JPS5837475A - 反射炉における溶解方法 - Google Patents
反射炉における溶解方法Info
- Publication number
- JPS5837475A JPS5837475A JP13656781A JP13656781A JPS5837475A JP S5837475 A JPS5837475 A JP S5837475A JP 13656781 A JP13656781 A JP 13656781A JP 13656781 A JP13656781 A JP 13656781A JP S5837475 A JPS5837475 A JP S5837475A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reverberatory furnace
- melted
- bath water
- open well
- melting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Vertical, Hearth, Or Arc Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明に反射炉でアルミニウムや銅などケ速みやかに
効率工〈溶解する方法に関する、従来工り、銅、銅合金
、アルミニウム含金、鋳鉄などを大量に溶解するために
９反射炉が広く用−られて−る。 この反射炉に、例えば第１図おＬび第２図に示す１つな
構造となってｉる。第１図おＬび第２図において符号１
に反射炉であって、この反射炉１に、仕切壁２によって
オープンウェル部３と内室部４とに仕切られているｏＦ
Ｐ３室部４にに１図示しないバーナに工り炎が放射され
、高温の溶湯５が形放される。この浴湯５ｒｌ、仕切壁
２の下方の連通ロ６′ｆ通って、オープンウェル部３に
流れる。 オー１ンウエル部３ｒｒ、被溶解物７を投入する投入口
であり、１７ｃ溶解した浴湯５？出湯する出湯口でもあ
る。 この様す反射炉１のオープンウェル部３ ＶＣ被浴解物
７が投入されると、被溶解物７に接する浴湯５σ１元々
オープンウェル部３でにその温度が低下しており、さら
に被溶解物７にその熱を奪われ、急速に冷却されてし１
つ。この結果、被溶解物７の゛俗解速度σ非常に遅＜
ｒｘつて１４い１反射炉１の出湯量が小さくなることが
あった。このため。 反射炉１の底部外側に電磁攪拌装置８ヶ設け、これに１
つて溶湯５を強制的に攪拌し、被溶解物７の溶解速度全
高めるとともに反射炉１円の浴湯５の温度の均一化が計
られ罠。すなわち、電磁攪拌装置８が設けられた反射炉
１円の浴湯５の流れａ、第１図おＬひ第２図中矢印で示
し７ｔＬうに、内室部４の高温の溶湯５が１ずオープン
ウェル部３１Ｃ流れ、オープンウェル部３の浴湯５が内
室１４Ｆｃ戻る循環流と、炉１の底部の浴湯５が溶湯５
の表面ｒＣもりあかる１つＶＣ流れる止同流に大別され
る。 この浴＃５の流れの中に被溶解物７ｖｉ−投入すると、
被溶解物７に常に高温の溶湯５と接触
効率工〈溶解する方法に関する、従来工り、銅、銅合金
、アルミニウム含金、鋳鉄などを大量に溶解するために
９反射炉が広く用−られて−る。 この反射炉に、例えば第１図おＬび第２図に示す１つな
構造となってｉる。第１図おＬび第２図において符号１
に反射炉であって、この反射炉１に、仕切壁２によって
オープンウェル部３と内室部４とに仕切られているｏＦ
Ｐ３室部４にに１図示しないバーナに工り炎が放射され
、高温の溶湯５が形放される。この浴湯５ｒｌ、仕切壁
２の下方の連通ロ６′ｆ通って、オープンウェル部３に
流れる。 オー１ンウエル部３ｒｒ、被溶解物７を投入する投入口
であり、１７ｃ溶解した浴湯５？出湯する出湯口でもあ
る。 この様す反射炉１のオープンウェル部３ ＶＣ被浴解物
７が投入されると、被溶解物７に接する浴湯５σ１元々
オープンウェル部３でにその温度が低下しており、さら
に被溶解物７にその熱を奪われ、急速に冷却されてし１
つ。この結果、被溶解物７の゛俗解速度σ非常に遅＜
ｒｘつて１４い１反射炉１の出湯量が小さくなることが
あった。このため。 反射炉１の底部外側に電磁攪拌装置８ヶ設け、これに１
つて溶湯５を強制的に攪拌し、被溶解物７の溶解速度全
高めるとともに反射炉１円の浴湯５の温度の均一化が計
られ罠。すなわち、電磁攪拌装置８が設けられた反射炉
１円の浴湯５の流れａ、第１図おＬひ第２図中矢印で示
し７ｔＬうに、内室部４の高温の溶湯５が１ずオープン
ウェル部３１Ｃ流れ、オープンウェル部３の浴湯５が内
室１４Ｆｃ戻る循環流と、炉１の底部の浴湯５が溶湯５
の表面ｒＣもりあかる１つＶＣ流れる止同流に大別され
る。 この浴＃５の流れの中に被溶解物７ｖｉ−投入すると、
被溶解物７に常に高温の溶湯５と接触
【−１速みやかＩ
／ｃ浴解溶解、被溶解物７の溶解速度が増大する。 ところか、近時燃料単価の大巾な高騰ｖｃ工って、溶解
に要する燃料費が大きく増大し７ｊｎこのため、燃料費
の節減を目的と１て、被溶解物の俗解速度ｆＬＱ一層高
めることが、幼果に要求される−うにｒｘつ几。 この発明にこの工うな情況に鑑みてｒｘされ罠もので、
被溶解物の溶解速ｐｉを十分高めることができ、燃料費
、操業時間ｒｘどの節減が計れる反射炉におけるｌＷ解
方法ケ提供することを目的とし、！磁攪拌装置？用いて
浴湯を攪拌するとともに被溶解物が投入されるオープン
ウェル部の浴湯中にガスを吹キ込むこと？特徴と丁すも
のである。 以下５図面全参照してＣの発明の詳細な説明す、６６ 第３図に、この発明の溶解方法に用いられろ反射炉の一
例を示すもので、第１図に示１．たものと同一横取部分
には同一符号ケ付してそσ】説明を省略する。第３１！
￥３１Ｃ示した反射炉１１Ｋに、そのオープンウェル部
３の底部に送気管１２が設げられている。この送気管１
２に、図示【７ないガス圧送装置に接続されており、送
気管１２の先端部付近に穿設され几多数の送気口１３・
・・から浴湯５中にガスが吹き込ｌれる１うになってい
る。この浴湯５中に吹き込１れるガスは、一般［ｔｆｆ
空気が用いられるが、浴湯５の酸化が好ｔ Ｌ ＜ ｒ
ｘφ場今ニ汀、窒素ガス、アルゴンガスなどの不活性ガ
スが用いられる。 つぎに、このように構５ｌ−ｘれた反射炉］１’を用ｉ
て、被溶解物７を溶解する方法？説明する。電磁攪拌装
置８ｆ動作さぜ、溶湯５を攪拌する。さらに、送気管１
２にガスを送給し、ガスを溶＃５中に吹き込み、多数の
気泡１４・・・を発生させる。 この状態でオープンウェル部３に被溶解物７？投入する
と、被溶解物７の！ゎＯの溶湯５が常に攪拌されて移動
してゆ〈ｔめ、被溶解物７ａ常に新しい高温の浴湯５と
接触し、十分に加熱上れる。 ｌた。吹き込１れ友ガスに工って生じた気１’＠１１４
・・・にＬって、被溶解物７と溶湯５との接触面積が増
加【２、浴湯５から多量の熱が被溶解物゛７に伝導する
。さらＶＣ１気泡１４・・・が被溶解物７の１ゎりの、
被溶解物７に熱Ｖ与えて低温となった浴湯５をちら【５
１次々と新【、、φ高温の浴湯５を被溶解物７の周囲に
供給する。これらの作用Ｖこ工って、被溶解物７ｒｒ極
めて速やかに溶解し、溶解速度が著るしく同上する。 以下、実施例ケ示【２て、この発明を具体的！／ｃ税明
丁６６ 〔実施例〕 出力２０ＫＷ、周波数１゜５Ｈｚの電磁攪拌装置８が設
けられた容量３０トンの反射炉１１ケ用いてアルミニウ
ム合金？溶解した。この反射炉１１のオープンウェル部
３の浴湯５１Ｆ３に窒素ガスヶ圧力０．７ ｋ ｇ／ｃ
ｒｌ Ｇで供給した。この条件で１０ｋｇのアルミニウ
ム合金塊を３個オープンウェル部に投入【またところ、
６５秒で完全に溶解１゜罠。比較のため、電磁攪拌お工
ひ窒素ガスの供給を止めた場合に、１００秒で溶解した
。この結果、この反射炉１１の燃料費に１５１低減され
、出湯量に１５係向上したー 以上説明した工りに、この発明の溶解方法に、電磁攪拌
装置を用いて溶湯？攪拌するとともに、被溶解物が投入
されるオープンウェル部の溶湯中にガスを吹き込むもの
であるので、浴湯中に投入された被溶解物に、溶湯の流
れと、吹き込１れたガスから発生した気泡高って、常に
高温の浴湯と接触し、極めて速みやかに溶解丁”６１−
たがって、この溶解方法ｒｃ工れは、溶解に要する燃料
費が低減１−１反射炉の出湯量か増加するｒｘどの効果
が得られる。
／ｃ浴解溶解、被溶解物７の溶解速度が増大する。 ところか、近時燃料単価の大巾な高騰ｖｃ工って、溶解
に要する燃料費が大きく増大し７ｊｎこのため、燃料費
の節減を目的と１て、被溶解物の俗解速度ｆＬＱ一層高
めることが、幼果に要求される−うにｒｘつ几。 この発明にこの工うな情況に鑑みてｒｘされ罠もので、
被溶解物の溶解速ｐｉを十分高めることができ、燃料費
、操業時間ｒｘどの節減が計れる反射炉におけるｌＷ解
方法ケ提供することを目的とし、！磁攪拌装置？用いて
浴湯を攪拌するとともに被溶解物が投入されるオープン
ウェル部の浴湯中にガスを吹キ込むこと？特徴と丁すも
のである。 以下５図面全参照してＣの発明の詳細な説明す、６６ 第３図に、この発明の溶解方法に用いられろ反射炉の一
例を示すもので、第１図に示１．たものと同一横取部分
には同一符号ケ付してそσ】説明を省略する。第３１！
￥３１Ｃ示した反射炉１１Ｋに、そのオープンウェル部
３の底部に送気管１２が設げられている。この送気管１
２に、図示【７ないガス圧送装置に接続されており、送
気管１２の先端部付近に穿設され几多数の送気口１３・
・・から浴湯５中にガスが吹き込ｌれる１うになってい
る。この浴湯５中に吹き込１れるガスは、一般［ｔｆｆ
空気が用いられるが、浴湯５の酸化が好ｔ Ｌ ＜ ｒ
ｘφ場今ニ汀、窒素ガス、アルゴンガスなどの不活性ガ
スが用いられる。 つぎに、このように構５ｌ−ｘれた反射炉］１’を用ｉ
て、被溶解物７を溶解する方法？説明する。電磁攪拌装
置８ｆ動作さぜ、溶湯５を攪拌する。さらに、送気管１
２にガスを送給し、ガスを溶＃５中に吹き込み、多数の
気泡１４・・・を発生させる。 この状態でオープンウェル部３に被溶解物７？投入する
と、被溶解物７の！ゎＯの溶湯５が常に攪拌されて移動
してゆ〈ｔめ、被溶解物７ａ常に新しい高温の浴湯５と
接触し、十分に加熱上れる。 ｌた。吹き込１れ友ガスに工って生じた気１’＠１１４
・・・にＬって、被溶解物７と溶湯５との接触面積が増
加【２、浴湯５から多量の熱が被溶解物゛７に伝導する
。さらＶＣ１気泡１４・・・が被溶解物７の１ゎりの、
被溶解物７に熱Ｖ与えて低温となった浴湯５をちら【５
１次々と新【、、φ高温の浴湯５を被溶解物７の周囲に
供給する。これらの作用Ｖこ工って、被溶解物７ｒｒ極
めて速やかに溶解し、溶解速度が著るしく同上する。 以下、実施例ケ示【２て、この発明を具体的！／ｃ税明
丁６６ 〔実施例〕 出力２０ＫＷ、周波数１゜５Ｈｚの電磁攪拌装置８が設
けられた容量３０トンの反射炉１１ケ用いてアルミニウ
ム合金？溶解した。この反射炉１１のオープンウェル部
３の浴湯５１Ｆ３に窒素ガスヶ圧力０．７ ｋ ｇ／ｃ
ｒｌ Ｇで供給した。この条件で１０ｋｇのアルミニウ
ム合金塊を３個オープンウェル部に投入【またところ、
６５秒で完全に溶解１゜罠。比較のため、電磁攪拌お工
ひ窒素ガスの供給を止めた場合に、１００秒で溶解した
。この結果、この反射炉１１の燃料費に１５１低減され
、出湯量に１５係向上したー 以上説明した工りに、この発明の溶解方法に、電磁攪拌
装置を用いて溶湯？攪拌するとともに、被溶解物が投入
されるオープンウェル部の溶湯中にガスを吹き込むもの
であるので、浴湯中に投入された被溶解物に、溶湯の流
れと、吹き込１れたガスから発生した気泡高って、常に
高温の浴湯と接触し、極めて速みやかに溶解丁”６１−
たがって、この溶解方法ｒｃ工れは、溶解に要する燃料
費が低減１−１反射炉の出湯量か増加するｒｘどの効果
が得られる。
第１図お１ひ第２図に従来の溶解方法ｌ（用いられる反
射炉の例を示すもので、第１図に枡略構成管示す断面図
、第２図框浴湯の流れｔ示す上面図。 第３図ａこの発明の溶解方法に用いられる反射炉の一例
の概略構成？示す断面図である。 ３・・・オープンウェル部、５・・・浴＃、７・・・被
溶解物、８・・・を磁攪拌装置、１１・・・反射炉、１
２・・・送気管、１３・・・送気口、１４・・・気泡、 出願人 神 鋼 電 機 株式会社 第１ＵＡ 第２図 第３図
射炉の例を示すもので、第１図に枡略構成管示す断面図
、第２図框浴湯の流れｔ示す上面図。 第３図ａこの発明の溶解方法に用いられる反射炉の一例
の概略構成？示す断面図である。 ３・・・オープンウェル部、５・・・浴＃、７・・・被
溶解物、８・・・を磁攪拌装置、１１・・・反射炉、１
２・・・送気管、１３・・・送気口、１４・・・気泡、 出願人 神 鋼 電 機 株式会社 第１ＵＡ 第２図 第３図
Claims (1)
- 浴湯を攪拌する電磁攪拌装置か備えられた反射炉のオー
プンウェル部に被溶解物全投入して溶解するに際し、上
記オープンウェル部の浴湯中にガスヲ吹き込むこと？特
徴とする反射炉における溶解方法・
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13656781A JPS5837475A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | 反射炉における溶解方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13656781A JPS5837475A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | 反射炉における溶解方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5837475A true JPS5837475A (ja) | 1983-03-04 |
Family
ID=15178265
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13656781A Pending JPS5837475A (ja) | 1981-08-31 | 1981-08-31 | 反射炉における溶解方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5837475A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60191534U (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-19 | 三菱自動車工業株式会社 | デフキヤリア支持構造 |
-
1981
- 1981-08-31 JP JP13656781A patent/JPS5837475A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60191534U (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-19 | 三菱自動車工業株式会社 | デフキヤリア支持構造 |
| JPH035135Y2 (ja) * | 1984-05-30 | 1991-02-08 |
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