JPS5836065B2 - 耐食性ニツケルめつき方法 - Google Patents

耐食性ニツケルめつき方法

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JPS5836065B2
JPS5836065B2 JP18461480A JP18461480A JPS5836065B2 JP S5836065 B2 JPS5836065 B2 JP S5836065B2 JP 18461480 A JP18461480 A JP 18461480A JP 18461480 A JP18461480 A JP 18461480A JP S5836065 B2 JPS5836065 B2 JP S5836065B2
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JP
Japan
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plating
nickel
nickel plating
acid
corrosion
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JP18461480A
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JPS57108287A (en
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芳樹 水谷
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National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明はジルコニウムを含有させて耐食性に優れるニッ
ケルめっきを施す方法に関するものである。
ニッケルめっきは光沢性や平滑性に優れ装飾用やときに
は工業用として広く利用されているが、耐食性に劣る欠
点がある。
この耐食性の改良方法としてこれまで、例えば複層めつ
き方法、アルミナ等を含有させたコンポジットめつき方
法あるいはリンとの合金めっき方法などが提案されても
・るが、十分に満足できる耐食性をもつニッケルめっき
を得るには至ってち゛な〜゛。
本発明者は、この耐食性に優れるニッケルめっきの形或
方法を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、ある種の有機
酸で安定化させたジルコニウム酸塩ニウムを含有するめ
つき層を形成させることができ、そして、この層が優れ
た耐食性を有することを見出すに至り、本発明に到達し
た。
すなわち、本発明はニッケルめっきを施すにあたり、塩
化ニッケル20〜1 0 0 ’/t及びフツ化ジルコ
ニウム酸アンモニウム5〜1 0 0 ’/tヲ含む水
溶液にグリコール酸、グリシン及びグルコン酸の中から
選ばれた少なくとも1種の有機酸を添加しためつき浴を
用いることを特徴とする耐食性ニッケルめっき方法を提
供するものである。
本発明にお〜・ては、めっき組成のニッケル源となる塩
化ニッケルのほかジルコニウム源となるフツ化ジルコニ
ウム酸アンモニウムをめつき浴中に含有させる必要があ
り、さらに、その浴を安定化させるためにグリコール酸
、グリシン及びグルコン酸の中から選ばれた少なくとも
1種の有機酸を錯化剤として添加する必要がある。
また、このめつき浴中の塩化ニッケルの濃度は20〜1
0 0 ?/t、フツ化ジルコニウム酸アンモニウム
の濃度は5〜1 0 0 ’/tの範囲にすることが必
要である。
その濃度がそれぞれ上記範囲外であると均一で良好なめ
つき層を得ることができない。
他方、上記錯化剤は単独で又は2種以上の混合物として
用いることができるが、その添加量は、それぞれグリコ
ール酸20〜100一々、グリシンl O 〜4 0
’/l1グルコン酸2 0 〜1 0 o”l7tの範
囲内におL・て通常、加える錯化剤の全量で7ッ化ジル
コニウム酸アンモニウム1モル当り1〜3モルの割合で
ある。
との錯化剤の添加量が少なすぎると安定な浴が得られな
℃・し、また多すぎると良好なめつき層の形成を阻外す
る原因となって好ましくな〜・。
本発明において用いられるめっき浴には、前記戒分のほ
か、浴組成を安定化するためにホウ酸、塩化アンモニウ
ム、塩化カリウムなどニッケルめっき浴に常用されてい
る支持塩をlO〜6 0 ?/tの濃度で加えることが
好ましい。
また、光沢付与剤、平滑化剤、ひずみ抑制剤、ピット防
止剤などめっき浴に慣用されて〜・る助剤を所望に応じ
添加することもできる。
そして、本発明方法においては前記めっき浴を用いて被
めっき物に対し常法どおりのめつき処理が施される。
すなわち、先ず被めっき物を前記めっき液を入れためつ
き槽に配置する。
めっき槽な〜・しその方式は従来から知られているバー
レル式、ラック式あるいはベルトコンベア式などをその
まま用いることができる。
他方、電極として使用する材料については特に制限はな
いが、通常、白金、ニッケル、炭素、鉄、ステンレス鋼
、鉛、耐酸性合金などが用いられる。
次いで、通電する。
その電解条件としては、pH2.5〜5、温度30〜5
0℃、電流密度1〜10A/dm2が適当である。
このめっき処理はかきまぜながら行うことが限界電流密
度の増大、ビート生成の防止などの点で好ましい。
また、上記の電解条件下でめっきするに先立ってストラ
イク処理を行うこともできる。
このようにして、10分から1時間ほどめっき処理を行
うことにより0.05〜1多のジルコニウムを含むニッ
ケルめっき品を得ることができる。
本発明方法によりめっき可能な材料としては、金属、合
金などの導電性、ガラス、プラスチック、木材、皮革、
セラミックなどの絶縁性物質がある。
この絶縁性物質の場合は、スプレー法、スパッタリング
法、銀鏡膜法、黒鉛塗布法などの常用されてリ・る手段
によりあらかじめこれに導電性を付与しておくことが必
要である。
また、めっき処理に先立って、被めっき物は研摩、さび
とりないし脱脂などの前処理を必要に応じて施すことが
できる。
研摩方法としては、例えば、パフ研摩方法、バレル研摩
方法もしくは電解研摩方法などの公知方法を、さびとり
方法としては例えばグラインダー、やすり、サンドペー
パーなどによる機械的方法、硫酸や硝酸のような酸に浸
す化学的方法もしくはアルカリ溶液中で陰極として電解
する方法などの周知方法を脱脂方法としては、例えばア
ルカリ脱脂法、溶剤脱脂法、乳化脱脂法もしくは電解脱
脂法なとの慣用方法をそれぞれ使用することができる。
本発明によれば、美しち・金属光沢のあるち密で耐食性
に優れるニッケルめっき品を得ることができ、装飾用、
工業用のニッケルめっきに好適である。
次に実施例により本発明をさらに詳細に説明する。
実施例 1 下記の組成からなるめっき浴を調製した。
フツ化シルコニウム酸アンモ= ウム5 0 ’/t塩
化ニッケル 48(tグリシン
30り2ホウ酸
5 0 ’/tこのめっき浴中で、陰
極及び陽極に白金板を使用して、pH3.5、浴温50
℃、電流密度3A/dm2の電解条件で約20分間電解
処理した。
この結果、ジルコニウムを0.6%含む金属光沢をもつ
ち密でかつ均一なニッケルめっき白金板を得た。
次に、この含ジルコニウムニッケルめっき白金板を1規
定塩酸中に25℃で2時間浸せきし、重量減少量を調べ
た。
その結果、単位平方センナメートル当りo.io1rI
f!減少して℃・ることかわかった。
比較のために、ワット浴を用℃・て得た純ニッケルめっ
き白金板につ℃・て行った同様の塩酸浸せき試験での重
量減少量は0. 1 6 Q/crAであった。
これらの結果から、本発明方法による含ジルコニウムニ
ッケルめっき層は耐食性に優れることがわかる。
実施例 2 下記の組成からなるめっき浴を調製した。
フツ化ジルコニウム酸アンモニウム 5 0 ’/t塩
化ニッケル 4 8 ’/tグ
リコール酸 3 0 c5/tグ
リシン 1 0 ’/tホ
ウ酸 5 0 f/tこのめ
っき浴を用L・、浴温を45℃とした以外は実施例1と
同様の方法でめっき処理して、ジルコニウムを0.3%
含む金属光沢をもつち密でかつ均一なニッケルめっき白
金板を得た。
また、この含ジルコニウムニッケルめっキ白金板につL
゛て、実施例lと同様の方法で塩酸浸せき試験を行った
結果、その重量減少量は0.12′%Lであった。
実施例 3 下記の組成からなるめっき浴を調製した。
フツ化シルコニウム酸アンモニウム 塩化ニッケル グルコン酸 ホウ酸 5 0 ’/t 48匈 50 /t 50匁 このめっき浴を用(゛て、実施例2と同様の方法でめっ
き処理して、ジルコニウムを0.2%含むニッケルめっ
き白金板を得た。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ニッケルめっきを施すにあたり、塩化ニッケル20
    〜i o o tit及びフツ化ジルコニウム酸アンモ
    ニウム20〜1 0 0 ’/tを含む水溶液にグリコ
    ール酸20〜1oo17t,グリシン10〜40t/Z
    及びグルコン酸20−loo”/’,zの中から少なく
    とも1種の有機酸を添加しためつき浴と浴温30〜50
    ℃,pH 2.5〜5,電流密度l〜10A/dm2の
    めつき条件を用t゛ておこなうことを特徴とする耐食性
    ニッケルめっき方法。
JP18461480A 1980-12-23 1980-12-23 耐食性ニツケルめつき方法 Expired JPS5836065B2 (ja)

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JPS57108287A JPS57108287A (en) 1982-07-06
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP4128005B2 (ja) * 2001-12-28 2008-07-30 日本リーロナール有限会社 電気ニッケルめっき液
CN104831337B (zh) * 2015-02-05 2017-12-01 上海交通大学 一种Zr颗粒改进的电沉积纳米复合镀层及其制备方法

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JPS57108287A (en) 1982-07-06

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