JPS5827315A - Method of producing ceramic condenser - Google Patents

Method of producing ceramic condenser

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JPS5827315A
JPS5827315A JP12638781A JP12638781A JPS5827315A JP S5827315 A JPS5827315 A JP S5827315A JP 12638781 A JP12638781 A JP 12638781A JP 12638781 A JP12638781 A JP 12638781A JP S5827315 A JPS5827315 A JP S5827315A
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Japan
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lead wire
ceramic body
capacitor
view
ceramic
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高倉 真一
能米 昭一郎
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Murata Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、セラミックコンデンサの鞍造方法、特に、
微小容量のセラミックコンデンサの−造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a ceramic capacitor, particularly,
This invention relates to a method of manufacturing a ceramic capacitor with a small capacity.

一般に電子部品は小型のものが要求されているが、あえ
て小型化を避ける場合がある。たとえば小容量のコンデ
ンサは相対的に小型になるがこれを他の電子部品と等し
い大きざにするため、わざと大きな寸法にすることがあ
る。なぜならば、製品の出荷および電子回路への実装等
における取り扱いが容易となるからである。ところで、
コンデンサの容量は、対向する1対の電極の重なり面積
、電4im距離、および誘電体層の誘電率で決定される
。したがって、コンデンサの容量を小さくするには、コ
ンデンサの形状の観点からは、電極の重なり面積を小さ
くすることおよび電極間距離を大きくすることが要求さ
れる。特に、1  ELFのような微小容量を達成する
には、重なり面積を極めて小さくかつ電極間距離を極め
て大きくしなければならない。従来、この1!請を満た
すために、さまざまな構造のコンデンサが提案され、か
つ実施されてきた。
Generally, electronic components are required to be small, but there are cases where miniaturization is intentionally avoided. For example, a small-capacity capacitor is relatively small, but in order to make it the same size as other electronic components, it is sometimes intentionally made large. This is because handling such as shipping the product and mounting it on an electronic circuit becomes easier. by the way,
The capacitance of a capacitor is determined by the overlapping area of a pair of opposing electrodes, the electrical distance, and the dielectric constant of the dielectric layer. Therefore, in order to reduce the capacitance of a capacitor, from the viewpoint of the shape of the capacitor, it is required to reduce the overlapping area of the electrodes and to increase the distance between the electrodes. In particular, in order to achieve a minute capacitance such as 1 ELF, the overlapping area must be extremely small and the distance between the electrodes must be extremely large. Conventionally, this 1! To meet the requirements, capacitors of various structures have been proposed and implemented.

第1図ないし第4図は、従来から提案されてきた微小容
量のコンデンサの構造の3つの例を示す図である。
FIGS. 1 to 4 are diagrams showing three examples of structures of microcapacitance capacitors that have been proposed in the past.

第1図は従来の微小容量コンデンサの第1の例を示す斜
視図であり、第2図は縮尺は異なるが第1図に示された
微小容量コンデンサの正面図である。第1図および第2
図から明らかなように、このコンデンサ1では、誘電体
層2の上面に、2個の電1i3.4が形成されている。
FIG. 1 is a perspective view showing a first example of a conventional microcapacitor, and FIG. 2 is a front view of the microcapacitor shown in FIG. 1, although the scale is different. Figures 1 and 2
As is clear from the figure, in this capacitor 1, two electrodes 1i3.4 are formed on the upper surface of the dielectric layer 2.

このセラミックコンデンサ1は、いわゆる縁端容量タイ
プのコンデンサと呼ばれるものである。すなわち、コン
デンサを構成する2個の電極3.4は、面対向されてお
らず、同一平面に形成されている。したがって、実質的
に電極間距離を極めて大きくしたものに相当するため、
非常に小さな容量のコンデンサとなるものである。
This ceramic capacitor 1 is a so-called edge capacitance type capacitor. That is, the two electrodes 3.4 constituting the capacitor are not faced to each other but are formed on the same plane. Therefore, it is equivalent to an extremely large distance between the electrodes, so
This is a capacitor with a very small capacity.

第3図は、従来の微小容量コンデンサの第2の例を示す
正面図であり、先に説明された第1の例の第2図に相当
する図である。第3図から明らかなように、この第2の
例の微小容量コンデンサ1は、3個の電極3.4.5を
有する。電極3と電極4とは、第1の例の微小容量コン
デンサ1と同様に、誘電体層2の上面に形成されており
、同一平面上に存在する。他方、電極5は、誘電体層2
の他方の面すなわら第3図の下面に形成されており、誘
電体層2を介して電極3および電極4と部分的に対向さ
れている。この第3図に示された第2の例の微小容量コ
ンデンサ1では、電極3と電極4とにより容量が取り出
される。このことは、電極3および電極5で構成される
1s1のコンデンサと、電極5および電極4で構成され
る第2のコンデンサとが直列に接続されているのと同等
のコンデンサであることを意味する。すなわち、第3図
に示された第2の例の微小容量コンデンサ1では、部分
的に面対向されたすなわち重なり面積が小さくされた2
個の電極から構成されるコンデンサが2個実質的に直列
に接続されているような構造により、微小容量を達成す
る。
FIG. 3 is a front view showing a second example of a conventional microcapacitance capacitor, and corresponds to FIG. 2 of the first example described above. As is clear from FIG. 3, the microcapacitor 1 of this second example has three electrodes 3.4.5. The electrode 3 and the electrode 4 are formed on the upper surface of the dielectric layer 2 and exist on the same plane, similarly to the microcapacitance capacitor 1 of the first example. On the other hand, the electrode 5 is connected to the dielectric layer 2
It is formed on the other side of , that is, the lower surface in FIG. 3, and partially faces electrodes 3 and 4 with dielectric layer 2 interposed therebetween. In the second example of the microcapacitance capacitor 1 shown in FIG. 3, capacitance is taken out by the electrodes 3 and 4. This means that the 1s1 capacitor composed of electrodes 3 and 5 and the second capacitor composed of electrodes 5 and 4 are equivalent to being connected in series. . That is, in the microcapacitance capacitor 1 of the second example shown in FIG.
A small capacitance is achieved by a structure in which two capacitors each consisting of electrodes are substantially connected in series.

第4図は、従来の微小容量コンデンサの第3の例を示す
斜視図である。第3の例の微小容量コンデンサ1は、誘
電体層2の内部にリード線6.7が挿入されているもの
である。ここでは、誘電体層2内部でのリード線6,7
の端面により容量が取り出される。
FIG. 4 is a perspective view showing a third example of a conventional microcapacitance capacitor. In the third example of the microcapacitance capacitor 1, a lead wire 6.7 is inserted inside the dielectric layer 2. Here, the lead wires 6 and 7 inside the dielectric layer 2 are
The capacitance is taken out by the end face of.

以上のように、微小容量コンデンサとして、さまざまな
形式のものが提案されているが、上述の第1ないし第3
の例の微小容量コンデンサはいずれもその製作が非常に
難しいという欠点を有していた。特に、微小容量を正確
に得るためには、対向される1対の電極の位[関係を正
確に決定する必要があるため、製作の自動化は極めて困
難であった。また、第4図に示された第3の例において
は、焼結前にリード線を挿入するため、リード線が約1
400工程度の炊結瀉度に耐える必要があり、高融点の
材料を使うことがl[lされる。このような高融点材料
としては、たとえば白金、パラジウム等が存在するが極
めて高価であるため、セラミックコンデンサの価格を上
昇させるという欠点が存在した。
As mentioned above, various types of microcapacitance capacitors have been proposed.
All of the microcapacitance capacitors in the example above had the disadvantage that they were extremely difficult to manufacture. In particular, in order to accurately obtain a minute capacitance, it is necessary to accurately determine the positional relationship between a pair of opposing electrodes, making it extremely difficult to automate the manufacturing process. In addition, in the third example shown in FIG. 4, the lead wire is inserted before sintering, so the lead wire is approximately 1
It is necessary to withstand 400 steps of sintering, so it is necessary to use a material with a high melting point. Examples of such high melting point materials include platinum and palladium, but they are extremely expensive and have the disadvantage of increasing the price of ceramic capacitors.

それゆえに、この発明の主たる目的は、微小容量のセラ
ミックコンデンサを容易にt゛つ安価に製造し得る方法
を提供することである。
Therefore, the main object of the present invention is to provide a method by which a small capacitance ceramic capacitor can be easily manufactured at a lower cost.

この発明の他の目的は、微小容量であっても、大容量の
コンデンサと同一の大きさのセラミックコンデンサを製
造する方法を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a ceramic capacitor of the same size as a large capacitance capacitor, even if it has a minute capacitance.

この発明は、要約すれば、2個の貫通孔が形成されたセ
ラミック体の前記各貫通孔の内面に導電膜を形成する導
電膜形成工程、前記貫通孔に全体0字または全体V字形
リード翰を挿入するリード線挿入工程、前記リード線が
挿入されたセラミック体をはんだ槽に浸漬するはんだづ
け工程、および前記リード線を分断してコンデンサのた
めの電極から引き出される2本のリード線を形成するリ
ード線形成工程を備えるセラミックコンデンサの製造方
法である。
To summarize, the present invention includes a step of forming a conductive film on the inner surface of each of the through holes of a ceramic body in which two through holes are formed; a lead wire insertion step of inserting the lead wire, a soldering step of immersing the ceramic body into which the lead wire has been inserted into a solder bath, and a step of dividing the lead wire to form two lead wires drawn out from the electrode for the capacitor. This is a method of manufacturing a ceramic capacitor including a lead wire forming step.

この発明の上述の目的およびその他の目的と特徴は、図
面を参照して行なう以下の詳細な説明から一層明らかと
なろう。
The above objects and other objects and features of the present invention will become more apparent from the following detailed description with reference to the drawings.

第5図ないし第10図は、この発明の第1の実部側を説
明するための各図であり、以下の説明はこの第5図ない
し第10図と、この実施例の各工程を示す第20図とを
参照して行なわれる。なお、説明を容易にするために、
各図面は任意の縮尺により表わされることを指摘してお
く。
Figures 5 to 10 are diagrams for explaining the first real part of the present invention, and the following explanation will show Figures 5 to 10 and each process of this embodiment. This is done with reference to FIG. In addition, for ease of explanation,
It is noted that the drawings are drawn to scale.

第20図を参照して、この実施例は、第1にセラミック
体準備工程31により開始される。第5図に示されるよ
うなセラミック体10が準備される。セラミック体10
には、2個の貫通孔11゜12が形成されている。各貫
通孔11.12の内径は、後述されるリード線の外径よ
り大きく選ばれる。
Referring to FIG. 20, this embodiment first begins with a ceramic body preparation step 31. A ceramic body 10 as shown in FIG. 5 is prepared. Ceramic body 10
Two through holes 11 and 12 are formed in the. The inner diameter of each through hole 11.12 is chosen to be larger than the outer diameter of the lead wire described below.

次に、第20図の導電膜形成工程32が実施される。各
真通孔11.12の内周面に、たとえば銀パラジウムが
塗布され、その後焼き付けされる。
Next, a conductive film forming step 32 shown in FIG. 20 is performed. For example, silver-palladium is applied to the inner peripheral surface of each straight hole 11.12 and then baked.

導電膜は、この実施例により製造されるセラミックコン
デンサの容量を取り出す部分となるものである。なお、
導電膜を形成する材料としては銀パラジウムに限らず、
さまざまな導電性材料を用いることができ、かつ塗布に
限らずレジスト形成後に無電解めっきを行なう方法また
は無電解めっき後にセラミック体1oの上下面を研削す
る方法等のさまざまな膜形成手段が用いられ得る。
The conductive film is a portion from which the capacitance of the ceramic capacitor manufactured according to this embodiment is taken out. In addition,
Materials for forming conductive films are not limited to silver palladium.
Various conductive materials can be used, and various film forming methods can be used, such as not only coating but also electroless plating after resist formation or grinding the top and bottom surfaces of the ceramic body 1o after electroless plating. obtain.

次に、第20図のリード線準備工程33が実施される。Next, a lead wire preparation step 33 shown in FIG. 20 is performed.

後述される第6図に示されるような、全体U字形のリー
ド[13が準備される。なお、リード線13は、第6図
において示されるような全体U字形には必ずしも限られ
ず、全体V字形であってもよい。また、この実施例にお
いては、セラミック体10はすでに焼結されているため
、このリード線13に高融点の材料たとえば白金線等を
用いる必要はない。すなわち、銅等の安価な材料を用い
ることが可能である。
A U-shaped lead [13] as shown in FIG. 6, which will be described later, is prepared. Note that the lead wire 13 is not necessarily limited to the overall U-shape as shown in FIG. 6, but may be entirely V-shaped. Furthermore, in this embodiment, since the ceramic body 10 has already been sintered, it is not necessary to use a material with a high melting point, such as platinum wire, for the lead wire 13. That is, it is possible to use inexpensive materials such as copper.

第20図を参照して、リード線挿入工程34が実施され
る。全体U字形リード線13が、その両端部よりセラミ
ック体1oの各貫通孔11.12に挿入される。このよ
うにして、リード線13が挿入されたセラミック体1o
は、第6rj!Jにおいて部分切欠斜視図により示され
る。
Referring to FIG. 20, a lead wire insertion step 34 is performed. The overall U-shaped lead wire 13 is inserted into each through hole 11.12 of the ceramic body 1o from its both ends. In this way, the ceramic body 1o into which the lead wire 13 is inserted
6th rj! It is shown in a partially cut away perspective view at J.

次に、第20図のはんだ浸漬工程35が実施される。こ
のはんだ浸漬工程35の途中の状態は、第7図において
側面断面図により示される。はんだ浸漬槽14が準備さ
れる。はんだ浸漬槽14の内部には、溶−されたはんだ
15が用意されている。この溶融されたはんだ15の中
にリードi*i3が挿入されたセラミック体1oが第7
図の矢印X方向に浸漬される。
Next, the solder dipping step 35 in FIG. 20 is performed. The state during the solder dipping step 35 is shown in a side sectional view in FIG. A solder dipping bath 14 is prepared. Molten solder 15 is prepared inside the solder dipping tank 14. The ceramic body 1o with the leads i*i3 inserted into the molten solder 15 is the seventh ceramic body 1o.
It is immersed in the direction of arrow X in the figure.

次に、第20図のはんだ固化工程36が実施される。第
7図で示されたような溶融されたはんだ15内に浸漬さ
れたセラミック体1oは、はんだ浸漬槽14から引き上
げられる。このとき、セラミック体10の貫通孔11.
12の内部には溶融されたはんだ15がプリンドロ路基
板のスルホールと同じように入っていくため、室温で冷
却されて、リード線13とセラミック体1oの貫通孔1
1.12の内周面の導電膜とがはんだづけされる。
Next, a solder solidification step 36 in FIG. 20 is performed. The ceramic body 1o immersed in molten solder 15 as shown in FIG. At this time, the through hole 11 of the ceramic body 10.
Since the molten solder 15 enters the inside of the lead wire 12 in the same way as the through hole of the printed circuit board, it is cooled at room temperature and connects the lead wire 13 and the through hole 1 of the ceramic body 1o.
1.12 is soldered to the conductive film on the inner peripheral surface.

このようにして、リード線13がはんだづけされたセラ
ミック体10は、第8図において断面図により示される
。すなわち、セラミック体1oの各貫通孔11.12の
内部にはんだ層16.17が存在し、セラミック体10
とリード線13とを固着している。
The ceramic body 10 to which the lead wires 13 are soldered in this manner is shown in cross-section in FIG. That is, a solder layer 16.17 is present inside each through hole 11.12 of the ceramic body 1o, and the ceramic body 10
and the lead wire 13 are fixed.

次に、第20図のリード線切断工程37が実施される。Next, a lead wire cutting step 37 shown in FIG. 20 is performed.

セラミック体10にはんだづけされたリード線13は、
第8図の一点鎖線Yの方向に切断される。全体U字形の
リード線13の屈曲部分が切断除去されるのである。こ
のようにしてリード線13の一部が切断されたセラミッ
ク体1oの正面図は、第9図に示される。屈曲部分で分
断されたリード線13の残存部分は、2つの部分13A
および13Bに分かれる。第9図から明らかなように、
この残ったリード線の部分13A、13Bは、コンデン
サのための電極から引き出される2本のリード線を構成
することになる。
The lead wire 13 soldered to the ceramic body 10 is
It is cut in the direction of the alternate long and short dash line Y in FIG. The bent portion of the overall U-shaped lead wire 13 is cut and removed. A front view of the ceramic body 1o with part of the lead wire 13 cut off in this way is shown in FIG. The remaining portion of the lead wire 13 separated at the bent portion is divided into two portions 13A.
and 13B. As is clear from Figure 9,
The remaining lead wire portions 13A and 13B constitute two lead wires drawn out from the electrodes for the capacitor.

次に、第20図のディップ掛は工程38が実施される。Next, the dipping step 38 in FIG. 20 is performed.

第9図に示されたセラミック体10.およびリード線1
3の残存部分13A、13Bに、ディップ掛けが実施さ
れる。このディップ掛けは、コンデンサチップの保護の
ために行なわれるものである。第10図は、ディップ掛
けされた俵の状態を示す断面図である。このようにして
、微小容量のセラミックコンデンサが−造される。
Ceramic body 10 shown in FIG. and lead wire 1
The remaining portions 13A and 13B of No. 3 are subjected to dipping. This dipping is performed to protect the capacitor chip. FIG. 10 is a sectional view showing the state of bales that have been dipped. In this way, a ceramic capacitor of minute capacity is manufactured.

以上のように説明されたこの実施例では、各工程を全て
手作業によることな〈実施することができる。したがっ
て、微小容量のコンデンサが容易に製作され得る。また
、リード線13は、セラミック体10の焼成後に挿入さ
れるため、リード線13に高価な高融点材料を用いる必
要がなく、安価に製造することが可能である。
In this embodiment described above, each step can be performed entirely manually. Therefore, a capacitor with a small capacitance can be easily manufactured. Further, since the lead wire 13 is inserted after firing the ceramic body 10, there is no need to use an expensive high melting point material for the lead wire 13, and the lead wire 13 can be manufactured at low cost.

第11因ないし第13図は、この発明の第2の実施例を
説明するための図である。第2の実施例の特徴は、先の
実施例について説明された第20図におけるリード線挿
入工程34が興なることにある。すなわち、第20図に
おけるリード線準備工程33までの各工程については第
5図ないし第10図を参照して説明された先の実施例と
同様である。また、第20図に示されたはんだ浸漬工程
35以下の各工程についても先の実施例と同様である。
Figures 11 to 13 are diagrams for explaining the second embodiment of the present invention. The feature of the second embodiment is that the lead wire insertion step 34 in FIG. 20 described in the previous embodiment is performed. That is, each step up to the lead wire preparation step 33 in FIG. 20 is the same as in the previous embodiment described with reference to FIGS. 5 to 10. Further, each step after the solder dipping step 35 shown in FIG. 20 is also the same as in the previous embodiment.

したがって、先の実施例と異なる工程についてのみ説明
する。第21図は、この第2の実施例の特徴となる工程
を示す図である。リード線挿入工程34は、2つの工程
から成る。まず、第21図のリード線挿通■程34Aが
実施される。すなわち、全体U字形リード[113が、
セラミック体10の貫通孔11.12の中に挿通される
。これは、第6図において示された状態と同様である。
Therefore, only the steps different from the previous embodiment will be explained. FIG. 21 is a diagram showing the steps that characterize this second embodiment. The lead wire insertion step 34 consists of two steps. First, the lead wire insertion step 34A in FIG. 21 is performed. That is, the entire U-shaped lead [113 is
It is inserted into the through hole 11.12 of the ceramic body 10. This is similar to the situation shown in FIG.

次に、第21図のリード線折曲工程34Bが実施される
。挿通されたリード線13は、その屈曲部分と逆の側す
なわち両端部の側で、セラミック体10と平行に折曲げ
られる。この折曲げられたリード線13の状態は、第1
1図に正面図で、第12図で側面図でそれぞれ示される
。すなわち、リード線13の折曲げられた部分は、セラ
ミック体10と平行であり、かつセラミック体10の一
方面に接触されている。この侵、はんだ浸漬工程35以
下の各工程が実施されるわけであるが、リード線13の
切断は、第11図および第12図において一点鎖線Zで
示された方向に行なわれる。これは、前述された実施例
における第8図に相当するものであり、特に異なるもの
ではない。第13図は、この第2の実施例により得られ
たセラミックコンデンサ1を示す斜視図である。
Next, the lead wire bending step 34B of FIG. 21 is performed. The inserted lead wire 13 is bent parallel to the ceramic body 10 on the side opposite to the bent portion, that is, on the sides of both ends. The state of this bent lead wire 13 is
FIG. 1 shows a front view, and FIG. 12 shows a side view. That is, the bent portion of the lead wire 13 is parallel to the ceramic body 10 and is in contact with one side of the ceramic body 10 . This solder dipping step 35 and subsequent steps are carried out, and the lead wire 13 is cut in the direction shown by the dashed line Z in FIGS. 11 and 12. This corresponds to FIG. 8 in the embodiment described above, and is not particularly different. FIG. 13 is a perspective view showing the ceramic capacitor 1 obtained by this second example.

第14図および第15図は、この発明の第3の実施例を
説明するための斜視図である。第3の実施例の特徴は、
第20図を参照して説明された先の実施例におけるリー
ド線準備工程33およびリード線挿入工程34が異なる
ことにある。その他の工程については同様であるため、
特に説明は行なわない。第14図を参照して、第3の実
施例に用いられるリード線13は、全体U字形である点
ぐ前述された各実施例と同様であるが、両端部において
、直角に曲げられた折曲部分13G、13Dを有する点
で異なる。すなわち、この第3の実施例では、第14図
に示されるようなリード線13が準備される。次に、リ
ード線挿入工程34が実施されるわけであるが、リード
線13のセラミック体10に対する挿入は、リード線1
3の折曲部分13Cおよび130により実施される。折
曲部分13Cが、セラミック体10の貫通孔11に挿入
され、他方の折曲部分13Dが真通孔12に挿入される
。このようにしてリード線13が挿入されたセラミック
体10は、第15図に示される。
FIGS. 14 and 15 are perspective views for explaining a third embodiment of the invention. The features of the third embodiment are as follows:
The difference is that the lead wire preparation step 33 and the lead wire insertion step 34 in the previous embodiment described with reference to FIG. 20 are different. Since the other processes are the same,
No particular explanation will be provided. Referring to FIG. 14, the lead wire 13 used in the third embodiment is similar to the previous embodiments in that it has a U-shape overall, but has folds bent at right angles at both ends. The difference is that it includes music portions 13G and 13D. That is, in this third embodiment, a lead wire 13 as shown in FIG. 14 is prepared. Next, a lead wire insertion step 34 is carried out, and the lead wire 13 is inserted into the ceramic body 10 by inserting the lead wire 13 into the ceramic body 10.
This is implemented by folding portions 13C and 130 of 3. The bent portion 13C is inserted into the through hole 11 of the ceramic body 10, and the other bent portion 13D is inserted into the true through hole 12. The ceramic body 10 into which the lead wire 13 has been inserted in this manner is shown in FIG.

第15図から明らかなように、この第3の実施例では、
リード線13はセラミック体10を挾むように位置され
る。以下の各工程については、第20図を参照して説明
された先の実施例と同様であるが、この第3の実施例に
より得られるセラミックコンデンサは、第2の実施例で
得られたセラミックコンデンサと同様に、リード線13
の残存部分が、各貫通孔11.12と直角をなプ。
As is clear from FIG. 15, in this third embodiment,
Lead wires 13 are positioned to sandwich ceramic body 10 . The following steps are similar to those in the previous example described with reference to FIG. 20, but the ceramic capacitor obtained in this third example is different from the ceramic capacitor obtained in the second example. Similar to the capacitor, lead wire 13
The remaining portions of the holes form a right angle to each through hole 11.12.

第16図は、この発明の第4の実施例を説明するための
斜視図である。第4の実施例の特徴は、第1の実施例に
ついて説明された第20図の導電膜形成工程32が異な
ることにある。その他の工程については同様であるため
その説明を省略する。
FIG. 16 is a perspective view for explaining a fourth embodiment of the invention. The feature of the fourth embodiment is that the conductive film forming step 32 in FIG. 20 explained for the first embodiment is different. Since the other steps are the same, their explanation will be omitted.

第4の実施例においては、導電膜がセラミック体10の
各貫通孔11.12の内周面のみならず、セラミック体
10の表面にも形成されていることにある。すなわち、
たとえば銀パラジウムなどの導電性材料が、各真通孔1
1.12の内周面とセラミック体10の表面の一部すな
わち各貫通孔11.12の開口部周辺にも塗布される。
In the fourth embodiment, the conductive film is formed not only on the inner peripheral surface of each through hole 11 , 12 of the ceramic body 10 but also on the surface of the ceramic body 10 . That is,
A conductive material, for example silver palladium, is applied to each straight hole 1.
1.12 and a part of the surface of the ceramic body 10, that is, around the opening of each through hole 11.12.

このようにして導電膜が形成されたセラミック体10の
斜視図が、第16図に示される。各貫通孔11.12の
開口部周辺にも導′R膜が形成されるのぐ、はんだ浸漬
によりはんだは各貫通孔11.12内部のみならず開口
部周辺にも付着する。したがって、リード線13は、各
貫通孔11.12とより強固に固着される。
A perspective view of the ceramic body 10 on which a conductive film is formed in this manner is shown in FIG. 16. After the conductor film is formed around the opening of each through hole 11.12, the solder is dipped into the solder so that the solder adheres not only to the inside of each through hole 11.12 but also around the opening. Therefore, the lead wire 13 is more firmly fixed to each through hole 11.12.

第17図および第18図は、この発明の第5の実施例を
説明するための図である。第5の実施例の特徴は、第2
0因のリード線準備工程33にある。全体U字形のリー
ド線として、第17図に正面図で示されるようなU字形
の屈曲部分が変形されたリード線13が準備される。す
なわち、リード1113は、全体0字の内側に屈曲され
た屈曲部分13E、13Fを有する。この屈曲部分13
E13Fは、リード線13がセラミック体10の各貫通
孔11.12に挿入されたとき、セラミック体10の表
面に接触するような形状に選ばれている。第18図は、
第5の実施例におけるリード線13がセラミック体10
に挿入された状態を示す正面図である。第5の実施例で
は、リード線13の屈曲部分13E、13Fの部分にも
はんだが付着して、各貫通孔11.12の開口部周辺に
はんだからなる7ランジ体が形成されたのと同等の形状
となるため、リード線13と各貫通孔11.12との密
着強度を高めることが可能となる。なお、この第5の実
施例において、第4の実施例のように、各貫通孔11.
12の開口部周辺に導電膜を形成してもよく、それによ
ってリード線13と各貫通孔11.12との密着をより
強固にすることができる。その他の点については第20
図を参照して説明された先の実施例と同等の効果を賽す
る。
FIG. 17 and FIG. 18 are diagrams for explaining a fifth embodiment of the present invention. The feature of the fifth embodiment is that the second
It is in the lead wire preparation step 33 of zero cause. A lead wire 13 having a U-shaped bent portion as shown in a front view in FIG. 17 is prepared as a lead wire having an overall U-shape. That is, the lead 1113 has bent portions 13E and 13F that are bent inward to form the entire 0-shape. This bent part 13
E13F is selected to have a shape such that when the lead wire 13 is inserted into each through hole 11.12 of the ceramic body 10, it comes into contact with the surface of the ceramic body 10. Figure 18 shows
The lead wire 13 in the fifth embodiment is connected to the ceramic body 10.
FIG. In the fifth embodiment, solder is also attached to the bent portions 13E and 13F of the lead wire 13, and seven flange bodies made of solder are formed around the opening of each through hole 11.12. Because of this shape, it is possible to increase the adhesion strength between the lead wire 13 and each through hole 11.12. Note that in this fifth embodiment, like the fourth embodiment, each through hole 11.
A conductive film may be formed around the openings 12, thereby making it possible to further strengthen the adhesion between the lead wire 13 and each through hole 11.12. Regarding other points, see Section 20.
It has the same effect as the previous embodiment described with reference to the figures.

以上のように説明された各実施例においては、セラミッ
ク体10は、すべて角板状として図示されたが、この発
明に用いられるセラミック体10については、角板状に
限られるものではない。すなわち、第19図に示される
ような円板状のセラミック体10であってもよい。さら
に、角板状または円板状に限らず、さまざまな形状のセ
ラミック体が用いられ得る。また、この発明に用いられ
るリード線の全体形状についても、U字形に限らず、7
字形であってもよいことはいうまでもない。
In each of the embodiments described above, all the ceramic bodies 10 are illustrated as having a rectangular plate shape, but the ceramic bodies 10 used in the present invention are not limited to the rectangular plate shape. That is, a disc-shaped ceramic body 10 as shown in FIG. 19 may be used. Furthermore, ceramic bodies of various shapes can be used, not limited to the rectangular plate shape or disc shape. Furthermore, the overall shape of the lead wire used in this invention is not limited to the U-shape;
Needless to say, it may be a letter shape.

以上のように、この発明によれば、微小容量のセラミッ
クコンデンサが容易に、かつ手作業を用いることなく製
造され得る。また、効率よく■産できかつ安価に微小容
量のセラミックコンデンサを得ることが可能となる。ま
た、正確に加工され得る目通孔の寸法および形状でコン
デンサの容量が決まるので、iE確な容量の微小容量コ
ンデンサを製造することが可能となる。さらに、従来に
なかった新規な構造の微小容量コンデンサを得ることが
可能となる。
As described above, according to the present invention, a microcapacitance ceramic capacitor can be easily manufactured without using manual labor. In addition, it becomes possible to obtain a ceramic capacitor of minute capacity that can be produced efficiently and at low cost. Further, since the capacitance of the capacitor is determined by the size and shape of the through hole that can be accurately machined, it is possible to manufacture a microcapacitance capacitor with an accurate capacitance. Furthermore, it becomes possible to obtain a microcapacitance capacitor with a novel structure that has not been seen before.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、従来の微小容量コンデンサの第1の例を示す
斜視図である。第2図は、第1図に示された微小容量コ
ンデンサを拡大しC示す正面図である。第3図は、従来
の微小容積11212勺の第2の例を示す正面図である
。第4図は、従来の微小容量コンデンサの第3の例を示
す斜視図である。 第5図は、この発明の第1の実施例で準備されるセラミ
ック体を示す斜視図である。第6図は、リード線が挿入
されたセラミック体を示す部分切欠斜視図である。第7
図は、はんだ浸漬工程におけるリード線が挿入されたセ
ラミック体を示す断面図である。第8図は、リード線が
はんだづけされたセラミック体を示す断面図である。第
9図は、リード線の一部が切断された状態のセラミック
体を示す正面図である。第10図は、この発明の第1の
実施例により製造されるセラミックコンデンサの断面図
を示す。第11図は、この発明の第2の実施例で用いら
れるリード線がセラミック体に挿入された状態を示す正
面図である。第12図は第11図に示された状態の側面
図である。第13図は、この発明の第2の実施例により
得られるセラミックコンデンサを示す斜視図である。第
14図は、この発明の第3の実施例に用いられるり一ド
輸を示す斜視図である。第15図は、第14図に示され
たリード線が挿入されたセラミック体を示す斜視図であ
る。116図は、この発明の第4の実施例に用いられる
セラミック体を示す斜視図であり、導電膜が形成された
状態を示す、第17図は、この発明の第5の実施例に用
いられるリード線を示す正面図である。第18図は、第
17図に示されたリード線がセラミック体に挿入された
状態を示す正面図である。11119図は、この発明に
用いられるセラミック体の他の形状の例を示す斜視図で
ある。IF520図は、第1の実施例の各■捏を示す図
である。第21図は、第2の実施例の特徴となる工程を
示す図である。 図において、1はセラミックコンデンサ、10はセラミ
ック体、11.12は貫通孔、13は全体U字形リード
線、13A、13Bはコンデンサのための電極から引き
出される2本のリード線に該当する部分、15ははんだ
、31は準備工程、32は導電膜形成工程、34はリー
ド線挿入工程、35ははんだ浸漬工程、36ははんだ固
化工程、37はリード線切断工程を示す。 第、5−図      第6図 O I 第11岡       第12図 第1j圏 第74図        第75圏 め7図      第770 第1ざ図       第1デ咽
FIG. 1 is a perspective view showing a first example of a conventional microcapacitance capacitor. FIG. 2 is an enlarged front view of the microcapacitance capacitor shown in FIG. 1. FIG. 3 is a front view showing a second example of the conventional micro volume 11212. FIG. 4 is a perspective view showing a third example of a conventional microcapacitance capacitor. FIG. 5 is a perspective view showing a ceramic body prepared in a first embodiment of the invention. FIG. 6 is a partially cutaway perspective view showing the ceramic body into which a lead wire is inserted. 7th
The figure is a cross-sectional view showing a ceramic body into which lead wires are inserted during a solder dipping process. FIG. 8 is a sectional view showing a ceramic body to which lead wires are soldered. FIG. 9 is a front view showing the ceramic body with some of the lead wires cut off. FIG. 10 shows a cross-sectional view of a ceramic capacitor manufactured according to a first embodiment of the invention. FIG. 11 is a front view showing a state in which a lead wire used in a second embodiment of the present invention is inserted into a ceramic body. FIG. 12 is a side view of the state shown in FIG. 11. FIG. 13 is a perspective view showing a ceramic capacitor obtained according to a second embodiment of the present invention. FIG. 14 is a perspective view showing a linear transport used in a third embodiment of the present invention. FIG. 15 is a perspective view showing the ceramic body into which the lead wire shown in FIG. 14 is inserted. FIG. 116 is a perspective view showing the ceramic body used in the fourth embodiment of the present invention, showing a state in which a conductive film is formed. FIG. 17 is a perspective view showing the ceramic body used in the fifth embodiment of the present invention. It is a front view showing a lead wire. FIG. 18 is a front view showing the lead wire shown in FIG. 17 inserted into the ceramic body. FIG. 11119 is a perspective view showing an example of another shape of the ceramic body used in the present invention. The IF520 diagram is a diagram illustrating each combination of the first embodiment. FIG. 21 is a diagram showing the steps that characterize the second embodiment. In the figure, 1 is a ceramic capacitor, 10 is a ceramic body, 11.12 is a through hole, 13 is an entire U-shaped lead wire, 13A and 13B are parts corresponding to two lead wires drawn out from electrodes for the capacitor, 15 is soldering, 31 is a preparation process, 32 is a conductive film forming process, 34 is a lead wire insertion process, 35 is a solder dipping process, 36 is a solder solidification process, and 37 is a lead wire cutting process. Figure 5 - Figure 6 O I 11th Figure 12 Figure 1j circle Figure 74 Figure 75 circle 7 Figure 770 1st circle 1st circle

Claims (1)

【特許請求の範囲】 2個の貫通孔が形成されたセラミック体を準備し、前記
各貫通孔の内面にコンデンサを構成する電極となる導電
膜を形成する導電膜形成工程、全体0字または全体V字
形リード線を準備し、前記セラミック体の2個の貫通孔
に前記リード線の両端部より前記リード線を挿入するリ
ード線挿入工程、 前記リード線が挿入された前記セラミック体を溶−され
たはんだに浸漬して、前記リード線と前記貫通孔とをは
んだづけするはんだづけ工程、および 前記リード線の屈曲部分を切断し、それによって、コン
デンサのための電極から引き出される2本のリード線を
形成するリード線形成工程を備えるセラミックコンデン
サの一造方法。
[Claims] A conductive film forming step of preparing a ceramic body in which two through holes are formed, and forming a conductive film serving as an electrode constituting a capacitor on the inner surface of each of the through holes. A lead wire insertion step of preparing a V-shaped lead wire and inserting the lead wire into two through holes of the ceramic body from both ends of the lead wire, and melting the ceramic body into which the lead wire has been inserted. a soldering step of soldering the lead wire and the through hole by immersing it in solder; and cutting the bent portion of the lead wire, thereby forming two lead wires that are drawn out from the electrodes for the capacitor. A method for manufacturing ceramic capacitors that includes a lead wire forming process.
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