歪部(It)lを形成した1・名FE素子、(2)は
接着層(3)を介してF411千素子1!1の両端部に
接着されるシリコン製の熱応力吸収部材であり、その形
状は円筒状であり、その中央部には受子伝達用通気孔(
2a)が設けられる。
14)け熱応力吸収部材(21を接着@(5)を介して
接着する外装支持板であり、受圧伝達用通気孔(2a)
に連なる受子伝達用通気孔(4a)を有する。
この外装支持板は渉、ニッケル(4s%)、合金秩、ニ
ッケル(28%)、コパルl−(18%)合金アルミナ
、ベリリヤなどが一般に用いられる。
上記従来の半導体圧力電気変換装置は外装支持板(4)
と感圧素子il+及び熱応力吸”収部材Il+との熱膨
張係数の差に起因しろう付等の作業時に生ずる感圧素子
111の拡散抵抗層(la)に加わる熱歪を十分小さく
することができない。この問題を解決するために熱応力
吸収部材(りの高さを著るしく高くすることが考えられ
るが、その加工コストが非常に高いものとなり且つ組立
作業が錐しくなるという新な問題が生ずる。
本発明はこのような従来の半導体圧力電気変換装置の欠
点に鑑みてなされたものであり、熱応力吸収部材の全体
または一部の所定温度範囲に於る熱膨張係数を半導体単
結晶基板及び金′属製の支持体のいずれの上記所定温度
範囲に於る熱II!眼係数よりも小さくし、低価格かつ
高性能の半導体千古電気変換装置を提供せ人とするもの
である。
第8図は本発明の一実施例を示す断面図、第3図は本発
明の他の実施例を示す断面図である。
第8図の一実施例では感圧素子11)と前記第1図に示
す従来の圧力電気変換装置と同様の鉄ニッケル(48%
)等の外装支持板14)例えば伜。
う付温度に於るMlli眼係数がシリコン単結晶で作ら
れた・&〔モ素子+11と外装支持板(41のSOO℃
〜500℃のろう付温度に於る熱1彰啜係勅のいずれよ
りも小さい材料を用いるCとにある。
C6a)I/′i熱応力吸収部材(61の中央部TiC
設けられた受圧伝達通気孔、(31け感圧素子…と熱応
力吸収部材、6)とを接着する接着層、(6)は熱応力
吸収部材(6)と外装支持板(31とを接着する接着層
である。
このような構成にすることによ°りろう付等の熱処理時
の外装支持板(41と感圧素子+11との熱膨張係数の
差に起因する応力は熱応力吸収部材(6)の材料の熱膨
張係数が感圧素子Il+及び外装支持板(4)のいずれ
の熱膨張係数よりも小さいため感F′f、素子II+に
は外装支持板(41の材料による応力がそのまま゛伝わ
らなくなりオフセットFす7ト電圧が大幅に改善される
また、外装支持板(31から!77B熱素子]!】へ伝
わる熱応力を小さくできるので熱応力吸゛収部材(61
の高さを従来のものに比べて1著しく低いものにするこ
とができ、受圧伝達通気孔(6a)の形成の容易にでき
る。
又、第3図に示す本発明の他の実施例では第1図にて説
明した従来の半導体圧力電気変換装置に於て、熱応力吸
゛収部材(2)と外装支持板14)との間に%応力吸収
部材(6)を介在させるようにしたものである。
(5)は熱応力吸収部材(2)と熱応力吸収部材(6)
とを接着する接着層である。())け熱応力吸収部材(
6)と外装支持板(41を接着する接着層である。
この場合も熱応力吸収部材(6)としては前述と同じ材
料即ち鉄、ニッケル(86%)合金等そのSOO℃゛〜
3oo℃のろう付温度に於る熱膨張係数が舊i1目−−
シリコン単結晶で作られたmlf*子I11、シリコン
で作られた熱応力吸収部材+21、支持板(41の畔料
の200℃〜500℃のろう付温度に於る熱膨張係数の
いずれよりも小さい材料を用いることはいうまでもなく
、このような構造にすることにより熱応力吸収部材(2
1(6)の高さを従来のオ五図に示す構造のものの熱応
力吸収部材(21よりも比較し著るしく低くしてもオフ
セットドリフト1田特性のよいものが得られ、従ってコ
スト的にも有利になる。
以上の説明のように本発明は熱応力吸収部材の全体重た
け一部の所定温度範囲に於る熱膨張(糸数を半導体単結
晶及び金属製の支持体のいずれの上記所定湯度範囲VC
於る熱膨張係数よりも小さくしたので、低価格で、オフ
セットドリフト電子の小さい半導体圧力電気変換装置を
得ることができるという優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の半導体圧力電気変換装置を示す断面図、
第8図及び第8図は本発明の一実施例及び他の実施例の
半導体圧力電気変換装置を示す断面図である。 +11けS+素子、(la)け拡散抵抗層、(lb )
け起歪部°、(!1け熱応力吸収部材、(4)は支持体
、teld熱応力吸゛収部材である。 代理人  葛 野  信 − 第1図 (4θ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 半導体単結晶基板の一方の表面に拡散抵抗層が形成され
    、この拡散抵抗層が形成された面と反対側の面を熱応力
    °我゛収部材を介して外装支持体に接着してなる半導体
    圧力電気変換装置において、前記熱応力吸収部材はその
    全体または一部の所定温度範囲に於る熱膨張係数が前記
    半導体単結晶基板及び金属製の支持体のいずれの上記所
    定温度範囲に於る熱膨張係数よりも小さいことを特徴と
    する半導体圧力電気変換装置。
JP15726281A 1981-10-01 1981-10-01 半導体圧力電気変換装置 Pending JPS5857754A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15726281A JPS5857754A (ja) 1981-10-01 1981-10-01 半導体圧力電気変換装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP15726281A JPS5857754A (ja) 1981-10-01 1981-10-01 半導体圧力電気変換装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5857754A true JPS5857754A (ja) 1983-04-06

Family

ID=15645801

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP15726281A Pending JPS5857754A (ja) 1981-10-01 1981-10-01 半導体圧力電気変換装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5857754A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH032898A (ja) * 1989-05-31 1991-01-09 Yamaha Corp 電子楽器における楽音発生装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH032898A (ja) * 1989-05-31 1991-01-09 Yamaha Corp 電子楽器における楽音発生装置
JP2616006B2 (ja) * 1989-05-31 1997-06-04 ヤマハ株式会社 電子楽器における楽音発生装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3739315A (en) Semiconductor transducers having h shaped cross-sectional configurations
US5477738A (en) Multi-function differential pressure sensor with thin stationary base
US3800264A (en) High temperature transducers and housing including fabrication methods
US4016644A (en) Methods of fabricating low pressure silicon transducers
US3697917A (en) Semiconductor strain gage pressure transducer
JP3451593B2 (ja) ソリッドステートコンデンサ及びマイクロホン装置
US4467656A (en) Transducer apparatus employing convoluted semiconductor diaphragms
US3266303A (en) Diffused layer transducers
JPS5855732A (ja) 静電容量型圧力センサ
US3968466A (en) Pressure transducer
US3513430A (en) Semiconductor strain gage transducer and method of making same
US4319397A (en) Method of producing semiconductor displacement transducer
US4025942A (en) Low pressure transducers employing large silicon diaphragms having non-critical electrical properties
US4166384A (en) Semiconductor transducer
US6691581B2 (en) Pressure transducer fabricated from beta silicon carbide
JPS6050970A (ja) 半導体圧力変換器
JPH073380B2 (ja) 集積化圧力センサ
Brand et al. Ultrasound barrier microsystem for object detection based on micromachined transducer elements
JPS5857754A (ja) 半導体圧力電気変換装置
JPH0158673B2 (ja)
JPS5821131A (ja) 半導体圧力センサ
JPH0419495B2 (ja)
JPH0526983Y2 (ja)
JP2002267684A (ja) 半導体式力学量センサ
JPS6097678A (ja) 半導体構成部品を基板表面に設置する方法