JPS5840171A - 液体塗布方法 - Google Patents

液体塗布方法

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Publication number
JPS5840171A
JPS5840171A JP13799681A JP13799681A JPS5840171A JP S5840171 A JPS5840171 A JP S5840171A JP 13799681 A JP13799681 A JP 13799681A JP 13799681 A JP13799681 A JP 13799681A JP S5840171 A JPS5840171 A JP S5840171A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid
base plate
speed
chuck
rotation
Prior art date
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Pending
Application number
JP13799681A
Other languages
English (en)
Inventor
Nobuhiko Sakai
酒井 順彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP13799681A priority Critical patent/JPS5840171A/ja
Publication of JPS5840171A publication Critical patent/JPS5840171A/ja
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  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 の基板上に塗布するための方法に関するものである。
通常フォトレジスト用液等を板に均一塗布するには、ス
ピンナと呼ばれる装置の1転軸に上記板を固定して回転
させ、その上から液を滴下し、遠心カケ利用してその液
を板の中心から周辺に向けて均一に付着せしめるととK
よシなされている。
しかる゛に、スピンナは通常to00F転/分からs0
00回転/分の高回転数で回転し、しかもこの回転数に
達するオでKFiスタートからほんの数秒(短かい時に
はl,1秒)しかかからない。
このような状態の本とでは、(1)回転の立ち上がりが
喪好なことにより、塗布液の粘度が比秒的高い場合には
、回転を始めたときに塗布液が基板全面に完全に広がら
ないうちに,塗布液の大部分が飛散してしまい、塗布液
の乗ら表as分が基@jK生じてしまい、又(2)比較
的粘度の低い塗布液を便用する場合KFi、回転し始め
の時点に飛散する塗布液が、周囲の壁にあたって基板上
に#iね返ってくるため、該部分は塗布膜厚が部分的に
厚くなり塗布不良となる。
この塗布むらは、特にフォトレジストの形成の湯合鱗會
力に悪影響を及ぼすため望ましくないものである。
本発明は以上のような塗布むらを湊消するべくなされた
ものである。
以下図面に基づいて本発明の実施例につき説明する。
第1図はスピンナの一例の斜視図である.図において、
(Iltjフォトレジスト等の液体を塗布する基板(図
示せず)を保持するためのチャック、02はその塗布液
が飛散するのを防止すしための周壁、64は上記チャッ
ク等を支持するためのケースである。
ケース(141中には陳2図で示されるようにチャック
(loを回転させるためのモータae及び電磁クラッチ
(IQが設置されている。モータはこの場合交流モータ
であり、速f変換a■及びタイマ回路(ハ)で制御きれ
るよう罠なっている。
その他、c!41Fiチャックの回転計、@は上記速度
変換*に接続されたチャック回転数設定ダイヤル、@打
上記タイマ回路の丸めの回転時間設定ダイヤルでおる。
しかして、本発明の方法は上記スピンナにおけるチャッ
クを第3図の曲線(Alの如く回転させbととKより行
なわれる亀のであって、最初に基板(図示せず)をチャ
ックatuc固定し、又低速回転のための回転数をダイ
ヤル(イ)で設定すると共にその回転時間をダイヤル熱
で設定する。そして、チャックaα及び基板を回転させ
つつフォトレジストこの後上記設定時間が経過すると、
タイマ回路@の作動で速度変換器■が切換わシ高速回転
に$行する。この結果、基板上の液は基板外へ吹き飛ト
されることなく中心か′ら外jllK向って簿くかつ均
一に引き伸ばされることとなる。
比較例を次に示す。
〈比較例〉 塗布液としてシブレイ社製A”L−/J!OJフォトレ
ジストを用い、これを亭×Sインチの大きさで厚み/J
Wのガラス基板上にスピンナで塗布した。
スピンナは従来の短連1転式のものと、本発−が新たに
作製した−のとを使用し、従来の定速回転法による場合
と本発明の方法による場合の結果を比較した。
(1)従来の塗布法(第J図B) 条件:チャックの塗布−転数:コ000 rP1m回転
時間;       30秒 塗布回転数に達するまで1時間:   コ秒塗布膜厚:
        l 711m(2)本発明の塗布法(
第J図A) 条件:チャックの一次回転数:  j 00 rpm〃
  二次 pt  : J 000 rpm−次回転関
関:       l0OrXQで調−1縛taJり二
次 w   :      、to’Kpmで3圀や(
これら以外の条件は(1)のときと同様である)上記し
た条件によって塗布な行ない、その後90℃のオーブン
で30分間プレベークを行かってから塗布膜表面の状s
Kついて―察した。結果は以下上記結果の通り、到達回
転数に達するまでの時間を長くしてい<Kl、たがって
、塗布膜厚の偏差率が小さく愈った。また、上表で5秒
及び10秒の場合けw!i布膜上に、jll囲からC)
塗布液のはね返りはまったく見られなかった。さらに、
従来法によれば塗布液を基板7枚当り10σ要したが、
本発明によればAeI:で済み、lO−の節約力1図れ
た。
以上のように、本発明は基板を低速回転させて液体をそ
の上に供給し、しかる゛後高速回転させるので、液体な
基板外へはね飛dすことなく少量で、しかも均一な膜厚
で塗布することができ石。従って、フォトレジストの如
き高価で、しか41に膜状態がwl俸品質に影響を及ば
ずような液体の塗布に使用して有益である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る液体塗布方法を実施するためのス
ピンナの斜視図である。第一図はそのスピンナの駆動装
置のブロック1/s図である。 第J@はスピンナにおけるチャックの回転数−回転時間
1係1a図である。 lOe・・Φ・・■・・・チャック l 60拳e−・・・・・・ 毫 −タ20*+1・・
・・・拳・拳・速度変換器2コ0・・ψ・・・・・・タ
イマ回路 第1図 才8図 (rpm) (チャックの回転時間) 407

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 液体を塗布すべき基板を回転させつつ、その上に当該液
    体を供給することKより液体を基板上に塗布する方法に
    おいて、上記液体の供給時に上記基板を低速回転させ、
    供給後に高速回転させることを特像とする液体塗布方法
JP13799681A 1981-09-02 1981-09-02 液体塗布方法 Pending JPS5840171A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13799681A JPS5840171A (ja) 1981-09-02 1981-09-02 液体塗布方法

Applications Claiming Priority (1)

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JP13799681A JPS5840171A (ja) 1981-09-02 1981-09-02 液体塗布方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS5840171A true JPS5840171A (ja) 1983-03-09

Family

ID=15211620

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13799681A Pending JPS5840171A (ja) 1981-09-02 1981-09-02 液体塗布方法

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JP (1) JPS5840171A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62114683A (ja) * 1985-11-15 1987-05-26 Hitachi Tokyo Electron Co Ltd 塗布方法および装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62114683A (ja) * 1985-11-15 1987-05-26 Hitachi Tokyo Electron Co Ltd 塗布方法および装置

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