JPS5840759A - 電子ビ−ム露光装置 - Google Patents

電子ビ−ム露光装置

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Publication number
JPS5840759A
JPS5840759A JP13882081A JP13882081A JPS5840759A JP S5840759 A JPS5840759 A JP S5840759A JP 13882081 A JP13882081 A JP 13882081A JP 13882081 A JP13882081 A JP 13882081A JP S5840759 A JPS5840759 A JP S5840759A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
arm
cassette
sample chamber
electron beam
sample
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13882081A
Other languages
English (en)
Inventor
Tsugio Kishi
岸 次男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP13882081A priority Critical patent/JPS5840759A/ja
Publication of JPS5840759A publication Critical patent/JPS5840759A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3435Target holders (includes backing plates and endblocks)

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電子ビーム露光装置に係わり、詳しくは試料
室と予備試料室との間で試料カセットを搬送する搬送機
構の改良に関する。
近時、牛導体ウェハやマスク基板等の試料に微細パター
ンを形成するものとして、各種の電子ビーム露光装置が
開発さnている。この装置は、試料室内のX−Yテーブ
ル等に載置さtた試料上に電子ビームを照射露光して該
試料に所望パターンを描画するもので、微細パターン形
成に極めて有用である。そして、この電子ビーム露光装
置では、複数の試料管露光する場合霧光を終えた試料を
新たなものと交換するために、複数の試料を収容する予
備試料室およびこの予備試料室と上記試料室との間で試
料を搬送する搬送機構が用いらnている。
#!1図および第2図はそれぞn従来の電子ビーム露光
装置OII部構成を一部切欠して示す平面図および側面
図である。図中1は試料室、2は予備試料室、3は各@
1,2間會真空迩断するゲートパルプ?示している。i
*、4はケージング、5は左右方向に移動可能なアーム
、5はアーム5の上部に設けられたラック、7はラック
6に咬み合うビニオン、8はピニオン1會回転せしめる
ための駆動ツマミ、9はアーム6の左端に設けらrt次
大カセット着脱用ツメ10は7−ム6内を摺動可能に設
けられた操作棒、11は操作軸10の左端に取着さrt
た直動カム、12は操作棒10の布地とアーム6の右端
との間に設けられ次クランク機構、13はクランク機構
12’を伸ばすための操作軸、14はベアリング、15
はローラを示し、これら4.〜。
15から搬送機構が構成されている0また、16は試料
を固定保持したカセット、17はカセット1dのツメ、
18は試料室1内に配置さnたX−Yテーブル、19は
カセット16の停止位tt規制するためのストッパを示
している0この装置では、前記第1図お↓び第2図に示
した状態で駆動ツマミ8t−矢印A方向に回すことにエ
リ、ビニオン1およびランク6を介してアーム5に駆動
力が伝達さn同アーム5は矢印B方向に移動し、これに
よりカセット16が予備試料室2から試料室1内のX−
Yテーブル18上へと搬送される。カセット16がX 
−Yテーブル18上のストツノ(19に当接した時点で
操作軸131ff押すと、クランク機構12が伸長し操
作棒10および直動カム1)のみが矢印B方向に進み、
これによりアーム5の先端に設けられたツメ9が閉じ、
ツメ9,11の係止が解除さnる0つまり、カセット1
6がアーム5から取り外されることになる0次いで、駆
動ツマミ8を逆方向(反矢印A方向)に回すと、カセッ
ト16はX−Yテーブル18上に載置さn7Ij1ま、
アーム5が反矢印B方向に移動し元の状態に戻る。かく
して、カセット16の搬送が行vrLるものとなってい
るO しかしながら、この種の搬送機構を用い次電子ビーム露
光装置にあっては次のような問題があった。すなわち、
カセット16會着脱する操作と搬送する操作とが分離し
ているため、駆動系が複雑となり、さらに自動化におい
ては電気的シーケンスも複雑となる。また、直動カム1
1f動かす操作棒10がアーム5内を通っているため、
試料の大型化に伴い送還距離が長くなるに従って、アー
ム5が長くなりその操作性が悪くなる等の問題があった
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、その目的
とするところは、試料室と予備試料室との間で試料カセ
ットを搬送する搬送機構の小屋化およびその操作の容易
化をはかり得る電子ビーム篇光装置を提供することにあ
る。
すなわち、本発明は試料カセットの着脱管メカニカルシ
ーケンスで行うと共に、搬送用アームをテレスコープ型
とすることによって、前記目的を達成゛せんとし次もの
である。
以下、本発明の詳細を図示の実施例によって説明する。
第3図お↓び第4図はそれぞれ本発明の一実施例の要部
構成を一部切欠して示す平面図および側面図である。な
お、第1図および第2図と同一部分には同一符号を付し
て、その詳しい説明は省略する。この実施例が先に説明
した従来装置と異なる点は、搬送機構の構造にある0す
なわち、前記アーム5の代りにテレスコープ型アーム2
0が用いられ、前記操作棒10.直動カム11お工びク
ランク機構12の代りに着脱機構30が用いられている
0アーム20は第5図(、)〜(−)にその平面図、正
面図および側面図を示す如く3つのアーム素子21,2
2.23から構成さ几、アーム素子23がケージング2
4に固定され、アーム素子21.22は左右方向に摺動
可能となっているol*、アーム素子21.22の上部
にはラック25.26がそnぞれ形成さnている。そし
て、ラック25゜26に前記ビニオン1が順次咬み合い
アーム20は伸縮するものとなっているOなお、第5図
(C)中21はベアリングを示している。
一方、前記着脱機構30は#I6図(、)〜(C)に示
す如く筒状体31、この筒状体31内管摺動する摺動体
32、この摺動体32に連結され前記アーム20のアー
ム素子2ノに取着さrL7を連結体J3、内方向に付勢
された係止ボール34おLび外方向に付勢された係止ボ
ール35郷から形成されている。そして、前記アームz
0の伸縮によってカセット16のツメ3Cとの関係でカ
セットl1jt−着脱するものとなっている。
このような構成であれば、操作ツマき8を矢印A方向に
回すことにより、予備試料室2内のカセット16は第6
図(b)に示す状態で着脱機構30に保持さn試料室1
内のx−yテープ、ルJ8上へと搬送される0カセツト
1iがX−Yテーブル18上のストッパ19に当接した
のち、さらに上記操作ツマミ8を回し続けると、着脱機
構30のボール34は第6図(C)に示す如くなりカセ
ット16が着脱機構30から外される0次いで、操作ツ
マミ8t−反矢印入方向に回すとカセット16はx−y
テーブル1#上に載置された11アーム20および着脱
機構30が反矢印B方向に移動する。そして、着脱機構
30の筒状体31がリセットブロック40に当接すると
、着脱機構30は96図(、)の状態に戻ることになる
0かくして、カセット16の予備試料室2から試料室1
への搬送が終了する。
また、カセット16を試料室1から予備試料室2へと搬
送する場合、操作ツマミ8を矢印A方向に囲わし着脱機
構20が第6図(b)に示す状態となったところで操作
ツマミ8を逆転させると、試料16は着脱機構20に保
持さ扛て予備試料室2′\と搬送されることになる。
そしてこの場合、操作ツマキ8t−回わすことのみで、
カセット16の搬送および着脱を行うことができる。こ
のため、搬送機構の操作が極めて容易となる。また、テ
レスコープ製アーム20を用いているので、カセット1
6の送還距離が長くなった場合にあってもアーム20を
短くすることができ、装置構成の小型化をはかり得る勢
の効果を奏する。
なJ5、本発明は上述した実施例に限定されるものでは
ない。例えば、前記テレスコープ型アームのアーム素子
は3個に限るものではなく、それ以上にしてもよいのは
勿論のことである。
tた、前記着脱機構は上記アームの伸縮長に応じてカセ
ットを着脱する機能を有したものであnばよい0その他
、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々羨形して実施
することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図および第2図はそれぞn従来の電子ビーム露光装
置の1ノ部構成を一部切欠して示す平面図および側面図
、第3図および第4図はそnぞれ本発明の一実施例の要
部構成を一部切欠して示す平面図および側面図、第5図
(畠)〜(C)は上記実施例のアーム部を示す平面図、
正面図および側面図、第6図(−)〜(C)は上記実施
例の着脱機構部を示す断面図である。 l・・・試料室、2・・・予備試料室、1・・・ピニオ
ン、8・・・操作ツマミ、15・・カセット、Ill・
・・x−Yテーブル、20・・・テレスコープ減アーム
、21.22.23・・・アーム素子、24パ・ケージ
ング、25.26・・・ラック、30・・・着脱機構、
3ノ・・・筒状体、32・・・摺動体、33・・・連結
体、34.35・・・係止用ボール。 出願人代理人弁理士 鈴江武奮

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)電子ビーム露光に供される試料を収容保持する試
    料室、該試料室に連設された予備試料室およびこれら各
    室間で上記試料を固定保持し次カセットを搬送制御する
    搬送機構を備えた電子ビーム露光装置において、上記搬
    送機構は前記予備試料室から試料室に向かう方向に沿っ
    て伸縮自在なテレスコープ履アーふと、このアームの先
    端に設けられ該アームの伸縮長に応じて前記カセットを
    着脱する自己着脱機構と、上記アーム管伸縮せしめる駆
    動機構とからなるものであゐことを特徴とする電子ビー
    ム露光装置。
  2. (2)前記駆動機構は、前記アームの伸縮方向に沿って
    該アームに形成されたラック、このラックKI2み会う
    ビニオンおよびこのビニオン管回転駆動する手段からな
    るものであることを特徴とする特許請求の範凹第1項記
    載の電子ビーム露光装置。
JP13882081A 1981-09-03 1981-09-03 電子ビ−ム露光装置 Pending JPS5840759A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61181050A (ja) * 1985-02-06 1986-08-13 Hitachi Ltd 真空装置の試料交換機構
JPH041568U (ja) * 1990-04-13 1992-01-08
WO2006032930A1 (en) 2004-06-15 2006-03-30 Nanobeam Limited Substrate handling device for a charged particle beam system
US8569718B2 (en) 2009-12-23 2013-10-29 Nanobeam Limited Charged particle beam system

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