JPS5829945B2 - アントラキノンスルホンアミド及びその製法並びに該化合物を使用する硫化水素の除去方法 - Google Patents
アントラキノンスルホンアミド及びその製法並びに該化合物を使用する硫化水素の除去方法Info
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規アントラキノンスルホンアミド及びその製
法に関する。
法に関する。
本発明によれば次式I
(式中、Aはメチレン基又はエチレン基を表わしBは−
503M基を表わし、Mはアルカリ金属を表わし;Rは
水素原子またはアルカリ金属を表わす。
503M基を表わし、Mはアルカリ金属を表わし;Rは
水素原子またはアルカリ金属を表わす。
)で表わされるアントラキノンスルホンアミドが提供さ
れる。
れる。
特に好ましい化合物は、Mがすトリウム又はカリウムを
表わし、Rが水素原子、ナトリウム又はカリウムを表わ
す化合物である。
表わし、Rが水素原子、ナトリウム又はカリウムを表わ
す化合物である。
一般式■に含まれる化合物としては例えば次の化合物が
挙げられるが、これらに限定されない。
挙げられるが、これらに限定されない。
R=H
N −N′−ビススルホメチルアントラキノン−1・5
−ジスルホンアミド N−N’−−ビススルホメチルアントラキノン−1・6
−ジスルホンアミド N−N′−ビススルホメチルアントラキノン−1・7−
ジスルホンアミド N−N′−ビススルホメチルアントラキノン−2・6−
ジスルホンアミド N−N’−ビススルホメチルアントラキノン−2・7−
ジスルホンアミド N−N’−ビススルホ−2−エチルアントラキノン−1
・5−ジスルホンアミド N−N’−ビススルホ−2−エチルアントラキノントロ
−ジスルホンアミド N −N′−ビススルホ−2−エチルアンl−ラキノン
ト7−ジスルホンアミド N−N′−ビススルホ−2−エチルアントラキノン2・
6−ジスルホンアミド N−N’−ビススルホ−2−エチルアントラキノン2・
7−ジスルホンアミド 特に好ましい化合物としては次の化合物が挙げられる: N−N’−ビススルホメチルアントラキノン−2・6−
ジスルホンアミド N−N’−ビススルホメチルアントラキノン−2・7−
ジスルホンアミド またはこれら化合物の所望割合の混合物、N−N′−ビ
ススルホ−2−エチルアンl−フキノン2・6−ジスル
ホンアミド N−N’−ビススルホ−2−エチルアントラキノン=2
・7−ジスルホンアミドまたはこれら化合物の所望割合
の混合物。
−ジスルホンアミド N−N’−−ビススルホメチルアントラキノン−1・6
−ジスルホンアミド N−N′−ビススルホメチルアントラキノン−1・7−
ジスルホンアミド N−N′−ビススルホメチルアントラキノン−2・6−
ジスルホンアミド N−N’−ビススルホメチルアントラキノン−2・7−
ジスルホンアミド N−N’−ビススルホ−2−エチルアントラキノン−1
・5−ジスルホンアミド N−N’−ビススルホ−2−エチルアントラキノントロ
−ジスルホンアミド N −N′−ビススルホ−2−エチルアンl−ラキノン
ト7−ジスルホンアミド N−N′−ビススルホ−2−エチルアントラキノン2・
6−ジスルホンアミド N−N’−ビススルホ−2−エチルアントラキノン2・
7−ジスルホンアミド 特に好ましい化合物としては次の化合物が挙げられる: N−N’−ビススルホメチルアントラキノン−2・6−
ジスルホンアミド N−N’−ビススルホメチルアントラキノン−2・7−
ジスルホンアミド またはこれら化合物の所望割合の混合物、N−N′−ビ
ススルホ−2−エチルアンl−フキノン2・6−ジスル
ホンアミド N−N’−ビススルホ−2−エチルアントラキノン=2
・7−ジスルホンアミドまたはこれら化合物の所望割合
の混合物。
更に式Iで表わされる化合物の例としては、上記化合物
全てのアルカリ金属、特にナトリウム又はカリウムの塩
が挙げられる。
全てのアルカリ金属、特にナトリウム又はカリウムの塩
が挙げられる。
Rが水素原子を表わす式■で表わされる化合物は、次式
■: 02S (III) (式中、Xは・・ロゲン原子、特に塩素原子を表わす。
■: 02S (III) (式中、Xは・・ロゲン原子、特に塩素原子を表わす。
)で表わされる相当するアントラキノンスルホニルハラ
イドを、次式■: (TII) H−N−A−B (式中、A及びBは前記の意味を表わす。
イドを、次式■: (TII) H−N−A−B (式中、A及びBは前記の意味を表わす。
)で表わされる化合物と反応させることによって製造す
ることができる。
ることができる。
反応は、20℃以下のアルカリ水溶液と水溶性エーテル
からなる溶媒系に式■で表わされる化合物を溶解させた
溶液に式■で表わされる化合物を添加することによって
好都合に実施することができろ3、反応時間は状況に応
じて変化するが、1ないし12時間であるのが好都合で
ある。
からなる溶媒系に式■で表わされる化合物を溶解させた
溶液に式■で表わされる化合物を添加することによって
好都合に実施することができろ3、反応時間は状況に応
じて変化するが、1ないし12時間であるのが好都合で
ある。
水溶性エーテルとしては例えばテトラヒドロフランが挙
げられる。
げられる。
式■で表わされる化合物は、コツレフ(Kozlev、
”等によるジャーナル オブ ジェネラル ケミストリ
ー オブ ラツシャン(J 、 Gen 、 Chem
。
”等によるジャーナル オブ ジェネラル ケミストリ
ー オブ ラツシャン(J 、 Gen 、 Chem
。
Ru5s、) 1947.17.289に記載の方法
によって製造することができる。
によって製造することができる。
Aが−CH2−を表わす式■で表わされる化合0プ元η
L寸ンうごコニhv。
L寸ンうごコニhv。
(IV)
(式中、Rは前記の意味を表わす。
)で表わされる相当するアントラキノンスルホンアミド
を、次式■: 0CH2B (V) (式中、Bは前記の意味を表わす。
を、次式■: 0CH2B (V) (式中、Bは前記の意味を表わす。
)で表わされる化合物と反応させることによっても製造
することもできる。
することもできる。
反応は式へ7で表わされる化合物の水溶液に式■で表わ
される化合物を添加し、100℃までの温度に加熱する
ことによって好都合に実施することができる。
される化合物を添加し、100℃までの温度に加熱する
ことによって好都合に実施することができる。
反応時間は状況に応じて変化するが1ないし12時間で
あるのが好都合である。
あるのが好都合である。
反応温度は60fxL・し80°Cであるのが好ましL
・。
・。
Bが一803Naを表わす式Vで表わされる化合物は、
ホルムアルデヒドと亜硫酸水素ナトリウムの80℃の水
溶液から好都合に製造することができる。
ホルムアルデヒドと亜硫酸水素ナトリウムの80℃の水
溶液から好都合に製造することができる。
この場合に式Iで表わされる化合物は、通常は式■で表
わされる化合物の溶液に式■で表わされる化合物を添加
することにより製造される。
わされる化合物の溶液に式■で表わされる化合物を添加
することにより製造される。
式■で表わされる化合物は、ティアール、レニンクラ(
Tr、 Leningr 、)著のKhim−Farm
atseut 、 In5t、 、1960.11.4
8に記載の方法によって製造することができろ。
Tr、 Leningr 、)著のKhim−Farm
atseut 、 In5t、 、1960.11.4
8に記載の方法によって製造することができろ。
式Iで表わされる化合物は、ガスから硫化水素を除去す
るために使用され、そして染料化学品、農業用化学品若
しくは薬剤の中間体として使用することもできる。
るために使用され、そして染料化学品、農業用化学品若
しくは薬剤の中間体として使用することもできる。
ガスから硫黄として硫化水素を除去することは英国特許
第871233号及び第948270号公報に記載され
、この公報中では成る種のアンl、ラキノンジスルホン
酸が使用されている。
第871233号及び第948270号公報に記載され
、この公報中では成る種のアンl、ラキノンジスルホン
酸が使用されている。
驚くべきことに本発明者等は後記する成る種のアントラ
キノンスルボンアミドが上記特許公報に記載の方法にお
いてガス中から硫化水素を硫黄として除去するために使
用するアントラキノンジスルホン酸に比して少くとも良
好または優れた活性を有することを見出した。
キノンスルボンアミドが上記特許公報に記載の方法にお
いてガス中から硫化水素を硫黄として除去するために使
用するアントラキノンジスルホン酸に比して少くとも良
好または優れた活性を有することを見出した。
本発明による式Iで表わされる1種以上のアントラキノ
ンスルホンアミドを使用したアルカリ水溶液でガスまた
はガス混合物を洗浄し、その際硫化水素を酸化し、硫黄
を遊離させ、そして還元されたアントラキノンスルホン
アミドは、遊離酸素または遊離酸素を含有するガスと接
触させろことにより酸化させることよりなる前記ガスま
たはガス混合物中の硫化水素を吸収し、その後硫黄とし
て除去する方法が提供される。
ンスルホンアミドを使用したアルカリ水溶液でガスまた
はガス混合物を洗浄し、その際硫化水素を酸化し、硫黄
を遊離させ、そして還元されたアントラキノンスルホン
アミドは、遊離酸素または遊離酸素を含有するガスと接
触させろことにより酸化させることよりなる前記ガスま
たはガス混合物中の硫化水素を吸収し、その後硫黄とし
て除去する方法が提供される。
上記式Iで表わされる化合物のアルカリ水溶液はまた少
くとも二種の原子価状態を取りうる金属の化合物、例え
ばバナジウム化合物および必要に応じてこのような金属
化合物を溶液状態に保持するためのキレ−1・剤または
金属イオン封鎖剤を含有してもよい。
くとも二種の原子価状態を取りうる金属の化合物、例え
ばバナジウム化合物および必要に応じてこのような金属
化合物を溶液状態に保持するためのキレ−1・剤または
金属イオン封鎖剤を含有してもよい。
このような溶液は硫化水素の吸収およびこれを硫黄に変
換させるために適している。
換させるために適している。
バナジウム化合物は、アンモニアまたはアルカリ金属の
オルト−、メタ−またはピロバナデート、例えばソジウ
ム アンモニウム バナデ−+4たはソジウム オルト
バナデートであり得る。
オルト−、メタ−またはピロバナデート、例えばソジウ
ム アンモニウム バナデ−+4たはソジウム オルト
バナデートであり得る。
少くとも2種の原子価状態を取りうる金属の化合物とし
て、バナジウム化合物を使用する場合は、式Iで表わさ
れる化合物対バナジウム化合物の有効割合は、バナジウ
ム対硫化水素の割合が2:1である限り、重量で3:1
なL・し1:2、好まし(は2:1ないし1:1そして
特に2:1.5の範囲内であるのが好都合である。
て、バナジウム化合物を使用する場合は、式Iで表わさ
れる化合物対バナジウム化合物の有効割合は、バナジウ
ム対硫化水素の割合が2:1である限り、重量で3:1
なL・し1:2、好まし(は2:1ないし1:1そして
特に2:1.5の範囲内であるのが好都合である。
塩化物イオンの存在は硫化水素を硫黄として除去する処
理設備を腐蝕させ得るので、化合物■と■との反応によ
る式Iで表わされる化合物の製造法は、実質上塩化物イ
オンを含まない生成物を与える方法が有利である。
理設備を腐蝕させ得るので、化合物■と■との反応によ
る式Iで表わされる化合物の製造法は、実質上塩化物イ
オンを含まない生成物を与える方法が有利である。
式Iで表わされるアントラキノン2・6−及び2・7−
ジスルホンアミド混合物の特に有利な点は、これらが相
当するジスルホン酸の混合物に比べて改善された溶解性
を有することである。
ジスルホンアミド混合物の特に有利な点は、これらが相
当するジスルホン酸の混合物に比べて改善された溶解性
を有することである。
次に例を挙げて本発明を更に説明する。
例1
水300部中のホルムアルデヒド亜餅1.酸水素すl・
リウム76,9部と水酸化ナトリウj、229部を、攪
拌機、温度計及び冷却器を備えた三ツロフラスコに入れ
、そして溶液を70℃に加熱した。
リウム76,9部と水酸化ナトリウj、229部を、攪
拌機、温度計及び冷却器を備えた三ツロフラスコに入れ
、そして溶液を70℃に加熱した。
アントラキノン−2・6/2・7−ジスルホンアミドの
1:J混合物105部を分割して加え、得られた混合物
を70℃で3時間加熱した。
1:J混合物105部を分割して加え、得られた混合物
を70℃で3時間加熱した。
得られた溶液から溶媒を留去して、融点〉300℃、(
500℃で分解)で次の分析値を有する暗褐色のテトラ
ソジウムN −N’−ジスルホノーメチルアントラキノ
ン−2・6/2・7−ジスルホンアミド171.4部を
得た。
500℃で分解)で次の分析値を有する暗褐色のテトラ
ソジウムN −N’−ジスルホノーメチルアントラキノ
ン−2・6/2・7−ジスルホンアミド171.4部を
得た。
炭素259%、水素22%、窒素4.1%;硫黄17.
7%;ナトリウム132%;C10,1%:so、i
16.9%;水分含量5.4%。
7%;ナトリウム132%;C10,1%:so、i
16.9%;水分含量5.4%。
例 2(実施例)
攪拌機、温度計、冷却器及びpH電極を備えた四ツ目フ
ラスコに、水50部とテトラヒドロフランI、 5 o
剤中のアミノメタンスルホン酸44部と水酸化ナトリウ
ム1.6部を入れた。
ラスコに、水50部とテトラヒドロフランI、 5 o
剤中のアミノメタンスルホン酸44部と水酸化ナトリウ
ム1.6部を入れた。
アントラキノン−2・6−ジスルホニルクロライド8部
を分割して加え、8規定水酸化ナトリウム溶液を添加し
ながらpHを11.5に維持し、そして氷冷しながら温
度を20℃以下に維持した。
を分割して加え、8規定水酸化ナトリウム溶液を添加し
ながらpHを11.5に維持し、そして氷冷しながら温
度を20℃以下に維持した。
得られた溶液から溶媒を留去して融点〉300℃、46
0℃で分解、で次の分析値を右するカラン色のジソジウ
ムN−N’−ジ−スルホメチルアントラキノン−2・6
−ジスルホンアミド14.2部を得た。
0℃で分解、で次の分析値を右するカラン色のジソジウ
ムN−N’−ジ−スルホメチルアントラキノン−2・6
−ジスルホンアミド14.2部を得た。
炭素24.1%;水素2.0%;窒素31%;硫黄15
7%;ナトリウ、s15.8%:C1−8,0%及び5
o412.7%。
7%;ナトリウ、s15.8%:C1−8,0%及び5
o412.7%。
例 3(実施例)
水100部とテトラヒドロフラン160部中のタウリン
10部と水酸化ナトリウム3.2部とを例2に記載の四
ツ目フラスコに入れた。
10部と水酸化ナトリウム3.2部とを例2に記載の四
ツ目フラスコに入れた。
アントラキノン−2・6−ジスルホニルクロライド16
部を分割して加え、8規定水酸化ナトリウム溶液でpH
を125に維持し、氷冷しながら温度を20℃以下に維
持した。
部を分割して加え、8規定水酸化ナトリウム溶液でpH
を125に維持し、氷冷しながら温度を20℃以下に維
持した。
得られた溶液から溶媒を留去して、融点〉300°C1
625℃で分解、で次の分析値を有する褐色のジンジウ
ム−N−N′−ジスルホノエチルアントラキノン−2・
6−ジスルホンアミド345部を得た。
625℃で分解、で次の分析値を有する褐色のジンジウ
ム−N−N′−ジスルホノエチルアントラキノン−2・
6−ジスルホンアミド345部を得た。
炭素30.9%;水素2,6%;窒素31%;硫黄16
.7%:ナトリウム7.4%;C1−5,9%及びso
7 7.2%。
.7%:ナトリウム7.4%;C1−5,9%及びso
7 7.2%。
例4
水250部中のアミノメタンスルボン酸4.4部と水酸
化ナトリウム16部とを例2に記載の四ツ目フラスコに
L・れた。
化ナトリウム16部とを例2に記載の四ツ目フラスコに
L・れた。
アンI・ラキノン−2・6/2・7−ジスルホニルクロ
ライドの1:1混合物8部を分割して加えた。
ライドの1:1混合物8部を分割して加えた。
pHを15時間または完全な溶液が得られるまでの間8
規定水酸化ナトIJウムで118に維持した。
規定水酸化ナトIJウムで118に維持した。
この溶液から溶媒を留去して融点〉300℃で次の分析
値を有する褐色のテトラソジウムN−N′−ジスルポノ
メチルアントラギノン2・6/2・7−ジスルホンアミ
ドを得た。
値を有する褐色のテトラソジウムN−N′−ジスルポノ
メチルアントラギノン2・6/2・7−ジスルホンアミ
ドを得た。
炭素218%;水素17%;窒素24%;硫黄139%
;ナトリウム198%;C1−10,2%及びso防2
1.2%。
;ナトリウム198%;C1−10,2%及びso防2
1.2%。
例5
水50部とテトラヒドロフラン34部中のタウリン6.
2部と水酸化ナト99182部を例2に記載の四ツ目フ
ラスコにいれた。
2部と水酸化ナト99182部を例2に記載の四ツ目フ
ラスコにいれた。
アントラキノン−2・6/2・7−ジスルホニルクロラ
イドのi : 1混合物10部を分割して加え、8規定
水酸化ナトリウム溶液でpHを131に維持し、そして
水冷しながら温度を20℃以下に維持した。
イドのi : 1混合物10部を分割して加え、8規定
水酸化ナトリウム溶液でpHを131に維持し、そして
水冷しながら温度を20℃以下に維持した。
得られた溶液から溶媒を留去して、融点〉300℃で次
の分析値を有する褐黒色のテトラソジウムーN−N’ジ
スルホノエチルーアントラキノン−2・6/2・7−ジ
スルホンアミド213部を得た。
の分析値を有する褐黒色のテトラソジウムーN−N’ジ
スルホノエチルーアントラキノン−2・6/2・7−ジ
スルホンアミド213部を得た。
炭素233%;水素2.6%、窒素31%;硫黄144
%;ナトリウム147%;C17,9%及びso:
4.5%。
%;ナトリウム147%;C17,9%及びso:
4.5%。
例6
攪拌機、温度計、冷却器及びpH電極を備えた四ツ[]
フラスコに、水100部とテトラヒドロフラン100部
中のグリシン6部と水酸化すトリウム3.2部をいれた
。
フラスコに、水100部とテトラヒドロフラン100部
中のグリシン6部と水酸化すトリウム3.2部をいれた
。
アントラキノン−2・6/2・7−ジスルホニルクロラ
イドの1;1混合物16部を分割して加え、8規定水酸
化ナトリウム溶液を添加してpHを12,3に維持し、
水冷しながら温度を20℃以下に維持した。
イドの1;1混合物16部を分割して加え、8規定水酸
化ナトリウム溶液を添加してpHを12,3に維持し、
水冷しながら温度を20℃以下に維持した。
得られた溶液から溶媒を留去して融点〜250 ’C(
分解)の黒色のテトラカリウム塩 −N’−ジカルボキ
シメチルアントラキノン2・6−/2・7−ジスルホン
アミド287部を得た。
分解)の黒色のテトラカリウム塩 −N’−ジカルボキ
シメチルアントラキノン2・6−/2・7−ジスルホン
アミド287部を得た。
例7
水20部中のホルムアルデヒド亜硫酸水素ナトリウム4
部と水酸化ナトリウム1.2部とを例1に記載した方法
でアントラキノン−2・7−ジスルホンアミ15.6部
で処理した。
部と水酸化ナトリウム1.2部とを例1に記載した方法
でアントラキノン−2・7−ジスルホンアミ15.6部
で処理した。
得られた溶液から溶媒を留去して、融点〉250℃で次
の分析値を有する暗褐色のN−N′−ジスルホツメチル
アントラキノン−2・7−ジスルホンアミドのナトリウ
ム塩6.5部を得た。
の分析値を有する暗褐色のN−N′−ジスルホツメチル
アントラキノン−2・7−ジスルホンアミドのナトリウ
ム塩6.5部を得た。
炭素16.3%;水素2.3%;窒素36%;硫黄19
5%;ナトリウム14.4%;C1−<0.1%及びs
oj 14.0%。
5%;ナトリウム14.4%;C1−<0.1%及びs
oj 14.0%。
例8
水20部中のホルムアルデヒド亜硫酸水素すI・リウム
3.7部と水酸化ナトリウム1.1部とを例1に記載し
た方法でアントラキノン−1・5−ジスルホンアミド5
部で処理した。
3.7部と水酸化ナトリウム1.1部とを例1に記載し
た方法でアントラキノン−1・5−ジスルホンアミド5
部で処理した。
得られた溶液から溶媒を留去して、融点〉300℃で次
の分析値を有する黒色のN−N′−ジスルホツメチルア
ントラキノン−1・5−ジスルホンアミドのナトリウム
塩65部を得た。
の分析値を有する黒色のN−N′−ジスルホツメチルア
ントラキノン−1・5−ジスルホンアミドのナトリウム
塩65部を得た。
炭素20.2%;水素2.1%;窒素3.7%;硫黄1
8.2%;すl・リウム15.5%;C1−0,9%;
SO防−169%及び水分含量8.2%。
8.2%;すl・リウム15.5%;C1−0,9%;
SO防−169%及び水分含量8.2%。
例9
水40部中のホルムアルデヒド亜硫酸水素ナトリウム6
.1部と水酸化ナトリウム1.8部を、例1に記載した
方法でアントラキノン−1・6/1・7−ジスルホンア
ミドの混合物84部で処理した。
.1部と水酸化ナトリウム1.8部を、例1に記載した
方法でアントラキノン−1・6/1・7−ジスルホンア
ミドの混合物84部で処理した。
得られた溶液から溶媒を留去して、融点〉300℃で次
の分析値を有する黒色のN−N′−ジスルホツメチルア
ントラキノン−1・6/1・7−ジスルホンアミドのナ
トリウム塩15.1部を得た。
の分析値を有する黒色のN−N′−ジスルホツメチルア
ントラキノン−1・6/1・7−ジスルホンアミドのナ
トリウム塩15.1部を得た。
炭素26.1%;水素21%;窒素3.6%;硫黄17
.99%:Na13.3%;C1−0,4%;so、j
15.9%及び水分含量6.7%。
.99%:Na13.3%;C1−0,4%;so、j
15.9%及び水分含量6.7%。
例1及び7ないし9でホルムアルデヒド亜硫酸水素カリ
ウムを使用する場合及び例2ないし6で水酸化カリウム
を使用する場合には相当するテトラカリウム塩が得られ
る。
ウムを使用する場合及び例2ないし6で水酸化カリウム
を使用する場合には相当するテトラカリウム塩が得られ
る。
同様にホルムアルデヒド亜硫酸水素アンモニウムおよび
水酸化アンモニウムを使用すればテトラアンモニウム塩
が得られる。
水酸化アンモニウムを使用すればテトラアンモニウム塩
が得られる。
本発明者等は英国特許第465343号については知っ
て(・るが、該特許明細書中に具体的に開示されてL・
るいずれのアンI・ラキノン系列の酸アミドもクレーム
していない。
て(・るが、該特許明細書中に具体的に開示されてL・
るいずれのアンI・ラキノン系列の酸アミドもクレーム
していない。
参考例 1なL・し8
ガス中から硫化水素を除去するための触媒としての本発
明の化合物の有効性を示し、そして本発明化合物が2・
7−アントラキノン ジスルホン酸より優れていること
を示すため実験室での試験を実施した。
明の化合物の有効性を示し、そして本発明化合物が2・
7−アントラキノン ジスルホン酸より優れていること
を示すため実験室での試験を実施した。
試験を実施するため、ガス吸収モデル溶液を次のように
調整した: 25?/l NaHCO3 5y /l! Na2CO3 10?/l! Na252038?/l!
NaCN5 3、89 / 73 NaVO321/l
触媒 試験溶液のpHは90ないし92であった。
調整した: 25?/l NaHCO3 5y /l! Na2CO3 10?/l! Na252038?/l!
NaCN5 3、89 / 73 NaVO321/l
触媒 試験溶液のpHは90ないし92であった。
試験を実施したセルは、酸素電極、温度補正プローブ、
カロメル電極、白金電極、空気導入管及びエアレーショ
ン用の焼結した円板を有する公称11の容器からなる。
カロメル電極、白金電極、空気導入管及びエアレーショ
ン用の焼結した円板を有する公称11の容器からなる。
溶存酸素量は、E、L、L、溶存酸素定量計で測定し、
酸化還元電位は、高インピーダンス テジタル マルチ
メーター(high impedancedigit
al multimeter )で測定した。
酸化還元電位は、高インピーダンス テジタル マルチ
メーター(high impedancedigit
al multimeter )で測定した。
測定手順
上記ガス吸収溶液151を用意する。
この溶液の11をセルに移し、溶液中に5001717
/分の流速で空気と窒素とを交互に通過させながら3回
酸素化及び脱酸素化した。
/分の流速で空気と窒素とを交互に通過させながら3回
酸素化及び脱酸素化した。
この溶液を最後には脱酸素化状態にした。
脱酸素化溶液の最少量に硫化ナトリウム375グを溶解
させ、それからこれをセルに戻した。
させ、それからこれをセルに戻した。
この方法は硫化水素除去のための方法であるが、アルカ
リ性の吸収溶液に硫化水素が溶解した時に形成されるイ
オンはH8−イオンである。
リ性の吸収溶液に硫化水素が溶解した時に形成されるイ
オンはH8−イオンである。
それ改訳 j験の操作を容易にするため、硫化ナトリウ
ムを使用してH8−イオンを導入することに決めた。
ムを使用してH8−イオンを導入することに決めた。
硫化ナトリウムからのS−−イオンは、ガス吸収液のp
HではH8−をら、える。
HではH8−をら、える。
硫化ナトリウムで還元後、酸化還元電位と溶存酸素量を
低流量の窒素 ノで攪拌を保ちつつ10分間安定化させ
た。
低流量の窒素 ノで攪拌を保ちつつ10分間安定化させ
た。
それから500m11分の流速で空気を通過させながら
溶液を再酸化した。
溶液を再酸化した。
この間溶存酸素量と酸化還元電位を連続的にモニターし
た。
た。
酸化還元電位と溶存酸素濃度が安定化するまで酸化を続
げた。
げた。
それか 杢も500m1/分の流速で窒素を通過させて
脱気し、更に硫化ナトリウム3.75y′を新たに添加
して還元した。
脱気し、更に硫化ナトリウム3.75y′を新たに添加
して還元した。
硫化ナトリウムでの還元とそれに続く空気の吹込みによ
る再酸化操作を溶存酸素濃度と酸化還元電位を測定しな
がら3回実施し、各サイク エル後に沈殿した硫黄をP
別して除いた。
る再酸化操作を溶存酸素濃度と酸化還元電位を測定しな
がら3回実施し、各サイク エル後に沈殿した硫黄をP
別して除いた。
試験結果
図に上記セル試1験で得られた結果を図式化して示す。
触媒系の有効性を示す各パラメーターは次の意 こ味を
有する: (H)t2o%−溶液の溶存酸素濃度が飽和濃度の20
%に到達するまでの時間 ★★(ii
)t80%−溶液の溶存酸素濃度が飽和濃度の80%に
到達するまでの時間 (!!りEs/Efの比、Esは十分に還元された状態
での系の酸化還元電位でありそしてEfは酸化状態での
系の酸化還元電位の値である。
有する: (H)t2o%−溶液の溶存酸素濃度が飽和濃度の20
%に到達するまでの時間 ★★(ii
)t80%−溶液の溶存酸素濃度が飽和濃度の80%に
到達するまでの時間 (!!りEs/Efの比、Esは十分に還元された状態
での系の酸化還元電位でありそしてEfは酸化状態での
系の酸化還元電位の値である。
試験の便宜上、Efはt80%での酸化還元電位として
測定した。
測定した。
表1に示す結果は、還元及び再酸化の3回のサイクルか
ら得たデータの平均値である。
ら得たデータの平均値である。
表IK2・7−アントラキノンジスルホン酸(2・7A
DA)と下記の本発明の化合物または化合物の混合物と
の比較を示す。
DA)と下記の本発明の化合物または化合物の混合物と
の比較を示す。
A、テトラソジウムN−N′−ジスルホメチルアントラ
キノン−2・6/2・7−ジスルホンアミド B、ジソジウムN−N’−ジスルホメチルアントラキノ
ン−2・6−ジスルホンアミド C,ジソジウムN−N’−ジスルホ−2−エチルアント
ラキノン−2・6−ジスルホンアミドD、テトラソジウ
ムN−N’−ジスルホ−2−エチルアントラキノン−2
・6/2・7−ジスルホンアミド E、テトラソジウムN−N’−ジカルボキシメチルアン
トラキノン−2・6/2・7−ジスルホンアミド F、N−N’−ジスルホメチルアントラキノン−2・7
−ジスルホンアミドのテトラソジウム塩G、N−N’−
ジスルホメチルアントラキノン−1・5−ジスルホンア
ミドのテトラソジウム塩H,N−N’−ジスルホメヂル
アントラキノン−1・6/1・7−ジスルホンアミドの
テトラソジウム塩 最初にガス状で存在する酸素が溶液中にとり込まれる反
応のある部分は本来イオン性であり、そして比較的急速
である。
キノン−2・6/2・7−ジスルホンアミド B、ジソジウムN−N’−ジスルホメチルアントラキノ
ン−2・6−ジスルホンアミド C,ジソジウムN−N’−ジスルホ−2−エチルアント
ラキノン−2・6−ジスルホンアミドD、テトラソジウ
ムN−N’−ジスルホ−2−エチルアントラキノン−2
・6/2・7−ジスルホンアミド E、テトラソジウムN−N’−ジカルボキシメチルアン
トラキノン−2・6/2・7−ジスルホンアミド F、N−N’−ジスルホメチルアントラキノン−2・7
−ジスルホンアミドのテトラソジウム塩G、N−N’−
ジスルホメチルアントラキノン−1・5−ジスルホンア
ミドのテトラソジウム塩H,N−N’−ジスルホメヂル
アントラキノン−1・6/1・7−ジスルホンアミドの
テトラソジウム塩 最初にガス状で存在する酸素が溶液中にとり込まれる反
応のある部分は本来イオン性であり、そして比較的急速
である。
一般にイオン性化合物が液体中に還元状態で留まるかぎ
りは、溶存酸素量は、液体中の飽和溶存酸素濃度の5%
またはそれ以下に留まる。
りは、溶存酸素量は、液体中の飽和溶存酸素濃度の5%
またはそれ以下に留まる。
それ故溶液中のこれら成分が還元状態であるか酸化状態
であるかは溶存酸素濃度を測定することによって決定す
ることができる。
であるかは溶存酸素濃度を測定することによって決定す
ることができる。
それ放間酸化時間t20%及びtSO%は、種々の触媒
の存在下での系の再酸化速度の指標となる。
の存在下での系の再酸化速度の指標となる。
この方法は酸化的方法であるため酸化還元系(redo
x couples ) に依存してIv)る。
x couples ) に依存してIv)る。
溶液の酸化度合は、酸化還元電位を決定する。
このように酸化度合は、酸化還元電位を測定することに
よって直ちに測定される。
よって直ちに測定される。
液は少くとも3種の酸化還元系の混合物から成ってL・
る。
る。
単極電位は、溶液中の酸化型体及び還元型体の濃度と対
数的に関連すげられる。
数的に関連すげられる。
(酸化型体の濃度
電位−標準電位1定数x1°g・・憧え型体。
濃度Es/Ef比は、生じた再酸化の度合を表示するた
め、他の研究者によって提唱されたものである。
め、他の研究者によって提唱されたものである。
触媒の有効性は、溶存酸素の測定と酸化還元電位の測定
の組合せから決定することができる。
の組合せから決定することができる。
一般にセル試験で得た結果は、三種の主な型に分類され
る。
る。
(i)t20%の時間が長L・(即ち30分またはそれ
以上)がEs/Ef比が高L・(即ち22またはそれ以
−上)もの。
以上)がEs/Ef比が高L・(即ち22またはそれ以
−上)もの。
(11)120%の時間が中位であり(即ち約10分)
Es /Ef比が高い(即ち22またはそれ以上)もの
。
Es /Ef比が高い(即ち22またはそれ以上)もの
。
(*i)t 20%の時間が短い(即ち1ないし3分)
がEs/Ef比が低(・(即ち<2.0)もの。
がEs/Ef比が低(・(即ち<2.0)もの。
これら(7沸果の解釈は、(1)の型は遅いが効果的な
触媒であり、(11)の型は効果的な触媒であり、そし
て(lll)の型は効果の低い触媒であるということで
ある。
触媒であり、(11)の型は効果的な触媒であり、そし
て(lll)の型は効果の低い触媒であるということで
ある。
溶液中の溶存酸素濃度が飽和濃度の20%に到達した時
には、酸化還元反応の大部分は終了して(・る。
には、酸化還元反応の大部分は終了して(・る。
本参考例では溶存酸素を十分供給したので、t20%か
らt80%までの時間は、主として触媒の反応性を反映
する。
らt80%までの時間は、主として触媒の反応性を反映
する。
それ故t20%とt80%の時間間隔が短くなればなる
ほど触媒はより容易に再酸化され、そしてEs/Ef比
が22より犬である限り系中で触媒はより効果的に作用
する。
ほど触媒はより容易に再酸化され、そしてEs/Ef比
が22より犬である限り系中で触媒はより効果的に作用
する。
式■で表わされる化合物は全て(11)の型に属しそし
て2・7−アントラキノン ジスルホン酸と比べて少く
とも良好若しくは優れた活性を有することがわかる。
て2・7−アントラキノン ジスルホン酸と比べて少く
とも良好若しくは優れた活性を有することがわかる。
図はセル試験で得た結果を図式化したグラフを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次式■: (式中、Aはメチレン基又はエチレン基を表わし;Bは
−SO3M基を表わし、Mはアルカリ金属を表わし;R
は水素原子またはアルカリ金属を表わす。 )で表わされるアントラキノンスルホンアミド。 2 式■において、M及び/またはRがナトリウムまた
はカリウムを表わす特許請求の範囲第1項に記載の化合
物。 3 N−N′−ビススルホメチルアントラキノン2・
6−ジスルホンアミドである特許請求の範囲第1項記載
の化合物。 4N−N’−ビススルホメチルアントラキノン2・7−
ジスルホンアミドである特許請求の範囲第1項記載の化
合物。 5 N−N′−ヒススルホ−2〜エチル−アントラキノ
ン−2・6−ジスルホンアミドである’%許請求の範囲
第1項記載の化合物。 6 N−N′−ビススルホ−2−エチル−アントラキノ
ン−2・7−ジスルホンアミドである特許請求の範囲第
1項記載の化合物。 (式中、Xはハロゲン原子を表わす。 )で表わさ れるアントラキノン スルホニルハライドを、次式■: 1 (■) H−N−A−B ★★(式中、A
はメチレン基又はエチレン基を表わし、Bは−SO3M
基を表わし、Mはアルカリ金属を表わす。 )で表わされる化合物と反応させろことを特徴とする、
次式■: (式中、Rは水素原子またはアルカリ金属を表わし、A
及びBは前記の意味を表わす。 )で表わされるアントラキノンスルホンアミドの製造方
法。 8 Xが塩素原子を表わす式汀で表わされる化合物を使
用する特許請求の範囲第7項記載の製造方法。 (式中、Rは水素原子またはアルカリ金属を表わす。 )で表わされるアントラキノンスルホンアミドを、次式
■: 0CH2B (V) (式中、Bは−so3mを表わし、Mはアルカリ金属を
表わす。 )で表わされる化合物と反応させることを特徴とする、
次式1: (式中、Aは−CH2−を表わし、B及びRは前記の意
味を表わす。 )で表わされるアントラキノンスルホンアミドの製造方
法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB7830844 | 1978-07-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5519277A JPS5519277A (en) | 1980-02-09 |
| JPS5829945B2 true JPS5829945B2 (ja) | 1983-06-25 |
Family
ID=10498606
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54093153A Expired JPS5829945B2 (ja) | 1978-07-21 | 1979-07-21 | アントラキノンスルホンアミド及びその製法並びに該化合物を使用する硫化水素の除去方法 |
| JP14037280A Pending JPS5695322A (en) | 1978-07-21 | 1980-10-07 | Alkali aqueous solution and removing method for hydrogen sulfide using satd aqueous solution |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14037280A Pending JPS5695322A (en) | 1978-07-21 | 1980-10-07 | Alkali aqueous solution and removing method for hydrogen sulfide using satd aqueous solution |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US4251493A (ja) |
| EP (2) | EP0008641B1 (ja) |
| JP (2) | JPS5829945B2 (ja) |
| BR (1) | BR7904661A (ja) |
| CA (1) | CA1140924A (ja) |
| IN (1) | IN154664B (ja) |
| RO (3) | RO80111A (ja) |
| SU (3) | SU936807A3 (ja) |
| ZA (2) | ZA793726B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05124671A (ja) * | 1991-10-24 | 1993-05-21 | Nec Data Terminal Ltd | 開閉カバーのロツク装置 |
Families Citing this family (10)
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|---|---|---|---|---|
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| US4432962A (en) * | 1979-06-20 | 1984-02-21 | Union Oil Company Of California | Method for removing hydrogen sulfide from gas streams |
| JPS5840386A (ja) * | 1981-06-30 | 1983-03-09 | ユニオン・カ−バイド・コ−ポレ−シヨン | 高硫黄デカントオイルから低硫黄高品位コ−クスを製造する方法 |
| FR2512687A1 (fr) * | 1981-09-11 | 1983-03-18 | Raffinage Cie Francaise | Procede de purification d'un melange gazeux contenant des composes gazeux indesirables |
| EP0147364A1 (de) * | 1983-10-26 | 1985-07-03 | Ciba-Geigy Ag | Verfahren zum Entfernen von Schwefelwasserstoff aus Gasen |
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| AUPR229600A0 (en) * | 2000-12-22 | 2001-01-25 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | New oxygen scavenging compositions |
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| US2131742A (en) * | 1935-10-11 | 1938-10-04 | Agfa Ansco Corp | Photographic desensitizing |
| US2132169A (en) * | 1935-10-11 | 1938-10-04 | Agfa Ansco Corp | Photographic desensitizing |
| GB465343A (en) | 1935-10-30 | 1937-04-30 | Ig Farbenindustrie Ag | Improvements in photographic desensitisers |
| US2163146A (en) * | 1936-10-07 | 1939-06-20 | Agfa Ansco Corp | Taurides |
| DE935987C (de) * | 1951-10-18 | 1955-12-01 | Sandoz Ag | Verfahren zur Herstellung von Sulfonsaeureamiden der Anthrachinonreihe |
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| NL128899C (ja) * | 1959-10-21 | |||
| NL270089A (ja) * | 1960-10-12 | |||
| US3627791A (en) * | 1968-11-21 | 1971-12-14 | Richardson Merrell Inc | Bis(aminoalkylsulfamoyl) anthraquinones |
| DE2135022A1 (de) * | 1971-07-14 | 1973-01-25 | Richardson Merrell Inc | Bis (dialkylaminoalkylsulfamoyl) anthrachinone, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
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| JPS5092294A (ja) * | 1973-12-18 | 1975-07-23 | ||
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-
1979
- 1979-07-12 US US06/057,154 patent/US4251493A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-07-12 US US06/057,157 patent/US4276224A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-07-13 EP EP79102435A patent/EP0008641B1/de not_active Expired
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- 1979-07-20 ZA ZA00805913A patent/ZA805913B/xx unknown
- 1979-07-20 BR BR7904661A patent/BR7904661A/pt unknown
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- 1979-07-21 RO RO79102307A patent/RO80111A/ro unknown
- 1979-07-21 RO RO7998242A patent/RO78658A/ro unknown
- 1979-07-21 RO RO106043A patent/RO81685B/ro unknown
-
1980
- 1980-01-14 IN IN21/DEL/80A patent/IN154664B/en unknown
- 1980-08-21 SU SU802968552A patent/SU932984A3/ru active
- 1980-10-07 JP JP14037280A patent/JPS5695322A/ja active Pending
-
1981
- 1981-02-16 SU SU813244751A patent/SU1131460A3/ru active
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| US4251493A (en) | 1981-02-17 |
| RO78658A (ro) | 1982-03-24 |
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| EP0008641A1 (de) | 1980-03-19 |
| IN154664B (ja) | 1984-12-01 |
| BR7904661A (pt) | 1980-07-15 |
| US4276224A (en) | 1981-06-30 |
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