JPS5848359B2 - 装飾基体 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は腕時計や壁掛時計あるいは置時計の文字盤等
に使用される装飾基体に関するものである０ 最近に至り、腕時計の内でも特にアナログ式腕時計は実
用的な面よりもファッションの一部として装飾品的な面
が重視される傾向が強まっており、また壁掛時計や置時
計も同様に室内装飾品としての面が重視されている。

そこでこれらの時計においては外枠のみならず文字盤の
部分にも優れた装飾性が要求されるようになっている。

しかしながら従来の時計用文字盤は、手工芸品的なもの
は除き、工業的生産ラインで製造されるものについては
単なる金属板を用いただけのものが殆どであり、せいぜ
いその金属板表面に各種の表面処理を施したりするにと
どまり、装飾性が充分に高いとはみなし難いのが実情で
ある。

その理由は、装飾的効果を持たせようとすれば、工業的
生産ラインで製造し難くなり、手工芸的作業に頼らざる
を得なくなると思われていたためである。

この発明は以上の事情を背景としてなされたもので、時
計用文字盤その他各種ディスプレー装置等に最適な装飾
性に優れた装飾基体を提供することを目的とするもので
ある。

すなわちこの発明の装飾基体は、光学的作用によって複
雑かつ微妙な興趣を呈し、これにより装飾的に優れた効
果を発揮し、かつ工業的生産プロセスで製造し得るよう
にしたものである。

具体的には、この発明の装飾基体は、ガラス材料を主体
とする薄板、すなわち例えば薄いガラス板の片面または
両面に金属薄板を形成してなる薄板、の片面または両面
に少くとも１層の透明誘電体薄膜を形或し、かつその透
明誘電体薄膜の最上層の厚みを可干渉長さを越えぬ厚さ
として光学的干渉作用が生ずるようにし、そのようにし
て透明誘電体薄膜が形成された薄板を破砕して必要に応
じて篩い分けし、得られた多数の小片を適宜の基材表面
に不規則な傾斜角度で貼着もしくは埋込んでなるもので
ある。

以下この発明の装飾基体をより詳細に説明する。

この発明で使用する薄板としては、基本的には微細な小
片に容易に破砕することが可能となるようにガラス材料
を主体としたものを用いる。

このガラス材料を主体とした薄板としては、具体的には
表面の反射作用を高めて優れた干渉効果を発揮させるた
めには薄いガラス板の片面または両面に反射用の金属薄
膜を形成したものを用いることが望ましいが、透明感を
有する明るい干渉色を得る観点からは金属薄膜を形成し
ていないガラス板自体を用いれば良い。

このガラス板の厚さは、微細に破砕することを容易にす
るとともに破砕した小片の全表面に占める破断面の割合
を小さくすること等の観点から、可及的に薄いことが望
ましく、通常は０．０１ｍｍ〜０．５ｒＩｒｒｒＬ程度
の厚みとすることが望ましい。

またガラス板の表面に形成する金属薄膜も、コスト等の
点から可及的に薄いことが望ましく、通常は０．０５〜
０。

ｌμｍとする。なお金属薄膜の形成手段は任意であり、
銀鏡メツキ等の化学的方法、あるいは真空蒸着法、真空
スパツタ法、イオンプレーテイング法、等の物理的方法
等がある。

またその金属の種類も任意であるが、その金属薄板の色
調は最終的に得ようとする装飾基体の基調色となるから
、最終的に得るべき装飾基体の基調色に応じてアルミニ
ウム、鉄、銅等の単体金属あるいは黄銅等の合金等の内
から選択すれば良いＯ 上述のようなガラス材料を主体とする薄板、すなわちガ
ラス板、またはガラス板の片面または両面に金属薄膜を
形成してなる薄板の片面または両面に透明誘電体薄膜を
形成する。

もちろん前記金属薄膜がガラス板の片面にのみ形成され
ている場合にはその金属薄膜上に透明誘電体薄膜を形成
し、ガラス板の両面に金属薄膜が形成されている場合に
は、その両面の金属薄膜上に透明誘電体薄膜を形或する
のが通常である。

ここで透明誘電体としては例えばガラスすなわちＳ ｉ
Ｏ ２を主或分とする無機複合酸化物や、ＺｎＯ ，
Ｆｅ２０３ ，Ａ７２０３，Ｃｕ２０，ＴｉＯ２，ＳＩ
Ｏ２，Ｓｂ２０３，ＭｎＯ２，Ｃｏ３０４，Ｍｏｂ３ｔ
Ｃｒ２０３ ， ＷＯ３＋ Ｎｉ２０ ， Ｉｎ２０
３，Ｂｉ２０３等の金属酸化物やそれらの複合酸化物、
あるいはＣｄＳ，Ｓｂ２８３等の硫化物、Ｌ ｉＦ ，
ＭｇＦ２， ＮａＦ，ＣａＦ２等の硫化物、さらには
ＣａＳｉ０３ ＋Ｎａ３ＡＡＦ６等の無機塩類等が使用
される。

上述のような誘電体の薄膜は、真空蒸着法、真空スパツ
タ法、イオンプレーテイング法もしくはＣＶＤ法により
形成する。

例えば真空スパツタにより金属酸化物の薄膜を形成する
場合には、ターゲットとして金属を用いるとともに、ス
パツタガスとしてＡｒガス等の不活性ガスに０２ガスを
混合したガスを用いれば、金属酸化物の薄膜を容易に形
或することができる。

上記誘電体薄膜は、１層だけ形威しても良いし、異なる
材料からなる薄膜を２層以上形威しても良い。

但し、各誘電体薄膜層の内、少くとも最上層の厚みは０
．０１μｍ以上で干渉色を生じ得るような厚さ、すなわ
ち可干渉長さを越えぬ厚さとする。

この厚さは、具体的には得ようとする干渉色によって異
なるが、通常は０．０５μｍ〜１μｍ程度の範囲内の厚
さが望ましい。

なお誘電体薄膜を２層以上形成すれば、複合干渉が生じ
てより複雑な干渉色を呈することができる。

なおまた、特に前記薄板として、反射用の金属薄膜を形
成していないガラス単板を用いている場合には、屈折率
の異った誘電体薄膜を２層以上形成することが望ましい
。

第１図Ａ，Ｂ，Ｃに上述のようにして透明誘電体薄膜を
形戒した薄板の各例を示す。

第１図Ａはガラス板１の両面に金属薄膜２，２′を形成
してなる薄板３の両面に透明誘電体薄膜４，４′を形或
したもの、第１図Ｂはガラス板１の片面に金属薄膜２を
形成してなる薄板３の金属薄膜２上に透明誘電体薄膜４
を形成したものである。

これらの場合、誘電体薄膜４，４′の表面で反射した光
と誘電体薄膜４，４′を透過して金属薄膜２，２′にお
いて反射した光とが干渉して干渉色を生ずる。

第１図Ｃはガラス板１自体からなる薄板３の両面に２層
の透明誘電体薄膜４，４′を形成したものを示す。

この場合、外部からの光は上層の誘電体薄膜４の表面、
下層の誘電体薄膜４′の表面およびガラス板１の表面で
反射して複合干渉を起こし、複雑な干渉色を呈する。

上述のようにして透明誘電体薄膜を形成したガラス材料
を主体とする薄板を適宜の破砕手段によって微細な小片
に破砕し、必要に応じて篩分けして粒度を揃える。

この小片はそれぞれその片面または両面に干渉色を呈し
得る透明誘電体薄膜が形成されている。

このようにして得られた小片の多数を適宜の基材、例え
ば金属板や合成樹脂板、セラミック板等の表面に不規則
な傾斜角度で貼着もしくは埋込むことによりこの発明の
装飾基材が得られる。

前記小片を貼着する方法は、例えば基材表面に接着剤を
塗布しておき、その上方から多数の前記小片を散布して
接着剤を乾燥硬化または必要に応じて加熱硬化させれば
良く、あるいはセラミック板等の基材表面に釉薬で固定
しても良い。

また前記多数の小片を透明度の高い樹脂例えばエポキシ
樹脂、不飽和ポリエステル、アクリル樹脂、酢酸ビニー
ル樹脂等に懸濁させて硬化させることにより、基材表面
の透明樹脂層に多数の小片が埋込まれている状態として
も良い。

そしてまた、前述のように小片を散布して基材表面に貼
着した後に、その上から前記同様な透明度の高い樹脂で
カバーしても良く、この場合には小片を透明樹脂層中に
埋込んだ場合と同様な状態となって、小片の剥落が防止
されるとともに表面が平滑となる。

あるいはまた、前述のように小片を散布して基材表面に
貼着した後、さらにその上からガラス石英、その他前記
同様な透明誘電体の薄膜をスパツタ、真空蒸着、イオン
プレーテイングもしくはＣＶＤにより形成すれば表面が
比較的滑らかとなると同時に、小片の端面、すなわち前
記薄板の破断面にも透明薄層が形成されて、その部分に
も干渉色が生じるようになる。

第２図Ａ，Ｂ、第３図、第４図にこの発明の装飾基体の
具体例を示す。

第２図Ａは基材５の表面に接着剤もしくは釉薬の層６を
形或して、前記小片７を貼着してなる装飾基体を示し、
第３図はその一部を拡大した状態を示す。

また第４図は、第３図の装飾基体表面にさらにガラス石
英等の透明体８をスパッタした状態を示す。

一方、第２図Ｂは基材５の表面の透明樹脂層９中に前記
小片７を埋込んだ状態を示す。

上述のような装飾基体においては、その表面に不規則な
傾斜角度で貼着もしくは埋込まれた微細な多数の小片７
による反射、散乱、およびその小片７の表面の透明誘電
体薄膜による干渉色によつ？複雑かつ微妙な色調、輝き
を呈し、装飾的に優れた効果を発揮する。

上述の説明において、使用する小片７の大きさすなわち
粒度は、装飾基体の用途に応じて設定すれば良く、例え
ばその装飾基体を用いる部品の直径が数釧程度の小型の
ものであってしかも近接して見るようなもの、例えば腕
時計用文字盤においては、５０μｍ ”− ０． ５ｍ
ｍ程度の大きさとし、それより大きい部品、例えば置時
計や掛時計の文字盤等においては５０μｍ〜数閣〜数一
程度まで大きくすることができる。

また、透明誘電体薄膜の厚みが異なる２種以上の小片、
あるいは透明誘電体薄膜の材質が異なる２種以上の小片
などを混合して基材に貼着もしくは埋込んでも良く、こ
の場合には２種以上の異なる色調が混り合ったより複雑
かつ微妙な興趣を与えることができる。

以下にこの発明の実施例を記す。

実施例 １ 厚さ０．１５ｍｍのガラス板（光学顕微鏡試料用カバー
グラス）を真空スパツタ装置のスパツタ台の上に並べて
おき、Ａｔターゲ′ットを用いかつスパツタガスとして
Ａｒガスを用いてスパツタを行ない、ガラス板上に０．
０８μｍ程度の薄いＡｔ薄膜鏡を形成した。

次いでスパツタ装置のターゲットにガラス板を用いかつ
スパツタガスとしてＡｒガスを用いてスパツタを行ない
、前記Ａｌ膜鏡の上に透明誘電体薄膜としてのガラス薄
膜を０．２〜０．６μｍ厚さに形成して黄色から黄金色
、オレンジ、ピンク、赤、青、グリーン、紫の干渉色を
呈する状態とした。

以上の操作をガラス板の両面について行った後、破砕し
て粒度２４メッシュ（７１０μｍ）〜２００メッシュ（
７４μｍ）に篩分けした。

金属板からなる基材表面に接着剤を塗布して半乾燥させ
た状態で前記破砕小片をその基村上に散布し、接着剤を
乾燥硬化させ、これによって金属板基村上に多数の前記
破砕小片が貼着された装飾基体を得た。

その装飾基体は、前述のような干渉色をもって微細かつ
複雑に反射、散乱する状態となっていた。

またその装飾基体表面をさらにアクリル樹明でカバーす
ることによって破砕小片を保護し、かつ表面を平滑にす
ることが可能となった。

実施例 ２ 実施例１と同様にして０．１５ｙｒｏｎのガラス板上に
スパツタによってＡｔ薄膜鏡を形成し、次いでター？ッ
トにＦｅ板を用いかつスパツタガスとしてＡｒと０との
混合気体を用いてスパツタを行ない、前記Ａｔ薄膜鏡の
上に透明誘電体薄膜としての酸化鉄膜を０．２〜０．６
μｍ厚に形成して、前記同様の干渉色を呈する状態とし
た。

以上の操作をガラス板の両面について行った後、破砕し
て篩分けし、実施例１と同様な粒度の破砕小片を得た。

金属板基板の表面にホウロウ用釉薬（低温釉）を塗布し
、その上から前記破砕小片を散布して力口熱固化させ、
これによって金属板基板上に多数の前記破砕小片が貼着
された装飾基体を得た。

この装飾用基体は、前記同様の干渉色をもって微細に反
射、散乱する状態となっていた。

またその装飾基体表面にさらにガラス石英をスパツタす
ることによって表面を滑らかにすることができた。

実施例 ３ ０．０８ｙ＋ｍ＋のガラス板を真空スパツタ装置のスパ
ツタ台上に並べておき、Ｆｅ板をターゲットとし、スパ
ツカガスとしてＡｒガスと０２ガスとの混合気体を用い
てスパツタを行ない、これによってガラス板上に直接透
明誘電体薄膜としての酸化鉄膜を厚さＯ．ＯＳμｍに形
成し、さらにその酸化鉄膜上に、ガラス板をターゲット
としかつスパツタガスとしてｋガスを用いてスパツクし
て、第２の透明誘電体薄膜としてのガラス薄膜を厚さ０
．２〜０．６μ洲こ形成した。

以上の操作をガラス板の両面について行った後、前記実
施例１と同様に破砕、篩分けし、金属板基板上に貼着し
て装飾基体を得た。

この装飾用基体は、実施例１の場合と異なり、Ａ／ｌｍ
膜鏡が形成されておらず、かつ２層の透明誘電体薄膜が
形成されたものであるが、この場合には透明感が高く明
るい色調の干渉色を有する状態となっていた。

なお予め細かく破砕されたガラス小片に透明誘電体薄膜
を形成することも考えられるが、このような小片に真空
スパツタ等により薄膜を形或しようとすれば、真空ポン
プに小片が吸込まれて支障を来たすことが多く、このよ
うな事悪を避けるためには前述のようにガラス板等に薄
膜を形成してから破砕する必要がある。

以上の説明で明らかなようにこの発明の装飾基体は、光
学的干渉作用、および反射、散乱作用によって、複雑か
つ微妙な色調、輝きを呈し、興趣豊かな装飾性に富むも
のであり、しかも手作業によらずに工業的生産プロセス
で製造し得るものである等、各種の利点を有するもので
あって、腕時計や置時計、掛時計の文字盤、その他各種
ディスプレー装置等の製品の装飾基体として有益なもの
である。

【図面の簡単な説明】

第１図Ａ，Ｂ，Ｃはそれぞれこの発明の装飾基体の製造
過程においてガラス材料を主体とする薄板に透明誘電体
薄膜が形成されている状態の一例を示す略解的な断筒図
、第２図Ａ，Ｂはそれぞれこの発明の装飾基体の一例を
示す略解的な断面図、第３図は第２図Ａの装飾基体の部
分拡大断面図、第４図はこの発明の装飾基体の他の例を
示す部分拡大断面図である。 １・・・・・・ガラス板、２，２′・・・・・・金属薄
膜、３・・・・・・薄板、４ ． ４’・・・・・透明
誘電体薄膜、５・・・・・・基材、７・・・・・・小片
。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ガラス材料を主体とする薄板の少くとも一方の面に
   少くとも１層の透明誘電体薄膜をその最上層の厚みが可
   干渉長さを越えないように形成し、その透明誘電体薄膜
   が形戒された薄板を破砕してなる多数の小片を基材表面
   に不規則な傾斜角度で貼着もしくは埋込んでなることを
   特徴とする装飾基体。 ２ 前記薄板として、薄いガラス板の少くとも一方の面
   に金属薄膜を形戒したものを用いている特許請求の範囲
   第１項記載の装飾基体。 ３ 前記薄板として、薄いガラス板を用いている特許請
   求の範囲第１項記載の装飾基体。 ４ 前記薄板の少くとも一方の面に形成された少くとも
   １層の透明誘電体薄膜の最上層の厚みが０．０１μｍ〜
   １μｍである特許請求の範囲第１項記載の装飾基体。 ５ 前記透明誘電体薄膜を、真空蒸着、真空スパツタ、
   イオンプレーテイング、もしくはＣＶＤ法により形成し
   た特許請求の範囲第１項記載の装飾基体。 ６ 前記多数の小片を貼着した基材の上に、さらに透明
   樹脂を被覆した特許請求の範囲第１項記載の装飾基体。 ７ 前記多数の小片を貼着した基材の上に、さらに透明
   誘電体の薄膜を真空蒸着、真空スパツタ、ＣＶＤもしく
   はイオンプレーテイングにより形或した特許請求の範囲
   第１項記載の装飾基執