JPS585701A - Optical parts provided with antireflection film - Google Patents
Optical parts provided with antireflection filmInfo
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- JPS585701A JPS585701A JP56102259A JP10225981A JPS585701A JP S585701 A JPS585701 A JP S585701A JP 56102259 A JP56102259 A JP 56102259A JP 10225981 A JP10225981 A JP 10225981A JP S585701 A JPS585701 A JP S585701A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ガラス、プラスチック等の透明基体Kjil
l威するc+6c遣しえアンバー色系の反射色を有する
反射防止膜に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention is directed to a transparent substrate such as glass or plastic.
The present invention relates to an anti-reflection film having an amber reflective color with a strong C+6C color.
メjネレンズ、iIメ2レンズ等のレンズl1lT。Lens l1lT such as Mene lens and iI Me2 lens.
るい紘各種カバー透−INOIIな透明物品、特に高透
過率O要求される光学部品においては1表面での入射光
の反射を低下させ、光の透過率【高める丸めKJ[射肪
止膜を設けることが公知である。ガラスからなる光学部
品の反射防止膜としては、真空蒸着法によるMgFg膜
が典型的なものとして知られてお)2又実用されている
が。RuihiroVarious types of transparent covers - INOII transparent articles, especially optical parts that require high transmittance, reduce the reflection of incident light on one surface and increase the light transmittance. This is well known. As an anti-reflection film for optical parts made of glass, a MgFg film formed by a vacuum evaporation method is known as a typical film, and is also in practical use.
かかるMgν怠層を真空蒸着するI[+&膜の付着性を
高めるえめに! 01c〜400℃に加熱しなければな
らない、従って、耐熱性0弱いプラスチックからなる光
学部品[Mgν倉膜を形成する場合には、充分な加熱が
行なえないため、@〇付着力、硬度が不足して、実用に
供することができない、こ0IIKプラスチツクからな
る光学部品への反射防止性能、プラスチック基体の耐熱
性が弱いこと中屈折率が低いプラスチックが多いことな
どから材質、Il法などの点で制限を費ける0例えば低
屈折率材料0中で酸化ケイ素膜(gto、膜)はプラス
チックと0付着カが喪酸化ケイ素膜の屈折率は、t46
〜t4?と通常のプラスチックレンズ基体の屈折率に近
いので、単層の状態では反射防止膜としての機能を持ち
えず、使用できない。その丸め、酸化ケイ素膜を用いて
反射防止膜を得る場合には、2層。To improve the adhesion of the I[+& film], such a Mgν layer is vacuum-deposited! Optical parts must be heated to temperatures between 01c and 400°C. Therefore, when forming an optical component made of plastic with low heat resistance (Mgν), sufficient heating is not possible, resulting in insufficient adhesion and hardness. Therefore, the antireflection performance of optical components made of IIK plastics cannot be put to practical use, and there are limitations in terms of materials, Il method, etc. due to the poor heat resistance of the plastic substrate and the fact that there are many plastics with low refractive index. For example, in a low refractive index material, a silicon oxide film (GTO, film) is bonded to plastic, but the refractive index of the silicon oxide film is t46.
~t4? Since its refractive index is close to that of a normal plastic lens substrate, it cannot function as an antireflection film in a single layer state and cannot be used. When obtaining an antireflection film using a silicon oxide film, two layers are used.
1層あるいはそれ以上の多層コートが必要である。One or more multilayer coatings are required.
とOwなプラスチックレンズ用の反射防止膜としては、
ガラスレンズの場合の単層のMgF1反射防止膜と同色
系O赤紫からマぞンダb反射光を有する2層構成の反射
防止膜や、又更に性艷を向上させ九緑色反射光を有する
5層構成の反射防止膜が知られている。例えば、この種
の5層系の反射防止層として、第1図の様にOR−墨!
レンズ10表面に樋λO光学膜厚を有するAhos層2
と、にλO光学膜厚を有するZrO意層意表1更に’A
λの光学膜厚を有する8101層4とを順次形成した反
射防止層が知られている。As an anti-reflection film for plastic lenses,
In the case of a glass lens, there is a single-layer MgF1 anti-reflection film and a two-layer anti-reflection film that has the same color range from reddish-purple to masonda B, and a 5-layer anti-reflection film that has a nine-green reflective light to further improve its properties. Antireflection films having a layered structure are known. For example, as a five-layer antireflection layer of this type, OR-black!
Ahos layer 2 having an optical thickness of λO on the surface of the lens 10
, ZrO with optical film thickness of λO
An antireflection layer is known in which an 8101 layer 4 and an 8101 layer 4 having an optical thickness of λ are sequentially formed.
冑、ζこにおいて、λは設計波長であ夛、λ−446n
wm〜S 70 nmz が多く採用される。In this case, λ is the design wavelength, λ-446n
wm~S 70 nmz is often adopted.
しかしながらこの緑色反射光を有する4層構成O反射騎
止膜は2人O目O感度の最も高い緑色光を反射させてい
るので、片aic+反射率を(17−以下にすることが
困難であるという難点を有していた。However, this 4-layer O-reflection coating that has green reflected light reflects the green light that has the highest O sensitivity for 2 people, so it is difficult to reduce the single AIC+ reflectance to (17- or less). It had the following drawback.
一方、アンバー色系O反射光を有する反射防止膜は、I
!感度の高い緑色系の反射を抑えであるため、緑色系の
反射光を有する反射防止膜に比べ透明性が向上し好まし
いものとして知られており、ガラスメガネレンズにおい
て実用化されているが、プラスチックレンズにおいては
。On the other hand, the antireflection film having amber-colored O reflected light is
! Because it suppresses the reflection of greenish light, which is highly sensitive, it is known to have improved transparency and is preferable compared to antireflection films that reflect greenish light, and has been put to practical use in glass eyeglass lenses. In terms of lenses.
反射防止膜をコーティングする場合にプラスチツタ基体
を100℃以上の温度に加熱することができないために
膜材料と屈折率の組み合せに限界がある良め、いまだ好
ましいアンバー色系の反射光を有する反射防止膜が得ら
れていないという状況下にある。When coating with an antireflection film, there are limits to the combinations of film material and refractive index because the plastic substrate cannot be heated to a temperature above 100°C, so antireflection with amber-colored reflected light is still preferred. The situation is that no membrane has been obtained.
本発明は、上記点に鑑み、アンバー色系の反射色調を有
し、かつ反射防止性能が高くて透明性が高く、更に機械
的強度及び化学的安定性が高いプラスチック光学部品に
適した材質及び膜構成を有する反射防止膜を提供するこ
とを目的として研究O結果発明されたものであシ、その
要旨は、透明基体上に、#透明基体側から順に屈折率−
がL41≦q≦t!SO第1層&屈折率−zttss≦
b≦ttssO第2層、屈折率−#2.01≦q≦lO
!!0#l;i層、屈折重態4がt44≦−≦t4?O
第4?O形成しえことを特徴とする4層よ)&るアンバ
ー白系O夏射色を有する反射防止膜を設は九光学部品に
関する40である。In view of the above, the present invention provides a material suitable for plastic optical parts that has an amber reflective color tone, has high antireflection performance and high transparency, and has high mechanical strength and chemical stability. It was invented as a result of research with the aim of providing an antireflection film having a film structure, and its gist is that # refractive index -
is L41≦q≦t! SO 1st layer & refractive index -zttss≦
b≦ttssO second layer, refractive index −#2.01≦q≦lO
! ! 0#l; I layer, refractive heavy state 4 is t44≦−≦t4? O
Fourth? The anti-reflection film has an amber-white color and an amber-white color, which is characterized by the formation of a four-layer coating.
以下1本発明について1図面を参照しながら更に詳細に
説明する。第2図は1本発明の一具体flK係る反射防
止膜の設けられ九党学部品の横断面図を示しえもOであ
シ、1・は1反射防止層を設ける透明基体、tati該
透明基体1−01111に形成されえ屈折率−がL41
≦−≦twiO膜からなる第1層、sOはこの第1層2
・上に形成され良屈折皐−がttss≦−≦LtIII
O属からなる菖意層、40はこの第2層30上に形成さ
れ九屈折率−が101≦−≦toso第i層、50はと
c+第S層40上に形成された屈折率−がt44≦−≦
t4?f)第4層を示す。The present invention will be explained in more detail below with reference to one drawing. FIG. 2 shows a cross-sectional view of a nine-part optical component provided with an antireflection film according to one embodiment of the present invention. 1-01111 and the refractive index - is L41
The first layer consisting of ≦-≦twiO film, sO is this first layer 2
・The good refractive index formed on the top is ttss≦−≦LtIII
The iridescent layer 40 is formed on the second layer 30 and has a refractive index of 101≦-≦toso, and 50 is the c+ layer formed on the S layer 40 with a refractive index of 101≦−≦toso. t44≦−≦
t4? f) Showing the fourth layer.
本発明において、透明16基体としては透明性が高く、
耐擦傷性、耐摩耗性、耐化学的安定性、耐−1的安定性
、光学特性勢に優れ、かつメメネ、カメラそO他各種用
途のレンズI@1針器、装置等に使用されるカバー透明
板、各種−材料、あるいはそO他各種光学部材に使用さ
れる特性を有するプラスチック材料、Plえげアリル樹
脂(飼えば裔晶名ox−it(ボツアツルジダ雫=−ル
カーボネート)として知られて−る。)%ポリメチルメ
タタリレート、ポリカー〆ネート、ポリスチレンなどが
使用される。勿論、これらK11il定される仁となく
上1e411性を有するその他各種プラスチック材料も
及びjラス基体も使用することがで自る。中でも1本発
−〇反射騎止膜株屈折率t4t・〜ts@・を持り透明
基体に対し、!KO1−19として知られているポリア
リルジグリコールカーlネートに対し最適である。In the present invention, the transparent 16 substrate has high transparency;
It has excellent scratch resistance, abrasion resistance, chemical stability, -1 stability, and optical properties, and is used for lenses, cameras, and other various applications such as I@1 needle instruments and devices. A plastic material with characteristics used for cover transparent plates, various materials, and other various optical members, Pleage allyl resin (also known as ox-it carbonate) )% polymethyl metatarylate, polycarbonate, polystyrene, etc. are used. Of course, it is also possible to use various other plastic materials having the above 1e411 properties as well as the J-lase substrate. Among them, one light source has a refractive index of t4t・~ts@・ for a transparent substrate! It is most suitable for polyallyl diglycol carbonate known as KO1-19.
本発明における第1層20は1.6 M≦−≦tisO
履折率−を有する光学膜が使用されうるが、中でもその
膜としてはかかる屈折率の範■が得られ、かつ、その屈
折率の制御も容易で。The first layer 20 in the present invention is 1.6 M≦−≦tisO
Although an optical film having a refractive index of - can be used, it is possible to obtain such a range of refractive index as the film, and the refractive index can be easily controlled.
化学的、物理的耐久性にも優れ、更に膜形成が容易な酸
化アルlx=ウム(ムjtom)又は酸化アル叱ニウム
(ムjsos)を70嘩以上含む酸化ア)hlニウム膜
が最適である。又第1層O膜厚としては、光学膜厚−4
テ(1/4−3/121 )λ・≦−4< (1/4
+ V1!8)λ・の範囲とするのが好壇しn、ココテ
、 111ハt 4 S ≦vq≦t 6505mで#
))1又反射防止の主波長λ拳 は(14? 5 pw
a 〜as Is S pmである。λ・ は以下同じ
である。An aluminium oxide film containing 70% or more of aluminum oxide (lxtom) or aluminum oxide (mujsos), which has excellent chemical and physical durability and is easy to form, is optimal. . Also, the first layer O film thickness is optical film thickness -4
Te(1/4-3/121)λ・≦-4<(1/4
+ V1! 8) It is best to set it in the range of λ.
)) The dominant wavelength λ for anti-reflection is (14? 5 pw)
a ~ as Is S pm. λ・ is the same below.
又、第!層SOは、ttss≦−≦t!・SO履折率−
を有する光学膜が使用されうるが、中で4七〇膜として
は、かかる屈折率の@囮が得られ、かつそO屈折率O制
御も容易で、化学的、物理的耐久性にも優れ、更に膜形
成が容易な酸化ジルコニウム(Zr01 )、 又は
酸化ジルコニウム(!ro1)1r701!以上含む低
屈折率酸化ジルコニウム膜が最適である。又第2層O膜
厚としては、光学膜厚−4で55/128λ・≦−〜≦
N 7/1 ! 8λ・O範路とするのが好ましい。Also, number one! The layer SO is ttss≦−≦t!・SO refraction rate -
Among them, the 470 film can be used because it can obtain a decoy with such a refractive index, is easy to control the refractive index, and has excellent chemical and physical durability. , Zirconium oxide (Zr01), which is easier to form a film, or Zirconium oxide (!ro1)1r701! A low refractive index zirconium oxide film containing the above is optimal. In addition, the second layer O film thickness is 55/128λ・≦−~≦ with an optical film thickness of −4.
N7/1! It is preferable to use the 8λ·O range.
こむでn@Fi、ttss6;ng≦ttss o範
囲である。Comude n@Fi, ttss6; ng≦ttss o range.
又館3層40は、2.01≦−≦Lo so屈折率−を
有する光学膜が使用されうるが、中でもその膜としては
、かかる屈折率の範囲が得られ。Furthermore, for the third layer 40, an optical film having a refractive index of 2.01≦−≦Lo so may be used, and among others, the film can obtain such a refractive index range.
かつその屈折率の制御4容易で、化学的、物理的耐久性
にも優れ、かつその膜形成も容異な酸化ジルコニウム(
zrow)又は酸化ジルコニウム(ZrO2)を709
1以上含む高屈折率酸化ジルコニウム膜が最適である。Moreover, zirconium oxide (
zrow) or zirconium oxide (ZrO2) 709
A high refractive index zirconium oxide film containing one or more is optimal.
又、第1層O膜厚としては、光学膜厚−4で!S/12
@λ・≦−4≦2!/1!・λ・ OIi囲とするのが
好ましい、ζこで−d101≦4≦10sol[囲であ
る。Also, the first layer O film thickness is -4 optical film thickness! S/12
@λ・≦−4≦2! /1!・λ・ OIi is preferably set, where ζ is −d101≦4≦10sol.
こO様に第2層sOと第1層40とは、低履折率酸化ジ
ルコニウム膜、高屈折率酸化ジルコニウム膜とから構成
するのが最適である。この第宜層と第1層の酸化ジルコ
ニウム膜の屈折率の調整は1例えば真空蒸着時の真空度
と蒸着速度を調整して行う、iFlえば、酸化ジルコニ
ウム膜Ogk肩折率化は m着真申縦を悪くして、即ち
真空中の残留ガスが多い雰囲気でゆり〈〕と蒸着すれば
達成化でき、一方高屈折率化は、高真空下で蒸着源温f
を高めて蒸着すれば可能である。The second layer sO and the first layer 40 are optimally composed of a low refractive index zirconium oxide film and a high refractive index zirconium oxide film. The refractive index of the second layer and the first layer zirconium oxide film can be adjusted by adjusting the degree of vacuum and the deposition rate during vacuum deposition. A high refractive index can be achieved by lowering the refractive index, that is, by performing evaporation with Yuri in an atmosphere with a large amount of residual gas in a vacuum.On the other hand, a high refractive index can be achieved by lowering the deposition source temperature
This is possible by increasing the evaporation temperature.
又、第4層S@は、t46≦−≦t4?の屈折率−を有
する光学膜が使用されうるが、中でもその膜としては、
かかる屈折率O範囲が得られ、かつその屈折率&)11
1114害鳥で、化学的。Also, does the fourth layer S@ satisfy t46≦−≦t4? An optical film having a refractive index of
Such a refractive index O range is obtained, and the refractive index &)11
1114 Pest bird, chemical.
物理的耐久性にも優れ、かつその膜形成も容易な酸化ケ
イ素(1ids ) 又は酸化ケイ素(sio、 )
を7・−以上含む酸化ケイ素膜が最適である。Silicon oxide (1ids) or silicon oxide (sio, ), which has excellent physical durability and is easy to form a film.
A silicon oxide film containing 7.- or more is optimal.
又、第4層O膜厚としては、光学膜厚−と4で(1/4
−1/128 )λ・≦m4a4≦(1/4 + l/
1211)1・の範囲とするのが好ましい、ここで−は
’L44≦a*≦t4to@sである。In addition, the fourth layer O film thickness is (1/4) with the optical film thickness - and 4.
-1/128)λ・≦m4a4≦(1/4 + l/
1211) is preferably in the range of 1·, where - is 'L44≦a*≦t4to@s.
この第4層は1本−明Oアンバー色糸反射紡止l[O叉
射率に影響を与える最も重要な因子であり、第4層OI
I折率が低い嫌ど反射率は低くなるが、屈折率が1.4
4よ)低くなると酸化ケイ素膜が多孔質とな〉、機械的
、化学的耐久性が低下して好ましくなく、又屈折率がt
4?よ〉高くなると反射率が高くなって反射防止膜とし
ての性能が低下して好ましくない。This fourth layer consists of one light O amber colored yarn reflective spun l [the most important factor affecting the O cross emissivity, and the fourth layer OI
If the refractive index is low, the reflectance will be low, but if the refractive index is 1.4
4) When the temperature decreases, the silicon oxide film becomes porous, mechanical and chemical durability decreases, which is undesirable, and the refractive index decreases.
4? If it becomes too high, the reflectance increases and the performance as an antireflection film deteriorates, which is not preferable.
上記した第1層、第4層の屈折率の調整は。Adjustment of the refractive index of the first layer and the fourth layer described above.
第3゛層、第4層の酸化ジルコニウムの屈折率O調整と
同IIK、蒸着条件を変えるととにより行なわれる。Adjustment of the refractive index O of the zirconium oxide of the third and fourth layers is carried out by changing the same IIK and vapor deposition conditions.
上記したIIIK、第1〜4層の各層の屈折率及び膜厚
を特定の範囲に選ぶことKよ〉1可視党域の反射防止効
果が高くなシ、かつ第1〜4層の干渉効果により反射光
がアンバー色系の反射防止膜を提供することができる。IIIK above, the refractive index and film thickness of each of the first to fourth layers should be selected within a specific range. It is possible to provide an antireflection film in which the reflected light is amber-colored.
なお1本発明によるアンバー色系の反射色を有する反射
防止膜は、各層O屈折率及び膜厚に対する制約が厳しい
もO0第2層、及び館3層O膜厚Ow御を正しく行なう
ことKよ〉、アンバー色系の反射色を有し、かつ反射率
の低い反射防止膜を得ることができる。特に、第宜層O
膜厚領御O精度は(1/128 ) J・、又第易層O
膜厚餠御O精fは(2/128 )λ・ f)IifK
する注意が必要である。Note that the anti-reflection film having an amber reflective color according to the present invention has severe restrictions on the refractive index and film thickness of each layer, but it is important to correctly control the film thickness of the second layer and the third layer. >, it is possible to obtain an antireflection film having an amber reflective color and a low reflectance. In particular, the
The film thickness control O accuracy is (1/128) J., and the easy layer O
The thickness of the film is (2/128)λ・f)IifK
Caution is required.
1に訃、第111に示し良様に1酸化アル2ニウム(ム
ATOs)膜と酸化ジルコニウム膜(grow)膜と酸
化ケイ素(altG、)膜とtI[次プラスチックレン
ズ表面に形成し九グリーン色系O反射色を有する反射防
止膜では、第2層O酸化ジルコ具つム膜がに波長で構成
されているが、グリ−色の補色であるアンバー色系の反
射色を実現する丸め1本発明においてはかかる酸化ジル
コニウム膜を低屈折率部と高屈折率部の!層に分け、し
かも膜厚構成を通常の樋波長からずらしている。1 and 111 show that the aluminum monooxide (MUATOs) film, the zirconium oxide film (grow) film, the silicon oxide (ALTG) film and the tI film are formed on the surface of the plastic lens with a green color. In the anti-reflection film having O-type reflective color, the second layer O-zirco oxide film is composed of two wavelengths, but one rounded one achieves an amber reflective color, which is a complementary color to green. In the invention, such a zirconium oxide film is used in the low refractive index portion and the high refractive index portion! It is divided into layers, and the film thickness structure is shifted from the normal gutter wavelength.
本発明においては2反射防止膜の主液長のとヤ方が一つ
O特徴となっておシ、アンI(−色はグリーン色の補色
といえるOで、主波長はダシーン色領域(青緑−縁一黄
緑の領域)O約**・pm−1!17mm Kとっで
ある。ヒ011!にするととによ)、第1〜4層04)
光学膜厚を前述し九*t*isとしえ反射防止膜は′−
アンバー色系の反射色にさせることができる。In the present invention, one of the characteristics of the two anti-reflection films is the difference in the main liquid length. Green - edge one yellow-green area) O approx.**・pm-1!17mm
The optical film thickness is assumed to be 9*t*is, and the anti-reflection film is '-
It can be made into an amber reflective color.
又1本発@においては、上記しえ4層系の反射防止膜の
プラスチツタ透明基体lI面への付着強変を高め、かつ
プラスチック透明基体OSSの耐擦傷性、耐摩耗性の弱
さを補なう良めに2第S@t)様にプラスチック透明基
体10と第1層!OとfllsllIKアンダープート
46を介在させるとともできる。このアンダーコートと
しては。In addition, in the first development @, we improved the adhesion strength of the above-mentioned four-layer anti-reflection film to the plastic transparent substrate II surface, and compensated for the weak scratch resistance and abrasion resistance of the plastic transparent substrate OSS. Plastic transparent base 10 and first layer like 2nd S@t)! This can be done by interposing the underput 46 between O and fllsllIK. As for this undercoat.
付着性O改善、及び耐擦傷性、耐摩耗性の改善に効果的
な有機物質又は無機物質の中から最適な材料が選択され
るが、中でもプラスチック基体及び反射防止膜との付着
性が嵐好でかつ耐擦傷性、耐摩耗性が棗好で、化学的耐
久性411れ。The most suitable material is selected from among organic and inorganic substances that are effective in improving adhesion, scratch resistance, and abrasion resistance. It has excellent scratch resistance, abrasion resistance, and chemical durability of 411.
更にコーティング容易な酸化ケイ素(atom)膜。Furthermore, silicon oxide (atom) film is easy to coat.
もしくは酸化ケイ素(snow) k y o−以上含
む酸化物膜からなるアンダーコートが特に好ましい、か
かるアンダーコートの膜厚紘、LSpwa〜2 pwa
D@@がq#に好オしい、アンダーコートO膜厚が2
声よ〉大となるとこの層中に生ずる応力が大と′&夛、
プラスチック透明基板の強度低下を4えらし、あるいは
又剥S、亀裂等が入〉好ましくない、1plえばon−
stoめがねレンズKl 6 pym以上0810.
膜を形成するとめがねレンズO米l1lO]PDA!
lL格091度試験を満えさ欺くなる。一方、lLsp
m よ)小となるとプラスチツタ透明基体の耐擦傷性
、耐摩耗性を向上させる良めに効果がなくなに、又分光
反射特性におけるリップルの振幅が大きくなル反射肪止
に対し悪影響を与えるOで好ましくない。An undercoat consisting of an oxide film containing silicon oxide (snow) or more is particularly preferable, and the film thickness of such an undercoat is LSpwa ~ 2 pwa.
D@@ is preferable to q#, undercoat O film thickness is 2
``Voice!'' When it becomes large, the stress generated in this layer becomes large.
If the strength of the plastic transparent substrate decreases, or peeling or cracking occurs, it is undesirable.
sto glasses lens Kl 6 pym or more 0810.
When a film is formed, eyeglass lenses Ome l1lO] PDA!
I will complete the LL grade 091 exam and cheat. On the other hand, lLsp
If the value is too small, the effect of improving the scratch resistance and abrasion resistance of the plastic ivy transparent substrate will be lost, and the amplitude of ripples in the spectral reflection characteristics will be large, which will have a negative effect on the reflective fat stop. So it's not desirable.
又、アンダー;−トの酸化ケイ素(sio、)又はこれ
を主体とするll0II折率社、グラスチック透明基体
の屈折率とO差異が大きくなるとりラグs−0@ @が
増大するえめ1.4 !i −t S 5とするのが好
ましい。In addition, as the difference between the refractive index and O of the under-cut silicon oxide (sio) or the glass transparent substrate based on it increases, the lag s-0 increases.1. 4! It is preferable to set it as i-t S5.
歯、プラスチツタ透明基体とアンダーコートとO付着性
を高めるためKそ0間に反射防止性能、色調に影響を与
えない範囲の膜厚2例えば10〜200At)その他O
アンダーコート1形成した)、あるいは又プラスチック
透明基体を化成処理することもできる。Teeth, plastic ivy Transparent substrate and undercoat to improve adhesion to O.Other O
Alternatively, the plastic transparent substrate may be subjected to a chemical conversion treatment.
本発明においては前述した様に、第1〜40各層におい
て耐候性、硬f1付着力等の向上の丸めに、それぞれの
各層の屈折率の範囲内で。In the present invention, as described above, improvements in weather resistance, hard f1 adhesion, etc. in each of the 1st to 40th layers are made within the range of the refractive index of each layer.
かつ所望の特性が得られる範囲内で&SO−よ)少ない
他の成分、例えばMgO、OaO、TLOhテ’101
t ム40g 、 1iio1. 810
、 ZnO、Ga1O1゜S鳳o1&o・0■を添
加し1Lあるいは複合膜とすることもできる。and other components such as MgO, OaO, TLOhte'101 in small amounts within the range where the desired properties can be obtained.
tmu 40g, 1iio1. 810
, ZnO, Ga1O1°S, o1&o・0■ can be added to form a 1L or composite film.
以下、本発明cs*m1P1について説明する。The cs*m1P1 of the present invention will be explained below.
実施IP11
清浄に洗浄しにポリアリルカーlネートレンズ基体(商
品名、0R−19レンズ)k真空蒸着槽内に七ットし、
該蒸着槽内itず1×10″″ITorr まで排気
した0次−でレンズ基体を約1・0℃に加熱しつつ以下
0IIA着を順次行なり良、はじめに、、IN着檜の真
空度i 5 X I D−1〒orr IIC調整しえ
後、レンズ基体表面に酸化アルミニウムを3ム/−・a
の蒸着速度で蒸着し、−161の酸化アルミニウム(ム
hog ) l[からなる第1層を形成した。次いで真
空度を瓜SX10−1〒orr K再調整した俵、上記
酸化アルン真ウム膜上に酸化ジルコニウムfSム/―・
0の蒸着速度で蒸着し、5youO低屈折率酸化ジルコ
ニウム(ZrO禦) 膜からなる第2層を形成し、続い
て再び真空[15X1ft″″’ Torr K再調整
し九後、上記低屈折率酸化ジルコニウム膜上に酸化ジル
コニウムtsX/−・Cの蒸着速度で蒸着し755ムの
高屈折率酸化ジルコニウム(ZrO嘗)illからなる
第5層【形成しえ0次いで蒸着槽の真空fを5×10″
″易〒orr に再調整した後上記高屈折率酸化ジル
コニウム膜上に酸化ケイ素[20ム/−・Oの蒸着速度
で蒸着し、?OOA&)鹸化ケイ素からなる第4層【形
成し良。Implementation IP11 Wash the polyallyl carbonate lens substrate (trade name, 0R-19 lens) and place it in a vacuum deposition tank.
The vapor deposition tank was evacuated to 1×10''ITorr and the lens base was heated to about 1.0°C while the following 0IIA deposition was performed in sequence.First, IN deposition vacuum degree i 5
The first layer was deposited at a deposition rate of -161 aluminum oxide (muhog) l[. Next, the vacuum level was readjusted to SX10-1〒orr K, and zirconium oxide fS film was deposited on the alumium oxide film.
A second layer consisting of 5youO low refractive index zirconium oxide (ZrO) film was formed by evaporation at a deposition rate of 0, and then the low refractive index oxide was A fifth layer of high refractive index zirconium oxide (ZrO) with a thickness of 755 μm is deposited on the zirconium film at a deposition rate of zirconium oxide tsX/-・C. ″
After being readjusted to be easily 〒orr, silicon oxide was deposited on the high refractive index zirconium oxide film at a deposition rate of 20 m/-.O, and a fourth layer of saponified silicon was formed.
このIIにして蒸着された各層についてそれぞれ屈折率
をアペレス法により測定したところ。The refractive index of each layer deposited in II was measured by the Apelles method.
第1層の酸化アルミニウム膜の屈折率F11.6 ′5
であり、第2層の低屈折率酸化ジルコニウム膜の屈折率
はt955であり、第3層の高屈折率酸化ジル−ニウム
膜の屈折率は2−01であ)。Refractive index of the first layer aluminum oxide film F11.6'5
The refractive index of the second layer, a low refractive index zirconium oxide film, is t955, and the refractive index of the third layer, a high refractive index zirconium oxide film, is 2-01).
第4層の酸化ケイ素膜の屈折率は1.4であつ九。The refractive index of the fourth layer of silicon oxide film is 1.4.
又この反射防止膜の反射色調は赤色系アンバー色を呈し
、この反射防止膜の反射特性t−測測定た結果は、第4
m5の曲線aに示し九様になつえ。In addition, the reflection color tone of this anti-reflection film exhibits a reddish amber color, and the results of the t-measurement of the reflection characteristics of this anti-reflection film are as follows:
It is shown in curve a of m5 and is repeated in nine ways.
又、この反射防止膜の反射色調を011座標に示すと、
第6図0点ムで示され、アンバー色系の線間を示す斜線
領域Pf)中に位置していることが認められる。Moreover, when the reflected color tone of this anti-reflection film is shown in the 011 coordinates,
It is shown by point 0 in FIG. 6, and it is recognized that it is located in the diagonally shaded area Pf) indicating the amber-colored line spacing.
amガ2
清浄に洗浄したポリアリルカーlネートレンズ基体(商
品名、0R−1?レンズ)を真空蒸着槽内に1ツトし、
該蒸着槽内tます1×10″″i!orr まて排気
し丸。次いでレンズ基体を約1・−〇に加熱しつつ以下
の蒸着tl11次行なつ良、はじめに、蒸着槽の真空j
[tsXlm−暴テorr K調整し友後、レンズ基
体表WJK酸化アkiニウムをSム/−・0の蒸着速度
で蒸着し。amga 2 Place a cleanly washed polyallyl carbonate lens substrate (trade name: 0R-1?Lens) into a vacuum deposition tank.
The inside of the vapor deposition tank is 1×10″i! orr Exhaust circle. Next, while heating the lens substrate to about 1.-0, the following vapor deposition process is carried out. First, the vacuum of the vapor deposition tank is reduced.
[tsXlm - After adjusting K, WJK aluminum oxide was deposited on the lens base surface at a deposition rate of Sm/-.0.
77・ムO酸化アル<=ラム(ムjsos)膜からなる
第1層を形成しえ1次いで真空lILを表5×10−”
Torr pc再調整した後、上記酸化アル建ニウム
膜上に酸化ジルコニウムをMA’/g・of)蒸着速度
で蒸着し54oiO低屈折率酸化ジルツエウム(!ro
b)膜からなる第2層重形成し。Form a first layer consisting of a 77.mu.
After readjusting the Torr pc, zirconium oxide was deposited on the aluminum oxide film at a deposition rate of 54 oiO low refractive index zirconium oxide (!ro).
b) forming a second layer consisting of a membrane;
続いて真空度t !! X 1 @−’ Torr I
IC再調整し良後、上記低屈折率酸化ジルコニウム膜上
に酸化ジルコ1ウムisX/s@aの蒸着速度で蒸着し
701IAt)高屈折率酸化ジル;ニウム(!rob)
膜からなる第S層を形成した。次いで蒸着槽0真空[1
1X10″″墨テorr K再調整した後上記高属折本
酸化ジルコニウム膜上に酸化ケイ素を!Oム/−・Oの
蒸着速度で蒸着し、・bo’h。Next, the degree of vacuum t! ! X 1 @-' Torr I
After readjusting the IC, high refractive index zirconium oxide (!rob) was deposited on the low refractive index zirconium oxide film at a deposition rate of 701IAt).
An S-th layer consisting of a film was formed. Next, the evaporation tank 0 vacuum [1
After readjusting the 1X10'' ink color, apply silicon oxide to the above-mentioned high-grade zirconium oxide film! Deposited at a deposition rate of Om/-・O,・bo'h.
酸化ケイ素からなる第4層を形成した。A fourth layer of silicon oxide was formed.
こ041!にして蒸着された各層にりいてそれぞれ屈折
率tアベレス法により一定したところ。Ko041! The refractive index t of each layer was made constant by the Abeles method.
第1層O酸化アル(ニウムlll0[g折本はt44で
あ)、第2層O低屈折率酸化ジルコニウム膜の屈折率は
t!45であ〕、第1層の高屈折率酸化ジルコニウム膜
の屈折率は2.02であシ。The refractive index of the first layer O (aluminum oxide lll0[g-fold book is t44) and the second layer O low refractive index zirconium oxide film is t! 45], and the refractive index of the first layer high refractive index zirconium oxide film was 2.02.
第4層の酸化ケイ素膜の屈折率はt47であつ九、又ヒ
O反射防止膜の反射色調はアンバー色を呈し、ヒO反射
彷止膜O反射特性を一定しえ結果は、第4図O蘭線b(
示し良様になりえ。The refractive index of the silicon oxide film of the fourth layer is t47, and the reflection color tone of the H-O anti-reflection film is amber, and the O-reflection characteristics of the H-O reflection blocking film are kept constant. Oran line b (
Be a good example.
又、ζO反射肪止膜の反射色調を0工1座標に示すと、
第49110点1で示され、アンバー色系の範囲を示す
斜線領域rの中に位置していることが認められる。In addition, when the reflective color tone of the ζO reflective lipostatic membrane is shown on the 0-1 coordinate,
It is indicated by the 49110th point 1, and it is recognized that it is located within the shaded area r indicating the amber color range.
実施例S
清浄に洗浄したポリアシルカーlネートレンズ基体(商
品名、0R−s9レンズ)を真空蒸着槽内にセットし、
該蒸着槽内を★ずlX1r’テorr 壇で排気した
0次いでレンズ基体を約1111m1:に加熱しつつ以
下の蒸着を順次行なり良、紘じめに、蒸着槽の真空度t
!×1・−STorr pc調整し良後、レンズ基体表
1lKII化7に々ニウムを墨ム/−・・O蒸着速度で
蒸着し。Example S A cleanly washed polyacyl carnate lens substrate (trade name, 0R-s9 lens) was set in a vacuum deposition tank,
The inside of the vapor deposition tank was evacuated using a stage.Then, the lens substrate was heated to about 1111 m1, and the following vapor depositions were carried out in sequence.
! ×1·-STorr After adjusting the pc, Niumium was evaporated onto the lens substrate surface 1lKII compound 7 at a deposition rate of black/-··O.
go@mO酸化アル建ニウム(ム40m)膜からなる第
1層を形成した0次いで真空度を4×1・−・テorr
K再調整した後、上記酸化アルix9^膜上に酸化
ジルコニウム6sS/−・aO薫層着速度蒸着し、sm
o’ho@屈折率酸化ジ屈折率酸化ジム(!rot)I
Iからなる第2層を形成し、続いて同じ真空度の4X1
(1−1〒orr Kおiで、上記低屈折率酸化ジルコ
ニウム膜上に酸化ジルコニウムを817−・of)蒸着
速度で蒸着しyiouo高屈折率酸化ジルコニウム(z
rOl)膜からなる第S層を形成しえ0次いで蒸着槽の
真空度を4X1@″″4テorr K再調正した後上記
高屈折率酸化ジルコニウム膜上に酸化ケイ素を20ム/
−・aOO着速度で蒸着し、・!5Xの酸化ケイ素から
なる第4層を形成した。The first layer consisting of go@mO aluminum oxide (40m) film was formed.Then, the degree of vacuum was reduced to 4×1...
After readjusting K, a 6sS/-aO smoke layer of zirconium oxide is deposited on the above aluminum oxide ix9^ film, and sm
o'ho @ refractive index oxide di refractive index gym oxide (!rot) I
Form a second layer consisting of I, followed by 4X1 in the same vacuum
Zirconium oxide is evaporated onto the low refractive index zirconium oxide film at a deposition rate of 817-.
After forming the S-th layer consisting of a zirconium oxide film with a high refractive index and adjusting the vacuum degree of the vapor deposition tank to 4X1@''4Teorr K, 20 μm/s of silicon oxide was formed on the high refractive index zirconium oxide film.
-・Deposited at aOO deposition rate,・! A fourth layer of 5X silicon oxide was formed.
こ0IIIKして蒸着されえ各層についてそれぞれ屈折
率をアペレス法によシ捌定し良ところ。It is a good idea to determine the refractive index of each layer that is vapor-deposited using the Apelles method.
第1層O酸化アル1=ウム膜の屈折率はt4Bであ)、
第2層の低屈折率酸化ジルコニウム膜01lA折率はt
!85であ如、第3層の高屈折率酸化ジルコニウム膜の
屈折率はtaSであ〉。The refractive index of the first layer O-aluminum oxide film is t4B),
The second layer low refractive index zirconium oxide film 01lA has a refractive index of t
! 85, the refractive index of the third layer high refractive index zirconium oxide film is taS.
第4層の酸化ケイ素膜0[折率はt411であった。又
こO反射防止膜O反射色調はアンバー色を呈し、この反
射防止IIO反射特性を測定した結果は、第11101
11!IaK示し先様になつえ。The fourth layer silicon oxide film had a refractive index of t411. The reflection color tone of this anti-reflection film is amber, and the results of measuring the reflection characteristics of this anti-reflection film are as follows: No. 11101
11! Thank you for showing IaK.
又、ζO反射防止膜の反射色調をaxm座欄に示すと第
6図OO点で示され、アンバー色系の範囲を示す斜線領
域Pの中に位置していることが認められる。Moreover, when the reflected color tone of the ζO antireflection film is shown in the axm column, it is shown as point OO in FIG. 6, and it is recognized that it is located within the hatched area P indicating the amber color range.
実施fi4
清浄に洗浄したポリアリルカーボネートレンズ基体(商
品名、(3R−59レンズ)を真空蒸着槽内にセットし
、該蒸着槽内ktずI X 10−@〒orr tで
排気し九0次いでレンズ基体を約100℃に加熱しつつ
以下の蒸着を順次行なった。はじめに、蒸着槽の真空&
を2 X 10−1〒err K調整し良後、レンズ
基体表面に酸化アル1=ウムを3ム/a・oOO着速度
で蒸着し。Implementation fi4: Set the cleaned polyallyl carbonate lens substrate (trade name, (3R-59 lens) in a vacuum evaporation tank, and evacuate the evaporation tank at 90°C. The following vapor deposition was performed in sequence while heating the lens substrate to approximately 100°C.First, the vacuum &
After adjusting the temperature to 2 x 10-1 err K, 1=umium oxide was vapor-deposited on the surface of the lens substrate at a deposition rate of 3 μm/a·oOO.
sOOムの酸化アル電ニウム(ムJmOs)膜からなる
第1層を形成した0次いで真空gf4X10−1テor
r K再調整し友後、上記酸化アルミニウム膜上Ks
!化ジルコニウムをst/−・a(D蒸着速度で蒸着し
、5ioXo低屈折率酸化ジルコニウム(KrO@)膜
からなる第2層を形成し。A first layer consisting of an aluminum oxide (JmOs) film was formed using a vacuum gf4X10-1 teror.
After readjusting rK, Ks on the above aluminum oxide film
! A second layer consisting of a 5ioXo low refractive index zirconium oxide (KrO@) film was formed by depositing zirconium oxide at a deposition rate of st/-·a (D).
続いて同じ真空fO4xto−s テ◎rr pcおい
て、上記低側折率酸化ジルコニウム膜上に酸化ジル:I
aウムt8ム/−・alD蒸着速度で蒸着しムO高屈折
率酸化ジルコニウム(Zr01)膜からなる第1層を形
成しえ1次いで蒸着槽の真空度kyx1e−″テorr
K再調整し良後上記高屈折率酸化ジルコニウム膜上に
酸化ケイ素をzoX/−・(10,II着速度で蒸着し
、?10XO酸化ケイ素からなる第4層を形成しえ。Subsequently, under the same vacuum fO4xto-ste◎rr pc, zir oxide: I
A first layer consisting of a high refractive index zirconium oxide (Zr01) film is formed by evaporating at a deposition rate of aumt8m/-.AlD.
After the K is readjusted, silicon oxide is deposited on the high refractive index zirconium oxide film at a deposition rate of zoX/-(10,II) to form a fourth layer of ?10XO silicon oxide.
ζ(IIIKして蒸着されえ各層についてそれ(れ屈折
率をアペレス法により測定し九ところ。The refractive index of each layer was measured by the Apelles method.
第1層の酸化アル(=ラム膜O屈折率はt6sであ)、
第2層の低屈折率酸化ジルコニウム膜Oj1折率はtt
ssであ〉、第5層O高屈折率酸化ジルプニウム膜の屈
折率は2.0sでTob。The first layer of aluminum oxide (=Lamb film O refractive index is t6s),
The second layer low refractive index zirconium oxide film Oj1 has a refractive index of tt
ss>, and the refractive index of the fifth layer O high refractive index Zirpnium oxide film is 2.0s and Tob.
fs4層の酸化ケイ素膜の屈折率は1.44であつた。The refractive index of the fs4 silicon oxide film was 1.44.
又こO反射防止膜O反射色調はアンバー色を呈し、この
反射防止膜の反射特性t−im定しえ結果は、鎖S図の
1線すに示した様になつ九。In addition, the reflection color tone of this anti-reflection film is amber, and the results of determining the reflection characteristics t-im of this anti-reflection film are as shown in the first line of the chain diagram.
又この反射防止膜の反射色調@OXX座標に示すと、第
6図OD点で示され、アンバー色系の範囲を示す斜線領
域rの中に位置していることが認められる。Also, when the reflected color tone of this anti-reflection film is shown in the OXX coordinates, it is shown as the OD point in FIG. 6, and it is recognized that it is located in the diagonally shaded area r indicating the amber color range.
以上O実施例での各層0@t)形成には、真空蒸着法を
用い九が、かかる膜の形成にはこれに限定される事なく
、スパッター法、化学蒸着8k、イオンプレーテインダ
法等の各種;−テインダ法も同様に使用できることは勿
論である。The vacuum evaporation method was used to form each layer in the above embodiments, but the method for forming such a film is not limited to this, but may include sputtering, chemical vapor deposition, ion plate tinder method, etc. It is of course possible to use various types of; - Tainder methods as well.
以上のIIK、本発明によれば、第1〜4層O屈折率、
光学膜厚を前述した様な所定範囲とすることによ〉、干
渉効果により可視域において高い反射防止効果が得られ
、かつアンバー色系の反射色調が得られることが認めら
れる。これは、特にメガ専用レンズとして適用した場合
反射防止性能及びファツジ璽ン性を兼ね四えておシ最適
である。IIK above, according to the present invention, the first to fourth layers O refractive index,
It is recognized that by setting the optical film thickness within the predetermined range as described above, a high antireflection effect can be obtained in the visible range due to the interference effect, and an amber-like reflective color tone can be obtained. This is particularly suitable for use as a lens exclusively for mega lenses, as it has both anti-reflection performance and anti-friction properties.
しかも1本発明の反射防止膜を構成する材質として酸化
ケイ素(atom) h酸化ジルコニウム(XrO朧)
、酸化アル建ニウム(ムhos )ある−はこれらを主
成分とする膜を用いれば、これらが機械的強度が高く、
又化学的安定性が高く。Moreover, the materials constituting the antireflection film of the present invention include silicon oxide (atom), zirconium oxide (XrOboro), and
, aluminum oxide (muhos) - If a film containing these as the main components is used, these will have high mechanical strength,
It also has high chemical stability.
耐久性にも優れているので、#にプラスチツタレンズO
反射防止膜として最適である。Because it has excellent durability, plastic ivy lens O is used for #.
Ideal as an anti-reflection film.
館1図は従来Oグリーン色系の反射色を有する1層反射
防止膜の形成された光学部品の横断面Ia、第1 Ml
@lは本発明04層反射防止膜O形成されえ光学部品O
横断面図、1第4. lli!は本発明04層反射防止
膜O形形成れ良党学部品の分光反射特性図、第6111
1は本発明044層反射防止膜形成された光学部品O反
射色調を示すC工1座標図である。
1・:透明基体、20:第1層、10:第2層、40:
第2層、zO:第4層、40:7ンf/関
、ぐh
才2TfA
Δ6
″f3関
L浪玉(ス〕
f4 rAFigure 1 shows cross sections Ia and 1Ml of an optical component on which a single-layer antireflection film having a conventional O-green reflective color is formed.
@l is the optical component O which can be formed with the present invention 04-layer anti-reflection film O
Cross section, 1st 4th. lli! 6111 is a spectral reflection characteristic diagram of a good optical component formed with O-type 04-layer anti-reflection coating of the present invention.
1 is a C-work 1 coordinate diagram showing the reflection color tone of an optical component on which the 044-layer antireflection film of the present invention is formed. 1.: Transparent substrate, 20: First layer, 10: Second layer, 40:
2nd layer, zO: 4th layer, 40:7nf/Seki, Guh Sai2TfA Δ6 ″f3 SekiL rogyoku (su) f4 rA
Claims (5)
−がt45≦−≦tist)第1層、m折率wstts
s≦b≦tysso第2層、屈折率−がlO1≦b≦1
O3O第1≦b≦折率−がt44≦−≦t4?tD第4
?tD成したととt特徴とする4層よシなるアンバー色
糸0灰射色を有する反射防止膜を設けた光学部品。(1) On a transparent substrate, a first layer with a refractive index of - t45≦-≦tist from the side of the transparent substrate, m refractive index wstts
s≦b≦tysso second layer, refractive index - is lO1≦b≦1
O3O 1st≦b≦refraction index - is t44≦-≦t4? tD 4th
? An optical component provided with an anti-reflection film having a four-layer amber color thread, 0 gray color, and a tD structure.
折率n がt490≦n、≦ts;asであることに特
徴とする特許請求の範囲第1項記載のアンバー色糸0灰
射色を有する反射防止膜を設は良党学部品。(2) Amber colored thread 0 according to claim 1, characterized in that the refractive index n of the transparent substrate forming the anti-reflection film (4 layers) satisfies t490≦n,≦ts;as. The anti-reflection film with gray color is installed by Ryoto Gaku Parts.
pm≦20≦a m S S pm であることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載のアは喪光学部品。(3) The main liquid length λ of the anti-reflection film consisting of 4 layers is *49S
pm≦20≦a m S S pm A is a mourning optical component according to claim 1.
−4≦1”2’lλ・ であることを特徴とする特許請
求O範囲第4項記載のア/ノ(−色事0屓射色を有する
反射防止膜を設は九光学部品。(4) Anti-reflection film consisting of 4 layers O first layer optical film 2.≦
An optical component according to claim 4, characterized in that -4≦1''2'lλ.
t450屈折率−を有する酸化アル之ニウム膜第2層が
t955≦−≦t!易SO屈折率−を有する低屈折率酸
化ジルコニウム膜、第1層が2.01≦−≦*oso屈
折率n。 を有する高屈折率酸化ジルプエウム膜、第4層が144
≦−≦’L4tt)屈折率114を有する酸化ケイ素膜
であることを特徴とする特許請求01!囲第1項記載O
アy ノ<−色糸の反射色を有する反射防止膜を設けた
光学部品。 〜!−pat)酸化ケイ素膜のアンダーコート膜、光学
膜厚−4が(1/4− S/12B )λ・≦−4≦(
1/4 + 5ハ28 ) J、の酸化アルミニウム膜
からなる第1層、光学膜厚−4が557128λ・≦−
〜≦17/1215λ・0低屈折率酸化ジ羨コニウム膜
からなる第!層、光学膜厚−4が25/12−λ@ ≦
k 4a ≦2”F/128λ@ 0 ”a II折率
酸化ジルコニウム膜からなる第5層、光学膜厚n4(1
4が(1/4−3/128 )λ・≦n4a4≦(1/
4 + S/12・)λ・ O酸化ケイ素膜よシなる第
4層を順次形成してなる仁とを特徴とする特許請求OS
g第1第1載記載Oアンバーの反射色を有する反射防止
膜を設けえ光学部品。(5) The first layer of the anti-reflection film consisting of four layers is t45≦−≦
The second layer of the aluminum oxide film having a refractive index of t450 is t955≦−≦t! A low refractive index zirconium oxide film having an easy SO refractive index -, the first layer having an oso refractive index of 2.01≦-≦*oso refractive index n. A high refractive index dillium oxide film with a fourth layer of 144
≦-≦'L4tt) Patent claim 01, characterized in that it is a silicon oxide film having a refractive index of 114! Enclosed in paragraph 1 O
An optical component provided with an anti-reflection film having a reflected color of ay<--colored thread. ~! -pat) Undercoat film of silicon oxide film, optical film thickness -4 is (1/4-S/12B)λ・≦-4≦(
1/4 + 5ha28) J, the first layer consisting of an aluminum oxide film, the optical thickness -4 is 557128λ≦-
〜≦17/1215λ・0 The first made of dienconium oxide film with low refractive index! layer, optical film thickness -4 is 25/12-λ@≦
k 4a ≦2”F/128λ@0”a II refractive index 5th layer made of zirconium oxide film, optical film thickness n4 (1
4 is (1/4-3/128)λ・≦n4a4≦(1/
4 + S/12・)λ・O silicon oxide film formed by sequentially forming a fourth layer.
g1 An optical component provided with an antireflection film having an amber reflective color as described in No. 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56102259A JPS585701A (en) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | Optical parts provided with antireflection film |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56102259A JPS585701A (en) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | Optical parts provided with antireflection film |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS585701A true JPS585701A (en) | 1983-01-13 |
Family
ID=14322588
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56102259A Pending JPS585701A (en) | 1981-07-02 | 1981-07-02 | Optical parts provided with antireflection film |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS585701A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2540254A1 (en) * | 1983-01-28 | 1984-08-03 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | PROCESS FOR THE PRODUCTION OF OPTICAL ELEMENTS WITH INTERFERENTIAL LAYERS |
US7453190B2 (en) | 2002-02-22 | 2008-11-18 | Koninklijke Philips Electronics | Electric lamp with absorbing and interference media |
-
1981
- 1981-07-02 JP JP56102259A patent/JPS585701A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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FR2540254A1 (en) * | 1983-01-28 | 1984-08-03 | Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg | PROCESS FOR THE PRODUCTION OF OPTICAL ELEMENTS WITH INTERFERENTIAL LAYERS |
US7453190B2 (en) | 2002-02-22 | 2008-11-18 | Koninklijke Philips Electronics | Electric lamp with absorbing and interference media |
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