JPS5854880B2 - 最終沈殿槽の改良方法 - Google Patents

最終沈殿槽の改良方法

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JPS5854880B2
JPS5854880B2 JP55076800A JP7680080A JPS5854880B2 JP S5854880 B2 JPS5854880 B2 JP S5854880B2 JP 55076800 A JP55076800 A JP 55076800A JP 7680080 A JP7680080 A JP 7680080A JP S5854880 B2 JPS5854880 B2 JP S5854880B2
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JP
Japan
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liquid
tank body
pipe
bubbler
chamber
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JP55076800A
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亘 伊藤
直毅 根岸
孝章 田村
留好 尾沢
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KOGYO KAIHATSU KENKYUSHO KK
Original Assignee
KOGYO KAIHATSU KENKYUSHO KK
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W10/00Technologies for wastewater treatment
    • Y02W10/10Biological treatment of water, waste water, or sewage

Landscapes

  • Activated Sludge Processes (AREA)
  • Aeration Devices For Treatment Of Activated Polluted Sludge (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、活性汚泥法にもとづいて汚水を浄化する汚
水浄化装置の最終沈殿槽を改良する方法に関するもので
ある。
最終沈殿槽の機能は、前段のばつ気槽ではつ気された液
体を滞留させることによってこの液体に含まれている活
性汚泥を沈降分離させることで、沈降した活性汚泥は、
一部をばつ気槽に返送し、残りを余剰汚泥として排出す
るために槽本体から取出され、また上澄液はせきからの
オーバーフローによって槽本体から放出される。
すなわち従来の汚泥浄化装置では、ばつ気および沈殿は
それぞれ別個の槽で行われる。
このため装置が大形になるほか、汚泥返送のために複雑
な機構が必要となるなどの欠点があった。
この発明は、既存の最終沈殿槽を改造して、この沈殿槽
だけでばつ気と活性汚泥の沈降分離を行うことができる
ように改良する方法を提供することを目的としている。
つぎにこの発明の一実施例について図面を参照して説明
する。
第1図および第2図において符号1は、通常の汚水浄化
装置の一要素として設けられた既存の最終沈殿槽の槽本
体を示す。
この槽本体1には、前段のばつ気槽(図示せず)でばつ
気され、もしくはばつ気されていない液体が供給され、
新たな液体の供給量に応じて、上澄液がせき2をオーバ
ーフローして通路から放出されるようになっている。
このような最終沈殿槽の改良は、槽本体1内に酸素供給
装置3を新たに付設するとともに、槽本体1内に汚水を
供給する機構を設けることによって行われる。
この酸素供給装置は、槽本体1内の液面に沿って延びる
ように、そして一部が液面下に位置するように配置され
たダクト4を有し、このダクト4に、バブラー5と、一
対のセトラー6とを1組とする複数組の酸素溶解機構が
設けられている。
またダクト4には、液面下に位置する部分において多数
の取入口41が形成され、この取入口41を介して液体
かダクト4内に流入する。
なお符号7はダクト4を所定の位置に保持するためのビ
ームを示す。
第3図に詳細に示すように、ダクト4の内部は隔壁42
によって上下の室43.44に分離され、上記の取入口
41は下方の室44を外部に連通させている。
バブラー5は、ダクト4を上下方向に貫通するほぼ垂直
に配置された円筒状の外筒51と、その内部に同心的に
挿入された内筒52およびガス供給管53とを備えてい
る。
外筒51は、内筒52との間に、隔壁42と同じ高さの
板54で閉じられた環状の室55を形成し、この室55
の上端部は、外筒51に形成された流入口56を介して
、ダクト4の下方の室44に連通している。
そしてこの室55は、内筒52の下端部に形成された連
通口57を介して内筒52の内部にも連通している。
また内筒52の上端は、ダクト4の上方の室43内に開
口している。
これによって取入口41から、室44、流入口56、室
55、連通口57および内筒52を通って上方の室43
に連なる流通路か形成される。
さらに内筒52の底部には、ガス供給管53に連なる散
気管58が配置されている。
この散気管58は、供給源からガス供給管53を介して
供給された高濃度酸素ガス(これは空気の酸素よりも高
い濃度で酸素を含有するガスを意味する)を、内筒52
内に存在する液体中に細かい気泡の形態で吹込むための
ものである。
一方、セトラー6は、上端部に円錐部61を有するパイ
プ状のもので、円錐部61で隔壁42に形成された開口
45を介して上方の室43に連通しているとともに、下
端に設けられた水平に延ひる指向管62を介して槽本体
1の底部に連通している。
このように構成された酸素供給装置3において、槽本体
1内の液体の一部は、取入口41を通ってダクト4の下
方の室44内に取入れられたのち、流入口56から室5
5に入り、ついで連通口57から内筒52に入る。
散気管58から吹込まれた高濃度酸素ガスは、この内筒
52内に存在する液体中に小気泡の形態で分散され、そ
の中に効果的に吸収されると同時に、この液体に湧昇力
を与える。
この湧昇力によって、液体は内筒52内を上昇し、その
上端をオーバーフローして、ダクト4の上方の室43に
流入する。
ついでこの液体は、隔壁42上をダクト4の長さ方向に
流れ、開口45からセトラー6内に流入する。
そしてこの間に、液体に含まれている気泡の分離が行わ
れ、ついで液体が指向管62から槽本体1に戻される。
すなわち槽本体1内の液体は、取入口41から入り、上
記の流通路を通ったのちに指向管62から槽本体1内に
戻る間に、散気管58から吹込まれた酸素ガスを吸収す
る。
したがってこの液体が槽本体1内の液体と混合されたと
き、この液体が含有している活性汚泥に酸素を供給し、
BOD物質を生物学的に酸化させる作用を促進する。
そして同様の作用は、共通のダクト4に設けられている
すべてのバブラー5およびセトラー6においても行われ
る。
液体から分離したガスは、そのまま大気中に放出しても
よいか、その一部もしくは大部分をガス供給管53に供
給される高濃度酸素ガスに混合して再使用するのか好ま
しい。
以上の動作により、槽本体1内の液体は効果的にばつ気
されるが、槽本体1内では液体はゆるやかに流動するだ
けであるので、ばつ気中であっても、液体に含まれてい
る活性汚泥は槽本体1の底部に向かって沈降し、上層に
は上澄液か分離する。
すなわちこの発明にしたかって改良された最終沈殿槽で
は、槽本体1内において、ばつ気および活性汚泥の沈降
分離が併行して行われる。
したがって前段のばつ気槽を省略することか可能であり
、また面倒な管理を必要とする活性汚泥の返送が不要に
なる。
なお複数のバブラー5のすべてに高濃度酸素ガスを供給
してもよいか、バブラー5とセトラー6を各組に分離す
るとともに、いくつかのバブラー5には高濃度酸素ガス
を供給し、他のバブラー5には空気を供給してもよい。
酸素供給装置3は、第1図から第3図に示したものに限
らず、槽本体1内の液体の一部を取出してこれに高濃度
酸素ガスを接触させることによって酸素を吸収させ、こ
の酸素に富んだ液体を槽本体1内に戻す機能を有するも
のであれは、どのような形態Φものでも使用できる。
たとえば第4図に示す酸素供給装置3は、はぼ鉛直に配
置された1本のパイプ状のセトラー111と、2本のバ
ブラー112とを有している。
各バブラー112は、両端が閉じたパイプ状をなし、連
通管113を介してセトラー111と連通しているとと
もに、その下端部から複数本(この例では4本)の吸込
管114が放射方向に斜め上方に延ひている。
また処理すべき液体を導入するための流入管115の先
端かバブラー112の下端部に接続されている。
さらに各バブラー112内の下端部には、その頂壁を貫
通して下方に延びるパイプ116の先端に取付けた散気
管117が配置されている。
この散気管117は、バブラー112内の液体中に、パ
イプ116から供給された高濃度酸素ガスを吹込むため
のもので、液体中に吹込まれたガスは、気泡となって上
昇する間に、この液体に酸素を供給し、同時にこの液体
にバブラー112内を上昇するような湧昇力を与える。
前述のようにバブラー112の内部は連通管113を介
してセトラー111の内部に連通している。
また槽本体1内の液面は、せき2によって一定の高さに
保持され、そして連通管113の内底面の高さはこの液
面とほぼ一致するように設定されている。
したかってバブラー112内の液体は、気泡の湧昇力の
作用を受けて連通管113の内底面よりも高い位置まで
上昇し、この頭蓋によって連通管113を通ってセトラ
ー111内に流入する。
ついでこの液体は、セトラー111内を徐々に下降して
、その下端の開口から槽本体1内に入り、この間に、液
体中に混在している気泡は液体から分離し、セトラー1
11内の頂部に集まる。
高濃度酸素ガスは、まずセトラー111内にその頂部に
設けた供給口120から供給され、ついで出口121か
ら、図示しないパイプを経てブロワ−の作用でパイプ1
16に圧送される。
またバブラー112内で液体から分離したガスは出口1
22から取出され、外部に放出されるか、あるいは一部
が循環使用される。
第4図の1組を複数組設置した場合、そのいくつかに空
気を供給するときには、パイプ116に直接に空気を圧
送すれはよい。
なお符号118で示す棒状の攪拌体を有する撹拌機11
9は、槽本体1の底部に汚泥が沈積するのを防止するよ
うに働く。
さらに第5図に示す他の酸素供給装置3は、同軸的に配
置された3つの筒体131 、132.133を有し、
その各々の内部に、1次はつ気室134、セトラー13
5および2次はつ気室136が形成されている。
1次はつ気室134は、その底部で槽本体1内に連通ず
るとともに、筒体131の上端部に設けた孔を介してセ
トラー135に連通している。
また第2はつ気室136は、その底部でセトラー135
に、そして頂部で槽本体1の内部に連通している。
さらに1次ばつ気室134および2次ばつ気室136の
各々の底部にはそれぞれディフューザ13γ、138が
配置されている。
ディフューザ137は、1次ばつ気室134内の液体中
に、供給パイプ139を経て供給された空気を吹込むた
めに設けられており、またディフューザ138は、2次
ばつ気室136内の液体中に、供給パイプ140からの
高濃度酸素ガスを吹込むように働く。
したがって槽本体1内の液体は、第1ばつ気室134内
を上昇する過程でこれに吹込まれた空気と接触し、つい
でセトラー135内を下向きに流れ、さらに第2はつ気
室136で高濃度酸素ガスと接触したのち槽本体1に戻
るという経路で循環する。
この場合にも、循環する液体によって運はれた酸素が、
槽本体1内の液体に効率よく供給され、前記と同様のば
つ気および活性汚泥の沈殿分離か行われることが明らか
であろう。
また第6図に示した例は、供給パイプ139から高濃度
酸素ガスが、また供給パイプ140から空気を供給する
ように槽底した以外は、第5図に示した酸素供給装置3
と実質的に同一である。
この場合にも、高濃度酸素ガスによる1次はつ気と、空
気による2次ばつ気とによって液体中に酸素を有効に吸
収させることができ、この酸素に富んだ液体が槽本体1
内に静かに流入する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明方法にしたがって改良された最終沈殿
槽の平面図、第2図は第1図のA−A線における断面図
、第3図は第1図および第2図の例に用いられた酸素供
給装置の一部切欠側面図、第4図は他の酸素供給装置の
一部縦断側面図、第5図および第6図はそれぞれ他の酸
素供給装置を示す概略的縦断面図である。 1・・・・・・槽本体、2・・・・・・せき、3・・・
・・・酸素供給装置、4・・・・・・ダクト、5・・・
・・・バブラー、6・・・・・・セトラー、41・・・
・・・取入口、42・・・・・・隔壁、58・・・・・
・散気管、111・・・・・・セトラー 112・・・
・・・パブラ、113・・・・・・連通管、114・・
・・・・吸込管、115・・・・・・流入管、117・
・・・・・散気管、118・・・・・・攪拌体、134
・・・・・・第1ばつ気室、135・・・・・・セトラ
136・・・・・・第2ばつ気室、 137゜ 138・・・ ・・・テ゛イフユーザ°。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 はつ気槽でばつ気された液体を滞留させることによ
    り、上記液体中に含まれている活性汚泥を沈殿分離し、
    上澄液をオーバーフローさせるための最終沈殿槽の槽本
    体の内部に、上記槽本体内の液体の一部を取出してバブ
    ラー内に導き、このバブラーの底部から上記液体中に高
    濃度酸素ガスを吹込むことによって、上記液体中に酸素
    を溶解させるとともに湧昇力を与え、ついでこの液体を
    上記バブラーの上端からセトラー内に導いて液体に含ま
    れている気泡を分離したのち上記槽本体に戻す酸素供給
    装置を付設することを特徴とする最終沈殿槽の改良方法
JP55076800A 1980-06-06 1980-06-06 最終沈殿槽の改良方法 Expired JPS5854880B2 (ja)

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JPS574294A JPS574294A (en) 1982-01-09
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS49102150A (ja) * 1973-02-02 1974-09-26
JPS5121350A (ja) * 1974-08-14 1976-02-20 Suzuki Yasuo
JPS5143846A (ja) * 1974-10-09 1976-04-14 Ebara Infilco

Patent Citations (3)

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