JPS5826113B2 - MOS random access memory - Google Patents

MOS random access memory

Info

Publication number
JPS5826113B2
JPS5826113B2 JP53059402A JP5940278A JPS5826113B2 JP S5826113 B2 JPS5826113 B2 JP S5826113B2 JP 53059402 A JP53059402 A JP 53059402A JP 5940278 A JP5940278 A JP 5940278A JP S5826113 B2 JPS5826113 B2 JP S5826113B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mos
transistor
pass line
potential
line
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP53059402A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS54150044A (en
Inventor
辰司 浅川
伸治 両角
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suwa Seikosha KK
Original Assignee
Suwa Seikosha KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Suwa Seikosha KK filed Critical Suwa Seikosha KK
Priority to JP53059402A priority Critical patent/JPS5826113B2/en
Publication of JPS54150044A publication Critical patent/JPS54150044A/en
Publication of JPS5826113B2 publication Critical patent/JPS5826113B2/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/41Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
    • G11C11/412Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming static cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger using field-effect transistors only

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(MOS
)を集積して構成されるランダムアクセスメモリに関す
るものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an insulated gate field effect transistor (MOS).
) is related to a random access memory configured by integrating.

相補接続絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(CMOS
)を用いたランダムアクセスメモリ(CMOS/RAM
)は、その低消費電力性と高速動作性からスタティッ
ク型RAMとして注目され、更に、RAM全体としても
電源電圧変動に強い、雑音余裕度が大きい等、CMOS
一般の特徴も持っている。
Complementary connected insulated gate field effect transistor (CMOS)
) using random access memory (CMOS/RAM
) has attracted attention as a static RAM due to its low power consumption and high-speed operation.Furthermore, the RAM as a whole is resistant to power supply voltage fluctuations and has a large noise margin, making it comparable to CMOS.
It also has common characteristics.

第1図は、このスタティック型CMO8/RAMの一例
である。
FIG. 1 shows an example of this static type CMO8/RAM.

通常、MOSメモリセルはマトリックス状に配置される
が、第1図では、2個のメモリセルC1,C2のみ図示
している。
Usually, MOS memory cells are arranged in a matrix, but only two memory cells C1 and C2 are shown in FIG. 1.

メモリセルはC1の如<CMOS)ランジスタT、、T
6からなるインバータとCMOS)ランジスタT7.T
8からなるインバータ対の一方のゲート部から他方のド
レイン部へのたすき掛は接続により構成され、2個のゲ
ート・ドレイン接続接点は、トランスファーゲットとし
てのMOS)ランジスタT9.T、。
The memory cells are C1<CMOS) transistors T, , T
6 inverter and CMOS) transistor T7. T
The cross-over from the gate part of one inverter pair to the drain part of the other inverter pair consisting of T9. T.

により各々ディジット線Di t DIに接続される。are respectively connected to the digit lines Di t DI.

トランスファーゲート用MO8)ランジスタT9゜Tl
oのゲートはワード線デコーダ/ドライバW−D/Dに
接続され、W−D/Dの出力によりメモリセルC1の内
容がディジット線り、 、 D、に取出される。
MO8) transistor T9゜Tl for transfer gate
The gate of the word line decoder/driver W-D/D is connected to the word line decoder/driver W-D/D, and the output of W-D/D causes the contents of the memory cell C1 to be taken out to the digit lines , D, and D.

ディジット線D1. D、の一方は、データ書き込みの
ためディジット線デコーダ/ドライバDD/Dに接続さ
れ、他方は、並列接続されたMOS)ランジスタT1.
T2:T3.T4によりVDDに接続されている。
Digit line D1. One side of T1.
T2:T3. Connected to VDD by T4.

ディジット線D1 にはセンス回路S1 が接続され
、ディジット線D1 の電位変化がこのセンス回路によ
り検出されて、読み出し用のパスラインBLに伝達され
、出力バッファOBに導かれる。
A sense circuit S1 is connected to the digit line D1, and a change in the potential of the digit line D1 is detected by this sense circuit and transmitted to the reading pass line BL and guided to the output buffer OB.

センス回路S1 は、ディジット線をゲート接続とす
るMOS )ランジスタTllとD−D/Dの出力をゲ
ート接続とするMOS)ランジスタT1□の直列接続か
ら構成される。
The sense circuit S1 is composed of a series connection of a MOS transistor Tll whose gate is connected to the digit line and a MOS transistor T1□ whose gate is connected to the output of DD/D.

読み出し用のパスラインBLは、このセンス回路出力と
、更には、並列接続されたMOS)ランジスタT13
、T14よりVSSに接続されている。
The read pass line BL is connected to this sense circuit output and a MOS transistor T13 connected in parallel.
, T14 is connected to VSS.

以上の如きCMOS/RAMは、第2図に示される読み
出し動作のタイミングにおいて、次のような動作を行な
う。
The CMOS/RAM described above performs the following operations at the read operation timing shown in FIG. 2.

アドレスADが変化する時CEパルスが0(−Vss)
になると、MOS)ランジスタT2.T3がオンし、デ
ィジット線D1゜Dl が1にプリチャージされる。
When address AD changes, CE pulse is 0 (-Vss)
Then, MOS) transistor T2. T3 is turned on and digit line D1°Dl is precharged to 1.

又、読み出し用のパスラインBLも、MOS)ランジス
タT14がオンすることにより0(=Vss)プリチャ
ージされる。
Further, the reading pass line BL is also precharged to 0 (=Vss) by turning on the MOS transistor T14.

アドレスが確定し、W−D/D及びDD/Dによりメモ
リセルC1が選択されると、そのメモリセルの内容に応
じてディジット線D1゜Dlが各1、O若しくはOll
に変化し始める。
When the address is determined and the memory cell C1 is selected by W-D/D and DD/D, the digit lines D1 and Dl are set to 1, O, or Oll depending on the contents of the memory cell.
begins to change.

センス回路はその時D−D/Dによりトランジスタのオ
ンするT1□を有すSl のみが動作状態にある。
At that time, in the sense circuit, only Sl having T1□ whose transistor is turned on by D-D/D is in operation.

ディジット線D1 の電位がメモリセルC1の内容に応
じて1から0に変化するとMOSトランジスタTllが
オンし、読み出しパスラインBLを0から1に変化させ
る。
When the potential of the digit line D1 changes from 1 to 0 in accordance with the contents of the memory cell C1, the MOS transistor Tll turns on and changes the read pass line BL from 0 to 1.

一方、ディジット線D1の電位がC1の内容に応じて1
からOに変化する時は、Dl の電位が1のまま変化し
ないのでMOSトランジスタT1□がオフのままであり
、従って読み出し用のパスラインBLも0のまま変化し
ない。
On the other hand, the potential of digit line D1 changes to 1 depending on the content of C1.
When changing from to O, the potential of Dl remains at 1 and does not change, so the MOS transistor T1□ remains off, and therefore the read pass line BL also remains at 0 and does not change.

このようなCMOS/RAMにおいて高速動作を追及す
る際、その制限要因の一つにメモリセルの電流引き込み
の能力不足がある。
When pursuing high-speed operation in such a CMOS/RAM, one of the limiting factors is the insufficiency of the current drawing ability of the memory cell.

例えば第1図において、ディジット線D1 の電位がメ
モリセルの内容に応じて1から0に変化する速度はMO
S)ランジスタT6.T9のコンダクタンスで決まる。
For example, in FIG. 1, the speed at which the potential of digit line D1 changes from 1 to 0 depending on the contents of the memory cell is MO
S) Transistor T6. It is determined by the conductance of T9.

従って、トランスファーゲートとしてのMOS)ランジ
スタT9.T1o及びメモリセル内のMOS)ランジス
タT6.T8のサイズを大きくしてコンダクタンスを大
きくすれば速度は向上するが、反面、サイズを大きくす
ればメモリセル面積が増加し、集積度が減少してしまう
Therefore, transistor T9.MOS) as a transfer gate. T1o and MOS in the memory cell) transistor T6. Increasing the size of T8 to increase the conductance improves the speed, but on the other hand, increasing the size increases the memory cell area and reduces the degree of integration.

特に、系としてのRAMは殆どメモリセルがその系全体
の面積の殆どを占めるから、上記の如き改良は、高集積
度化の点からは望ましいものではない。
In particular, in a RAM system, memory cells occupy most of the area of the entire system, so the above-mentioned improvements are not desirable from the viewpoint of high integration.

本発明は、以上の点に鑑みてなされたものであって、高
集積度化を保持しつつ読み出し動作速度を向上させたM
OS/RAMを提供せんとするものである。
The present invention has been made in view of the above points, and has been made to improve the read operation speed while maintaining high integration.
It is intended to provide an OS/RAM.

本発明は、MOS/RAMの高速化を実現するために、
第1図81,82等各ディジットのセンス回路とMOS
)ランジスタT13 、Tl4からなる全体としてのセ
ンス回路系に工夫が加えられており、その特徴は次の如
くである。
In order to realize high-speed MOS/RAM, the present invention has the following features:
Fig. 1 Sense circuit and MOS for each digit such as 81 and 82
) The overall sense circuit system consisting of transistors T13 and Tl4 has been devised, and its features are as follows.

すなわち、複数個配列されたMOSメモリセルを有し、
選択されたメモリセルの内容をディジット線の電位変化
をセンス回路で検出し、その検出出力を読み出し用のパ
スラインに出力して読み出すようにしたMOS/RAM
において、その読み出し用のパスラインの電位変化を検
出するMOSトランジスタ回路を備え、そのMOS)ラ
ンジスタ回路の出力電位変化を検出しパスラインの電位
変化を高速にすべく、パスラインに正帰還をかげるよう
動作するMOS)ランジスタ回路をパスラインに接続し
、パスラインの電位変化を高速化することにより、RA
Mの読み出し動作を高速化したことである。
That is, it has a plurality of MOS memory cells arranged,
A MOS/RAM in which the contents of a selected memory cell are read by detecting potential changes on a digit line using a sense circuit and outputting the detection output to a reading pass line.
The device is equipped with a MOS transistor circuit that detects changes in the potential of the readout pass line, and provides positive feedback to the pass line in order to detect changes in the output potential of the MOS transistor circuit and speed up the change in potential of the pass line. By connecting a MOS (MOS) transistor circuit that operates as
This speeds up the read operation of M.

以上の如き本発明の一実施例を第3図に示す。An embodiment of the present invention as described above is shown in FIG.

第3図では、第1図と対応する部分に同一符号を付し、
第1図と異なる所には新たに符号が加えられている。
In FIG. 3, parts corresponding to those in FIG. 1 are given the same reference numerals,
New symbols have been added to parts that differ from those in Figure 1.

第1図と異なる所は、読み出し用のパスラインの電位変
化を検出するMOS)ランジスタT□7を備え、そのM
OSトランジスタの出力電位変化を検出し、パスライン
の電位変化を高速にすべくパスラインに正帰還をかげる
よう動作する電流供給用のMOS)ランジスタT18を
パスラインに接続し、更にその電流供給用のMOS)ラ
ンジスタにおいて、ディジット線若しくは読み出し用の
パスラインのプリチャージ時におけるT18のゲート電
位を確定すべく制御するMOS )ランジスタT15
t T16の並列接続を採用している点である。
The difference from FIG. 1 is that it is equipped with a MOS transistor T
A current supply MOS transistor T18 that detects the output potential change of the OS transistor and operates to provide positive feedback to the pass line to speed up the potential change of the pass line is connected to the pass line, and is further connected to the current supply transistor T18. A MOS transistor T15 that controls the gate potential of T18 during precharging of the digit line or readout pass line in the transistor T15.
The point is that a parallel connection of t T16 is adopted.

本発明の一実施例たる第3図の構成によるMOS/RA
Mは、第2図に示される読み出し動作のタイミングにお
いて、次の様な動作を行なう。
MOS/RA with the configuration shown in FIG. 3 as an embodiment of the present invention
M performs the following operation at the timing of the read operation shown in FIG.

アドレスADが変化する時CEパルスがOになると、M
OS)ランジスタT2.T3がオンし、ディジット線D
1.D1が1にプリチャージされる。
When the CE pulse becomes O when the address AD changes, M
OS) transistor T2. T3 turns on and digit line D
1. D1 is precharged to 1.

又、読み出し用のパスラインBLも、MOS)ランジス
タTI4がオンすることによりOにプリチャージされる
Further, the reading pass line BL is also precharged to O by turning on the MOS transistor TI4.

更に、センス時におけるパスラインの電位変化に正帰還
をかげる電流供給用MO8)ランジスタT18のゲート
電位は、トランジスタT’toによりプリチャージされ
て1になり、オフであり、パスライン電位検出用のMO
S)ランジスタT1□はパスラインOにプリチャージさ
れているためオフしている。
Furthermore, the gate potential of the transistor T18 (MO8) for current supply, which provides positive feedback to the change in the potential of the pass line during sensing, is precharged to 1 by the transistor T'to and is off. M.O.
S) The transistor T1□ is off because the pass line O is precharged.

この時、ディジット線電位のセンス回路も、ディジット
線が1にプリチャージされていてT1、がオフしている
ため動作しない。
At this time, the digit line potential sensing circuit also does not operate because the digit line is precharged to 1 and T1 is off.

アドレスが確定し、W−D/D及びD −D/Dにより
メモリセルC□が選択されると、そのメモリセルの内容
に応じてディジット線D1. D、が各1、O若しくは
Ollに変化し始める。
When the address is determined and memory cell C□ is selected by W-D/D and D-D/D, digit line D1. D, begins to change to 1, O, or Oll, respectively.

センス回路は、その時D−D/Dによりトランジスタの
オンするTI2を有すSl のみが動作状態にある。
In the sense circuit, only the transistor TI2 whose transistor is turned on by D-D/D is in an operating state.

ディジット線の電位がメモリセルC1の内容に応じて1
からOに変化するとMOS)ランジスタTllがオンし
、読み出しパスラインBLを0から1に変化させる。
The potential of the digit line becomes 1 depending on the contents of memory cell C1.
When it changes from 0 to 0, the MOS transistor Tll turns on and changes the read pass line BL from 0 to 1.

パスラインがOから1に変化すると、パスライン電位検
出用のMOS)ランジスタT1□がオンし、従ってMO
S )ランジスタT18のゲート電位を1から0に変化
させるためT□8もオンし、パスラインを1に急激に引
き上げることになる。
When the pass line changes from O to 1, the MOS transistor T1□ for detecting the pass line potential turns on, and therefore the MO
S) To change the gate potential of transistor T18 from 1 to 0, T□8 is also turned on, and the pass line is suddenly pulled up to 1.

一方、ディジット線D1 の電位がC2の内容に応じて
1からOに変化する時は、Dl の電位が1のまま変化
しないのでMOS)ランジスタTllがオフのままであ
り、従って読み出し用のパスラインBLもOのまま変化
しない。
On the other hand, when the potential of digit line D1 changes from 1 to O according to the contents of C2, the potential of Dl remains 1 and does not change, so transistor Tll (MOS) remains off, and therefore the readout pass line BL also remains O and does not change.

依ってパスライン電位検出用のMOS)ランジスタTI
Tもオフのままであり、MOS)ランジスタT18のゲ
ート電位を1のまま変化させないので、パスラインは0
のまま保持される。
Therefore, the MOS) transistor TI for detecting the pass line potential
Since T also remains off and the gate potential of MOS transistor T18 remains at 1, the pass line becomes 0.
will be retained as is.

以上の様に、本発明によるMO8/RAMでは読み出し
時のディジット線の電位変化は、ディジット線のセンス
回路で検出され、その後の読み出し用のパスラインの電
位変化がパスライン電位検出トランジスタにより検出さ
れ、更にパスラインへの電流供給用トランジスタにより
パスライン電位に正帰還がかげられるため高速になり、
しかもこれらの新たに付加されたトランジスタは、パス
ラインプリチャージ用のトランジスタT13 j T’
t4と同様に各パスラインに1側設ければ良く、パスラ
インへの電流供給能力を大きくするためにこれらのトラ
ンジスタのサイズを大きくしてもRAM系全体の高集積
度化を殆ど阻まない。
As described above, in the MO8/RAM according to the present invention, changes in the potential of the digit line during reading are detected by the digit line sense circuit, and changes in the potential of the pass line for subsequent reading are detected by the pass line potential detection transistor. Furthermore, the transistor for supplying current to the pass line provides positive feedback to the pass line potential, which increases the speed.
Moreover, these newly added transistors are pass line precharge transistors T13 j T'
As with t4, it is sufficient to provide one side of each pass line, and even if the size of these transistors is increased in order to increase the ability to supply current to the pass line, it hardly hinders the increase in the degree of integration of the entire RAM system.

なお上記実施例では、パスラインに正帰還をかげるトラ
ンジスタを電流供給型にしたが、第3図の構成を全体と
して伝導型を逆転させた形式においては電流引き込み型
になるものである。
In the above embodiment, the transistor that provides positive feedback to the pass line is of a current supply type, but if the conduction type of the structure of FIG. 3 is reversed as a whole, it becomes a current draw type.

その他、本発明はその要旨を逸しない範囲で種々変形実
施することができる。
In addition, the present invention can be modified in various ways without departing from its gist.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のCMO8/RAMの構成例。 第2図はその読み出し動作を説明するためのタイムチャ
ート。 第3図は本発明の一実施例のMO3/RAMの構成例。
Figure 1 shows an example of the configuration of a conventional CMO8/RAM. FIG. 2 is a time chart for explaining the read operation. FIG. 3 shows an example of the configuration of MO3/RAM according to an embodiment of the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 複数個配列されたMOSメモリセルを有し、選択さ
れたメモリセルの内容をディジット線の電位変化をセン
ス回路で検出し、その検出出力な続み出し用のパスライ
ンに出力して読み出すようにしたMOSランダムアクセ
スメモリにおいて、該パスラインを第1の導電型トラン
ジスタのゲートに入力し、該第1の導電型トランジスタ
のドレインは、第2の導電型トランジスタのゲートに接
続され、該第2の導電型トランジスタのドレインを該パ
スラインに接続し正帰還させたことを特徴とするMOS
ランダムアクセスメモリ。
1 It has a plurality of MOS memory cells arranged, and the contents of the selected memory cell are read out by detecting the potential change of the digit line with a sense circuit and outputting the detected output to the pass line for continuing reading. In the MOS random access memory, the pass line is input to the gate of the first conductivity type transistor, the drain of the first conductivity type transistor is connected to the gate of the second conductivity type transistor, and the second conductivity type transistor is connected to the gate of the second conductivity type transistor. A MOS characterized in that the drain of a conductivity type transistor is connected to the pass line for positive feedback.
random access memory.
JP53059402A 1978-05-18 1978-05-18 MOS random access memory Expired JPS5826113B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP53059402A JPS5826113B2 (en) 1978-05-18 1978-05-18 MOS random access memory

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP53059402A JPS5826113B2 (en) 1978-05-18 1978-05-18 MOS random access memory

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS54150044A JPS54150044A (en) 1979-11-24
JPS5826113B2 true JPS5826113B2 (en) 1983-05-31

Family

ID=13112239

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP53059402A Expired JPS5826113B2 (en) 1978-05-18 1978-05-18 MOS random access memory

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5826113B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS592997B2 (en) * 1980-05-22 1984-01-21 富士通株式会社 static memory

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5320828A (en) * 1976-08-11 1978-02-25 Hitachi Ltd Sense amplifier circuit

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5320828A (en) * 1976-08-11 1978-02-25 Hitachi Ltd Sense amplifier circuit

Also Published As

Publication number Publication date
JPS54150044A (en) 1979-11-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN110364203B (en) Storage system supporting internal calculation of storage and calculation method
US5491667A (en) Sense amplifier with isolation to bit lines during sensing
KR910009442B1 (en) Semiconductor memory device
JPH0253879B2 (en)
KR100574181B1 (en) Memory device with fast write recovery and related write recovery method
US4758990A (en) Resetting arrangement for a semiconductor integrated circuit device having semiconductor memory
JPH0422318B2 (en)
JPS6044751B2 (en) dynamic semiconductor memory
US4845676A (en) Non-clocked static memory cell
KR100203717B1 (en) Data bus clamp circuit for semiconductor memory device
JPS6362839B2 (en)
KR880006698A (en) I / O circuit of SeaMOS semiconductor memory device
KR0155986B1 (en) Semiconductor memory device
Gupta et al. Exploration of 9T SRAM cell for in memory computing application
KR910014938A (en) Integrated Circuit Memory with Enhanced DI / DT Control
US4792924A (en) Single rail CMOS register array and sense amplifier circuit therefor
JPS5826113B2 (en) MOS random access memory
JPS5813519Y2 (en) semiconductor storage device
JPS6224875B2 (en)
US6597201B1 (en) Dynamic predecoder circuitry for memory circuits
JPS56107387A (en) Semiconductor storage device
KR900008523A (en) Semiconductor memory device
JPH04368695A (en) Semiconductor integrated circuit
JPH0453040B2 (en)
JPS62165787A (en) Semiconductor memory device