JPS584040B2 - １１− オキソゴナ −９− エンノ シンキナ ユウドウタイ ノ セイゾウホウ オヨビ コレラノ ユウドウタイノ １０− アルキルステロイド ノ セイゾウヘノ シヨウ - Google Patents
１１− オキソゴナ −９− エンノ シンキナ ユウドウタイ ノ セイゾウホウ オヨビ コレラノ ユウドウタイノ １０− アルキルステロイド ノ セイゾウヘノ シヨウInfo
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- JPS584040B2 JPS584040B2 JP48144614A JP14461473A JPS584040B2 JP S584040 B2 JPS584040 B2 JP S584040B2 JP 48144614 A JP48144614 A JP 48144614A JP 14461473 A JP14461473 A JP 14461473A JP S584040 B2 JPS584040 B2 JP S584040B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J1/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, not substituted in position 17 beta by a carbon atom, e.g. estrane, androstane
-
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
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- C07J15/00—Stereochemically pure steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen having a partially or totally inverted skeleton, e.g. retrosteroids, L-isomers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07J—STEROIDS
- C07J21/00—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen having an oxygen-containing hetero ring spiro-condensed with the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton
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- Steroid Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、次式Ｉ
〔ここでＲ１は１〜３個の炭素原子を含有するアルキル
基を表わし、Ｒ２は遊離であるか若しくはケタールの形
でブロックされた酸素原子を表わし、Ｘは水素原子基を
表わす〕 の１１−オキソゴナ−９−エンの新規な誘導体の製造法
を目的とする。
基を表わし、Ｒ２は遊離であるか若しくはケタールの形
でブロックされた酸素原子を表わし、Ｘは水素原子基を
表わす〕 の１１−オキソゴナ−９−エンの新規な誘導体の製造法
を目的とする。
Ｒ１ は、例えば、メチル、エチル又はプロビル基を表
わす。
わす。
Ｒ２がケタール基を表わすときは、好ましくはエチレン
ージオキシ基が関係する。
ージオキシ基が関係する。
特に、本発明は、天然系列に相当する式■の光学活性化
合物の製造法に係る。
合物の製造法に係る。
さらに詳しくは、本発明は、Ｘがα又はβ位置にある水
素原子を表わす式■の化合物、特に基Ｒ１がメチル基で
あるもの、さらに特定すれば下記の化合物の製造法に関
する。
素原子を表わす式■の化合物、特に基Ｒ１がメチル基で
あるもの、さらに特定すれば下記の化合物の製造法に関
する。
３・３−エチレンジオキシー１１・ｌ７−ジオキソ−５
α−エストラ−９−エン ３・３−エチレンジオキシー１１・ｌ７−ジオキソ−５
β−エストラ−９−エン ３・３・ｌ７・ｌ７−ビス（エチレンジオキシ）１−１
１−オキソ−５α−エストラ−９−エン３・３・１７・
ｌ７−ビス（エチレンジオキシ）−１１−オキソ−５β
−エストラ−９−エン式■の化合物の製造法は、次式ｌ （Ｒ１及びＲ２は前記の意味を有する） の化合物にエポキシ化剤を作用させて次式■の化合物を
得、この化合物にルイス酸を作用させて次式■ の化合物を得、この化合物に、（１）二重結合を位置５
（１０）から位置９（１０）へ移動させることができる
異性化剤を作用させ、必要ならば、次式■１ の得られた化合物の５α−Ｈ及び５β−■異性体を分離
し、Ｒ２が酸素原子を表わす場合には所望により得られ
た化合物にケタール化剤を作用させて対応する１７−ケ
タールを得ることを特徴とする。
α−エストラ−９−エン ３・３−エチレンジオキシー１１・ｌ７−ジオキソ−５
β−エストラ−９−エン ３・３・ｌ７・ｌ７−ビス（エチレンジオキシ）１−１
１−オキソ−５α−エストラ−９−エン３・３・１７・
ｌ７−ビス（エチレンジオキシ）−１１−オキソ−５β
−エストラ−９−エン式■の化合物の製造法は、次式ｌ （Ｒ１及びＲ２は前記の意味を有する） の化合物にエポキシ化剤を作用させて次式■の化合物を
得、この化合物にルイス酸を作用させて次式■ の化合物を得、この化合物に、（１）二重結合を位置５
（１０）から位置９（１０）へ移動させることができる
異性化剤を作用させ、必要ならば、次式■１ の得られた化合物の５α−Ｈ及び５β−■異性体を分離
し、Ｒ２が酸素原子を表わす場合には所望により得られ
た化合物にケタール化剤を作用させて対応する１７−ケ
タールを得ることを特徴とする。
式■の化合物は知られており、例えばフランス特許第１
３３４９３５号及び第１３３６０８３号に記載の方法に
従って製造し得る。
３３４９３５号及び第１３３６０８３号に記載の方法に
従って製造し得る。
式Ｉの化合物に対するエポキシ化剤としては、ニトリル
の存在下アルカリ溶液中の過酸化水素或いは過酢酸、過
フタル酸又はｍ−クロル過安息香酸も使用し得る。
の存在下アルカリ溶液中の過酸化水素或いは過酢酸、過
フタル酸又はｍ−クロル過安息香酸も使用し得る。
ルイス酸としては、三ふつ化ほう素、三ふつ化ほう素・
エチルエーテル錯体、塩化アルミニウム、塩化第二すず
、塩化亜鉛又は塩化第二鉄を使用し得る。
エチルエーテル錯体、塩化アルミニウム、塩化第二すず
、塩化亜鉛又は塩化第二鉄を使用し得る。
弐■の化合物に対する異性化剤としては、アルコール媒
質中でのカリ又はアルミナを使用し得る。
質中でのカリ又はアルミナを使用し得る。
式Ｉ １の化合物に対するケタール化剤としては、好ま
しくはエチレングリコールが選択される。
しくはエチレングリコールが選択される。
この反応は酸触媒の存在下に行なわれる。
また、ケタール化反応は、酸触媒の存在下でのジオキソ
ランとの交換反応によって行なうこともできる。
ランとの交換反応によって行なうこともできる。
ジオキソランは、例えば、２−メチル−２−エチルジオ
キソラン、２−メチル−２−フエニルジオキソラン、２
−メチル−（４′−メチルベンジル）ジオキソラン、２
・２−ジメチル−４−（４′−メチルベンジル）ジオキ
ソラン、２−クロルメチルジオキソラン、２−β−クロ
ルエチルジオキソラン又は２−メチル−２−イソプロペ
ニルジオキソランである。
キソラン、２−メチル−２−フエニルジオキソラン、２
−メチル−（４′−メチルベンジル）ジオキソラン、２
・２−ジメチル−４−（４′−メチルベンジル）ジオキ
ソラン、２−クロルメチルジオキソラン、２−β−クロ
ルエチルジオキソラン又は２−メチル−２−イソプロペ
ニルジオキソランである。
酸触媒としては、塩酸、過塩素酸又は硫酸のような無機
酸、ｐ−トルエンスルホン酸のようなスルホン酸或いは
三ふつ化ほう素さえも使用し得る。
酸、ｐ−トルエンスルホン酸のようなスルホン酸或いは
三ふつ化ほう素さえも使用し得る。
本発明の方法を実施する好ましい方法においては、
式■の化合物に対するエポキシ化剤はアルカリ媒質中ニ
トリルの存在下での過酸化水素であり、ルイス酸は三ふ
つ化ほう素−エチルエーテル錯体であり、式■の化合物
を式■１の化合物に転化するための異性化剤はアルミナ
であり、必要により使用されるケタール化剤はメチルエ
チルジオキソランである。
トリルの存在下での過酸化水素であり、ルイス酸は三ふ
つ化ほう素−エチルエーテル錯体であり、式■の化合物
を式■１の化合物に転化するための異性化剤はアルミナ
であり、必要により使用されるケタール化剤はメチルエ
チルジオキソランである。
本法の実施中に得られるいろいろな異性体を分離するた
めには、実験の部でさらに示すようにクロマトグラフイ
ーによる典型的な分離法が使用される。
めには、実験の部でさらに示すようにクロマトグラフイ
ーによる典型的な分離法が使用される。
特に、本発明は、式■の出発物質が天然系列に相当する
光学活性物質であり、そして得られる式Ｉの生成物が天
然系列に相当する光学活性生成物である製造法に関する
。
光学活性物質であり、そして得られる式Ｉの生成物が天
然系列に相当する光学活性生成物である製造法に関する
。
また、本発明の方法の途中で得られる式■の化合物は、
式■の化合物の対応５α又は５β−ヒドロキシ誘導体に
変換することができる。
式■の化合物の対応５α又は５β−ヒドロキシ誘導体に
変換することができる。
これは、弐■の化合物の化合物にエポキシ化剤を作用さ
せ、必要ならば、次式■ の得られた化合物の異性体を分離し、この化合物に強塩
基を作用させ、必要ならば次式■２の得られた化合物の
異性体を分離し、Ｒ２が酸素原子を表わす場合には所望
によりこの化合物にケタール化剤を作用させて対応する
１７−ケタールを得るか、或いは式■の化合物に異性化
剤を作用させて次式■ （ここで位置９にある水素はα立体配置を有する）の化
合物を得、式■の生成物にエポキシ化剤を作用させて次
式■ の化合物を得、この化合物にアルカリ性試剤を作用させ
、必要ならば次式■２ の得られた化合物の異性体を分離し、Ｒ２が酸素原子を
表わす場合には所望により式■２の生成物にケタール化
剤を作用させて対応する１７一ケタールを得ることから
なる。
せ、必要ならば、次式■ の得られた化合物の異性体を分離し、この化合物に強塩
基を作用させ、必要ならば次式■２の得られた化合物の
異性体を分離し、Ｒ２が酸素原子を表わす場合には所望
によりこの化合物にケタール化剤を作用させて対応する
１７−ケタールを得るか、或いは式■の化合物に異性化
剤を作用させて次式■ （ここで位置９にある水素はα立体配置を有する）の化
合物を得、式■の生成物にエポキシ化剤を作用させて次
式■ の化合物を得、この化合物にアルカリ性試剤を作用させ
、必要ならば次式■２ の得られた化合物の異性体を分離し、Ｒ２が酸素原子を
表わす場合には所望により式■２の生成物にケタール化
剤を作用させて対応する１７一ケタールを得ることから
なる。
本発明の式■の化合物は、特に１０−アルキルステロイ
ドの製造に特に有用な出発物質となる。
ドの製造に特に有用な出発物質となる。
しかして、この製造法は、次式■
（Ｒ，、Ｒ２及びＸは先に定義した通りであるが、ただ
しＲ２は酸素原子を表わすことができない）の化合物に
有機マグネシウム誘導体ＲＭｇＨａｌ（ここでＲはメチ
ル、エチル又はプロビル基を表わし、Ｈａｌは塩素、臭
素又はよう素原子を表わす）を好ましくは銅塩の存在下
に作用させ、次いで有機カルボン酸ＹＣＯ２Ｈ（ここで
Ｙは１〜４個の炭素原子を含有し、必要により１個又は
それ以上のハロゲン原子で置換されているアルキル基を
表わす）の官能性誘導体を作用させ、次式■（ここでＷ
は水素原子を表わす）の生成物を単離し、式■の生成物
を酸試剤で処理して式■（ここでＲ１及びＲ２は式■に
定義した通りであるが、ただしＲ２遊離ケタール基を表
わすことができない。
しＲ２は酸素原子を表わすことができない）の化合物に
有機マグネシウム誘導体ＲＭｇＨａｌ（ここでＲはメチ
ル、エチル又はプロビル基を表わし、Ｈａｌは塩素、臭
素又はよう素原子を表わす）を好ましくは銅塩の存在下
に作用させ、次いで有機カルボン酸ＹＣＯ２Ｈ（ここで
Ｙは１〜４個の炭素原子を含有し、必要により１個又は
それ以上のハロゲン原子で置換されているアルキル基を
表わす）の官能性誘導体を作用させ、次式■（ここでＷ
は水素原子を表わす）の生成物を単離し、式■の生成物
を酸試剤で処理して式■（ここでＲ１及びＲ２は式■に
定義した通りであるが、ただしＲ２遊離ケタール基を表
わすことができない。
そしてＲはメチル、エチル又はプロビル基を表わし、Ｚ
は水素原子を表わす）の生成物を得ることがらなる。
は水素原子を表わす）の生成物を得ることがらなる。
式■の化合物は、位置１１にコルチゾン型化合物のケト
ンを有する。
ンを有する。
それらは、その共役ケトンにハロゲン化メチルマグネシ
ウムを１・４−付加させることによって、コルチゾン誘
導体の製造に使用し得る中間体の取得を可能にする。
ウムを１・４−付加させることによって、コルチゾン誘
導体の製造に使用し得る中間体の取得を可能にする。
さらに、それらは、１０−イソ化合物又は位置１０にメ
チル以外のアルキルを有する化合物のような半合成によ
り得がたい物質の製造を可能にする。
チル以外のアルキルを有する化合物のような半合成によ
り得がたい物質の製造を可能にする。
したがって、式Ｉの化合物は大きな工業的重要性を有す
る。
る。
式■の化合物から出発して得られる式■の生成物の中で
も、アドレノステロン（その製造は実験の部でさらに示
す）、ステロイド誘導体、特にコルチゾン型のステロイ
ド誘導体の合成中間体のような周知の生成物が見出され
る（ Ｆ ｉｅｓｅｒ −Ｆ ｉｅｓｅｒ著“Ｓｔｅｒ
ｏｉｄｓ” ｐ．６ ０ ５〜６０８（１９５９）を参
照せよ）。
も、アドレノステロン（その製造は実験の部でさらに示
す）、ステロイド誘導体、特にコルチゾン型のステロイ
ド誘導体の合成中間体のような周知の生成物が見出され
る（ Ｆ ｉｅｓｅｒ −Ｆ ｉｅｓｅｒ著“Ｓｔｅｒ
ｏｉｄｓ” ｐ．６ ０ ５〜６０８（１９５９）を参
照せよ）。
下記の例は本発明を例示するものであって、それを制限
するものではない。
するものではない。
例１〜３は式■の化合物の製造に関し、例４〜５は式Ｉ
の化合物の使用に関する。
の化合物の使用に関する。
例１
３・３−エチレンジオキシ−１１・１７−ジオキソ−５
α−エスト７−９−エン及ひ３・３−エチレンジオキシ
−１１・１７−ジオキソー５β−エストラ−９−エン 工程Ａ：３・３−エチレンジオキシ−９α−１１α−エ
ポキシ−１７−オキソエストラー５（１０）−エン ４０グの３・３−エチレンジオキシ−１７−オキソエス
トラ−５ （１０）−９ （１１）−ジエン（フランス
特許第１３３６０８３号）に示すように製造）を１２．
ＯＯＣＣのアセトン、１２０ＣＣの水、３６ｃｃのベン
ゾニトリル及び９４ＣＣの過酸化水素（１１０容）を含
有する溶液に導入する。
α−エスト７−９−エン及ひ３・３−エチレンジオキシ
−１１・１７−ジオキソー５β−エストラ−９−エン 工程Ａ：３・３−エチレンジオキシ−９α−１１α−エ
ポキシ−１７−オキソエストラー５（１０）−エン ４０グの３・３−エチレンジオキシ−１７−オキソエス
トラ−５ （１０）−９ （１１）−ジエン（フランス
特許第１３３６０８３号）に示すように製造）を１２．
ＯＯＣＣのアセトン、１２０ＣＣの水、３６ｃｃのベン
ゾニトリル及び９４ＣＣの過酸化水素（１１０容）を含
有する溶液に導入する。
次いで、１６ｇの重炭酸ナトリウムと１６０ＣＣの水を
添加する。
添加する。
２４時間攪拌を続け、４５ｃｃの１１０容過酸化水素を
添加する。
添加する。
周囲温度に２４時間保ち、次いで約８００ｃｃのアセト
ンを真空蒸留し、次いで同量の水を加える。
ンを真空蒸留し、次いで同量の水を加える。
反応混合物を周囲温度に放置し、真空ろ過し、洗浄する
。
。
３５．３ｇの３・３−エチレンジオキサン−９α・１１
α−エポキシ−１７−オキソエストラー５（１０）−エ
ンを得る。
α−エポキシ−１７−オキソエストラー５（１０）−エ
ンを得る。
融点２１８℃。（α）■＝＋２ ２ ３°±４°（ｃ＝
０．６８％、クロロホルム） 工程Ｂ：３・３−エチレンジオキシー１１・１７−ジオ
キソ−９β−エストラ−５（１０）−エン １．６５Ｐの３・３−エチレンジオキシー９α・１１α
−エポキシ−１７−オキソエストラ＝５（１０）−エン
を、５００ＣＣのエーテル及ひ０．７ｃｃの三ふつ化ほ
う素エーテラートを含有する溶液に導入する。
０．６８％、クロロホルム） 工程Ｂ：３・３−エチレンジオキシー１１・１７−ジオ
キソ−９β−エストラ−５（１０）−エン １．６５Ｐの３・３−エチレンジオキシー９α・１１α
−エポキシ−１７−オキソエストラ＝５（１０）−エン
を、５００ＣＣのエーテル及ひ０．７ｃｃの三ふつ化ほ
う素エーテラートを含有する溶液に導入する。
５０ｃｃの重炭酸ナトリウム溶液を添加し、デカンテー
ションし、洗浄する。
ションし、洗浄する。
１．５７ｇの生成物を得、これを再結晶する。
３・３−エチレンジオキシー１１・１７−ジオキソー９
β−エストラ−５（１０）−エンを得る。
β−エストラ−５（１０）−エンを得る。
融点１６１℃。
〔α〕■＝＋２２１°±３°（ｃ＝０．９１％、クロロ
ホルム） 工程Ｃ：３・３−エチレンジオキシー１１・ｌ７−ジオ
キソ−５α−エストラ−９−エン及び３・３−エチレン
ジオキシ−１１・１７−ジオキソ−５β−エストラ−９
−エン １１．３６ｇの３・３−エチレンジオキシー９β−エス
トラ−５（１０）−エンを２５ｃｃのベンゼン／クロロ
ホルム混合物（１−１）に導入し、次いでそのようにし
て得られた混合物を１ ｋｇのＭｅｒｃｋアルミナ力ラ
ムに吸着させる。
ホルム） 工程Ｃ：３・３−エチレンジオキシー１１・ｌ７−ジオ
キソ−５α−エストラ−９−エン及び３・３−エチレン
ジオキシ−１１・１７−ジオキソ−５β−エストラ−９
−エン １１．３６ｇの３・３−エチレンジオキシー９β−エス
トラ−５（１０）−エンを２５ｃｃのベンゼン／クロロ
ホルム混合物（１−１）に導入し、次いでそのようにし
て得られた混合物を１ ｋｇのＭｅｒｃｋアルミナ力ラ
ムに吸着させる。
次いで１ｌのベンゼン／塩化メチレン混合物（１−１）
を流し、そして光を断って周囲温度で６４時間接触させ
ておく。
を流し、そして光を断って周囲温度で６４時間接触させ
ておく。
酢酸エチル／塩化メチレン混合物（１−１）で溶離し、
真空乾燥する。
真空乾燥する。
９．６７ｇの生成物を得、これをシリカでクロマトグラ
フイーする（石油エーテル／エチルエーテル（１−３）
である）しかして、１．４２の３・３−エチレンジオキ
シー１１・１７−ジオキソ−５℃−エストラ−９−エン
、融点１５２℃、 （α）■＝＋１８．５°±２°（ｃ＝０．５％、クロロ
Ｄ ホルム）、及び７５０■の３・３−エチレンジオキシ−
１１・１７−ジオキソ−５β−エストラー９−エン、融
点２００℃、 〔α〕■＝＋８５．５°±１．５°（ｃ＝０．９９％、
クロロホルム）を得る。
フイーする（石油エーテル／エチルエーテル（１−３）
である）しかして、１．４２の３・３−エチレンジオキ
シー１１・１７−ジオキソ−５℃−エストラ−９−エン
、融点１５２℃、 （α）■＝＋１８．５°±２°（ｃ＝０．５％、クロロ
Ｄ ホルム）、及び７５０■の３・３−エチレンジオキシ−
１１・１７−ジオキソ−５β−エストラー９−エン、融
点２００℃、 〔α〕■＝＋８５．５°±１．５°（ｃ＝０．９９％、
クロロホルム）を得る。
例２
３・３−１７・１７−ビス（エチレンジオキシ）−１１
−オキソー５β−エストラ−９−エン３００ｍｇの３・
３−エチレンジオキシー１１・ｌ７−ジオキン−５β−
エストラ−９−エンを、３ｃｃのメチルエチルジオキソ
ラン、０．０６ｃｃのグリコール及び９ｍｇのｐ−１ル
エンスルホン酸を含有する溶液に導入する。
−オキソー５β−エストラ−９−エン３００ｍｇの３・
３−エチレンジオキシー１１・ｌ７−ジオキン−５β−
エストラ−９−エンを、３ｃｃのメチルエチルジオキソ
ラン、０．０６ｃｃのグリコール及び９ｍｇのｐ−１ル
エンスルホン酸を含有する溶液に導入する。
得られた懸濁液を周囲温度で２４時間保ち、重炭酸ナト
リウム溶液を加え、ベンゼンで抽出する。
リウム溶液を加え、ベンゼンで抽出する。
３２０ｍｇの生成物を得、これをシリカでクロマトグラ
フイーする（溶媒は石油エーテル／エチルエーテル（３
−１）である）。
フイーする（溶媒は石油エーテル／エチルエーテル（３
−１）である）。
しかして、２８０ｍｇの３・３・１７・１７−ビス（エ
チレンジオキシ）−１１−オキソ−５β−エストラ−９
−エンを得る。
チレンジオキシ）−１１−オキソ−５β−エストラ−９
−エンを得る。
融点１３９℃。例３
３・３・１７・１７−ビス（エチレンジオキシ）−１１
−オキン−５α−エストラ−９−エン３・３−エチレン
ジオキシ−１１・１７−ジオキソ−５β−エストラ−９
−エンを３・３−エチレンジオキシ−１１・１７−ジオ
キン−５α−エストラ−９−エンで置きかえて、例２に
おけるように実施して、３・３・１７・１７−ビス（エ
チレンジオキシ）−１１−オキソ−５α−エストラ−９
−エンを得る。
−オキン−５α−エストラ−９−エン３・３−エチレン
ジオキシ−１１・１７−ジオキソ−５β−エストラ−９
−エンを３・３−エチレンジオキシ−１１・１７−ジオ
キン−５α−エストラ−９−エンで置きかえて、例２に
おけるように実施して、３・３・１７・１７−ビス（エ
チレンジオキシ）−１１−オキソ−５α−エストラ−９
−エンを得る。
融点１９７℃。例４
５β−アンドロスタ−３・１１・１７−トリオン
工程Ａ ： ３・３・１７・１７−ビス（エチレンジオ
キシ）−５β−アンドロスター９（１１）−エンー１１
−オールアセテート １ｃｃの臭化メチルマグネシウムテトラヒドロフラン溶
液（タイターは１．４５Ｍ）を１ｃｃのテトラヒドロフ
ランと８ｍｇの塩化第一銅を含有する懸濁液に攪拌し且
つ窒素を吹きこみながら導入する。
キシ）−５β−アンドロスター９（１１）−エンー１１
−オールアセテート １ｃｃの臭化メチルマグネシウムテトラヒドロフラン溶
液（タイターは１．４５Ｍ）を１ｃｃのテトラヒドロフ
ランと８ｍｇの塩化第一銅を含有する懸濁液に攪拌し且
つ窒素を吹きこみながら導入する。
その懸濁液を０℃となし、３０ｍｇの３・３・１７・１
７−ビス（エチレンジオキシ） −１ １−オキソ−５
β−エストラ−９−エン及び１ＣＣのテトラヒドロフラ
ンを加える。
７−ビス（エチレンジオキシ） −１ １−オキソ−５
β−エストラ−９−エン及び１ＣＣのテトラヒドロフラ
ンを加える。
０℃で２時間攪拌し続け、Ｑ， ５ｃｃの無水酢酸を加
える。
える。
次いで塩化アンモニウム溶液を加え、塩化メチレンで抽
出する。
出する。
９０ｍｇの生成物を得、これをシリカでクロマトグラフ
イーする（溶媒は石油エーテル／エチルエーテル（３−
１）である）。
イーする（溶媒は石油エーテル／エチルエーテル（３−
１）である）。
しかして、３５ｍｇの３・３・１７・１７−ビス（エチ
レンジオキシ）−５β−アンドロスター９（１１）−エ
ンー１１−オールアセテートを得る。
レンジオキシ）−５β−アンドロスター９（１１）−エ
ンー１１−オールアセテートを得る。
融点１７４℃。工程Ｂ：５β−アンドロスター３・１ｌ
−１７−トリオン ２８ｍ９の３・３・１７・１７−ビス（エチレンジオキ
シ）−５β−アンドロスター９（１ｌ）−エンー１１−
オールアセテートを０． ５ ｃｃのアセトンに溶解し
、数滴の純塩酸を加え、還流させる。
−１７−トリオン ２８ｍ９の３・３・１７・１７−ビス（エチレンジオキ
シ）−５β−アンドロスター９（１ｌ）−エンー１１−
オールアセテートを０． ５ ｃｃのアセトンに溶解し
、数滴の純塩酸を加え、還流させる。
周囲温度冷却し、水で希釈し、抽出する。
得られた生成物をＱ， ５ ＣＣのエタノールに溶解し
、２滴の２Ｎソーダ溶液を加え、還流させる。
、２滴の２Ｎソーダ溶液を加え、還流させる。
周囲温度に冷却し、希釈し、抽出する。
しかして、１０ｍｇの５β−アンドロスター３・１１・
１７−１−リオンを得る。
１７−１−リオンを得る。
融点１３０℃。例５
３・１１・１７−トリオキソー１０α−・５α−アンド
ロスタン 工程Ａ ： ３・３・１７・１７−ビス（エチレンジオ
キシ）−ｉｉ−オキソー１Ｏα・５α−アンドロスタン １２ｍｇの塩化第一銅を２． ４ ｃｃの臭化メチルマ
グネシウムテトラヒドロフラン溶液（タイターは１．４
４Ｍ）を導入する。
ロスタン 工程Ａ ： ３・３・１７・１７−ビス（エチレンジオ
キシ）−ｉｉ−オキソー１Ｏα・５α−アンドロスタン １２ｍｇの塩化第一銅を２． ４ ｃｃの臭化メチルマ
グネシウムテトラヒドロフラン溶液（タイターは１．４
４Ｍ）を導入する。
１、７ｃｃのテトラヒドロフランを加え、−４℃に冷却
し、２６２ｍｇの３・３１７・１７−ビス（エチレンジ
オキシ）−１１−オキンー５α−エストラ−９−エンを
加える。
し、２６２ｍｇの３・３１７・１７−ビス（エチレンジ
オキシ）−１１−オキンー５α−エストラ−９−エンを
加える。
０℃〜＋２℃で６時間攪拌しつづけ、窒素下に塩化アン
モニウム水溶液を加え、窒素下に−夜放置する。
モニウム水溶液を加え、窒素下に−夜放置する。
ベンゼンで希釈し、次いで水洗する。２８０■の生成物
を得、これをクロマトグラフイーする（石油エーテル／
エチルエーテル（３−１）を使用）。
を得、これをクロマトグラフイーする（石油エーテル／
エチルエーテル（３−１）を使用）。
シリカでクロマトグラフイーし、２２５ｍｇのＲｆ＝０
．４５の生成物、３・３・３７・１７−ビス（エチレン
ジオキシ）−１１−オキソ−１０α・５α−アンドロス
タンを単離する。
．４５の生成物、３・３・３７・１７−ビス（エチレン
ジオキシ）−１１−オキソ−１０α・５α−アンドロス
タンを単離する。
融点１８０℃。
（α）■＝−９°±２°（ｃ＝０．４５％、クロロホル
ム） 工程Ｂ：３・１１・１７−トリオキソー１Ｏα・５α−
アンドロスタン 工程Ａで製造した４０ｍｇの生成物を１ｃｃのアセトン
と０．２ｃｃの２Ｎ塩酸を含有する溶液に攪拌し且つ窒
素を吹きこみながら導入する。
ム） 工程Ｂ：３・１１・１７−トリオキソー１Ｏα・５α−
アンドロスタン 工程Ａで製造した４０ｍｇの生成物を１ｃｃのアセトン
と０．２ｃｃの２Ｎ塩酸を含有する溶液に攪拌し且つ窒
素を吹きこみながら導入する。
０．２ｃｃの２Ｎ塩酸を２度加える。
反応が終了したならば、アセトンを追出し、水で希釈す
る。
る。
真空ろ過し、洗浄し、乾燥し、しかして２７ｍｇの３・
１１・１７−トリオキソー１０α・５α−アンドロスタ
ンを得る。
１１・１７−トリオキソー１０α・５α−アンドロスタ
ンを得る。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １次式■１ 〔ここでＲ１はｌ〜３個の炭素原子を含有するアルキル
基を表わし、Ｒ２は遊離であるが又はケタールの形でブ
ロツクされた酸素原子を表わす〕の化合物を製造するに
あたり、次式■ （Ｒ，及びＲ２は前記の意味を有する） の化合物にエポキシ化剤を作用させて次式■の化合物を
得、この化合物にルイス酸を作用させて次式■ の化合物を得、この化合物に二重結合を位置５（１０）
から位置９（１０）へ移動させることができる異性化剤
を作用させ、必要ならば、次式Ｉ１ の得られた化合物の５α−Ｈ及び５β−Ｈ異性体を分離
し、Ｒ２が酸素原子を表わす場合には所望により得られ
た化合物にケタール化剤を作用させて対応する１７−ケ
タールを得ることを特徴とする式Ｉ１の化合物の製造法
。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR7300341A FR2213272B1 (ja) | 1973-01-05 | 1973-01-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS505371A JPS505371A (ja) | 1975-01-21 |
| JPS584040B2 true JPS584040B2 (ja) | 1983-01-24 |
Family
ID=9112941
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP48144614A Expired JPS584040B2 (ja) | 1973-01-05 | 1973-12-27 | １１− オキソゴナ −９− エンノ シンキナ ユウドウタイ ノ セイゾウホウ オヨビ コレラノ ユウドウタイノ １０− アルキルステロイド ノ セイゾウヘノ シヨウ |
| JP57150813A Expired JPS5831360B2 (ja) | 1973-01-05 | 1982-09-01 | １１−オキソゴナ−９−エンの新規な誘導体の製造法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57150813A Expired JPS5831360B2 (ja) | 1973-01-05 | 1982-09-01 | １１−オキソゴナ−９−エンの新規な誘導体の製造法 |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3876637A (ja) |
| JP (2) | JPS584040B2 (ja) |
| BE (1) | BE809420A (ja) |
| CA (1) | CA1027552A (ja) |
| CH (2) | CH598284A5 (ja) |
| DE (1) | DE2400342C2 (ja) |
| FR (1) | FR2213272B1 (ja) |
| GB (1) | GB1451721A (ja) |
| IE (1) | IE39745B1 (ja) |
| NL (1) | NL7400102A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR95149E (fr) * | 1967-03-20 | 1970-07-24 | Roussel Uclaf | Procédé d'introduction de substituants hydrocarbonés en position 10 de dérivés 19-nor stéroides et nouveaux produits ainsi obtenus. |
| FR1550974A (ja) * | 1967-03-20 | 1968-12-27 |
-
1973
- 1973-01-05 FR FR7300341A patent/FR2213272B1/fr not_active Expired
- 1973-12-27 JP JP48144614A patent/JPS584040B2/ja not_active Expired
-
1974
- 1974-01-04 US US430769A patent/US3876637A/en not_active Expired - Lifetime
- 1974-01-04 DE DE2400342A patent/DE2400342C2/de not_active Expired
- 1974-01-04 GB GB35474A patent/GB1451721A/en not_active Expired
- 1974-01-04 CH CH6674A patent/CH598284A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-01-04 IE IE19/74A patent/IE39745B1/xx unknown
- 1974-01-04 CA CA189,477A patent/CA1027552A/en not_active Expired
- 1974-01-04 NL NL7400102A patent/NL7400102A/xx not_active Application Discontinuation
- 1974-01-04 CH CH28877A patent/CH602792A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1974-01-04 BE BE139542A patent/BE809420A/xx not_active IP Right Cessation
-
1982
- 1982-09-01 JP JP57150813A patent/JPS5831360B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5831360B2 (ja) | 1983-07-05 |
| DE2400342A1 (de) | 1974-07-11 |
| CA1027552A (en) | 1978-03-07 |
| BE809420A (fr) | 1974-07-04 |
| FR2213272A1 (ja) | 1974-08-02 |
| FR2213272B1 (ja) | 1977-07-22 |
| CH602792A5 (ja) | 1978-08-15 |
| GB1451721A (en) | 1976-10-06 |
| US3876637A (en) | 1975-04-08 |
| NL7400102A (ja) | 1974-07-09 |
| IE39745L (en) | 1974-07-05 |
| JPS505371A (ja) | 1975-01-21 |
| DE2400342C2 (de) | 1985-06-13 |
| CH598284A5 (ja) | 1978-04-28 |
| JPS5865300A (ja) | 1983-04-18 |
| IE39745B1 (en) | 1978-12-20 |
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