JPS584792A - ハロゲン化シロキサンの製造方法 - Google Patents
ハロゲン化シロキサンの製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、5i−X結合を有するシロキサン(Xはハロ
ゲン;以下ハロゲン化シロキサンと記す)の製造方法に
関するものである。
ゲン;以下ハロゲン化シロキサンと記す)の製造方法に
関するものである。
従来知られているハロゲン化シロキサンの合成法として
は、ハロゲン化シランの部分加水分解、環状シロキサン
の開環重合反応、シラノールとハロゲン化シランの縮合
反応を利用しkものがある。しかし、これらの方法は低
分子量シロキサン17か得られず、反応のコントロール
が難しい、反応収率が低い、生成物が複雑になるなどの
欠点を有していた。また対応する5i−H結合を有する
シロキサン(以下ヒドロシロキサンと記す)と塩素ガス
の反応も試みられているが、これは反応温度を一加℃〜
−30℃と非常に低くしなければ々らず、有毒な塩素ガ
スを用いる点で工業的に問題の多い反応方法である。(
ソビエト連邦特許468933)。
は、ハロゲン化シランの部分加水分解、環状シロキサン
の開環重合反応、シラノールとハロゲン化シランの縮合
反応を利用しkものがある。しかし、これらの方法は低
分子量シロキサン17か得られず、反応のコントロール
が難しい、反応収率が低い、生成物が複雑になるなどの
欠点を有していた。また対応する5i−H結合を有する
シロキサン(以下ヒドロシロキサンと記す)と塩素ガス
の反応も試みられているが、これは反応温度を一加℃〜
−30℃と非常に低くしなければ々らず、有毒な塩素ガ
スを用いる点で工業的に問題の多い反応方法である。(
ソビエト連邦特許468933)。
本発明者らは、ハロゲン化シロキサンの合成法について
種々研究を重ねた結果、ヒドロシロキサンとハロゲン化
炭化水素を反応させることにより、低分子量から高分子
量までの種々の分子量のハロゲン化シロキサンを容易に
、かつ高収率で選択的に合成できることを見出しこの知
見に基づいて本発明を達成しまた。
種々研究を重ねた結果、ヒドロシロキサンとハロゲン化
炭化水素を反応させることにより、低分子量から高分子
量までの種々の分子量のハロゲン化シロキサンを容易に
、かつ高収率で選択的に合成できることを見出しこの知
見に基づいて本発明を達成しまた。
即ち本発明はヒドロシロキサンをハロゲン化炭化水素と
反応させることを特徴とするSi−X結合を有するハロ
ゲン化シロキサンの製造方法を提供するものである。
反応させることを特徴とするSi−X結合を有するハロ
ゲン化シロキサンの製造方法を提供するものである。
以下本発明の詳細な説明する。本発明において使用する
シロキサンは、5i−H結合を有するヒドロシロキサン
である。具体的にはRI R2R3”0.5単位ヲM
XR’ R’ StO単位Q D 、 R65in1.
5単位をTXSin、単位をQ(ここでR’ 、 R2
,R3゜R4、R11及びR6は同−又は異なるアルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン若しくは水
素である)で略記した場合、(1) MDrri Mで
表わされる少くとも1つの5t−H結合を有する鎖状ヒ
ドロシロキサン、(2)Dnで表わされる少くとも1ツ
(7) S i −H結合を有する環状ヒドロシロキサ
ン、(3)Tn 、DeTmQnで表わされる少くとも
1つの5i−H結合を有するはしご状、かご状、又は三
次元網目状Fト”iシロキサン(ここでt、m、nは同
−又は異方る整数である)を例示することができる。
シロキサンは、5i−H結合を有するヒドロシロキサン
である。具体的にはRI R2R3”0.5単位ヲM
XR’ R’ StO単位Q D 、 R65in1.
5単位をTXSin、単位をQ(ここでR’ 、 R2
,R3゜R4、R11及びR6は同−又は異なるアルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、ハロゲン若しくは水
素である)で略記した場合、(1) MDrri Mで
表わされる少くとも1つの5t−H結合を有する鎖状ヒ
ドロシロキサン、(2)Dnで表わされる少くとも1ツ
(7) S i −H結合を有する環状ヒドロシロキサ
ン、(3)Tn 、DeTmQnで表わされる少くとも
1つの5i−H結合を有するはしご状、かご状、又は三
次元網目状Fト”iシロキサン(ここでt、m、nは同
−又は異方る整数である)を例示することができる。
ハロゲン化炭化水素としては塩素、臭素、ヨウ素などの
原子を含むハロゲン化炭化水素で、例えば1,1−ジク
ロルエタン、1.1.2− トリクロルエタン、テトラ
クロルエチレン、1,1,2.2− f ) 5クロル
エタン、クロロホルム、1,1.1−トリクロルエタン
、ヘキサクロルエタン、ベンゾトリクロリド、四塩化水
素pどの塩化物、ジブロムメタン、ブロムトリクロロメ
タン、ブロモホルム、四臭化炭素などの臭化物、ショー
トメタン、ヨードホルム、四ヨウ化炭素などのヨウ化物
を挙げることができる。好ましいハロゲン化炭化水素は
塩化物であり、特に1.1,2.2−テトラクロルエタ
ン、ヘキサクロルエタン、四塩化炭素などが好ましい。
原子を含むハロゲン化炭化水素で、例えば1,1−ジク
ロルエタン、1.1.2− トリクロルエタン、テトラ
クロルエチレン、1,1,2.2− f ) 5クロル
エタン、クロロホルム、1,1.1−トリクロルエタン
、ヘキサクロルエタン、ベンゾトリクロリド、四塩化水
素pどの塩化物、ジブロムメタン、ブロムトリクロロメ
タン、ブロモホルム、四臭化炭素などの臭化物、ショー
トメタン、ヨードホルム、四ヨウ化炭素などのヨウ化物
を挙げることができる。好ましいハロゲン化炭化水素は
塩化物であり、特に1.1,2.2−テトラクロルエタ
ン、ヘキサクロルエタン、四塩化炭素などが好ましい。
炭化水素のヒドロシロキサンに対する使用量は、必要と
する水素からハロゲンへの変換率にもより、また、ヒド
ロシロキサン中の全ての水素をハロゲンに変換する時に
は、ヒドロシロキサンに対し大過剰に用いることもでき
必要に応じて任意の量を用いる。
する水素からハロゲンへの変換率にもより、また、ヒド
ロシロキサン中の全ての水素をハロゲンに変換する時に
は、ヒドロシロキサンに対し大過剰に用いることもでき
必要に応じて任意の量を用いる。
反応溶媒としては、ベンゼン、ヘキサン、デカン、シク
ロヘキサンなどの炭化水素を用いてもよく、また反応に
使用するハロゲン化炭化水素を溶媒することもできる。
ロヘキサンなどの炭化水素を用いてもよく、また反応に
使用するハロゲン化炭化水素を溶媒することもできる。
本発明方法において、反応速度を速めるためにはラジカ
ル反応開始剤を触媒として用いることが好ましく、ラジ
カル反応開始剤としては2゜2′−アゾビスイソブチロ
ニトリル、ジーtert−ブチルパーオキシド、ジクミ
ルパーオキシド、ジベンゾイル、パーオキシド、ジーt
ert−ブチルパーベンゾエートなどを例示することが
できる。ラジカル反応開始剤の使用量は、通常ヒドロシ
ランの5i−H結合100当量に対し0.5〜10当量
程度である。
ル反応開始剤を触媒として用いることが好ましく、ラジ
カル反応開始剤としては2゜2′−アゾビスイソブチロ
ニトリル、ジーtert−ブチルパーオキシド、ジクミ
ルパーオキシド、ジベンゾイル、パーオキシド、ジーt
ert−ブチルパーベンゾエートなどを例示することが
できる。ラジカル反応開始剤の使用量は、通常ヒドロシ
ランの5i−H結合100当量に対し0.5〜10当量
程度である。
本発明の製造方法の詳細は次のとおりである。
マス、ヒドロシロキサン及びハロゲン化炭化水素を溶媒
に溶かし、これに必要に応じラジカル反応開始剤を添加
する。さらに反応溶液に窒素ガスなど不活性ガスを吹き
込むなどして反応系内の酸素と置換するのが好ましい。
に溶かし、これに必要に応じラジカル反応開始剤を添加
する。さらに反応溶液に窒素ガスなど不活性ガスを吹き
込むなどして反応系内の酸素と置換するのが好ましい。
その後溶液を加熱反応させる。ラジカル反応開始剤の添
加により一般に反応時間は短縮できるが、ラジカ5− ル反応開始剤により得られるハロゲン化シロキサンの汚
染をさけたい時は添加しなくとも反応は充分進行する。
加により一般に反応時間は短縮できるが、ラジカ5− ル反応開始剤により得られるハロゲン化シロキサンの汚
染をさけたい時は添加しなくとも反応は充分進行する。
反応温度、反応時間はヒドロシロキサンの活性、用いる
ハロゲン化炭化水素の種類、ラジカル反応開始剤の種類
や有無などにより異なるが、一般にm℃〜2oo℃、2
時間〜48時間である。
ハロゲン化炭化水素の種類、ラジカル反応開始剤の種類
や有無などにより異なるが、一般にm℃〜2oo℃、2
時間〜48時間である。
反応終了後は蒸溜などの操作によってハロゲン化シロキ
サンを単離する。また高沸点のポリ(ヒドロシロキサン
)を用いるときは溶媒及びハロゲン化炭化水素として低
沸点物を選び、反応終了後、溶媒、ハロゲン化炭化水素
及びハロゲン化水素の還元物を減圧下留去することによ
り、残渣としてポリ(ハロゲン化シロキサン)を容易に
純度よく得ることができる。
サンを単離する。また高沸点のポリ(ヒドロシロキサン
)を用いるときは溶媒及びハロゲン化炭化水素として低
沸点物を選び、反応終了後、溶媒、ハロゲン化炭化水素
及びハロゲン化水素の還元物を減圧下留去することによ
り、残渣としてポリ(ハロゲン化シロキサン)を容易に
純度よく得ることができる。
5i−H結合の5i−C2結合への変換は、赤外吸収(
IR)スペクトルテ21oo〜22oocrn−1付近
の5i−H結合の伸縮振動にもとづく吸収強度の減少及
びプロトン核磁気共鳴(NMR)スペクトルでδ値4.
7付近の5i−H結合のプロトンにも6− とづ〈吸収の減少などで確認することができる。
IR)スペクトルテ21oo〜22oocrn−1付近
の5i−H結合の伸縮振動にもとづく吸収強度の減少及
びプロトン核磁気共鳴(NMR)スペクトルでδ値4.
7付近の5i−H結合のプロトンにも6− とづ〈吸収の減少などで確認することができる。
本発明によると、ハロゲン化シロキサンを従来技術に比
べ簡便な操作で収率よ〈選択的に得ることができ、また
分子量調節が容易で安定なヒドロシロキサンを出発物質
とし、51−H結合だけを選択的に反応させるために従
来技術では得にくかった種々の分子量のハロゲン化シロ
キサンを自由に得ることができる。
べ簡便な操作で収率よ〈選択的に得ることができ、また
分子量調節が容易で安定なヒドロシロキサンを出発物質
とし、51−H結合だけを選択的に反応させるために従
来技術では得にくかった種々の分子量のハロゲン化シロ
キサンを自由に得ることができる。
本発明の製造方法により得られるハロゲン化シロキサン
は、シラノール基などとの反応性を利用してシリコーン
工業における中間原料、シーリング材料、電気絶縁材料
、エラストマー製造材料などとして有用である。
は、シラノール基などとの反応性を利用してシリコーン
工業における中間原料、シーリング材料、電気絶縁材料
、エラストマー製造材料などとして有用である。
実施例1
8 ym−テトラメチルジシロキサン<5y 。
37.2ミリモル)、四塩化炭素(22,9P 、 1
49 ミリモル)、内部基準ベンゼン(0,1mg)
を200−の耐圧ガラスビンに入れる。ガラスキャピラ
リーから溶液に窒素ガスを加分間吹き込X7だのち、栓
をして120℃で冴時間加熱した。溶液のNMRスペク
トルを測定すると反応前はδ=0.26(12H,d、
J=2.4Hz)及び4.70(2H,sep、J=
2.4)Tz)にそわぞれ8ym−テトラメチルジシロ
キサンの5i−CH3結合及び5i−)I結合のプロト
ンが観測されるが、反応終了後はδ=0.55(s)に
5i−C’H3結合のプロトンがδ=7.22(s)に
ClO2,のプロトンが観測されδ=4.70の5j−
H結合のプロトンは観測されなかった。
49 ミリモル)、内部基準ベンゼン(0,1mg)
を200−の耐圧ガラスビンに入れる。ガラスキャピラ
リーから溶液に窒素ガスを加分間吹き込X7だのち、栓
をして120℃で冴時間加熱した。溶液のNMRスペク
トルを測定すると反応前はδ=0.26(12H,d、
J=2.4Hz)及び4.70(2H,sep、J=
2.4)Tz)にそわぞれ8ym−テトラメチルジシロ
キサンの5i−CH3結合及び5i−)I結合のプロト
ンが観測されるが、反応終了後はδ=0.55(s)に
5i−C’H3結合のプロトンがδ=7.22(s)に
ClO2,のプロトンが観測されδ=4.70の5j−
H結合のプロトンは観測されなかった。
次いで反応混合物を蒸溜することにより沸点136−1
37℃の無色液体(6,4F)が得られた。
37℃の無色液体(6,4F)が得られた。
このものの質量分析値はrn/e=202、核磁気共鳴
(NMR)スペクトル(四塩化炭素中)はδ=0.55
(s)であった。。
(NMR)スペクトル(四塩化炭素中)はδ=0.55
(s)であった。。
以上より生成物はsym−テトラメチルジクロルジシロ
キサン(文献値沸点138℃)と同定された。収率85
%であった。従って反応は5i−H結合の水素が塩素に
変換したのみであり、5i−0−8i結合の切断などの
副反応は起きていないことが確認された。
キサン(文献値沸点138℃)と同定された。収率85
%であった。従って反応は5i−H結合の水素が塩素に
変換したのみであり、5i−0−8i結合の切断などの
副反応は起きていないことが確認された。
ま*、 NMRを用い内部基準ベンゼンにもとづいてδ
=0.57(s)の5i−CHs結合のプロトンに注目
し、下記(1)式より得られた収率(以下NMR収率と
記す)は94%であった。
=0.57(s)の5i−CHs結合のプロトンに注目
し、下記(1)式より得られた収率(以下NMR収率と
記す)は94%であった。
〔・S i CHs H)。:仕込時のsym−テトラ
メチルジシロキサンのS i CH3結合のプロトンの
積分値(S i CHs Ct) t ’反応後のsy
m−テトラメチルジクロルジシロキサンの5i−CH3
結合のプロトンの積分値 (A) o 、 (A) t :仕込み時及び反応後の
基準物質(ベンゼンなど)のプロトンの積分値 さらに5t−H結合のプロトンに注目し、下記(2)式
より得られた5i−H結合の5i−Ct結合への変換率
(以下NMR変換率と記す)は99係であった。
メチルジシロキサンのS i CH3結合のプロトンの
積分値(S i CHs Ct) t ’反応後のsy
m−テトラメチルジクロルジシロキサンの5i−CH3
結合のプロトンの積分値 (A) o 、 (A) t :仕込み時及び反応後の
基準物質(ベンゼンなど)のプロトンの積分値 さらに5t−H結合のプロトンに注目し、下記(2)式
より得られた5i−H結合の5i−Ct結合への変換率
(以下NMR変換率と記す)は99係であった。
(SiH)o:仕込み時における5i−H結合プロトン
の基準物質に対する相対積分値 9− (SiH)t:反応後における5i−H結合プロトンの
基準物質に対する相対積分値 実施例2 実施例1で90℃、2t)時間反応させたところ、NM
R収率は73%、NMR変換率は80%であった。
の基準物質に対する相対積分値 9− (SiH)t:反応後における5i−H結合プロトンの
基準物質に対する相対積分値 実施例2 実施例1で90℃、2t)時間反応させたところ、NM
R収率は73%、NMR変換率は80%であった。
実施例3
実施例1でジベンゾイルパーオキシド(BPO)0.1
73’を加え、90℃で12時間反応させたところNM
R収率は90係、NMR変換率は95%であった。
73’を加え、90℃で12時間反応させたところNM
R収率は90係、NMR変換率は95%であった。
実施例4
(1) α、ω−ジヒドロポリ(ジメチルシロキサン
)をJ、 輻6r、Chem、Soc、、76巻519
o頁(1954年)に従って次の如く調製した。
)をJ、 輻6r、Chem、Soc、、76巻519
o頁(1954年)に従って次の如く調製した。
100−の二ロフラスコにオクタメチルシクロテトラシ
ロキサン(20F 、 67.4 ミlJ% ル)、s
ym−テトラメチルジシロキサン(2f 、 15ミリ
モル)及び濃硫酸(IP)を入れよく攪拌しながら60
℃で48時間加熱反応させる。冷却後20 mlのメタ
ノールを加え混合攪拌し、次いでこれにジエチルエーテ
ル(100m >を加10− える。有機層を中性になるまで繰り返し水洗し、塩化カ
ルシウムで乾燥する。減圧下低沸点物を留去させると、
残渣として粘度30cpの無色液体状α、ω−ジヒドロ
ポリ(ジメチルシロキサン) (20y)が得られた。
ロキサン(20F 、 67.4 ミlJ% ル)、s
ym−テトラメチルジシロキサン(2f 、 15ミリ
モル)及び濃硫酸(IP)を入れよく攪拌しながら60
℃で48時間加熱反応させる。冷却後20 mlのメタ
ノールを加え混合攪拌し、次いでこれにジエチルエーテ
ル(100m >を加10− える。有機層を中性になるまで繰り返し水洗し、塩化カ
ルシウムで乾燥する。減圧下低沸点物を留去させると、
残渣として粘度30cpの無色液体状α、ω−ジヒドロ
ポリ(ジメチルシロキサン) (20y)が得られた。
日立VPO117型O117用いた蒸気圧浸透圧法によ
る数平均分子量は1.200 であった。
る数平均分子量は1.200 であった。
(2)上記で得られたα、ω−ジヒドロポリ(ジメチル
シロキサン)(2y)と四塩化炭素(2F)を実施例1
の条件下で反応させたところ、1.9yの無色液体(粘
度32cp)を得た。
シロキサン)(2y)と四塩化炭素(2F)を実施例1
の条件下で反応させたところ、1.9yの無色液体(粘
度32cp)を得た。
生成物のIRスペクトルを測定したところ、出発物質の
α、ω−ジヒドロポリ(ジメチルシロキサン)に見られ
るS i−H結合にもとづく吸収(2125crn−’
、910cmづ)が消失しただけで、他は全く変化な
かっに0さらに元素分析の結果、塩素含有量が5.30
%(理論値5.58%)であることから、α、ω−ジク
ロルポリ(ジメチルシロキサン)と同定された。NMR
変換率は97%であった。
α、ω−ジヒドロポリ(ジメチルシロキサン)に見られ
るS i−H結合にもとづく吸収(2125crn−’
、910cmづ)が消失しただけで、他は全く変化な
かっに0さらに元素分析の結果、塩素含有量が5.30
%(理論値5.58%)であることから、α、ω−ジク
ロルポリ(ジメチルシロキサン)と同定された。NMR
変換率は97%であった。
実施例5
実施例4(2)でさらにBPOO,01yを添加し、1
20℃、12時間加熱反応させたところ、IRスペクト
ルの5i−H結合にもとづく吸収は消失していた。NM
R変換率は98%であった。
20℃、12時間加熱反応させたところ、IRスペクト
ルの5i−H結合にもとづく吸収は消失していた。NM
R変換率は98%であった。
実施例6
実施例5で100℃、15時間加熱反応させたところN
MR変換率は90係であった。
MR変換率は90係であった。
実施例7
実施例6で四塩化炭素のかわりに1. 、 i 、 2
、2−テトラクロルエタン2.2Fを用いたところ、
NMR亥換率は95qりであった。
、2−テトラクロルエタン2.2Fを用いたところ、
NMR亥換率は95qりであった。
実施例8
実施例6で、四塩化炭素のかわりに5−のベンゼンに溶
解させたヘキサクロルエタン1.5ノを用いf(ところ
、NMR変換率は90%であった。
解させたヘキサクロルエタン1.5ノを用いf(ところ
、NMR変換率は90%であった。
実施例9
実施例6で、四塩化炭素のかわりにテトラクロルエチレ
ン2.2yを用いたところ、NMR変換率は50%であ
っに0 実施例10 実施例6で四塩化炭素のかわりにブロムトリクロロメタ
ン2.6yを用いたところ、NMR変換率は90%であ
った。
ン2.2yを用いたところ、NMR変換率は50%であ
っに0 実施例10 実施例6で四塩化炭素のかわりにブロムトリクロロメタ
ン2.6yを用いたところ、NMR変換率は90%であ
った。
実施例11
実施例6で四塩化炭素のかわりに5 mlのベンゼンに
溶解させたブロモホルム3.3yを用いたところ、NM
R変換率は94%であった。
溶解させたブロモホルム3.3yを用いたところ、NM
R変換率は94%であった。
実施例12
実施例6で四塩化炭素のかわりに5−のベンゼンに溶解
させたヨードホルム5.1yを用いたところ、NMR変
換率は80優であった。
させたヨードホルム5.1yを用いたところ、NMR変
換率は80優であった。
13−
Claims (2)
- (1) 5t−H結合を有するシロキサンをハロゲン
化炭化水素と反応させることを特徴とする5i−X結合
(Xはハロゲン)を有するハロゲン化シロキサンの製造
方法。 - (2)上記反応をラジカル反応開始剤の存在下で行なう
ことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載のハロ
ゲン化シロキサンの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10208881A JPS584792A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | ハロゲン化シロキサンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10208881A JPS584792A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | ハロゲン化シロキサンの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS584792A true JPS584792A (ja) | 1983-01-11 |
Family
ID=14318016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10208881A Pending JPS584792A (ja) | 1981-06-30 | 1981-06-30 | ハロゲン化シロキサンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS584792A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62273986A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | tert−ブチルジメチルクロロシランの製造方法 |
| JPH0395191A (ja) * | 1989-09-08 | 1991-04-19 | Kao Corp | α―クロロ―ω―ハイドロジェンオルガノポリシロキサンの製造法 |
| US6284907B1 (en) | 1999-12-23 | 2001-09-04 | Wacker-Chemie Gmbh | Process for the preparation of 1,3-dihalo-1,1,3,3-tetra(organyl) disiloxanes |
-
1981
- 1981-06-30 JP JP10208881A patent/JPS584792A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62273986A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-28 | Shin Etsu Chem Co Ltd | tert−ブチルジメチルクロロシランの製造方法 |
| JPH0395191A (ja) * | 1989-09-08 | 1991-04-19 | Kao Corp | α―クロロ―ω―ハイドロジェンオルガノポリシロキサンの製造法 |
| US6284907B1 (en) | 1999-12-23 | 2001-09-04 | Wacker-Chemie Gmbh | Process for the preparation of 1,3-dihalo-1,1,3,3-tetra(organyl) disiloxanes |
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