JPS5832787B2 - 放熱装置 - Google Patents
放熱装置Info
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- JPS5832787B2 JPS5832787B2 JP55045802A JP4580280A JPS5832787B2 JP S5832787 B2 JPS5832787 B2 JP S5832787B2 JP 55045802 A JP55045802 A JP 55045802A JP 4580280 A JP4580280 A JP 4580280A JP S5832787 B2 JPS5832787 B2 JP S5832787B2
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- JP
- Japan
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- heat
- liquid metal
- module
- dendrite
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- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/42—Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
- H01L23/433—Auxiliary members in containers characterised by their shape, e.g. pistons
- H01L23/4338—Pistons, e.g. spring-loaded members
-
- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/373—Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
- H01L23/3733—Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon having a heterogeneous or anisotropic structure, e.g. powder or fibres in a matrix, wire mesh, porous structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
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- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73253—Bump and layer connectors
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は冷却用放熱装置に係る。
LSIバイポーラ回路においてより高い回路密度及びよ
り高い性能を得る場合の主要な困難点の1つは電気的エ
ネルギーの消費によって発生されるところのチップから
の熱を除去することであることが証明されている。
り高い性能を得る場合の主要な困難点の1つは電気的エ
ネルギーの消費によって発生されるところのチップから
の熱を除去することであることが証明されている。
設計変更を加えることなく単位チップ面積当りの回路を
増すことによって消費電力が増大することはこれと比例
してチップ動作温度が増大することを意味する。
増すことによって消費電力が増大することはこれと比例
してチップ動作温度が増大することを意味する。
これによって、比例関係ではなくてエクスポネンシャル
に装置の寿命が減じる。
に装置の寿命が減じる。
結果として、チップ及びその周辺の環境の間の熱抵抗を
減じうるようにパッケージ技術を改良することに多大の
努力がはられれてきた。
減じうるようにパッケージ技術を改良することに多大の
努力がはられれてきた。
もしもこれが成功するならば、チップの性能及び信頼度
に対して伺ら悪影響を与えることなくチップ回路密度を
増加させることができる。
に対して伺ら悪影響を与えることなくチップ回路密度を
増加させることができる。
1977年10月発刊のIBMテクニカル・ディスクロ
ージャ・フリテン(第20巻、第5号)における第17
72乃至1773頁に見られるE、 Berndlma
ier等による論文に示される装置においては、チップ
がモジュール内の密封された空洞部内に取付けられてい
る。
ージャ・フリテン(第20巻、第5号)における第17
72乃至1773頁に見られるE、 Berndlma
ier等による論文に示される装置においては、チップ
がモジュール内の密封された空洞部内に取付けられてい
る。
そしてその空洞部は蛇腹構造であって、その内部に少量
の液体状金属が入っている。
の液体状金属が入っている。
モジュール・キャンプから伸びる柱状部が、キャップに
対する熱伝導を促進するために液体状金属に対する大き
な表面積を与えるために蛇腹内において熱伝導接触した
状態で配置されている。
対する熱伝導を促進するために液体状金属に対する大き
な表面積を与えるために蛇腹内において熱伝導接触した
状態で配置されている。
そのチップからの熱伝導を促進するための一助として液
体状金属、熱伝導流体もしくはグリースのような熱伝導
媒体を用いることが1977年12月発刊のIBMテク
ニカル・ディスクロージャ・フリテン(第20巻、第6
号)における第2675乃至2676頁のA、 Arn
old等による論文において示されている。
体状金属、熱伝導流体もしくはグリースのような熱伝導
媒体を用いることが1977年12月発刊のIBMテク
ニカル・ディスクロージャ・フリテン(第20巻、第6
号)における第2675乃至2676頁のA、 Arn
old等による論文において示されている。
1978年12月発刊のIBM TDB(第21巻、
第7号)の第2910乃至2911頁におけるActo
nucciの論文においてデンドライトの制御された成
長技術がチップとモジュールにおりる基板との間の半田
ボール接続部の引張強度を増大させそして電気的抵抗を
小さくするために用いられることが示されている。
第7号)の第2910乃至2911頁におけるActo
nucciの論文においてデンドライトの制御された成
長技術がチップとモジュールにおりる基板との間の半田
ボール接続部の引張強度を増大させそして電気的抵抗を
小さくするために用いられることが示されている。
しかしながら上記の従来技術はいずれも満足なものでな
いことが証明された。
いことが証明された。
例えば半田ボール技術は、その接続部の全断面積がチッ
プの表面面積に比べて小さいので、チップから熱を取り
出すには不十分である。
プの表面面積に比べて小さいので、チップから熱を取り
出すには不十分である。
熱の大部分はチップの上部表面からの自然な熱消散によ
ってチップから取り除かれる。
ってチップから取り除かれる。
流体もしくは固体を用いる熱漬媒体を用いることによっ
て限られた範囲ではあるが冷却効率の改良が加えられた
が、それらの改良は新しいパフケージング問題の犠牲に
おいて得られた。
て限られた範囲ではあるが冷却効率の改良が加えられた
が、それらの改良は新しいパフケージング問題の犠牲に
おいて得られた。
例えば中空でないピストンを用いることによって熱膨張
不整合の故に基板が破壊するという問題を生じた。
不整合の故に基板が破壊するという問題を生じた。
流体熱伝導媒体を用いることによってその媒体のマイグ
レーション(mjgration)、モジュール素子間
の相互作用及びもしくはモジュールを封止するための問
題等が生じた。
レーション(mjgration)、モジュール素子間
の相互作用及びもしくはモジュールを封止するための問
題等が生じた。
チップの背面と密着するように配置された高熱伝導性の
固体材料からなるヒート・シンクを用いることによって
、コスト/性能に鑑み相当な改良が加えられたチップの
熱除去技術が提供される。
固体材料からなるヒート・シンクを用いることによって
、コスト/性能に鑑み相当な改良が加えられたチップの
熱除去技術が提供される。
液体状金属はその技術において更に満足すべきものであ
ることがわかった。
ることがわかった。
なぜならばそれは高い熱伝導性を示すものであって不当
な機械的圧力が加えられることなくチ゛ノブに対して密
接するように変形し且つ流動しうるからである。
な機械的圧力が加えられることなくチ゛ノブに対して密
接するように変形し且つ流動しうるからである。
更に液体金属は他に提案された熱伝導性液体及びグリー
スよりも熱伝導性が優れており且つ化学的にも安定であ
ることがわかった。
スよりも熱伝導性が優れており且つ化学的にも安定であ
ることがわかった。
しかしながら熱的な循環及び機械的な振動の影響によっ
て、液体状金属もしくは任意の他の熱伝導性流体はチッ
プ背面接合部界面から移動し、その結果として冷却効率
が減じることが発見された。
て、液体状金属もしくは任意の他の熱伝導性流体はチッ
プ背面接合部界面から移動し、その結果として冷却効率
が減じることが発見された。
更に液体状金属は熱伝導率を減じ、従ってチップの冷却
効率を減じるところの外部表面酸化フィルムを形成する
ことが発見された。
効率を減じるところの外部表面酸化フィルムを形成する
ことが発見された。
従って本発明の主な目的はパフケージング・モジュール
に取付れられたICチップの改良された冷却を実施する
優れた装置を与えることにある。
に取付れられたICチップの改良された冷却を実施する
優れた装置を与えることにある。
本発明の更に他の目的は熱伝導性流体のマイグレーショ
ンの問題が克服される改良された放熱装置を与えること
にある。
ンの問題が克服される改良された放熱装置を与えること
にある。
本発明の更に他の目的は熱伝導性流体もしくは媒体が少
くともチップの全表面に対して破壊を伴なうことなく密
接に押しつけられる優れた放熱装置を与えることにある
。
くともチップの全表面に対して破壊を伴なうことなく密
接に押しつけられる優れた放熱装置を与えることにある
。
本発明の他の目的はチップの配置が簡略化された改良さ
れた放熱冷却装置を与えることにある。
れた放熱冷却装置を与えることにある。
本発明の更に他の目的は実施が簡単でありそして従来技
術及び従来装置よりも優れたコスト/性能の改良を与え
るICチップのための改良された放熱冷却装置を与える
ことにある。
術及び従来装置よりも優れたコスト/性能の改良を与え
るICチップのための改良された放熱冷却装置を与える
ことにある。
本発明の上記の目的は、モジュールの容器内に設けられ
たデンドライト状突起を有するICチップの背面及びヒ
ート・シンク表面間に液体状金属合金の中間層を配置す
ることによって達成される。
たデンドライト状突起を有するICチップの背面及びヒ
ート・シンク表面間に液体状金属合金の中間層を配置す
ることによって達成される。
ヒート・シンク、中間液体状金属層及びデンドライト状
突起は適当な偏倚手段によってチップ表面に対して熱伝
導係合するように偏倚されてチップからモジュール・コ
ンテナへの低熱抵抗の熱伝導路を形成する。
突起は適当な偏倚手段によってチップ表面に対して熱伝
導係合するように偏倚されてチップからモジュール・コ
ンテナへの低熱抵抗の熱伝導路を形成する。
第1図は本発明に従って配置されたモジュール10を示
している。
している。
本発明の駅間を簡単にする目的から第1図においては唯
1個のチップが示されているが、複数個のICチップも
しくは同様なデバイスを含むモジュールにおいても本発
明を適用しうろことはいうまでもない。
1個のチップが示されているが、複数個のICチップも
しくは同様なデバイスを含むモジュールにおいても本発
明を適用しうろことはいうまでもない。
モジュール10はランド領域16に対して電気的に接続
されている複数個の半田ボール14上に取付けられたI
Cチップ12を有する。
されている複数個の半田ボール14上に取付けられたI
Cチップ12を有する。
ランド部16はセラミック基板18上に形成され、更に
チップ12を外部回路に接続するために基板18を通し
てのびるピン20に接続される。
チップ12を外部回路に接続するために基板18を通し
てのびるピン20に接続される。
モジュール10は気密状に密封されたパンケージを形成
するために密封手段24によって基板18のまわりに密
封されるアルミニウムもしくは他の適当な熱伝導性の材
料からなるキャンプ22によって取り巻かれている。
するために密封手段24によって基板18のまわりに密
封されるアルミニウムもしくは他の適当な熱伝導性の材
料からなるキャンプ22によって取り巻かれている。
更に中空でない金属性のヒート・シンク26が備えられ
ている。
ている。
これは図示されているように通常のバネもしくは同様の
手段からなる偏倚手段によってチップ12に向って下方
に押しつれられている。
手段からなる偏倚手段によってチップ12に向って下方
に押しつれられている。
キャップ22及びヒート・シンク26の間に係合される
偏倚手段28は熱伝導性の材料ア形成される。
偏倚手段28は熱伝導性の材料ア形成される。
チップ12とヒート・シンク26との対面する表面の間
にはそれらの間に伸びる複数個の金属性のデンドライト
突起部30が設けられている。
にはそれらの間に伸びる複数個の金属性のデンドライト
突起部30が設けられている。
このデンドライト突起部30は特開昭53−13376
3号公報に示されるようにして各チップ及びヒート・シ
ンクの表面13及び27上にメッキすることによって形
成することが好ましい。
3号公報に示されるようにして各チップ及びヒート・シ
ンクの表面13及び27上にメッキすることによって形
成することが好ましい。
上記特開昭公報に示されるように、デンドライト突起部
は高い電流密度を呈し、通常の金属イオン濃度よりも低
い濃度を呈するガルバノ浴(galvanic bat
h )を用いることによってメンキすることができる。
は高い電流密度を呈し、通常の金属イオン濃度よりも低
い濃度を呈するガルバノ浴(galvanic bat
h )を用いることによってメンキすることができる。
他の技術、例えばCVD法を用いることによってデンド
ライト突起部30を形成することが可能である。
ライト突起部30を形成することが可能である。
液体金属32からなる中間層はチップ12及びヒート・
シンク26の間に配置される。
シンク26の間に配置される。
液体状金属層32は他のモジュール素子と完全に適合す
る液体状ガリウム合金であることが好ましい。
る液体状ガリウム合金であることが好ましい。
それは動作状態のもとにおいて実質上ゼロ蒸気圧を呈し
、ヘリウム、窒息もしくはフルオロカーボンのような通
常用いられる熱伝導性流体内で分解もしくは反応しない
。
、ヘリウム、窒息もしくはフルオロカーボンのような通
常用いられる熱伝導性流体内で分解もしくは反応しない
。
そのような熱伝導性流体34がチップの冷却を更に促進
するために用いられ、モジュール10の内部空間を満た
す。
するために用いられ、モジュール10の内部空間を満た
す。
上記の如くモジュール10においてチップ12が取付け
られ、液体状金属32からなる中間層がその上部表面1
3上に、そこから上方に伸びる金属デンドライト突起部
30の上へ配置される。
られ、液体状金属32からなる中間層がその上部表面1
3上に、そこから上方に伸びる金属デンドライト突起部
30の上へ配置される。
ヒート・シンク26及び偏倚手段28が取付けられるギ
ャップ22が基板18上に適当に配置され且つ密封され
る。
ャップ22が基板18上に適当に配置され且つ密封され
る。
キャンプ22が所定の位置に配置されると、それによっ
て偏倚手段28はヒート・シンク26及びその下方に伸
びるデンドライト突起部30を液体状金属層32に対し
て突き刺すように係合させる力を加える。
て偏倚手段28はヒート・シンク26及びその下方に伸
びるデンドライト突起部30を液体状金属層32に対し
て突き刺すように係合させる力を加える。
従って液体状金属層32は2組のデンドライト突起部3
00間に挿入され、有効に保持された状態を呈する。
00間に挿入され、有効に保持された状態を呈する。
偏倚手段28によって加えられる圧力によって、液体状
金属はチップ12及びヒート・シンク26の間の空間を
満たす。
金属はチップ12及びヒート・シンク26の間の空間を
満たす。
液体状金属層32及びデンドライト突起部30の整合に
よって自動的に位置合せの動作が行なわれる。
よって自動的に位置合せの動作が行なわれる。
即ちそれによって層32は初期の保合動作の間に所定の
位置に保持され、強い表面張力の故に以後所定の位置に
機械的に保持される。
位置に保持され、強い表面張力の故に以後所定の位置に
機械的に保持される。
更に、液体状金属の、熱伝導を制限する表面酸化フィル
ムを形成する傾向が液体状金属層32内部にデンドライ
ト突起部30が存在する事によって回避される。
ムを形成する傾向が液体状金属層32内部にデンドライ
ト突起部30が存在する事によって回避される。
第2図において、液体状金属合金によって被覆されたデ
ンドライト突起部の拡大図が示される。
ンドライト突起部の拡大図が示される。
即ち一旦キャップ22が所定の位置に配置されそして密
封され、デンドライト突起部30が液体状金属層32に
対して突き刺すような関係に係合されると、チップの上
部表面13、デンドライト突起部30、液体状金属層3
2、ヒート・シンクの下方表面27、ヒート・シンク2
6、偏倚手段28を介してモジュール・キャップ22へ
向かう一体的な熱伝導路が形成される。
封され、デンドライト突起部30が液体状金属層32に
対して突き刺すような関係に係合されると、チップの上
部表面13、デンドライト突起部30、液体状金属層3
2、ヒート・シンクの下方表面27、ヒート・シンク2
6、偏倚手段28を介してモジュール・キャップ22へ
向かう一体的な熱伝導路が形成される。
これによって効率のよい、簡単な及びコストの安い方法
でチップから熱を放熱することができる。
でチップから熱を放熱することができる。
前述のように、冷却はモジュール10の内部を満たす流
体熱伝導媒体34に対して付加的な熱伝導が行なわれる
ことによって補強される。
体熱伝導媒体34に対して付加的な熱伝導が行なわれる
ことによって補強される。
第1図及び第2図はICチップを含むモジュールについ
て本発明の技術を駅間するための図である。 10・・・・・・モジュール、12・・・・・・ICチ
ップ、13・・・・・・チップ表面、14・・・・・・
半田ボール、16・・・・・・ランド部、18・・・・
・基板、20・・・・・・ピン、22・・・・・・キャ
ップ、24・・・・・・密封手段、26・・・・・・ヒ
ート・シンク、27・・・・・・ヒート・シンク表面、
28・・・・・・偏倚手段、30・・・・・・金属デン
ドライト突起部、32・・・・・液体状金属層。
て本発明の技術を駅間するための図である。 10・・・・・・モジュール、12・・・・・・ICチ
ップ、13・・・・・・チップ表面、14・・・・・・
半田ボール、16・・・・・・ランド部、18・・・・
・基板、20・・・・・・ピン、22・・・・・・キャ
ップ、24・・・・・・密封手段、26・・・・・・ヒ
ート・シンク、27・・・・・・ヒート・シンク表面、
28・・・・・・偏倚手段、30・・・・・・金属デン
ドライト突起部、32・・・・・液体状金属層。
Claims (1)
- 1 発熱性の電子素子及びヒート・シンクの相対する面
にそれぞれ多数の互いに咬み合うテンドライド状突起を
形成し、かつ上記発熱性電子素子と上記ヒート・シンク
との間に液体状金属を配置してなることを特徴とする電
子素子用放熱装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/050,390 US4254431A (en) | 1979-06-20 | 1979-06-20 | Restorable backbond for LSI chips using liquid metal coated dendrites |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS564257A JPS564257A (en) | 1981-01-17 |
JPS5832787B2 true JPS5832787B2 (ja) | 1983-07-15 |
Family
ID=21964986
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55045802A Expired JPS5832787B2 (ja) | 1979-06-20 | 1980-04-09 | 放熱装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4254431A (ja) |
EP (1) | EP0020981B1 (ja) |
JP (1) | JPS5832787B2 (ja) |
DE (1) | DE3065445D1 (ja) |
Families Citing this family (57)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1983002363A1 (en) * | 1981-12-29 | 1983-07-07 | Hassan, Javathu, K. | Cooling means for integrated circuit chip device |
EP0130279B1 (en) * | 1983-03-25 | 1989-03-08 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Heat radiator assembly for cooling electronic parts |
JPH0673364B2 (ja) * | 1983-10-28 | 1994-09-14 | 株式会社日立製作所 | 集積回路チップ冷却装置 |
USRE35721E (en) * | 1983-12-14 | 1998-02-03 | Hitachi, Ltd. | Cooling device of semiconductor chips |
JPS60126853A (ja) * | 1983-12-14 | 1985-07-06 | Hitachi Ltd | 半導体デバイス冷却装置 |
JPS60160149A (ja) * | 1984-01-26 | 1985-08-21 | Fujitsu Ltd | 集積回路装置の冷却方式 |
JPH06101523B2 (ja) * | 1985-03-04 | 1994-12-12 | 株式会社日立製作所 | 集積回路チツプ冷却装置 |
US4924353A (en) * | 1985-12-20 | 1990-05-08 | Hughes Aircraft Company | Connector system for coupling to an integrated circuit chip |
US4800956A (en) * | 1986-04-25 | 1989-01-31 | Digital Equipment Corporation | Apparatus and method for removal of heat from packaged element |
US4730666A (en) * | 1986-04-30 | 1988-03-15 | International Business Machines Corporation | Flexible finned heat exchanger |
US5022462A (en) * | 1986-04-30 | 1991-06-11 | International Business Machines Corp. | Flexible finned heat exchanger |
US4768581A (en) * | 1987-04-06 | 1988-09-06 | International Business Machines Corporation | Cooling system for semiconductor modules |
GB2214719B (en) * | 1988-01-26 | 1991-07-24 | Gen Electric Co Plc | Housing for electronic device |
US5137461A (en) * | 1988-06-21 | 1992-08-11 | International Business Machines Corporation | Separable electrical connection technology |
US5185073A (en) * | 1988-06-21 | 1993-02-09 | International Business Machines Corporation | Method of fabricating nendritic materials |
US5089936A (en) * | 1988-09-09 | 1992-02-18 | Hitachi, Ltd. | Semiconductor module |
US5291371A (en) * | 1990-04-27 | 1994-03-01 | International Business Machines Corporation | Thermal joint |
US5265670A (en) * | 1990-04-27 | 1993-11-30 | International Business Machines Corporation | Convection transfer system |
US5118299A (en) * | 1990-05-07 | 1992-06-02 | International Business Machines Corporation | Cone electrical contact |
US5131456A (en) * | 1991-07-01 | 1992-07-21 | Ibm Corporation | Bimetallic insert fin for high conduction cooling structure |
US5213868A (en) * | 1991-08-13 | 1993-05-25 | Chomerics, Inc. | Thermally conductive interface materials and methods of using the same |
US5146981A (en) * | 1991-11-14 | 1992-09-15 | Digital Equipment Corporation | Substrate to heatsink interface apparatus and method |
US5201866A (en) * | 1992-02-03 | 1993-04-13 | International Business Machines Corporation | Structure for dissipation of heat having slidably engaged fins for conformal disposition against a heat generating surface |
US5268814A (en) * | 1992-05-20 | 1993-12-07 | International Business Machines Corporation | Module packaging |
US5283467A (en) * | 1992-06-05 | 1994-02-01 | Eaton Corporation | Heat sink mounting system for semiconductor devices |
JPH0846098A (ja) * | 1994-07-22 | 1996-02-16 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 直接的熱伝導路を形成する装置および方法 |
US5808874A (en) | 1996-05-02 | 1998-09-15 | Tessera, Inc. | Microelectronic connections with liquid conductive elements |
US5786635A (en) * | 1996-12-16 | 1998-07-28 | International Business Machines Corporation | Electronic package with compressible heatsink structure |
DE19732738A1 (de) * | 1997-07-30 | 1999-02-04 | Asea Brown Boveri | Leistungshalbleiterbauelemente mit druckausgleichender Kontaktplatte |
US6108208A (en) * | 1997-12-08 | 2000-08-22 | Unisys Corporation | Testing assembly having a pressed joint with a single layer of thermal conductor which is reused to sequentially test multiple circuit modules |
US6211566B1 (en) * | 1998-03-24 | 2001-04-03 | Sun Microsystems, Inc. | Method and apparatus to improve the thermal interface between a heat sink and a semiconductor |
US6281573B1 (en) | 1998-03-31 | 2001-08-28 | International Business Machines Corporation | Thermal enhancement approach using solder compositions in the liquid state |
US6331119B1 (en) | 1999-12-28 | 2001-12-18 | International Business Machines Corporation | Conductive adhesive having a palladium matrix interface between two metal surfaces |
US6372997B1 (en) * | 2000-02-25 | 2002-04-16 | Thermagon, Inc. | Multi-layer structure and method for forming a thermal interface with low contact resistance between a microelectronic component package and heat sink |
US6984685B2 (en) * | 2000-04-05 | 2006-01-10 | The Bergquist Company | Thermal interface pad utilizing low melting metal with retention matrix |
US6339120B1 (en) | 2000-04-05 | 2002-01-15 | The Bergquist Company | Method of preparing thermally conductive compounds by liquid metal bridged particle clusters |
US6797758B2 (en) * | 2000-04-05 | 2004-09-28 | The Bergquist Company | Morphing fillers and thermal interface materials |
EP1350276A2 (en) * | 2000-10-25 | 2003-10-08 | Washington State University Research Foundation | Piezoelectric micro-transducers, methods of use and manufacturing methods for same |
US7385821B1 (en) | 2001-12-06 | 2008-06-10 | Apple Inc. | Cooling method for ICS |
DE10159860C2 (de) * | 2001-12-06 | 2003-12-04 | Sdk Technik Gmbh | Wärmeübertragungsfläche mit einer aufgalvanisierten Mikrostruktur von Vorsprüngen |
WO2004047133A2 (en) * | 2002-11-18 | 2004-06-03 | Washington State University Research Foundation | Thermal switch, methods of use and manufacturing methods for same |
US7288839B2 (en) * | 2004-02-27 | 2007-10-30 | International Business Machines Corporation | Apparatus and methods for cooling semiconductor integrated circuit package structures |
US7188667B2 (en) * | 2004-07-29 | 2007-03-13 | International Business Machines Corporation | Liquid cooling structure for electronic device |
US20060060328A1 (en) * | 2004-09-21 | 2006-03-23 | Ingo Ewes | Heat-transfer devices |
US7408780B2 (en) * | 2005-06-14 | 2008-08-05 | International Business Machines Corporation | Compliant thermal interface structure utilizing spring elements with fins |
US7709951B2 (en) * | 2007-03-16 | 2010-05-04 | International Business Machines Corporation | Thermal pillow |
US7763973B1 (en) * | 2007-04-05 | 2010-07-27 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Integrated heat sink for a microchip |
JP5243975B2 (ja) * | 2008-02-04 | 2013-07-24 | 新光電気工業株式会社 | 熱伝導部材を有する半導体パッケージ放熱用部品及びその製造方法 |
JP5082970B2 (ja) * | 2008-03-25 | 2012-11-28 | 富士通株式会社 | 回路基板装置 |
WO2015064240A1 (ja) * | 2013-10-29 | 2015-05-07 | ポリマテック・ジャパン株式会社 | 液体封入放熱部材 |
US9939210B2 (en) * | 2014-09-29 | 2018-04-10 | International Business Machines Corporation | Pin fin compliant heat sink with enhanced flexibility |
GB2543549B (en) * | 2015-10-21 | 2020-04-15 | Andor Tech Limited | Thermoelectric Heat pump system |
JP6638338B2 (ja) * | 2015-11-11 | 2020-01-29 | Tdk株式会社 | 支持部材および電源装置 |
JP7203214B2 (ja) * | 2018-10-19 | 2023-01-12 | ヒタチ・エナジー・スウィツァーランド・アクチェンゲゼルシャフト | 浮動性実装を有する電力半導体装置 |
CN113257759A (zh) * | 2020-02-10 | 2021-08-13 | 华为技术有限公司 | 散热器、单板、电子设备及制造方法 |
CN114024048B (zh) * | 2021-11-04 | 2024-02-06 | 中南大学 | 锂离子电池负极析锂的恢复方法 |
CN115692345A (zh) * | 2023-01-03 | 2023-02-03 | 成都天成电科科技有限公司 | 一种芯片高效散热结构及散热设备 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3226608A (en) * | 1959-06-24 | 1965-12-28 | Gen Electric | Liquid metal electrical connection |
US3248615A (en) * | 1963-05-13 | 1966-04-26 | Bbc Brown Boveri & Cie | Semiconductor device with liquidized solder layer for compensation of expansion stresses |
US3271638A (en) * | 1963-11-04 | 1966-09-06 | Emil M Murad | Encased semiconductor with heat conductive and protective insulative encapsulation |
US3328642A (en) * | 1964-06-08 | 1967-06-27 | Sylvania Electric Prod | Temperature control means utilizing a heat reservoir containing meltable material |
CS182611B1 (en) * | 1976-03-18 | 1978-04-28 | Pavel Reichel | Power semiconducting element |
-
1979
- 1979-06-20 US US06/050,390 patent/US4254431A/en not_active Expired - Lifetime
-
1980
- 1980-04-09 JP JP55045802A patent/JPS5832787B2/ja not_active Expired
- 1980-05-09 EP EP80102576A patent/EP0020981B1/de not_active Expired
- 1980-05-09 DE DE8080102576T patent/DE3065445D1/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0020981A1 (de) | 1981-01-07 |
EP0020981B1 (de) | 1983-11-02 |
DE3065445D1 (en) | 1983-12-08 |
US4254431A (en) | 1981-03-03 |
JPS564257A (en) | 1981-01-17 |
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