JPS5841599B2 - Matrix circuit using MIS field effect transistors - Google Patents
Matrix circuit using MIS field effect transistorsInfo
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- JPS5841599B2 JPS5841599B2 JP54083651A JP8365179A JPS5841599B2 JP S5841599 B2 JPS5841599 B2 JP S5841599B2 JP 54083651 A JP54083651 A JP 54083651A JP 8365179 A JP8365179 A JP 8365179A JP S5841599 B2 JPS5841599 B2 JP S5841599B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、複数nXm個の単位回路M182M1□・・
・Mlm;M212M22・・・M2m:・・・;Mn
12Mo2・・・Mnmを具備し、この場合単位回路M
ij(但しi=1.2・n ; j = 1.2”・m
)がMIS電界効果トランジスタを以って構成された電
流制御回路とこれを通じて所要の電流の供給される様に
なされた電流応動回路との直列回路でなり、一方単位回
路M10、M21・・・M、1; Ml、、M21・・
Mn2 :・・・:M1rn1M2rr1・・・Mnf
f1 の直列回路の一端が夫々第1の共通列線Al :
A2 ;・・・:Amに、他端が夫々第2の共通列線
B1: B2:・・・Bmに接続さへ而して第1及び第
2の共通列線A・及びB・が選択され且単位回路Mi1
、Mi2・・・Mimの電流制御回路のMIS電界効果
トランジスタが制御されることにより、単位回路M・・
の電流応動回路に所要の電流を供給する様になされたM
IS電界効果トランジスタを用いたマトリクス回路の改
良に関する。[Detailed Description of the Invention] The present invention provides a plurality of nXm unit circuits M182M1□...
・Mlm;M212M22...M2m:...;Mn
12Mo2...Mnm, in this case the unit circuit M
ij (however, i=1.2・n; j=1.2”・m
) is a series circuit consisting of a current control circuit composed of MIS field effect transistors and a current responsive circuit through which the required current is supplied, while unit circuits M10, M21...M , 1; Ml, , M21...
Mn2:...:M1rn1M2rr1...Mnf
One end of the series circuit of f1 is connected to the first common column line Al:
A2;...:Am is connected to the second common column line B1:B2:...Bm at the other end, and the first and second common column lines A and B are selected. unit circuit Mi1
, Mi2...Mim, the MIS field effect transistors of the current control circuits are controlled, so that the unit circuit M...
M designed to supply the required current to the current responsive circuit of
This invention relates to improvements in matrix circuits using IS field effect transistors.
斯種MIS電界効果トランジスタを用いたマトリクス回
路は、その単位回路Mijの電流応動回路を多結晶シリ
コンでなる通電されることにより高抵抗状態から低抵抗
状態に非可逆的に変化する性質を有する抵抗素子、通電
されることにより非溶断状態から溶断状態に非可逆的に
変化する性質を有するヒユーズ、通電されることにより
内部接合が破壊されて非短絡状態から短絡状態に非可逆
的に変化する性質を有するダイオード等とすることによ
り、単位回路Mijを読出専用記憶素子とせる読出専用
記憶回路となるものであるが、従来の斯種MIS電界効
果トランジスタを用いたマトリクス回路は、第1図に示
す如く、複数nXm個の単位回路M1□、M1□・・・
Mlm;M27、M2□・・・M2m;・・・;M
M ・・・M を具備し、この場合単位回路Mij(
但しi = 1.2−n;j=1.2”m)が、第2図
に示す如く1つのMIS電界電界効果トランジスタデっ
て構成された電流制御回路りとこれを通じて所要の電流
が供給されるべくMTS電界効果トランジスタQと直列
関係に接続された電流応動回路Hとの直列回路Fでなり
、而して単位回路M11、M21・”Mn1: M12
、M22・・・Mn2;・・・;M1m1M2m・・・
Mnm の直列回路Fの一端即ち例えば電流制御回路り
の電流応動回路H側とは反対側が夫々第1の共通列線A
I : A2 :・・・Amに、他端即ち電流応動回路
Hの電流制御回路り側とは反対側が夫々第2の共通列線
B、:B2;・・・;Bmに接続され、又単位回路Mi
1、Mi2・・・Mimの電制間回路りの電界効果トラ
ンジスタQのゲートが共通行線Wiに接続されてなる構
成を有するを普通としていた。A matrix circuit using this kind of MIS field effect transistor has a current-responsive circuit of its unit circuit Mij made of polycrystalline silicon, which has a property of irreversibly changing from a high resistance state to a low resistance state when energized. A fuse that has the property of irreversibly changing from a non-fused state to a fused state when energized; a fuse that has the property of irreversibly changing from a non-shorted state to a shorted state by destroying the internal junction when energized By using a diode or the like having , it becomes a read-only memory circuit in which the unit circuit Mij becomes a read-only memory element.A conventional matrix circuit using this type of MIS field effect transistor is shown in FIG. As in, a plurality of nXm unit circuits M1□, M1□...
Mlm;M27, M2□...M2m;...;M
M...M, in this case unit circuit Mij(
However, i = 1.2-n; j = 1.2"m) is a current control circuit composed of one MIS field effect transistor as shown in Fig. 2, and the required current is supplied through this. It preferably consists of a series circuit F with an MTS field effect transistor Q and a current responsive circuit H connected in series, and thus unit circuits M11, M21.''Mn1: M12
, M22...Mn2;...;M1m1M2m...
One end of the series circuit F of Mnm, that is, the side opposite to the current responsive circuit H side of the current control circuit, respectively, is connected to the first common column line A.
I: A2:...Am, the other end, that is, the side opposite to the current control circuit side of the current responsive circuit H, is connected to the second common column line B, :B2;...;Bm, respectively, and the unit Circuit Mi
1, Mi2, . . . Mim, the gates of the field effect transistors Q in the power supply circuit are connected to the common row line Wi.
所で斯る従来のMIS電界効果トランジスタを用いたマ
トリクス回路によれば、その第1及び第2の共通列線A
・及びB・を選択して両者間に所要の電源(図示せず)
を接続し且共通行線Wiを選択してそれに所要の制御電
圧を与えることにより、単位回路M・・の電流制御回路
りのMIS電界電界効果トランジスタデンとなって電流
応動回路Hに所要の電流が流れ、従ってその電流応動回
路Hがそれが前述せる抵抗素子である場合低抵抗状態に
、前述せるヒユーズである場合溶断状態に、前述せるダ
イオードである場合短絡状態になる態様を以って、単位
回路Mijに情報が書込まれたこととなり、依って単位
回路Mijを読出専用記憶素子とせる読出専用記憶回路
となるものであるが、この場合単位回路Mijの電流回
路りのMIS電界電界効果トランジスタデ一般的にみて
、第3図に示す如く例えばP型の半導体基板1内にその
主面2側より半導体基板1とは逆の導電型即ちN型を有
するソース又はドレインとしての2つの半導体領域3及
び4がそれ等間にチャンネル領域5を形成すべく形成さ
れ、又チャンネル領域5上に絶縁層6を介してゲートと
しての電極Tが配されてなる構成を以って構成され、又
単位回路Mi1、Mi2・・・MimのMIS電界電界
効果トランジスタデートとしての電極7は一般的に第3
図に示す如く共通行線Wiとしての直線状に延長せる導
電性層8の一部となるべく直列関係に連結されたものと
なるものである。However, according to such a matrix circuit using conventional MIS field effect transistors, the first and second common column lines A
Select ・and B・ and connect the required power supply between them (not shown)
By connecting , selecting the common row line Wi and applying a required control voltage to it, it becomes a MIS field-effect transistor in the current control circuit of the unit circuit M, and controls the required current in the current responsive circuit H. flows, so that the current-responsive circuit H is in a low resistance state if it is the above-mentioned resistance element, in a blown state if it is the above-mentioned fuse, and in a short-circuited state if it is the above-mentioned diode, Information has been written to the unit circuit Mij, and therefore the unit circuit Mij becomes a read-only memory circuit that makes the unit circuit Mij a read-only memory element.In this case, the MIS electric field effect of the current circuit of the unit circuit Mij Generally speaking, as shown in FIG. 3, for example, two semiconductors as a source or drain having a conductivity type opposite to that of the semiconductor substrate 1, that is, an N type, are placed in a P-type semiconductor substrate 1 from its main surface 2 side. Regions 3 and 4 are formed to form a channel region 5 between them, and an electrode T as a gate is arranged on the channel region 5 with an insulating layer 6 interposed therebetween; The electrode 7 as the MIS field effect transistor date of the unit circuits Mi1, Mi2...Mim is generally the third
As shown in the figure, the conductive layers 8 are connected in series so as to become part of a linearly extending conductive layer 8 as a common row line Wi.
この為全共通行線Wiとしての導電性層8の抵抗R1こ
れに附随する容量をCとするとき、共通行線WiがRC
/2で近似される時定数を有し、依って共通行線Wiを
選択してそれに所要の制御電圧を与えることにより単位
回路Mijの電流制御回路りのMIS電界電界効果トラ
ンジスタデンとなる、その動作に遅延を伴い、特にその
遅延は、電流応動回路Hに所要とされる電流の値が大で
ある場合、これに応じてMIS電界電界効果トランジス
タデャンネル領域5の幅Tを大とするを要することより
して共通行線Wiとしての導電性層8の長さが大となり
、これに伴い抵抗R及び容量Cが大となるので無視し得
なくなるものである。For this reason, when the resistance R1 of the conductive layer 8 as all the common row lines Wi is assumed to be the associated capacitance, the common row line Wi is RC
/2, and therefore, by selecting the common row line Wi and applying the required control voltage to it, it becomes the MIS field-effect transistor in the current control circuit of the unit circuit Mij. When the operation is delayed, especially when the current value required for the current responsive circuit H is large, the width T of the MIS field effect transistor channel region 5 is increased accordingly. As a result, the length of the conductive layer 8 as the common row line Wi increases, and the resistance R and capacitance C increase accordingly, which cannot be ignored.
依って本発明は上述せる従来のMIS電界効果トランジ
スタを用いたマトリクス回路を基礎とするも、上述せる
動作の遅延を低減し得、更には全体を半導体基板上に所
謂モノリシックに小型密実に構成し得る新規なMIS電
界効果トランジスタを用いたマトリクス回路を提案せん
とするもので、以下詳述する所より明らかとなるであろ
う。Therefore, although the present invention is based on the above-mentioned conventional matrix circuit using MIS field effect transistors, it is possible to reduce the above-mentioned operation delay, and furthermore, the entire structure can be monolithically formed on a semiconductor substrate in a small and compact manner. This will become clear from the detailed description below.
第4図は本発明によるMIS電界効果トランジスタを用
いたマトリクス回路の一例を示し、第1図との対応部分
には同一符号を附して詳細説明はこれを省略するも、第
1図にて上述せる構成に於てその単位回路M・・の電流
制御回路りが1つのMIS電界電界効果トランジスタデ
るに代え、第5図に示す如く並列関係に接続せる同じチ
ャンネル型の第1及び第2のMIS電界効果トランジス
タQ1及びQ2を含んで構成され、之に応じて単位回路
Mi□、Mi2、・・・Mimの電流制御回路りのMI
S電界電界効果トランジスタ及1Q2のゲニトが夫々同
じ制御信号が与えられる第1及び第2の共通行線W1・
及びW21に接続されてなることを除いては第1図の場
合と同様の構成を有する。FIG. 4 shows an example of a matrix circuit using MIS field effect transistors according to the present invention. Corresponding parts to those in FIG. In the above-mentioned configuration, the current control circuit of the unit circuit M... is replaced by one MIS field effect transistor, but instead of using the same channel type first and second transistors connected in parallel as shown in FIG. The MIS field effect transistors Q1 and Q2 are configured to include the MIS field effect transistors Q1 and Q2, and the MI of the current control circuit of the unit circuits Mi□, Mi2, . . .
The first and second common row lines W1 and 1Q2 are respectively supplied with the same control signal.
It has the same configuration as the case of FIG. 1 except that it is connected to W21 and W21.
以上が本発明によるMIS電界効果トランジスタを用い
たマトリクス回路の一例構成であるが、斯る構成によれ
ば、その第1及び第2の共通列線A・及びBjを選択し
て両者間に所要の電源(図示せず)を接続し且第1及び
第2の共通行線W1i及びW2iを選択してそれ等に同
時的に所要の制御電圧を与えれば、単位回路Mijの電
流制御回路りのMIS電界電界効果トランジスタ及1Q
2が共にオンとなることにより電流応動回路Hに所要の
電流を流すことが出来、従って第1図にて上述せる従来
のマl−IJクス回路の場合と同様に単位回路Mijに
情報が書込まれたこととなって単位回路Mijを読出専
用記憶素子とせる読出専用記憶回路となるものであるが
、この場合単位回路Mijの電流制御回路りが2つのM
IS電界電界効果トランジスタ及1Q2を以って構成さ
れ、而してそれ等MIS電界効果トランジスタQ1及び
Q2は、一般的にみて、第6図に示す如き例えばP型の
半導体基板11内にその主面12側より半導体基板11
とは逆の導電型即ちN型のソース又はドレインとして3
つの半導体領域13,14及び15が、半導体領域13
及び14間、及び14及び15間に夫々チャンネル領域
16、及び17を形成すべく形成され、又チャンネル領
域16及び1T上に夫々絶縁層18及び19を介してゲ
ートとしての2つの電極20及び21が配されてなる構
成を以ってMIS電界電界効果トランジスタ及1導体領
域13及び14、チャンネル領域16、絶縁層18及び
電極20を含んで構成されたものとして、又MIS電界
効果トランジスタQ2が半導体領域14及び15、チャ
ンネル領域17、絶縁層19及び電極21を含んで構成
されたものとして構成され得、又単位回路Mi1、Mi
2−・・MimのMIS電界電界効果トランジスタ及1
−トとしての電極20は一般的に第6図に示す如く共通
行線W11としての直線状に延長せる導電性層22の一
部となるべく直列関係に連結されたものとし得、又単位
回路Mi1、Mi2・・・MimのMIS電界効果トラ
ンジスタQ2のゲートとしての電極21も同様に共通行
線W21としての直線状に延長せる導電性層23の一部
となるべく直列関係に連結されたものとし得るものであ
る。The above is an example of the configuration of a matrix circuit using MIS field effect transistors according to the present invention. According to this configuration, the first and second common column lines A and Bj are selected and the necessary By connecting a power source (not shown), selecting the first and second common row lines W1i and W2i, and simultaneously applying a required control voltage to them, the current control circuit of the unit circuit Mij can be controlled. MIS field effect transistor and 1Q
2 are both turned on, the required current can flow through the current-responsive circuit H, and therefore information is written to the unit circuit Mij as in the case of the conventional multiplex circuit shown in FIG. In this case, the current control circuit of the unit circuit Mij is connected to two M
The MIS field effect transistors Q1 and Q2 are generally configured with their main components in, for example, a P-type semiconductor substrate 11 as shown in FIG. Semiconductor substrate 11 from surface 12 side
3 as a source or drain of the opposite conductivity type, that is, N type.
The semiconductor regions 13, 14 and 15 are the semiconductor regions 13, 14 and 15.
and 14, and between 14 and 15 to form channel regions 16 and 17, respectively, and two electrodes 20 and 21 as gates are formed on channel regions 16 and 1T via insulating layers 18 and 19, respectively. It is assumed that the MIS field effect transistor Q2 has a structure including one conductor region 13 and 14, a channel region 16, an insulating layer 18, and an electrode 20, and the MIS field effect transistor Q2 is a semiconductor. The unit circuits Mi1, Mi
2-...Mim's MIS field effect transistor and 1
In general, the electrodes 20 as the gates may be connected in series to form part of a linearly extending conductive layer 22 as a common row line W11, as shown in FIG. , Mi2, . It is something.
この為単位回路Mijの電流応動回路Hに第1図の場合
と同じ値の電流を供給するものとした場合、単位回路M
ijのMIS電界電界効果トランジスタ及1Q2のチャ
ンネル領域16及び17の幅T′を第1図の単位回路M
ijのMIS電界電界効果トランジスタナャンネル5の
幅Tの1/2とし得ることにより、共通行線W1・及び
W2iとしての導電■
他層20及び21の夫々の抵抗をR1′、これ等の夫々
に附随する容量をC′とするとき、それ等抵抗R′及び
容量C′がそれぞれ第1図の場合の共通行線Wiの抵抗
R及び容量Cの1/2に近い値となり得、従って共通行
線W1i及びW2iのR′C7/2で近似される時定数
が第1図の場合の共通行線Wiの時定数RC/2の1/
4に近い値となり得るものである。Therefore, if the current responsive circuit H of the unit circuit Mij is supplied with the same current value as in the case of Fig. 1, the unit circuit M
The width T' of the MIS field effect transistor ij and the channel regions 16 and 17 of 1Q2 is defined as the unit circuit M in FIG.
By setting the width T of the MIS field effect transistor channel 5 to 1/2 of the width T of the MIS field effect transistor channel 5, the conductivity as the common row lines W1 and W2i can be set as follows. When the capacitance associated with the common row line Wi is C', the resistance R' and the capacitance C' can be close to 1/2 of the resistance R and capacitance C of the common row line Wi in the case of FIG. 1/ of the time constant RC/2 of the common row line Wi when the time constant approximated by R'C7/2 of the row lines W1i and W2i is as shown in FIG.
This value can be close to 4.
依って共通行線W1・及びW2iを選択してそれに所要
の制御電圧を与えることにより単位回路Mij の電流
制御回路りのMIS電界電界効果トランジスタ及1Q2
がオンとなる、その動作に遅延を伴うとしても、その遅
延は第1図の場合の単位回路Mijの電流制御回路りの
MIS電界電界効果トランジスタナンとなる、その動作
の遅延の1/4に近いものとなり得るものである。Therefore, by selecting the common row lines W1 and W2i and applying a required control voltage to them, the MIS field effect transistor and 1Q2 of the current control circuit of the unit circuit Mij are controlled.
Even if there is a delay in the operation when Mij is turned on, the delay is 1/4 of the delay in the operation of the MIS field effect transistor in the current control circuit of the unit circuit Mij in the case of Fig. 1. It could be something close.
従って上述せる本発明によるマトリクス回路の一例構成
によれば、第1図にて上述せる従来のマトリクス回路の
場合に比し高い応動速度を以って電流応動回路Hを応動
せしめ得ることとなるものである。Therefore, according to the configuration of the matrix circuit according to the present invention described above, the current responsive circuit H can be made to respond with a higher response speed than the conventional matrix circuit described above in FIG. It is.
又単位回路Mijの電流制御回路りの2つ(7)MIS
電界電界効果トランジスタ及1Q2を第6図に示す如く
、MIS電界電界効果トランジスタ及1−ス又はドレイ
ンとMIS電界効果トランジスタQ2のソース又はドレ
インとをそれ等に共通な領域14を以って構成するもの
とした場合、電流制御回路りのチャンネル16及び17
の幅方向と直角方向に延長せる長さが第1図の場合の同
様の長さに比し犬となるも、2つのMIS電界電界効果
トランジスタ及1Q2のチャンネル16及び17の幅T
′を第1図の場合のMIS電界電界効果トランジスタナ
ャンネル5の幅Tの1/2とし得るので、電流制御回路
りの半導体基板に占める面積を第1図の場合の3/4に
逓減せしめ得、従って全体を半導体基板上に所謂モノリ
シックに第1図の場合に比し格段的に小型密実に構成し
得る等の大なる特徴を有するものである。Also, the two (7) MIS of the current control circuit of the unit circuit Mij
As shown in FIG. 6, the source or drain of the MIS field effect transistor Q2 and the source or drain of the MIS field effect transistor Q2 are configured by a common region 14. channels 16 and 17 of the current control circuit.
The width T of the two MIS field effect transistors and channels 16 and 17 of 1Q2 is smaller than the similar length in the case shown in FIG.
' can be made 1/2 of the width T of the MIS field effect transistor channel 5 in the case of FIG. 1, so the area occupied by the current control circuit on the semiconductor substrate can be gradually reduced to 3/4 of that in the case of FIG. Therefore, it has great features such as being able to be constructed as a whole on a semiconductor substrate in a so-called monolithic manner in a much smaller and more compact manner than in the case of FIG.
また、単位回路Mijの電流制御回路りの2つのMIS
電界電界効果トランジスタ及1Q2が同じチャンネル型
を有するので、その電流制御回路りを簡易、小型に構成
することができると共に、共通行線W1・及びW2iに
与える制御信号が同じでよい、などの特徴も有するもの
である。In addition, two MISs for the current control circuit of the unit circuit Mij
Since the field effect transistors and 1Q2 have the same channel type, their current control circuit can be constructed easily and compactly, and the control signals applied to the common row lines W1 and W2i can be the same. It also has
第1図は従来のMIS電界効果トランジスタを用いたマ
トリクス回路を示す系統的接続図、第2図はその単位回
路を示す接続図、第3図A及びBは第2図に示す単位回
路に於けるMIS電界効果トランジスタの一般的な構成
を示す路線的平面図及びその断面図、第4図は本発明に
よるMIS電界効果トランジスタを用いたマトリクス回
路の一例を示す系統的接続図、第5図はその単位回路の
一例を示す接続図、第6図A及びBは第5図に示す単位
回路に於ける2つのMIS電界効果トランジスタの一般
的な構成を示す路線的平面図及びその断面図である。
図中、Mij(但しi=1 、2・”n ; j= 1
、2・・・m)it単位回路、A・及びB・は共通列
線、WilWll及びW2iは共通行線、Fは直列回路
、Dは電流制御回路、Hは電流応動回路、Q、Ql及び
Q2は電界効果トランジスタを夫々示す。Fig. 1 is a systematic connection diagram showing a matrix circuit using conventional MIS field effect transistors, Fig. 2 is a connection diagram showing its unit circuit, and Fig. 3 A and B are diagrams showing the unit circuit shown in Fig. 2. FIG. 4 is a systematic connection diagram showing an example of a matrix circuit using MIS field effect transistors according to the present invention, and FIG. A connection diagram showing an example of the unit circuit, and FIGS. 6A and 6B are a line plan view and a sectional view thereof showing the general configuration of two MIS field effect transistors in the unit circuit shown in FIG. . In the figure, Mij (where i=1, 2・”n; j=1
, 2...m) it unit circuit, A. and B. are common column lines, WilWll and W2i are common row lines, F is a series circuit, D is a current control circuit, H is a current responsive circuit, Q, Ql and Q2 each represents a field effect transistor.
Claims (1)
lm :M212M22・・・M2m;・・・;Mn1
Mn2・・・Mnmを具備し、 上記単位回路M・・(但しi=1.2・・・n:j=1
.2・・・m)がMIS電界効果トランジスタを以って
構成された電流制御回路と、これを通じて所要の電流の
供給される様になされた電流応動回路との直列回路でな
り、 上記単位回路M119M21・・・Mn1;M122M
22・・・Mn2:M1m2M2m・・・Mnm の直
列回路の一端が夫々第1の共通列線A1:A2・・・A
□に、他端が夫夫第2の共通列線B1:B2・・・;B
mに接続され、上記第1及び第2の共通列線Aj及びB
jが選択され、且つ上記単位回路MittMi2・・・
Mimの電流制御回路のMIS電界効果トランジスタが
制御されることにより、上記単位回路Mijの電流応動
回路に所要の電流を供給する様になされたMIS電界効
果トランジスタを用いたマトリクス回路に於て、 上記単位回路M・・の電流制御回路が、並列関係に接続
せる同じチャンネル型の第1及び第2のMIS電界効果
トランジスタを含んで構成され、上記単位回路Mi19
Mi2・・・Mimの電流制御回路の第1及び第2のM
IS電界効果トランジスタのゲートが、夫々同じ制御信
号が与えられる第1及び第2の共通行線W1 、及びW
2.に接続され、上記単位回路Mi12Mi2・・・M
imの電流制御回路の第1及び第2のMIS電界効果ト
ランジスタが、上記第1及び第2の共通行線W1 、及
びW2゜に与えられる同じ制御信号によって、同時に制
御されて、上記単位回路M・・の電流応動回路に、所要
の電流が供給される様になされた事を特徴とするMIS
電界効果トランジスタを用いたマトリクス回路。[Claims] 1. A plurality of n x m unit circuits M18. M12・M
lm :M212M22...M2m;...;Mn1
Mn2...Mnm is provided, and the above unit circuit M... (however, i=1.2...n:j=1
.. 2...m) is a series circuit consisting of a current control circuit configured with MIS field effect transistors and a current responsive circuit through which the required current is supplied, and the unit circuit M119M21 is ...Mn1; M122M
22...Mn2:M1m2M2m...Mnm One end of the series circuit is connected to the first common column line A1:A2...A, respectively.
□, the other end is the husband and husband second common column line B1:B2...;B
m, and the first and second common column lines Aj and B
j is selected, and the unit circuit MittMi2...
In a matrix circuit using MIS field effect transistors, the MIS field effect transistor of the current control circuit of Mim is controlled to supply a required current to the current responsive circuit of the unit circuit Mij. The current control circuit of the unit circuit M... is configured to include first and second MIS field effect transistors of the same channel type connected in parallel, and the unit circuit Mi19
Mi2...The first and second M of the Mim current control circuit
The gates of the IS field effect transistors are connected to first and second common row lines W1 and W to which the same control signal is applied, respectively.
2. connected to the unit circuit Mi12Mi2...M
The first and second MIS field effect transistors of the current control circuit of im are simultaneously controlled by the same control signal applied to the first and second common row lines W1 and W2°, so that the unit circuit M An MIS characterized in that the required current is supplied to the current responsive circuit of...
Matrix circuit using field effect transistors.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54083651A JPS5841599B2 (en) | 1979-07-02 | 1979-07-02 | Matrix circuit using MIS field effect transistors |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP54083651A JPS5841599B2 (en) | 1979-07-02 | 1979-07-02 | Matrix circuit using MIS field effect transistors |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5611679A JPS5611679A (en) | 1981-02-05 |
JPS5841599B2 true JPS5841599B2 (en) | 1983-09-13 |
Family
ID=13808346
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54083651A Expired JPS5841599B2 (en) | 1979-07-02 | 1979-07-02 | Matrix circuit using MIS field effect transistors |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5841599B2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2381268B (en) * | 2001-12-22 | 2004-04-14 | Univ Exeter | Ceramic material and method of manufacture |
-
1979
- 1979-07-02 JP JP54083651A patent/JPS5841599B2/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5611679A (en) | 1981-02-05 |
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