JPS5840171A - 液体塗布方法 - Google Patents
液体塗布方法Info
- Publication number
- JPS5840171A JPS5840171A JP13799681A JP13799681A JPS5840171A JP S5840171 A JPS5840171 A JP S5840171A JP 13799681 A JP13799681 A JP 13799681A JP 13799681 A JP13799681 A JP 13799681A JP S5840171 A JPS5840171 A JP S5840171A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- base plate
- speed
- chuck
- rotation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
の基板上に塗布するための方法に関するものである。
通常フォトレジスト用液等を板に均一塗布するには、ス
ピンナと呼ばれる装置の１転軸に上記板を固定して回転
させ、その上から液を滴下し、遠心カケ利用してその液
を板の中心から周辺に向けて均一に付着せしめるととＫ
よシなされている。
ピンナと呼ばれる装置の１転軸に上記板を固定して回転
させ、その上から液を滴下し、遠心カケ利用してその液
を板の中心から周辺に向けて均一に付着せしめるととＫ
よシなされている。
しかる゛に、スピンナは通常ｔｏ００Ｆ転／分からｓ０
００回転／分の高回転数で回転し、しかもこの回転数に
達するオでＫＦｉスタートからほんの数秒（短かい時に
はｌ，１秒）しかかからない。
００回転／分の高回転数で回転し、しかもこの回転数に
達するオでＫＦｉスタートからほんの数秒（短かい時に
はｌ，１秒）しかかからない。
このような状態の本とでは、（１）回転の立ち上がりが
喪好なことにより、塗布液の粘度が比秒的高い場合には
、回転を始めたときに塗布液が基板全面に完全に広がら
ないうちに，塗布液の大部分が飛散してしまい、塗布液
の乗ら表ａｓ分が基＠ｊＫ生じてしまい、又（２）比較
的粘度の低い塗布液を便用する場合ＫＦｉ、回転し始め
の時点に飛散する塗布液が、周囲の壁にあたって基板上
に＃ｉね返ってくるため、該部分は塗布膜厚が部分的に
厚くなり塗布不良となる。
喪好なことにより、塗布液の粘度が比秒的高い場合には
、回転を始めたときに塗布液が基板全面に完全に広がら
ないうちに，塗布液の大部分が飛散してしまい、塗布液
の乗ら表ａｓ分が基＠ｊＫ生じてしまい、又（２）比較
的粘度の低い塗布液を便用する場合ＫＦｉ、回転し始め
の時点に飛散する塗布液が、周囲の壁にあたって基板上
に＃ｉね返ってくるため、該部分は塗布膜厚が部分的に
厚くなり塗布不良となる。
この塗布むらは、特にフォトレジストの形成の湯合鱗會
力に悪影響を及ぼすため望ましくないものである。
力に悪影響を及ぼすため望ましくないものである。
本発明は以上のような塗布むらを湊消するべくなされた
ものである。
ものである。
以下図面に基づいて本発明の実施例につき説明する。
第１図はスピンナの一例の斜視図である．図において、
（Ｉｌｔｊフォトレジスト等の液体を塗布する基板（図
示せず）を保持するためのチャック、０２はその塗布液
が飛散するのを防止すしための周壁、６４は上記チャッ
ク等を支持するためのケースである。
（Ｉｌｔｊフォトレジスト等の液体を塗布する基板（図
示せず）を保持するためのチャック、０２はその塗布液
が飛散するのを防止すしための周壁、６４は上記チャッ
ク等を支持するためのケースである。
ケース（１４１中には陳２図で示されるようにチャック
（ｌｏを回転させるためのモータａｅ及び電磁クラッチ
（ＩＱが設置されている。モータはこの場合交流モータ
であり、速ｆ変換ａ■及びタイマ回路（ハ）で制御きれ
るよう罠なっている。
（ｌｏを回転させるためのモータａｅ及び電磁クラッチ
（ＩＱが設置されている。モータはこの場合交流モータ
であり、速ｆ変換ａ■及びタイマ回路（ハ）で制御きれ
るよう罠なっている。
その他、ｃ！４１Ｆｉチャックの回転計、＠は上記速度
変換＊に接続されたチャック回転数設定ダイヤル、＠打
上記タイマ回路の丸めの回転時間設定ダイヤルでおる。
変換＊に接続されたチャック回転数設定ダイヤル、＠打
上記タイマ回路の丸めの回転時間設定ダイヤルでおる。
しかして、本発明の方法は上記スピンナにおけるチャッ
クを第３図の曲線（Ａｌの如く回転させｂととＫより行
なわれる亀のであって、最初に基板（図示せず）をチャ
ックａｔｕｃ固定し、又低速回転のための回転数をダイ
ヤル（イ）で設定すると共にその回転時間をダイヤル熱
で設定する。そして、チャックａα及び基板を回転させ
つつフォトレジストこの後上記設定時間が経過すると、
タイマ回路＠の作動で速度変換器■が切換わシ高速回転
に＄行する。この結果、基板上の液は基板外へ吹き飛ト
されることなく中心か′ら外ｊｌｌＫ向って簿くかつ均
一に引き伸ばされることとなる。
クを第３図の曲線（Ａｌの如く回転させｂととＫより行
なわれる亀のであって、最初に基板（図示せず）をチャ
ックａｔｕｃ固定し、又低速回転のための回転数をダイ
ヤル（イ）で設定すると共にその回転時間をダイヤル熱
で設定する。そして、チャックａα及び基板を回転させ
つつフォトレジストこの後上記設定時間が経過すると、
タイマ回路＠の作動で速度変換器■が切換わシ高速回転
に＄行する。この結果、基板上の液は基板外へ吹き飛ト
されることなく中心か′ら外ｊｌｌＫ向って簿くかつ均
一に引き伸ばされることとなる。
比較例を次に示す。
〈比較例〉
塗布液としてシブレイ社製Ａ”Ｌ−／Ｊ！ＯＪフォトレ
ジストを用い、これを亭×Ｓインチの大きさで厚み／Ｊ
Ｗのガラス基板上にスピンナで塗布した。
ジストを用い、これを亭×Ｓインチの大きさで厚み／Ｊ
Ｗのガラス基板上にスピンナで塗布した。
スピンナは従来の短連１転式のものと、本発−が新たに
作製した−のとを使用し、従来の定速回転法による場合
と本発明の方法による場合の結果を比較した。
作製した−のとを使用し、従来の定速回転法による場合
と本発明の方法による場合の結果を比較した。
（１）従来の塗布法（第Ｊ図Ｂ）
条件：チャックの塗布−転数：コ０００ ｒＰ１ｍ回転
時間； ３０秒 塗布回転数に達するまで１時間： コ秒塗布膜厚：
ｌ ７１１ｍ（２）本発明の塗布法（
第Ｊ図Ａ） 条件：チャックの一次回転数： ｊ ００ ｒｐｍ〃
二次 ｐｔ ： Ｊ ０００ ｒｐｍ−次回転関
関： ｌ０ＯｒＸＱで調−１縛ｔａＪり二
次 ｗ ： 、ｔｏ’Ｋｐｍで３圀や（
これら以外の条件は（１）のときと同様である）上記し
た条件によって塗布な行ない、その後９０℃のオーブン
で３０分間プレベークを行かってから塗布膜表面の状ｓ
Ｋついて―察した。結果は以下上記結果の通り、到達回
転数に達するまでの時間を長くしてい＜Ｋｌ、たがって
、塗布膜厚の偏差率が小さく愈った。また、上表で５秒
及び１０秒の場合けｗ！ｉ布膜上に、ｊｌｌ囲からＣ）
塗布液のはね返りはまったく見られなかった。さらに、
従来法によれば塗布液を基板７枚当り１０σ要したが、
本発明によればＡｅＩ：で済み、ｌＯ−の節約力１図れ
た。
時間； ３０秒 塗布回転数に達するまで１時間： コ秒塗布膜厚：
ｌ ７１１ｍ（２）本発明の塗布法（
第Ｊ図Ａ） 条件：チャックの一次回転数： ｊ ００ ｒｐｍ〃
二次 ｐｔ ： Ｊ ０００ ｒｐｍ−次回転関
関： ｌ０ＯｒＸＱで調−１縛ｔａＪり二
次 ｗ ： 、ｔｏ’Ｋｐｍで３圀や（
これら以外の条件は（１）のときと同様である）上記し
た条件によって塗布な行ない、その後９０℃のオーブン
で３０分間プレベークを行かってから塗布膜表面の状ｓ
Ｋついて―察した。結果は以下上記結果の通り、到達回
転数に達するまでの時間を長くしてい＜Ｋｌ、たがって
、塗布膜厚の偏差率が小さく愈った。また、上表で５秒
及び１０秒の場合けｗ！ｉ布膜上に、ｊｌｌ囲からＣ）
塗布液のはね返りはまったく見られなかった。さらに、
従来法によれば塗布液を基板７枚当り１０σ要したが、
本発明によればＡｅＩ：で済み、ｌＯ−の節約力１図れ
た。
以上のように、本発明は基板を低速回転させて液体をそ
の上に供給し、しかる゛後高速回転させるので、液体な
基板外へはね飛ｄすことなく少量で、しかも均一な膜厚
で塗布することができ石。従って、フォトレジストの如
き高価で、しか４１に膜状態がｗｌ俸品質に影響を及ば
ずような液体の塗布に使用して有益である。
の上に供給し、しかる゛後高速回転させるので、液体な
基板外へはね飛ｄすことなく少量で、しかも均一な膜厚
で塗布することができ石。従って、フォトレジストの如
き高価で、しか４１に膜状態がｗｌ俸品質に影響を及ば
ずような液体の塗布に使用して有益である。
第１図は本発明に係る液体塗布方法を実施するためのス
ピンナの斜視図である。第一図はそのスピンナの駆動装
置のブロック１／ｓ図である。 第Ｊ＠はスピンナにおけるチャックの回転数−回転時間
１係１ａ図である。 ｌＯｅ・・Φ・・■・・・チャック ｌ ６０拳ｅ−・・・・・・ 毫 −タ２０＊＋１・・
・・・拳・拳・速度変換器２コ０・・ψ・・・・・・タ
イマ回路 第１図 才８図 （ｒｐｍ） （チャックの回転時間） ４０７
ピンナの斜視図である。第一図はそのスピンナの駆動装
置のブロック１／ｓ図である。 第Ｊ＠はスピンナにおけるチャックの回転数−回転時間
１係１ａ図である。 ｌＯｅ・・Φ・・■・・・チャック ｌ ６０拳ｅ−・・・・・・ 毫 −タ２０＊＋１・・
・・・拳・拳・速度変換器２コ０・・ψ・・・・・・タ
イマ回路 第１図 才８図 （ｒｐｍ） （チャックの回転時間） ４０７
Claims (1)
- 液体を塗布すべき基板を回転させつつ、その上に当該液
体を供給することＫより液体を基板上に塗布する方法に
おいて、上記液体の供給時に上記基板を低速回転させ、
供給後に高速回転させることを特像とする液体塗布方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13799681A JPS5840171A (ja) | 1981-09-02 | 1981-09-02 | 液体塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13799681A JPS5840171A (ja) | 1981-09-02 | 1981-09-02 | 液体塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5840171A true JPS5840171A (ja) | 1983-03-09 |
Family
ID=15211620
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13799681A Pending JPS5840171A (ja) | 1981-09-02 | 1981-09-02 | 液体塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5840171A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62114683A (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-26 | Hitachi Tokyo Electron Co Ltd | 塗布方法および装置 |
-
1981
- 1981-09-02 JP JP13799681A patent/JPS5840171A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62114683A (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-26 | Hitachi Tokyo Electron Co Ltd | 塗布方法および装置 |
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