JPS5839919B2 - 電解ニッケルめっき液のph調整方法 - Google Patents
電解ニッケルめっき液のph調整方法Info
- Publication number
- JPS5839919B2 JPS5839919B2 JP6518276A JP6518276A JPS5839919B2 JP S5839919 B2 JPS5839919 B2 JP S5839919B2 JP 6518276 A JP6518276 A JP 6518276A JP 6518276 A JP6518276 A JP 6518276A JP S5839919 B2 JPS5839919 B2 JP S5839919B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating solution
- value
- nickel
- plating
- electrolytic
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- Expired
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- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電解ニッケルめっきにおいて、めっキ液のpH
値を自動的にコントロールし、かつ、漸増するニッケル
イオンを回収し、めっき液濃度の上昇を防止する方法に
関するものである。
値を自動的にコントロールし、かつ、漸増するニッケル
イオンを回収し、めっき液濃度の上昇を防止する方法に
関するものである。
電気ニッケルめっきに用いられるめっき液組成は一般的
には次のものが使用されることが多い。
には次のものが使用されることが多い。
硫酸ニッケル(NiS04・6H20) 280+20
9/1塩化ニツケル(NiC12・6H20)45±2
0 g/11硼酸(H2SO4)40±5 g/l その他にめっき液のpH値を3.8〜4.2の範囲に調
整するための適当量の硫酸又は塩酸及びその他の目的の
添カロ物 ここでめっき条件としてpH値は非常に重要であり、p
H値が高ければニッケルの水酸化物がめつき膜に含まれ
て密着性が悪くなり、逆にpH値が低ければ水素発生の
ためにピット(凹み)が生じ、電流効率の低下などの不
具合が生じるものである。
9/1塩化ニツケル(NiC12・6H20)45±2
0 g/11硼酸(H2SO4)40±5 g/l その他にめっき液のpH値を3.8〜4.2の範囲に調
整するための適当量の硫酸又は塩酸及びその他の目的の
添カロ物 ここでめっき条件としてpH値は非常に重要であり、p
H値が高ければニッケルの水酸化物がめつき膜に含まれ
て密着性が悪くなり、逆にpH値が低ければ水素発生の
ためにピット(凹み)が生じ、電流効率の低下などの不
具合が生じるものである。
ところでめっき槽の電極に通電を行えば陽極と陰極では
次の反応が起る。
次の反応が起る。
陽極 Ni+SO4−2e→NtSO4(イ)N i
+ 2CA’ ==2 e→N i C12(C’)陰
極 N i +++2 e→N i (ハ
)2H++2e−+H2↑ に)上記の式
において、陽極における(イ)(ロ)式の溶解効率は通
常は1oo%近い値が得られるが、陰極においては(ハ
)式の析出効率は97%程度であり、残りの3%はに)
式に費され水素ガスが発生する。
+ 2CA’ ==2 e→N i C12(C’)陰
極 N i +++2 e→N i (ハ
)2H++2e−+H2↑ に)上記の式
において、陽極における(イ)(ロ)式の溶解効率は通
常は1oo%近い値が得られるが、陰極においては(ハ
)式の析出効率は97%程度であり、残りの3%はに)
式に費され水素ガスが発生する。
従ってめっき液中にはニッケルイオン(Ni++)漸増
し、このイオンが酸と結合して硫酸ニッケルや塩化ニッ
ケルとなり酸が減少するためにめっき液のpH値が上昇
することになる。
し、このイオンが酸と結合して硫酸ニッケルや塩化ニッ
ケルとなり酸が減少するためにめっき液のpH値が上昇
することになる。
したがって実際の操業においては絶えずpH値を測定し
その結果によって硫酸等を加えてpH値をコントロール
する必要がある。
その結果によって硫酸等を加えてpH値をコントロール
する必要がある。
また−力では漸増するニッケルイオンのためにめっき液
の濃度が増加し、再結晶化の問題も生じる。
の濃度が増加し、再結晶化の問題も生じる。
従来はめつきされる品物にめっき液が付着して外部に持
出される量があるためにめっき液中のニッケルイオンの
漸増はあまり問題にならなかったが、最近においては公
害省資源対策として品物に付着するめつき液はほぼ完全
に回収するようになったために濃度増加が問題化するよ
うになり、別途に無公害化処理をしてから廃棄する必要
が生じている。
出される量があるためにめっき液中のニッケルイオンの
漸増はあまり問題にならなかったが、最近においては公
害省資源対策として品物に付着するめつき液はほぼ完全
に回収するようになったために濃度増加が問題化するよ
うになり、別途に無公害化処理をしてから廃棄する必要
が生じている。
本発明は以上の事情にかんがみ、めっき槽のほかに電解
槽を設けてめっき液を循環させ、めっき液のpH値に応
じて電解槽にてめっき液の電解を行ってpH値のコント
ロールを行い、かつめっき液の濃度上昇を防止し、金属
ニッケルを析出回収するものである。
槽を設けてめっき液を循環させ、めっき液のpH値に応
じて電解槽にてめっき液の電解を行ってpH値のコント
ロールを行い、かつめっき液の濃度上昇を防止し、金属
ニッケルを析出回収するものである。
本発明の構成を以下に実施例の図面にもとづいて説明す
る。
る。
めっき液はめつき槽1からポンプ2によってpH測定槽
3に送られ、ここでpH測定機4によってpH値が測定
される。
3に送られ、ここでpH測定機4によってpH値が測定
される。
そしてpH測定槽3をオーバーフローしためつき液は電
解槽5に入る。
解槽5に入る。
pH測定機4によって測定されるpH値に応じた電気信
号を制御器6に導き電解電流をこの測定されたpH値に
応じた値に制御してpH値を所定の範囲に収めるもので
ある。
号を制御器6に導き電解電流をこの測定されたpH値に
応じた値に制御してpH値を所定の範囲に収めるもので
ある。
pH値が低い場合には電解する必要はないわけであるが
電極を保護するため電流密度を下げて低電解を行う。
電極を保護するため電流密度を下げて低電解を行う。
陽極7の材質は不溶性のものであればよく、白金、過酸
化鉛、グラファイト、フェライト等が使用されるが、実
施例ではチクンラスに酸化鉛(PbO2)を電着したも
のを使用した。
化鉛、グラファイト、フェライト等が使用されるが、実
施例ではチクンラスに酸化鉛(PbO2)を電着したも
のを使用した。
陰極8の材質は種板としてニッケルを使用してもよいが
実施例ではステンレス板を使用した。
実施例ではステンレス板を使用した。
電解槽に通電を行ったときの反応は次の通りで**ある
。
。
陽極 2H20−t−2S04−−4 e+02↑+2
H2SO4(ホ) 2C1l +2e−*C12↑ (へ)陰極
N i +++2 e−” N i (
ト)2H++2e+H2↑ (7)陽極での
(へ)式の反応は極くわずかであり、塩素ガスの発生は
少ない。
H2SO4(ホ) 2C1l +2e−*C12↑ (へ)陰極
N i +++2 e−” N i (
ト)2H++2e+H2↑ (7)陽極での
(へ)式の反応は極くわずかであり、塩素ガスの発生は
少ない。
したがって大部分は(ホ)式の反応がおこり硫酸が生成
することによりpH値が低下するものである。
することによりpH値が低下するものである。
電流密度と時間当りのpH変動量の関係の実測例を第4
図に示す。
図に示す。
これからあきらかなように、正常に操業されているとき
には一定範囲の電流密度であればpH値を一定に管理す
ることが可能であり、伺らかの理由でpH値が変動した
ときはそれに応じて電流密度を増力口することによりp
H値を所定の管理範囲にコントロールすることができる
ものである。
には一定範囲の電流密度であればpH値を一定に管理す
ることが可能であり、伺らかの理由でpH値が変動した
ときはそれに応じて電流密度を増力口することによりp
H値を所定の管理範囲にコントロールすることができる
ものである。
一方、陰極での金属ニッケル析出効率を実測した結果は
次の通りである。
次の通りである。
この様に(ト)式による金属ニッケル析出効率は約97
%であり、3%程度が(7)式の水素ガスの発生に費や
される。
%であり、3%程度が(7)式の水素ガスの発生に費や
される。
また硫酸ニッケルの濃度変化を電解槽設置の前後で調べ
た結果を第5図に示す。
た結果を第5図に示す。
この様に電解槽を設置することにより濃度をコントロー
ルできることは前記の反応式から当然である。
ルできることは前記の反応式から当然である。
この様にして電解されためつき液は濾過機9を通り、こ
こで陽極消耗浮遊物や陰極よりはがれたニッケルピース
等が除かれて清澄槽10に入る。
こで陽極消耗浮遊物や陰極よりはがれたニッケルピース
等が除かれて清澄槽10に入る。
しかしこれらの浮遊物等が発生する可能性がほとんどな
い場合には必すしも濾過機9を設置する必要はない。
い場合には必すしも濾過機9を設置する必要はない。
次に清澄槽10からポンプ2の送液量に相当する液量は
オーバーフロー11を経てパイプ12に導かれてめつき
槽1に還流される。
オーバーフロー11を経てパイプ12に導かれてめつき
槽1に還流される。
そして濾過機9の送液量からポンプ2の送液量を差し引
いた量は電解槽へ流れ込む。
いた量は電解槽へ流れ込む。
このとき当然ポンプ2の容量は濾過機9の容量より小さ
く設定することが必要である。
く設定することが必要である。
そしてこのポンプ2の容量は電解電流ともマツチしたも
のでなければならないのは当然である。
のでなければならないのは当然である。
以上の如く自動制御装置を備えた電解槽を設置すること
により、前記の従来の問題点を全て解決でき、かつ金属
ニッケルを回収し有効利用することによりコストダウン
にも寄与するものである。
により、前記の従来の問題点を全て解決でき、かつ金属
ニッケルを回収し有効利用することによりコストダウン
にも寄与するものである。
第1図はめつき槽1と電解槽の平面図、矢印はめつき液
の流れの方向を示す。 第2図は第1図のAA’断面図、第3図は第1図のBB
’断面図、第4図は電流密度と時間当りのpH変動量と
の関係を示す。 第5図は電解槽設置の前後における硫酸ニッケル濃度の
変化を示す。
の流れの方向を示す。 第2図は第1図のAA’断面図、第3図は第1図のBB
’断面図、第4図は電流密度と時間当りのpH変動量と
の関係を示す。 第5図は電解槽設置の前後における硫酸ニッケル濃度の
変化を示す。
Claims (1)
- 1 電解ニッケルめっきにおいて、めっき液のpH値を
険出するpH値測測定装置めつき液の電解を行う正及び
負の不溶性電極と該不溶性電極への通電電流を制御する
電解電流制御装置を備えた電解槽を設置し、該電解槽と
めつき槽との間をめっき液を循環させ、該電解槽内でめ
っき液のpH値の増大に応じて前記不溶性電極への通電
電流を増大させることにより該めっき液のpH値を自動
的に調節し、硫酸ニッケル濃度の増大を防止するととも
に、前記不溶性電極へ金属ニッケルを析出回収する方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6518276A JPS5839919B2 (ja) | 1976-06-04 | 1976-06-04 | 電解ニッケルめっき液のph調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6518276A JPS5839919B2 (ja) | 1976-06-04 | 1976-06-04 | 電解ニッケルめっき液のph調整方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS52148439A JPS52148439A (en) | 1977-12-09 |
JPS5839919B2 true JPS5839919B2 (ja) | 1983-09-02 |
Family
ID=13279506
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6518276A Expired JPS5839919B2 (ja) | 1976-06-04 | 1976-06-04 | 電解ニッケルめっき液のph調整方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5839919B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS544827A (en) * | 1977-06-15 | 1979-01-13 | Shizuoka Prefecture | Method and apparatus for controlling concentration of plating solution |
JP7105490B2 (ja) * | 2019-01-31 | 2022-07-25 | 株式会社ミズタニ産商 | めっき液調整装置 |
-
1976
- 1976-06-04 JP JP6518276A patent/JPS5839919B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS52148439A (en) | 1977-12-09 |
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