JPS5843919B2 - How to form via holes - Google Patents

How to form via holes

Info

Publication number
JPS5843919B2
JPS5843919B2 JP16524880A JP16524880A JPS5843919B2 JP S5843919 B2 JPS5843919 B2 JP S5843919B2 JP 16524880 A JP16524880 A JP 16524880A JP 16524880 A JP16524880 A JP 16524880A JP S5843919 B2 JPS5843919 B2 JP S5843919B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
metal mask
balls
insulating layer
mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP16524880A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5789295A (en
Inventor
博三 横山
貴志男 横内
伸男 亀原
弘美 小川
恭平 村川
紘一 丹羽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP16524880A priority Critical patent/JPS5843919B2/en
Publication of JPS5789295A publication Critical patent/JPS5789295A/en
Publication of JPS5843919B2 publication Critical patent/JPS5843919B2/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、バイアホールの形成方法1こ関し、更に詳し
くは、メタルマスクのたわみを除去することにより金属
ボールをメタルマスク孔に正確tζ配列せしめてバイア
ホールを形成する方法1こ関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for forming a via hole (1), and more specifically, a method for forming a via hole by removing the deflection of the metal mask so as to accurately align metal balls in the holes in the metal mask. Regarding method 1.

各種電子装置におけるセラミックプリント板の製造に当
たり、配線変更等の設計変更1こより、該プリント板の
改造を行なう場合、セラミックプリント板に配線の変更
及びバイアホールを設けることが行なわれている。
When manufacturing ceramic printed boards for various electronic devices, when modifying the printed board due to design changes such as wiring changes, the wiring is changed and via holes are provided in the ceramic printed board.

このバイアホールの形成にあたっては、バイアホールの
より微細化が要求されており、このために加圧力により
セラミックの如き絶縁層内に金属ボールを精度良く充填
することが必要とされる。
In forming this via hole, it is required to make the via hole smaller, and for this reason, it is necessary to accurately fill the insulating layer such as ceramic with metal balls by applying pressure.

バイアホールの形成tこあたって、メタルマスクを用い
る方法が従来行なわれていた。
Conventionally, a method using a metal mask has been used to form via holes.

すなわち、第1図1こ示される如き多数の小孔を有する
メタルマスク1′を生シート2′上に載置し金属ボール
を配列していた。
That is, a metal mask 1' having a large number of small holes as shown in FIG. 1 was placed on a green sheet 2', and metal balls were arranged.

しかるに該メタルマスク1はその厚みが約0.05mt
nと非常に薄いものであるため、ボール配列前にそりが
生じ該メタルマスク1′と該生シート2′間の密着が不
十分となっていた。
However, the thickness of the metal mask 1 is approximately 0.05 m.
Since the metal mask 1' is very thin, warping occurs before the balls are arranged, resulting in insufficient adhesion between the metal mask 1' and the raw sheet 2'.

このため、メタルマスク1′に設けられた孔に複数個の
金属ボールが配列される等、ボールの配列が不正確とな
っていた。
For this reason, the arrangement of the balls was inaccurate, such as a plurality of metal balls being arranged in the holes provided in the metal mask 1'.

また、メタルマスク1′の孔径が金属ボール径に対して
適切でないため正確に配列されるボールの割合が低い等
の欠点があった。
Further, since the hole diameter of the metal mask 1' is not appropriate for the diameter of the metal balls, there is a drawback that the percentage of balls that are accurately arranged is low.

本発明は、かかる欠点を除去するためになされたもので
、絶縁層上にメタルマスクを載置すると共tζメタルマ
スクの周縁部全体を絶縁層上に押圧し、次いでメタルマ
スクの孔に金属ボールを配列し、次いで加圧力によって
絶縁層内(こ金属ボールを充填することを特徴とする。
The present invention has been made in order to eliminate such drawbacks, and involves placing a metal mask on an insulating layer, pressing the entire peripheral edge of the metal mask onto the insulating layer, and then inserting metal balls into holes in the metal mask. The metal balls are arranged in the insulating layer and then filled with the metal balls by applying pressure.

更に、本発明)こおいては、配列される金属ボ−ルの直
径対メタルマスクの孔径比を0.5〜0.81ζ採択す
ることにより、金属ボールの最適配列率を得ることがで
きたものである。
Furthermore, in the present invention), by adopting a ratio of the diameter of the metal balls to be arranged to the hole diameter of the metal mask of 0.5 to 0.81ζ, the optimum arrangement rate of the metal balls could be obtained. It is something.

以下、本発明の一実施例を図面に従って説明する。An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第2図は、金属ボール配列用治具Aの斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the metal ball arrangement jig A.

該ボール配列用治具Aは、アルミニウムの如き金属製フ
レーム31ζメタルマスク1の周amを、例えば接着剤
等を用いて固着せしめて製造される。
The ball arrangement jig A is manufactured by fixing the circumference am of a metal frame 31ζ metal mask 1 made of aluminum or the like using, for example, an adhesive or the like.

更1コ、かかる金属ボール配列用治具Aの四隅1(ガイ
ドホール4を設ける。
Furthermore, four corners 1 (guide holes 4 are provided) of the metal ball arrangement jig A.

更に又、該メタルマスク1の複数孔の孔径については、
配列される金属ボールの直径対談メタルマスクの孔径の
割合(孔径比)を0.5〜0.8とする。
Furthermore, regarding the hole diameters of the plurality of holes in the metal mask 1,
The ratio of the diameters of the arranged metal balls to the diameters of the holes in the metal mask (hole diameter ratio) is set to 0.5 to 0.8.

例えば、直径0.1間の金属ボールを配列せんとする場
合、孔径比0.71コ設定すれば、孔径0.14mmの
メタルマスクを使用することとなる。
For example, if metal balls with a diameter of 0.1 mm are to be arranged, and the hole diameter ratio is set to 0.71, a metal mask with a hole diameter of 0.14 mm will be used.

金属ボールを絶縁層(セラミックプリント板の生シート
)2内に充填するには、先ず絶縁層2を金型5上tζ配
置する。
In order to fill the insulating layer (green sheet of ceramic printed board) 2 with metal balls, first the insulating layer 2 is placed on the mold 5 tζ.

次いで金属ボール配列中治具Aを生シートの如き絶縁層
2上1こ載置L1ガイドピン6をガイドホール41コ押
通し位置合わせを行ない絶縁層2上lζセツトする。
Next, the metal ball arranging jig A is placed on the insulating layer 2, such as a raw sheet, and the L1 guide pin 6 is pushed through the guide hole 41 to align the position and set on the insulating layer 2.

上述の如く、本発明の一例として金属製フレーム3tこ
メタルマスク1を張り合わせ固定せしめているので、メ
タルマスク1はたわむことはないっこの場合、金属製フ
レーム3自体一種の重しとなり、絶縁層2とメタルマス
ク1との密着性が向上する。
As mentioned above, as an example of the present invention, the metal frame 3t and the metal mask 1 are bonded together and fixed, so the metal mask 1 does not bend.In this case, the metal frame 3 itself becomes a kind of weight, and the insulating layer The adhesion between the metal mask 2 and the metal mask 1 is improved.

次いで、例えば孔径0.L4mrnのメタルマスク1こ
あって孔径比0.7とする場合、直径0.1 amの金
属ボールを例えば1600個メタルマスク1上tζ配列
する。
Then, for example, the pore size is 0. When there is one metal mask of L4 mrn and the hole diameter ratio is 0.7, for example, 1600 metal balls each having a diameter of 0.1 am are arranged in tζ on the metal mask 1.

次いで金型5(こ対応した所定形状の押し型)コて加圧
し金属ボール(例えば金ペーストで作成したもの)7を
絶縁層2内に充填しバイアホールを形成する。
Next, pressure is applied using a mold 5 (a press mold having a corresponding predetermined shape) to fill the insulating layer 2 with metal balls 7 (made of gold paste, for example) to form via holes.

上記のよう1こしてバイアホールの形成された絶縁層上
に、厚膜でパターンを形成し回路基板を作成L1それら
の回路基板を積層Cプレスし、焼成して多層回路基板を
作ることができる。
As described above, a pattern is formed with a thick film on the insulating layer with via holes formed thereon to create a circuit board.L1 The circuit boards are laminated, C-pressed, and fired to create a multilayer circuit board. .

上記の実施例(孔径比0.7)における金属ボールの配
列率は98多であった。
In the above example (hole diameter ratio 0.7), the arrangement ratio of metal balls was 98.

ここで配列率は、絶縁層上に金属ボールを配列し、所定
位置(ζ1個だけ金属ボールが配列される割合である。
Here, the arrangement rate is the rate at which metal balls are arranged on the insulating layer and only one metal ball is arranged at a predetermined position (ζ).

測定にあたっては、顕微鏡を用いて絶縁層全域を観察し
、所定位置の金属ボール数をカウントした。
In the measurement, the entire area of the insulating layer was observed using a microscope, and the number of metal balls at a predetermined position was counted.

尚、従来方法による場合は、65.2優の配列率であっ
た。
In addition, when using the conventional method, the alignment rate was 65.2.

第4図に、金属ボール径対メタルマスク孔径の割合を変
化させた場合の金属ボールの配列率を示す。
FIG. 4 shows the arrangement ratio of metal balls when the ratio of metal ball diameter to metal mask hole diameter is changed.

同図より上記金属ボール径/メタルマスク孔径が0.5
〜0.8である場合、好ましい配列率を得ることができ
ることが判明した。
From the same figure, the metal ball diameter/metal mask hole diameter is 0.5.
It has been found that a preferable alignment ratio can be obtained when the ratio is 0.8.

尚、金属ボールの径1ζかかわらず上記の結果が得られ
ることも判明した。
It has also been found that the above results can be obtained regardless of the diameter of the metal ball (1ζ).

本発明は、以上の如くメタルマスクの周縁部全体を絶縁
層上lこ抑圧してメタルマスクの孔1こ金属ボールを配
列することとしたものであるから、メタルマスクのたわ
みを完全に除去することができ、かつ該メタルマスクと
絶縁層との密着性を著しく向上させる効果を奏する。
In the present invention, as described above, the entire peripheral edge of the metal mask is suppressed onto the insulating layer and the metal balls are arranged in one hole of the metal mask, so that the bending of the metal mask is completely eliminated. This has the effect of significantly improving the adhesion between the metal mask and the insulating layer.

従って、金属ボールの配列が正確となる効果を奏する。Therefore, there is an effect that the arrangement of the metal balls becomes accurate.

更に又、金属ボール径対メタルマスク孔径の割合を所定
範囲内1こ設定することにより、金属ボールの配列率を
向上せしめることができる。
Furthermore, by setting the ratio of the metal ball diameter to the metal mask hole diameter within a predetermined range, the arrangement rate of the metal balls can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、絶縁層にメタルマスクを単に載置した状態を
示す斜視図、第2図は、金属ボール配列用治具の斜視図
、第3図は、メタルマスクの周縁部全体を絶縁層上に押
圧した状態を示す一部断面斜視図、第4図は、配列率と
金属ボール径/メタルマスク孔径の関係を示すグラフで
ある。 1・・・・・・メタルマスク、2・・・・・・絶縁層、
7・・・・・・金属ボール。
Fig. 1 is a perspective view showing a metal mask simply placed on an insulating layer, Fig. 2 is a perspective view of a jig for arranging metal balls, and Fig. 3 is a perspective view showing a metal mask simply placed on an insulating layer. FIG. 4, which is a partially cross-sectional perspective view showing a state in which it is pressed upward, is a graph showing the relationship between the arrangement ratio and the metal ball diameter/metal mask hole diameter. 1...Metal mask, 2...Insulating layer,
7...Metal ball.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 セラミックプリント板の生シート上に、配列すべき
金属ボールの直径対孔径比が0.5〜0,8であるメタ
ルマスクを載置すると共にメタルマスクの周縁部全体を
該セラミックプリント板の生シート上に押圧し、次いで
メタルマスクの孔に金属ボールを配列し、次いで加圧力
によって該セラミックプリント板の生シート内に金属ボ
ールを充填することを特徴とする、バイアーホールの形
成方法。
1. A metal mask in which the metal balls to be arranged have a diameter-to-hole diameter ratio of 0.5 to 0.8 is placed on the raw sheet of the ceramic printed board, and the entire periphery of the metal mask is covered with the raw sheet of the ceramic printed board. A method for forming a via hole, which comprises pressing onto a sheet, then arranging metal balls in the holes of a metal mask, and then filling the raw sheet of the ceramic printed board with metal balls by applying pressure.
JP16524880A 1980-11-26 1980-11-26 How to form via holes Expired JPS5843919B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16524880A JPS5843919B2 (en) 1980-11-26 1980-11-26 How to form via holes

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16524880A JPS5843919B2 (en) 1980-11-26 1980-11-26 How to form via holes

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5789295A JPS5789295A (en) 1982-06-03
JPS5843919B2 true JPS5843919B2 (en) 1983-09-29

Family

ID=15808686

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16524880A Expired JPS5843919B2 (en) 1980-11-26 1980-11-26 How to form via holes

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5843919B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5979597A (en) * 1982-10-29 1984-05-08 日本電気ホームエレクトロニクス株式会社 Method of producing hybrid integrated circuit board

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5789295A (en) 1982-06-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7320173B2 (en) Method for interconnecting multi-layer printed circuit board
US4802945A (en) Via filling of green ceramic tape
JPH04500585A (en) How to form contact bumps inside contact pads
JPS5843919B2 (en) How to form via holes
US4817280A (en) Method of manufacturing printed circuit boards
JP2003218279A (en) Circuit board and method for manufacturing the same
JPS58115838A (en) Laminated ceramic package
JP2691714B2 (en) Method for manufacturing multilayer wiring board
JPH06338682A (en) Manufacture of multilayer substrate
JP2864276B2 (en) Manufacturing method of printed wiring board
JPH0224233B2 (en)
JPS5924542B2 (en) Method for manufacturing substrates for semiconductor devices
JP3932689B2 (en) TAB film carrier tape
JPH1164369A (en) Semiconductor sensor
JPH07245359A (en) Green sheet lamination method, its equipment, and pressing mold
JP2024068620A (en) Substrate manufacturing method, buried substrate and semiconductor
JPH062241Y2 (en) Chip resistance
JP2969968B2 (en) Manufacturing method of metal mask for printing
JPH0358199B2 (en)
JP2560947B2 (en) Method for manufacturing ceramic multilayer wiring board
JPS6367360B2 (en)
JPH06224558A (en) Manufacture of ceramic multilayer block provided with cavity
JPH1075058A (en) Ceramic board and its manufacture
JPS62130597A (en) Manufacture of printed wiring substrate
JP2003158158A (en) Method of manufacturing double-sided wiring tab tape carrier