JPS5853644B2 - Photocurable heat-resistant resin composition - Google Patents

Photocurable heat-resistant resin composition

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JPS5853644B2
JPS5853644B2 JP6340479A JP6340479A JPS5853644B2 JP S5853644 B2 JPS5853644 B2 JP S5853644B2 JP 6340479 A JP6340479 A JP 6340479A JP 6340479 A JP6340479 A JP 6340479A JP S5853644 B2 JPS5853644 B2 JP S5853644B2
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JP
Japan
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acid
resin composition
unsaturated
epoxy
necessary
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JP6340479A
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俊行 菅野
康弘 鈴木
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光照射によって硬化する耐熱性不飽和ポリエス
テル樹脂組成物に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a heat-resistant unsaturated polyester resin composition that is cured by light irradiation.

さらに詳しくはオキサゾリドン環、イソシアヌレートi
、エステル結合および重合性不飽和基を有する重合体に
増感剤および必要に応じて重合性モノマを添加した樹脂
組成物に係る。
More details: oxazolidone ring, isocyanurate i
, relates to a resin composition in which a sensitizer and, if necessary, a polymerizable monomer are added to a polymer having an ester bond and a polymerizable unsaturated group.

可視光から紫外光の範囲の光線を照射することによって
容易に硬化する光硬化型樹脂組成物として、不飽和塩基
酸と多価アルコールを反応した重合体に増感剤および必
要に応じて重合性モノマーを添加した不飽和ポリエステ
ル系樹脂組成物はすでに知られている。
As a photocurable resin composition that can be easily cured by irradiation with light in the range of visible light to ultraviolet light, it is a polymer made by reacting an unsaturated basic acid with a polyhydric alcohol, a sensitizer and, if necessary, a polymerizable resin composition. Unsaturated polyester resin compositions to which monomers have been added are already known.

しかしながら、この不飽和ポリエステル系樹脂組成物を
光照射させてなる硬化被膜は耐薬品性、耐溶剤性、強度
および耐熱性などが満足できるものではなかった。
However, the cured film formed by irradiating this unsaturated polyester resin composition with light was not satisfactory in chemical resistance, solvent resistance, strength, heat resistance, etc.

またこれらの欠点を改良するためにエポキシ化合物と不
飽和−塩基酸とを反応した重合体に増感剤および必要に
応じて重合性モノマーを添加したエポキシ変性不飽和ポ
リエステル系樹脂組成物もすでに知られているが、この
樹脂組成物を光照射させてなる硬化被膜は、耐薬品性、
耐溶剤性、強度は優れているが、耐熱性、特に熱軟化温
度(Tg)、高温強度、などが満足できないという問題
がありその改良が望まれている。
Furthermore, in order to improve these drawbacks, epoxy-modified unsaturated polyester resin compositions are already known, which are made by adding a sensitizer and, if necessary, a polymerizable monomer to a polymer obtained by reacting an epoxy compound with an unsaturated basic acid. However, the cured film obtained by irradiating this resin composition with light has chemical resistance,
Although it has excellent solvent resistance and strength, it has the problem of unsatisfactory heat resistance, particularly heat softening temperature (Tg), high temperature strength, etc., and improvements are desired.

本発明者はこれらの欠点を改良した、光硬化型樹脂組成
物を得る目的で鋭意研究した結果、エポキシ樹脂とイソ
シアネート化合物をヘテロ項形成触媒存在下で反応させ
た、オキサゾリドン環およびイソシアヌレートiを有す
る分子末端エポキシ基の生成物に不飽和−塩基酸をエス
テル化させた重合体に光増感剤および必要に応じ重合性
モノマーを配合したことを特徴とする樹脂組成物は、容
易に叙上の目的を達成しうるものであるという新たな事
実を見い出し、本発明を完成するに至った。
As a result of intensive research aimed at obtaining a photocurable resin composition that improves these drawbacks, the present inventor has developed an oxazolidone ring and isocyanurate i obtained by reacting an epoxy resin and an isocyanate compound in the presence of a heteroterminal-forming catalyst. A resin composition characterized by blending a photosensitizer and, if necessary, a polymerizable monomer with a polymer obtained by esterifying an unsaturated basic acid with a product having a molecular terminal epoxy group, is easily described. The present inventors have discovered a new fact that the object of the present invention can be achieved, and have completed the present invention.

従って、本発明は可視光から紫外光の範囲の光を照射す
ることによって容易に硬化し、その硬化被膜は耐薬品性
、耐溶剤性、耐熱性を備えたものであって、塗料用、印
刷素材用、強化プラスチック、特に耐熱性が要求される
電気絶縁素材用に有用な、光硬化型樹脂組成物を提供す
ることにある。
Therefore, the present invention is easily cured by irradiation with light in the range of visible light to ultraviolet light, and the cured film has chemical resistance, solvent resistance, and heat resistance, and is suitable for use in paints, printing, etc. It is an object of the present invention to provide a photocurable resin composition useful for materials, reinforced plastics, and especially electrical insulation materials that require heat resistance.

本発明に係る光硬化型不飽和ポリエステル樹脂組成物は
、次の様にして得ることができる。
The photocurable unsaturated polyester resin composition according to the present invention can be obtained as follows.

イソシアネート化合物1当量に対して、エポキシ化合物
1〜5当量をヘテロ環生成触媒下で反応させて得られる
オキサゾリドン環とイソシアヌレート環をもつ分子末端
エポキシ樹脂に不飽和−塩基酸とを、あるいは不飽和−
塩基酸の一部または大部分を不飽和多塩基酸、無水不飽
和多塩基酸の中から選ばれた1種又はそれ以上と置換し
たものとをエステル化反応触媒、必要に応じて重合防止
剤、溶剤あるいはモノマーの存在下で加熱反応し、その
後必要に応じて溶剤あるいはモノマーを加えて合成され
る。
An unsaturated-basic acid is added to a molecular terminal epoxy resin having an oxazolidone ring and an isocyanurate ring obtained by reacting 1 to 5 equivalents of an epoxy compound with 1 equivalent of an isocyanate compound under a heterocycle-forming catalyst. −
An esterification reaction catalyst in which a part or most of the basic acid is replaced with one or more selected from unsaturated polybasic acids and anhydrous unsaturated polybasic acids, and if necessary a polymerization inhibitor. , a heating reaction is carried out in the presence of a solvent or monomer, and then a solvent or monomer is added as necessary to synthesize the compound.

ここで合成された樹脂組成物に光硬化反応を誘起する光
増感剤を添加することによって光硬化型不飽和ポリエス
テル樹脂組成物が得られる。
A photocurable unsaturated polyester resin composition is obtained by adding a photosensitizer that induces a photocuring reaction to the resin composition synthesized here.

これらを合成する時のオキサゾリドン環とイソシアヌレ
ート環とを有する分子末端エポキシ樹脂のエポキシ基と
、酸との反応比は、酸の合計カルボキシル基1モルに対
しエポキシ基が1モル(等当量)となる量である。
When synthesizing these, the reaction ratio between the epoxy group of the molecular terminal epoxy resin having an oxazolidone ring and an isocyanurate ring and the acid is 1 mole (equivalent) of the epoxy group per 1 mole of the total carboxyl groups of the acid. This is the amount.

その他重合防止剤、溶剤あるいは重合性モノマーの使用
量は、要求させる硬化性、作業性、性能等によって変化
させることができる。
The amount of other polymerization inhibitors, solvents, or polymerizable monomers used can be changed depending on the required curability, workability, performance, etc.

本発明に使用できるインシアネート化合物としては、一
般にポリウレタン製造用として使用されているようなも
のであって、例えば、2,4−トリレンジイソシアネー
ト、2,6−ドリレンジイソシアネイト、メチレンビス
(フェニルイソシアネート)、ジアニシジンジイソシア
ネート、トルイジンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、■、4−ジエチルベンゼンーβ−β
l−ジイソシアネートなどがある。
Incyanate compounds that can be used in the present invention include those generally used for producing polyurethane, such as 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, methylene bis(phenylisocyanate), ), dianisidine diisocyanate, toluidine diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, ■, 4-diethylbenzene β-β
Examples include l-diisocyanate.

本発明に使用できるエポキシ樹脂としては、エピクロル
ヒドリンあるいはβ−メチルエピクロルビドリンと2価
フェノール類との反応生成物であるビスフェノールジグ
リシジルエーテル型の他に、グリシジルエステル型、脂
環式エポキシなどがある。
Epoxy resins that can be used in the present invention include bisphenol diglycidyl ether type, which is a reaction product of epichlorohydrin or β-methylepichlorobidrin and dihydric phenols, as well as glycidyl ester type and alicyclic epoxy. be.

上記の2価フェノール類とは、2,2′−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)フロパン、4 、4’−ジヒドロキ
シフェニルメタン、1,1ビス(4ヒドロキシフエニル
)エタン、2,2′−ビス(4ヒドロキシフエニル)ブ
タン、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロ
ヘキサン、4゜4′−ジヒドロキシジフェニル、レゾル
シンなどである。
The above dihydric phenols include 2,2'-bis(4-hydroxyphenyl)furopane, 4,4'-dihydroxyphenylmethane, 1,1bis(4hydroxyphenyl)ethane, and 2,2'-bis(4-hydroxyphenyl)ethane. (4-hydroxyphenyl)butane, 1,1-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexane, 4°4'-dihydroxydiphenyl, resorcinol, and the like.

前記エポキシ樹脂とインシアネート化合物との反応割合
は通常インシアネート1当量に対し、エポキシ1〜5当
量であるが、生成樹脂の可撓性、軟化温度を考慮すると
エポキシ2〜3当量が好ましい。
The reaction ratio of the epoxy resin and incyanate compound is usually 1 to 5 equivalents of epoxy to 1 equivalent of incyanate, but preferably 2 to 3 equivalents of epoxy in consideration of the flexibility and softening temperature of the resulting resin.

使用されるヘテロ環形成触媒としては、任意のものを使
用することができる。
Any heterocycle-forming catalyst can be used.

例えば、塩化アルミニウム、塩化鉄、塩化リチウムのよ
うなリチウム化合物、テトラエチルアンモニウムプロミ
ド、テトラメチルアンモニウムアイオダイド、テトラエ
チルアンモニウムアイオダイドのような第4級アンモニ
ウムハライド、周期律表第2族Aおよび第3族Bの金属
化合物のアルコキシドおよびフェノキシト、アルミニウ
ムフェノキシト、カルシウムエトキシド、マグネシウム
エトキシドなど、およびこれらの混合物を挙げることが
できる。
For example, lithium compounds such as aluminum chloride, iron chloride, lithium chloride, quaternary ammonium halides such as tetraethylammonium bromide, tetramethylammonium iodide, tetraethylammonium iodide, groups 2 A and 3 of the periodic table. Mention may be made of alkoxides and phenoxides of metal compounds of group B, aluminum phenoxide, calcium ethoxide, magnesium ethoxide, etc., and mixtures thereof.

これらの触媒の使用量は樹脂分に対して0.5〜1重量
重量室ましい。
The amount of these catalysts used is preferably 0.5 to 1% by weight based on the resin content.

また4級アンモニウムハライドはオキサゾリドンおよび
イソシアヌレート環の形成触媒であるとともに、エステ
ル結合の形成触媒になるので好ましい 本発明に使用できる重合あるいは共重合可能な不飽和結
合を持った不飽和−塩基酸としては、アクリル酸、メク
クリル酸、ソルビン酸、ケイ皮酸が一般的であり、本発
明の目的には充分である。
In addition, quaternary ammonium halide is a catalyst for the formation of oxazolidone and isocyanurate rings as well as an ester bond, so it can be used as an unsaturated basic acid having a polymerizable or copolymerizable unsaturated bond that can be preferably used in the present invention. Generally, acrylic acid, meccrylic acid, sorbic acid, and cinnamic acid are sufficient for the purpose of the present invention.

この他、不飽和多塩基酸のモノエステル類も使用できる
In addition, monoesters of unsaturated polybasic acids can also be used.

例えばマレイン酸のモノエチルエステルなどがある。For example, monoethyl ester of maleic acid.

上記した不飽和−塩基酸と不飽和多塩基酸のモノエステ
ル類の併用もできる。
A combination of monoesters of the above-mentioned unsaturated basic acids and unsaturated polybasic acids can also be used.

また本発明に用い得る不飽和多塩基酸、無水不飽和多塩
基酸としてマレイン酸、無水マレイン酸、フマール酸、
イタコン酸等があげられこの中から選ばれた1種または
、それ以上を使用することもできる。
Further, unsaturated polybasic acids and anhydrous unsaturated polybasic acids that can be used in the present invention include maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid,
Itaconic acid and the like can be mentioned, and one or more selected from these can also be used.

また本発明に用い得るエステル化反応触媒としては、前
記の第4級アンモニウムハライド、リチウム化合物のほ
か、第1級、2級、3級のアミン類あるいはそれらの無
機酸あるいは有機酸塩類がある。
Esterification reaction catalysts that can be used in the present invention include, in addition to the above-mentioned quaternary ammonium halides and lithium compounds, primary, secondary, and tertiary amines, and their inorganic acids and organic acid salts.

これらの触媒の使用量は樹脂分に対して0.01〜2重
量φが望ましい。
The amount of these catalysts used is preferably 0.01 to 2 weight φ based on the resin content.

また本発明で反応中のゲル化を防止するためにフェノー
ル類、キノン類、その他重合防止効果のある化合物を重
合防止剤として必要に応じて使用することができ更に反
応後にも添加できる。
Furthermore, in the present invention, in order to prevent gelation during the reaction, phenols, quinones, and other compounds having a polymerization-inhibiting effect can be used as polymerization inhibitors, if necessary, and can also be added after the reaction.

これらの重合防止剤としては、例えばヒドロキノン、ビ
トロキノンモノメチルエーテル、ベンゾキノンフェノチ
アジン、チオセミカルバジット、アセトンチオカルバゾ
ン、銅塩等を挙げることができる本発明に用いる溶剤と
しては、例えばキシレントルエン、ジオキサン、クレゾ
ール、ジメチルホルムアミド、シクロヘキサノン、メチ
ルエチルケトン、ジプロピルケトン、シカルビトール、
酢酸セロソルブなどから選ばれた1種またはそれ以上を
併用して用いることもできる。
Examples of these polymerization inhibitors include hydroquinone, vitroquinone monomethyl ether, benzoquinone phenothiazine, thiosemicarbasite, acetone thiocarbazone, and copper salts.As the solvent used in the present invention, examples include xylene toluene and dioxane. , cresol, dimethylformamide, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, dipropyl ketone, cicarbitol,
One or more selected from cellosolve acetate and the like can also be used in combination.

本発明に用い得る重合性モノマーとしては、例えばアク
リル酸エステル、メタクリル酸エステルスチレン、ジビ
ニルベンゼン、ビニルトルエン、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、シクロペンタジェン、ビニルピリジ
ン、ジアリルツクレート・ ジアリルイソフタレート、
トリアリルイソシアヌレート、酢酸ビニル、ビニルピロ
リドン等を使用できるが用いる時はこの中から選ばれた
1種またはそれ以上を併用することもできる。
Examples of polymerizable monomers that can be used in the present invention include acrylic esters, styrene methacrylates, divinylbenzene, vinyltoluene, acrylonitrile, methacrylonitrile, cyclopentadiene, vinylpyridine, diallyl tucrate/diallylisophthalate,
Triallylisocyanurate, vinyl acetate, vinylpyrrolidone, etc. can be used, and when used, one or more selected from these can also be used in combination.

更に本発明に用い得る光増感剤としては、カルボニル化
合物類、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテ
ル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピ
ルエーテル、ベンジリデンアセトン、ベンゾイルアセト
ン、ベンゾフェノン。
Further photosensitizers that can be used in the present invention include carbonyl compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzylidene acetone, benzoylacetone, and benzophenone.

ペンザンスロン、ベンツアルデヒド、ペンチル、フエナ
スラキノン、アスコルビン酸などまた、窒素誘導体類、
例えばジアゾメタン、アゾビスイソブチルロニトリル、
アゾビスシクロヘキサンカルボニトリル、ヒドラジン、
フェニルヒドラジン、ヒドラベンゼン、フェニルヒドラ
ジン塩酸塩、トリエタノールアミン等また、イオウ誘導
体類、例えばベンゼンスルフオン酸ナトリウム、5−サ
リシルスルフオン酸、バラアセトアマイドベンゼンスル
フォン酸、パラトルエンスルフオン酸ナトリウム、ジフ
ェニルジサルファイド等、またハロゲン及びその誘導体
類、例えばα−クロロメチルナフタリン、フエナシルハ
ロゲニド等また無機系錯塩類、例えばコバルト蓚酸塩の
複合体など、更にウラニル塩類、例えば硝酸ウラニル等
、また色素類、例えばメチレンブルー、トルイジンブル
ー0、アクリジンイエロー、チオニン、エオシン、ニュ
トラルレッド、ビクトリア青、ジエンチアナ紫、フルオ
レセイン、ローズベンガル、エロスロシン等、この他に
燐誘導体類、例えばトリフェニルホスフィン等、またチ
ーグラー系触媒、ジチオカルバメート類、ザンテート類
および以上にあげた化合物の同効物質などであって、こ
れらの中から選ばれた1種またはそれ以上でも使用でき
る。
Nitrogen derivatives such as penzanthrone, benzaldehyde, pentyl, fuenathraquinone, ascorbic acid, etc.
For example, diazomethane, azobisisobutyronitrile,
Azobiscyclohexanecarbonitrile, hydrazine,
Phenylhydrazine, hydrabenzene, phenylhydrazine hydrochloride, triethanolamine, etc. Also, sulfur derivatives such as sodium benzenesulfonate, 5-salicylsulfonic acid, paraacetamidobenzenesulfonic acid, sodium p-toluenesulfonate, Diphenyl disulfide, etc., halogens and their derivatives, such as α-chloromethylnaphthalene, phenacyl halide, etc., inorganic complex salts, such as cobalt oxalate complexes, uranyl salts, such as uranyl nitrate, and pigments. phosphorus derivatives, such as triphenylphosphine, and Ziegler series. Catalysts, dithiocarbamates, xanthates, and equivalent substances of the compounds mentioned above, and one or more selected from these can also be used.

光増感剤の合計使用量は不飽和ポリエステル樹脂に対し
、0.01重量φ以上で使用可能であるが、0.1〜5
重量係が良好である。
The total amount of photosensitizer used can be 0.01 weight φ or more based on the unsaturated polyester resin, but 0.1 to 5
Weight control is good.

ここで得られた光硬化型樹脂組成物は光照射によって硬
化するが硬化を一層促進するために有機金属塩および過
酸化物などを添加しておいてもさしつかえない。
The photocurable resin composition obtained here is cured by light irradiation, but organic metal salts, peroxides, and the like may be added to further promote curing.

上記した如く、本発明による光硬化型不飽和ポリエステ
ル樹脂組成物は、オキサゾリドン環、イソシアヌレート
環およびエポキシ骨格を有する不飽和ポリエステル樹脂
組成物と光増感剤とから成り、可視光から紫外光の範囲
の光線(光源として例えば太陽光、キセノンランプ、低
〜高圧水銀灯)を照射すると、光増感剤によって光硬化
反応が誘起されて、光硬化型樹脂組成物中の不飽和基相
互間の重合反応が進行し硬化に至った硬化被膜は、優れ
た耐薬品性、耐溶剤性、耐熱性を有する。
As described above, the photocurable unsaturated polyester resin composition according to the present invention is composed of an unsaturated polyester resin composition having an oxazolidone ring, an isocyanurate ring, and an epoxy skeleton, and a photosensitizer, and is capable of irradiating visible light to ultraviolet light. When irradiated with a range of light (such as sunlight, a xenon lamp, or a low- to high-pressure mercury lamp as a light source), a photocuring reaction is induced by the photosensitizer, resulting in polymerization between unsaturated groups in the photocurable resin composition. The cured film that has undergone the reaction and is cured has excellent chemical resistance, solvent resistance, and heat resistance.

本発明の光硬化型不飽和ポリエステル樹脂組成物は、光
照射により容易に硬化し、その硬化被膜は優れた耐薬品
性、耐溶剤性、耐熱性とくに高温強度、軟化温度が優れ
ているなどの特徴を有し、塗料、印刷素材用、強化プラ
スチックに有用なばかりでなく、特に耐熱性が要求され
る電気絶縁素材用として有益である。
The photocurable unsaturated polyester resin composition of the present invention is easily cured by light irradiation, and the cured film has excellent chemical resistance, solvent resistance, heat resistance, especially high temperature strength, and excellent softening temperature. It is useful not only for paints, printing materials, and reinforced plastics, but also for electrically insulating materials that require heat resistance.

本発明の理解を助けるため、以下に実施例を示すが、本
発明はこれによって制限されるものではない。
Examples are shown below to help understand the present invention, but the present invention is not limited thereto.

実施例 1 撹拌機、ガス導入管、温度計、冷却管を備えた四ツロフ
ラスコにエポキシ樹脂(シェル社製商品名エポン828
)381にジフェニルメタンジイソシアネート125g
、ヨウ化テトラエチルアンモニウム0.!Ill、ジメ
チルホルムアミド125gを入れ、窒素ガスを吹き込み
ながら135℃に昇温、2時間反応させる。
Example 1 Epoxy resin (trade name: Epon 828 manufactured by Shell Co., Ltd.
) 381 and 125 g of diphenylmethane diisocyanate.
, tetraethylammonium iodide 0. ! Add 125 g of dimethylformamide and raise the temperature to 135° C. while blowing nitrogen gas, and react for 2 hours.

この反応生成物のIR吸収スペクトルは2250CrI
l’のインシアネート基の特性吸収が消失し、1750
CIrL 1にオキサゾリドン環のカルボニルの伸縮振
動、1700α−1にイソシアネート環のカルボニルの
伸縮振動、3050.920.810゜1250CIr
L−1にエポキシ基の特性吸収が現れ、末端にエポキシ
基をもつオキサゾリドンイソシアネートが生成している
ことを確認した。
The IR absorption spectrum of this reaction product is 2250CrI
The characteristic absorption of the incyanate group of l' disappears, and 1750
CIrL 1 is the stretching vibration of the carbonyl of the oxazolidone ring, 1700α-1 is the stretching vibration of the carbonyl of the isocyanate ring, 3050.920.810°1250CIr
A characteristic absorption of the epoxy group appeared in L-1, and it was confirmed that oxazolidone isocyanate having an epoxy group at the end was produced.

この生成物の樹脂分のエポキシ当量を測定したところ、
エポキシ当量340であった。
When the epoxy equivalent of the resin component of this product was measured,
The epoxy equivalent was 340.

この樹脂溶液630gにメククリル酸13CBi’。13CBi' of meccrylic acid was added to 630 g of this resin solution.

塩化ベンジルトリエチルアンモニウム6gを入れ、13
5℃に昇温、2時間反応させたところ、酸価3の不飽和
ポリエステル溶液(4)を得た。
Add 6 g of benzyltriethylammonium chloride, 13
When the temperature was raised to 5°C and the reaction was carried out for 2 hours, an unsaturated polyester solution (4) with an acid value of 3 was obtained.

ここで得られた不飽和ポリエステル囚を用いて表1の如
く、光硬化型樹脂組成物を得た。
Using the unsaturated polyester obtained here, a photocurable resin composition as shown in Table 1 was obtained.

以上の各試料を亜鉛引鉄板上に厚さ約200μになるよ
うに塗布し、80℃、減圧下で溶剤を飛ばした後、2.
5KW水銀灯より20CIrLの距離において30秒間
光照射したところ耐薬品性、耐溶剤性の優れしかも表2
のような耐熱性(軟化温度、高温強度)の優れた硬化被
膜が得られた。
Each of the above samples was applied to a thickness of approximately 200 μm on a galvanized iron plate, and after removing the solvent at 80° C. under reduced pressure, 2.
When irradiated with light from a 5KW mercury lamp for 30 seconds at a distance of 20CIrL, it showed excellent chemical resistance and solvent resistance.
A cured film with excellent heat resistance (softening temperature, high temperature strength) was obtained.

なお試験には亜鉛用鉄板よりハクリした被膜を用いた。In addition, a coating peeled off from an iron plate for zinc was used in the test.

実施例 2 実施例1と同様のフラスコにエポキシ樹脂(ダウケミカ
ル社商品名DER332)400.9にジフェニルメタ
ンジイソシアネートを80g、臭化テトラエチルアンモ
ニウム0.5g、キシレン100gを入れ、140℃で
2時間反応させた。
Example 2 In a flask similar to Example 1, 80 g of diphenylmethane diisocyanate, 0.5 g of tetraethylammonium bromide, and 100 g of xylene were placed in 400.9 epoxy resin (Dow Chemical Co., Ltd. trade name DER332), and reacted at 140°C for 2 hours. Ta.

反応生成物の赤外線吸収スペクトルには、原料のインシ
アネートの吸収が消え、新たに1750cm−’。
In the infrared absorption spectrum of the reaction product, the absorption of incyanate as a raw material disappears and a new value of 1750 cm-' is observed.

1700crfL−1にオキサゾリドン、イソシアヌレ
ート環の吸収が現れた。
Absorption of oxazolidone and isocyanurate rings appeared at 1700crfL-1.

また3 350cm−ミ1250cm−! 920m
−j 820crn−’のエポキシ基の吸収は残存して
いた。
Also 3 350cm - Mi 1250cm -! 920m
-j 820crn-' epoxy group absorption remained.

この反応生成物の樹脂分のエポキシ当量を測定したとこ
ろエポキシ当量240であった。
The epoxy equivalent of the resin component of this reaction product was measured and found to be 240.

この樹脂溶液580gにアクリル酸85g、フマール酸
り1g1塩化リチウム1.2gを入れ、140℃で2時
間反応させたのち、減圧下でキシレンを飛ばして、酸価
5、常温で半固型状の不飽和ポリエステル(5)を得た
85 g of acrylic acid, 1 g of fumaric acid, and 1.2 g of lithium chloride were added to 580 g of this resin solution, and after reacting at 140°C for 2 hours, xylene was removed under reduced pressure to obtain a mixture with an acid value of 5 and a semi-solid state at room temperature. An unsaturated polyester (5) was obtained.

ここで得られた不飽和ポリエステル(B)を用いて表3
の如く、光硬化型樹脂組成物を調整した。
Using the unsaturated polyester (B) obtained here, Table 3
A photocurable resin composition was prepared as follows.

この各試料を亜鉛引鉄板上に厚さ約200μになるよう
に塗布し2.5KW水銀灯より15備の距離において3
0秒間照射したところ耐薬品性、耐溶剤性の優れた、し
かも表4のような耐熱性の良い強固な硬化被膜が得られ
た。
Each sample was coated on a galvanized iron plate to a thickness of about 200μ, and then placed at a distance of 15 meters from a 2.5KW mercury lamp.
When irradiated for 0 seconds, a strong cured film with excellent chemical resistance and solvent resistance, and also good heat resistance as shown in Table 4 was obtained.

なお試験は実施例1と同様におこなった。Note that the test was conducted in the same manner as in Example 1.

実施例 3 実施例1と同様のフラスコにエポキシ樹脂(シェル社製
商品塩エポン1001)481にトリレンジイソシアネ
ート87g、スチレン150g、ヨウ化テトラエチルア
ンモニウム6g、ハイドロキノン0.!l入れ120℃
で2時間反応した。
Example 3 In a flask similar to Example 1, 481 epoxy resin (salt Epon 1001 manufactured by Shell), 87 g of tolylene diisocyanate, 150 g of styrene, 6 g of tetraethylammonium iodide, and 0.0 g of hydroquinone were added. ! 120℃
It reacted for 2 hours.

反応生成物の赤外線吸収スペクトルはインシアネートの
吸収が消え、オキサゾリドン、インシアヌレート環の吸
収が現われ、またエポキシ基の吸収は残存していた。
In the infrared absorption spectrum of the reaction product, absorption of incyanate disappeared, absorption of oxazolidone and incyanurate rings appeared, and absorption of epoxy group remained.

またこの反応生成物のエポキシ当量は526であった。The epoxy equivalent of this reaction product was 526.

この反応生成物760gにメタクリル酸124g、塩化
ベンジルトリエチルアンモニウム8.8gを入れ1 ’
20℃で2時間反応して酸価3の不飽和ポリエステルを
得た。
Add 124 g of methacrylic acid and 8.8 g of benzyltriethylammonium chloride to 760 g of this reaction product, and add 1'
The reaction was carried out at 20° C. for 2 hours to obtain an unsaturated polyester having an acid value of 3.

この不飽和ポリエステル100部にベンゾインイソブチ
ルエーテル2部、過酸化ベンゾイル1部、ネオペンチル
グリコールジアノリレー120部配合して光硬化型不飽
和ポリエステル樹脂組成物を得た。
2 parts of benzoin isobutyl ether, 1 part of benzoyl peroxide, and 120 parts of neopentyl glycol dianorelay were added to 100 parts of this unsaturated polyester to obtain a photocurable unsaturated polyester resin composition.

この光硬化型樹脂組成物を亜鉛引鉄板上に厚さ約200
μになるように塗布し、3.OKWキセノンランプより
20cr/1.の距離において30秒間照射したところ
、耐薬品性、耐溶剤性の優れた強固な硬化被膜が得られ
た。
This photocurable resin composition was placed on a galvanized iron plate to a thickness of approximately 200 mm.
Apply it so that it becomes μ, 3. 20cr/1. from OKW xenon lamp. When irradiated for 30 seconds at a distance of , a strong cured film with excellent chemical resistance and solvent resistance was obtained.

この被膜の硬化温度は147℃、引ぼり強度は常温(2
5℃)で7.3 kg/mt?t、高温(125℃)で
6.4kg/−を示し、高温時でもほとんど強度低下は
見られなかった。
The curing temperature of this film is 147℃, and the draw strength is at room temperature (2
7.3 kg/mt at 5℃)? t, 6.4 kg/- at high temperature (125°C), and almost no decrease in strength was observed even at high temperature.

比較例 1 実施例1と同様のフラスコにエポキシ樹脂(シェル社製
商品名エポン828)380g、(シェル社製商品名エ
ポン101001)230メタクリル酸215.9.塩
化ベンジルl−IJエチルアンモニウム8.2g、ハイ
ドロキノン014gを入れ135℃で2時間反応させる
と酸価5となった。
Comparative Example 1 In a flask similar to Example 1, 380 g of epoxy resin (trade name Epon 828, manufactured by Shell), 230 g (trade name Epon 101001, manufactured by Shell), and 215.9 g of methacrylic acid. 8.2 g of benzyl l-IJ ethyl ammonium chloride and 014 g of hydroquinone were added and reacted at 135° C. for 2 hours, resulting in an acid value of 5.

この反応生成物を60℃まで冷却し、ジエチレングリコ
ールジアクリレート100.9.ベンゾインエチルエー
テル10gを添加し、よく撹拌して光硬化型不飽和ポリ
エステル樹脂組成物を得た。
The reaction product was cooled to 60°C and diethylene glycol diacrylate 100.9. 10 g of benzoin ethyl ether was added and thoroughly stirred to obtain a photocurable unsaturated polyester resin composition.

この樹脂組成物を実施例3と同様な方法で光照射し硬化
させた。
This resin composition was irradiated with light and cured in the same manner as in Example 3.

この硬化被膜は耐薬品性、耐溶剤性は優れ、常温(25
℃)での引ぼり強度は6.3kg/maであった。
This cured film has excellent chemical and solvent resistance, and has excellent chemical and solvent resistance.
The drawing strength at temperature (°C) was 6.3 kg/ma.

しかし軟化温度は125℃と低く、また高温(125℃
)における引ぼり強度も1.3kg/mAと著しく低下
したものであった。
However, the softening temperature is as low as 125°C, and the softening temperature is high (125°C).
) was also significantly lowered to 1.3 kg/mA.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 イソシアネート化合物1当量に対して、エポキシ化
合物1〜5当量をヘテロ項生成触媒下で反応させて得ら
れるオキサゾリドン環とインシアヌレート環をもつ末端
エポキシ樹脂に不飽和−塩基酸および必要に応じ不飽和
多塩基酸、または無水不飽和多塩基酸を、前記エポキシ
樹脂のエポキシ基と前記酸の合計カルボキシ基を等モル
に配合し、エステル化反応触媒、及び必要に応じて重合
防止剤、溶剤あるいは重合性七ツマ−の存在下で加熱反
応させて得られる不飽和ポリエステル樹脂組成物1.
O0重量部に対し、0.01重量部以上の光増感剤およ
び必要に応じ重合性モノマーを配合して成る光硬化型耐
熱性樹脂組成物。
1. A terminal epoxy resin having an oxazolidone ring and an incyanurate ring obtained by reacting 1 to 5 equivalents of an epoxy compound with 1 equivalent of an isocyanate compound under a heterogeneous catalyst is treated with an unsaturated basic acid and, if necessary, an unsaturated base acid. A saturated polybasic acid or an anhydrous unsaturated polybasic acid is blended in an equimolar amount of the epoxy group of the epoxy resin and the total carboxyl group of the acid, and an esterification reaction catalyst and, if necessary, a polymerization inhibitor, a solvent, or Unsaturated polyester resin composition obtained by heating reaction in the presence of polymerizable hexamer 1.
A photocurable heat-resistant resin composition comprising 0.01 parts by weight or more of a photosensitizer and, if necessary, a polymerizable monomer based on 0 parts by weight.
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