JPS5823697A - アミノトリアゾリル化合物とその製造方法ならびにかかる化合物を含有する薬学的製剤およびその使用方法 - Google Patents
アミノトリアゾリル化合物とその製造方法ならびにかかる化合物を含有する薬学的製剤およびその使用方法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
＋発明は新規な７β−アミノトリアゾリルアセトアミノ
−６−セフェム−４−カルボン醸化合物、ての輌遣方法
、か＼る化合物を貧有する薬学的製剤、およびこれを薬
学的製剤の・々遺に、または４橿字的に活性な化合物と
して、１史用する方法に関する。 本発明は特に式 〔本式においてｎｄｏまたは１を表わし、Ｈｌは水素原
子、ニーチク化またはエステル化されたヒドロギシル基
、エーテル化されたメルカプト基、ポルミル基または眉
−〇Ｈｇ−’ｚ （Ａ、中Ｈ２は水素原子、官能的に変
性ざ／しているかまたはさｎていないカルボキシル基、
またはアシルオキシ基、ヒドロヤシル基、ヘテロ砿−チ
第４ｔたはアンモニオ基を表わす）を表わし、Ｒ３は保
護されているがまたはされていないカルボキシル基を表
わし・ ８４は水素原子または低級アルコキシル基を衣
ゎし・Ａは基−０）］２−、−ｏ（嘘）−または−Ｃ（
−一〇−Ｈ５）−（式中Ｒｓｄ水未原子、＋１例されて
いるかまたは置換されていない低級アルキル基またはシ
クロアルキル基、シクロアルケニル基、低級アルケニル
基またはＮ −＋ｄｔ換されているかまたはされていな
いカルバモイル基を表わす）を表わし、Ｒ，ｄ水素 、
＋ａｔ子、置換されているかまたは置換されていない炭
化水素基、有機スルホニル基、またはアシル基を表わし
、そしてＡｍは１−換されているかまたは直侠されてい
ないアミノ基を表わす〕 。 で表わされる７β−アミノトリアゾリルアセトアミノ−
３−セフェム−４−カルボン虜化合冊、およびｆｆｉ塩
性基を有するか＼る化合物の４、これらの化合物の製造
方法、か＼る化合＃を貧有する薬学的製剤、２よびｃｎ
らを栗４的−剤の襄泣に、またｒｉ楽浬釣に活性な化合
ぐとして、使用するｂ゛ムに１凋する。 式Ｉで表わされる化曾吻にひいて１叔ｎは待に０の１１
ｊＬを有する。もしｎが１の１直をとるときは対応する
１−オキシドはα−形Ｉたはｄ−形でちってもよい。 １．２．４−トリアゾール環（′ｉ６−またケま５−立
において、ｔｉｔ挨さｎているかまたは１ゴ換されてい
ないアミノ基Ａｍに、または４−Ａ−に請合している。 従って本発明のトリアゾリル化合物において、１，２．
４−トリアゾール環ＡはＹ４性体（またはもしＲ６が水
素原子を表わすなら：ず、互實異性体）の形で存在する
か、 に６ またはこれらの異性不の混合づの杉で（ｆ午してよい。 さらに、式■で表わされ式中Ａｍがｆミノ基を表わす化
合物は、部分式 で表わされる６−または５−イミノトリアシリニル化合
物として、互変異性体の形にあってもよく、または互変
異性体の混合吻の杉にめってもよい・互変異性体間の平
衡はＴＩＩＬ瑛基Ａ２よび（または）Ｒ６の性質、２よ
び（または）外的因子、例えば温度、溶媒および−によ
って左右される。本発明の範囲内では、これらの基を発
明の詳細な説明および特許請求の範囲においてアミノト
リアゾリル基と呼ぶがこれにはイミノトリアシリニル形
も含めている。 式■で表わされる好ましい化合物にハ５− Ａｍ−トリ
アゾル−６−イル基が含有される。 本発明の記載において、置換基または化合物の定義に関
連して使用される一低ＩＩ＆１なる用語は、それぞれの
嬢遺基または化合物が１時記しない限９７個以ド、好ま
しくは４個以ドの炭ｇ原子を言何することを意味する。 本祐明の記載の範囲１りにおいて、ｉ１丁述および吹述
に使用する一般的定戊の慧禾？よ好−ましくは次の通り
で多る： エーテル化されたヒドロキシル４Ｈｘとしては袴に低級
アルコキシル基例えばメトキシル基、さらにエトキシル
基、ｎ−グロポキシル基、イングロボキシル基−ｎ−ブ
トキシル基、インブトヤシル基または第三級ブトキシル
、砺、またｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−へキシルオキシ
基、またはｎ−ヘプチルオキシ基、もしくはまたアリー
ル低級アルコキシル基であってそのアリール基が特に、
ｒ／１］えば低級アルコキシル基かハロゲン原子かニト
ロｋかによって置美されているかまたけＩｔ換されてい
ないフェニル基であるもの、飼えばベンジルオキシ基、
ジフェニルメトキシ基、ｐ−メトキシベンジルオキシ基
またはｐ−ニトロペンジルオ午シ基が挙げられる。− エステル化されたヒドロキシル基［（ｌは輌磯城か有ｍ
ｄか１こよってエステル化されたヒドロキシル基でめっ
て、待にハロゲン原子、また低級アルカノイルオキシ基
、低級アルカンスルホニルオキ７４またはアレー／スル
ホニルオキシ盾、例えば籍に塩業原子、もしくはまたフ
ッ素原子、臭素原子またはヨウ素原子、アセトキシ冶、
グロピオニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、メ
タンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基
また（ｌｏ−またはｐ−トルエンスルホニルオキシ基が
挙げられる。 エーテル化されたメルカプト基Ｒ１は特にヘテロ墳−チ
オ基でそのヘテロ環基が好ましくは５員または６員で、
ＳｔＳ分的にｉ和されているかまたは飽和されておらず
、少くとも１個の＃Ｉ窒素原子を含み、さらに環窒素原
子、環酸素原子、−よび（または）４硫黄原子を含有す
るかまたは含有せず、環炭素原子を介してチオ硫黄原子
。Ｃ４合しており、置換されているかまたは置換されて
いない芳香族のへテロ環基であるものである。例えばＲ
１は下記のへテロ環−チ第４Ｒｖの一つである。しかし
Ｈｌはｆた、向えばヒドロキシル基かアミノ冶かカルボ
キシル益かｌこよって１侠され−Ｃいるかまたは瀘侯さ
れていない低級アルキルメルカプト基、・丙えばメチル
メルカプト基、エチルメルカプト基またはカルボ中ジメ
チルメルカプト４をも表わす。 ゛ぼ岨的に変性されたカルボキシル基Ｒ３としては飼え
ば、低級アルキル基列えばエチル基またはエチル基か、
生理学的に除去し１洋る屑、列えばピバロイルオキシメ
チル基かによってエステル化きれたカルボキシル基、も
しくはアンモニアが・ルー級または第二級アミン例えば
モノ−またはジー低級アルΦルアミン、例えばメチルア
ミン、エチルアミン、ジエチルアミンまたはジエチルア
ミンかによってアミド化されたカルボキシル基、もしく
は基Ｈ３に対して述べるように保護されたカルボキシル
基が挙げられる。 アシルオキシ基Ｒ２において、アシル基は、列えｄｓ
７供されているかまたは４侯されていない低級榴肪族カ
ルボン１便か、カルボン峡低級アルキルエステルか、低
級アルカンスルホン酸が、芳杏緩スルホ／改か、芳ｆ族
カルボン酸か、アリール基によって＋１！された低級ア
ルカンカルボン酸か、またはｌ’−ｔｉ遺されているか
また１ｄされていないカルバミン酸かのアシル基である
。 このようなアシルオキシ基Ｒ２としては列えば、置換さ
れているかｌたは置換されていない低級アルカノイルオ
キシ基、時にアセトキシ基、さらにホルミルオキシ基、
プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリ
ルオキシ基、バレリルオキシ基、イノバレリルオキシ基
、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、ピパ
ロイルオキシ基、アセドア七ト午シ基、オキサリルオキ
シ基、スクシニルオキシ−４ｉｓ、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、
エト午ジカルボニルオキシ基、プロポキシカルボニルオ
キシ基、１−シクロプロピルエトキシカルボニルオキシ
基、イソプロポキシカルボニルオキシ基、メトキシカル
ボニルオキシ基、第三級メトキシカルボニルオキシ基、
ペンチルオキシカルボニルオキシ基、第三級ペンチルオ
キシカルボニルオキシ基、ヘキシルオキシカルボニルオ
キシ基等、低級アルカンスルホニルオキシ基１例えばメ
シルオ中シ基、エタンスルホニルオ＃シｔＪｆｉ。 フロハンスルホニルオキシ基、インプロパンスルホニル
オキシ基、ブタンスルホニルオキシ基、ψ、アレーンス
ルホニルオキシ、Ｗ、ｔｌＪえぼベンゼンスルホニルオ
キシ基、トシルオキシ承寺、アシルオキシ基、例えばベ
ンゾイルオキシ基、トルオイルオキシ基、ナフトイルオ
キシ基、フタロイルオキシ−塙、インダンカルボニルオ
キシ基等、アリール低級アルカノイルオキシ基、例えば
フェニルアセトキシ基等であって、こ＼で前記のアシル
基は適当な置換基、例えばハロゲン原子グリえは塩素、
臭素、ヨウ素またはフッ素原子、ヒドロキシル基、シア
ノ基、ニドｏ基、υ（級アルコ午シル＆％Ｊえばメトキ
シル基、エトキシル基、グロボキシル基、インプロポキ
シル基等、低級アルキル基、例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、インプロピル基、ブチル基等、低級アル
ケニル基列えばビニル基、アリル基等、または例えばフ
ェニル基、トリル基等を言ゼしてもよい。か＼る直換基
を１個またはそれ以上Ｍするアシルオキシ基の列として
は、好ましくはへロ低級アルカノイルオキク眉、例えば
クロロアセトキシ基、ジクロロアセトキシ基、トリクロ
ロアセトヤシ基またはトリフルオロアセトキシ基が挙げ
られる。 Ｎ−＃ｔ！！８されているかまたはさｎていないカルバ
ミン酸のアシル基において、Ｎ−１ｍ撲基としては、ハ
ロゲン原子例えば塩素原子か、低級アルカノイルオキシ
４ｉ？ＩＪえばアセトキシ基−またはプロピオニルオキ
シ基かｌこよってＩｔ換されているかまたは置換されて
ない低級アルキル基、例えばメチル基、エチル基、２−
クロロエチル基、または２−アセトキシエチル基が・轟
げられる。このようなアシルオキシ基Ｈ２としては例え
ば、カルバモイルオキシ基、Ｎ−メチルカルバモイルオ
キシＭ、 Ｎ−エチルカルバモイルオキシ基、Ｎ−（２
−クロロエチル）−カルバモイルオキシ基また１ｄＮ−
（２−７セトキシエチル）−カルバモイルオキシ基が挙
げられる。 ヘテロ壌−チオ）ＩＡｉ２ｖこおいて、ヘテロ４４とし
ては待に、ｔＩＬｆｉされているかまたは置換されてお
らず、環炭素原子を介してチオ基Ｖこ結合され。 １−４４１５の４−４索原子を有し、そしてさらにｃＩ
ｌ素諷子および硫黄原子から成る群から選ばれる環へテ
ロ原子を有するかまたは有しないモノ煩素墳底もしくは
１−５１固の壌・叉素Ｉ吠子を１するビ煩素工濾基が挙
げられる。 このようなヘテロ４壱としては・吋に、単環式で５員ま
たは６員のジアザ−、トリアザ−、テトラザー、チアザ
−、チアジアザ−、チアトリアザ−、オキサザ−または
オキサジアザ−環式Ｊ５、もしくは墳当１：＞５１１Ａ
または６個の環原子をキ有するアザ−、ジアザ−、トリ
アザ−、テトラザー、またはペンタザー二環式基でろっ
て、こ＼でこれらのＩ、Ｑの七ｎぞれは芳香族的な、ま
たは部分的に＠４０された性格であり、置換されていな
いかまたは＋１ｍされて、例えば次！己のような＋１ｍ
基を含何するものが挙げられる。 このようなヘテロ項基のＩｄ 侠４としては、ｌかんず
く、低級アルキル域、時にメチル基、またエチル基、ｎ
−グロビル基、イソプロピル、＆−または直鎖のまたは
枝分れしたブチル基、またはとドロキシル基かエステル
化されたヒドロキシル４ｖｌＪえば低級アルカノイルオ
キシ基かハロゲン原子かカルボキシル基かエステル化さ
れたカルボキシル基例えば低級アルコキシカルボニル基
かスルホ基がアミド化されたスルホ基かアミノ基か七ノ
ーまたはジー低級アシルアミノ基かアシルアミノ基例え
ば低級アルカノイルアミノ基か、または波濤された低級
アルカノイルアミノ基、例えばカルボキシル基かハロゲ
ン原子かによってＩｔ懺された低級アルカノイルアミノ
基かによって置換された低級７にキル基、例えば２−ヒ
ドロキシエチル基、２−アセトキシエチル基、２−クロ
ロエテル棒、カルボキシメチル基、２−カルボキシエチ
ル基、エトキシカルボニルメチル基、２−エトキシカル
ボニルエチル基、スルホメチル晒、２−メトキシル基、
スルファミルメチル基、２−スルファミルエチル基、２
−アミノエチル基、２−ジメチルアミノエチル基“また
は２−アセトアミノエチル盾がψげられる。ヅ素壌式店
のざらに地の直ＩＡ基の−ｊとしては、シクロアルそル
基、例えばシクロペンチル基またはシクロヘキシル基、
アリール基、例えばハロゲン原子−Ｊえば塩素原子かニ
トロ基かによってｄ決されているか゛またはＲ洟されて
いないフェニル基、アリール１戊級アルキル基、列えば
べシリル基、またはへテロシクリル基、ｔ；＝ｌＪ 、
ｔばフリル基例えば２−フリル基、チェニル壜列えば２
−チェニル基、またはオキサシリル基例えば２−または
５−オキサシリル基、または１すを基例え、ｆノ・ロゲ
ン原子例えばフッ素、塩素または臭素原子、置換されて
いるかまた（ｌま置換されていな１ハアミノ基、例えば
低級アルキル漬によってモノまたはジ置換きれているか
またはされていないアミノ壱、列えばアミノ基、メチル
アミツノ〜またはジメチルアミノ基、アシルアミノ基、
ｙｌえは低級アルカノイルアミノ基、または）１０ゲン
原子かカルボキシル基かによって置換された低級アルカ
ノイルアミノ基１例えばアセトアミノ基、２−クロログ
ロピオニルアミノ基または６−カルポキシグロビオニル
アミノ基、ニトロ基、とドロキシル基１低級アルコキシ
ル基例えばメトキシル基、エトキシル告、ｎ−ブトキシ
ル基ま九は２−エチルへキシルオキシ基、または官能的
に変性されているカミまたはされていないカルボキシル
基１例えばカルボキシル基、エステル化され九カルボキ
シル基例えば低級アルコキシカルボニル基例えばメトキ
シｆ） ＃ ホｓ−ル基またはエトキシカルボニル基、
置換されていないかまたは置換されている、例えばＮ−
モノ−またはＮ、Ｎ−ジー低級アルキル化されているカ
ルバモイル基、 ｆｌｌ、ｔばドーメチルカルノ（モイ
ルノンまたはＮ、Ｎ−ジメチルカル・（モイル盾、また
はシアノ基、そしてまたオキソ基またはオキシト１基が
挙げられる。このような置換基は１個またはそれ以上存
在してよく、得に４炭素原子に結合しているが、特に低
級アルキル基およびオキシド°基の場合には、環窒素原
子にも結合する。 そのヘテロ環基が対応する単環式の５貝の壜を表わす好
ましいヘテロミーチオ基Ｒ２としては、なかんずく、イ
ミダゾリルチオ基１７１Ｊえば２−イミダゾリルチオ基
、低級アルキル基および（まｔｌよ）フェニル基によっ
て＋１１遺されているかまたはＩｌｔ侯されていないト
リアゾリルチオ基、例えばＩＨ−１，２，３−トリアゾ
ル−４−イルチオ基、１−メチル−１Ｈ−１＊２＋３−
トリアゾル−４−イルチオ基、１Ｈ−１１２＋４−トリ
アゾル−６−イルチオ基、５−メチル−１）１−１１２
１４−トリアゾル−３−イルチオ７妃６−メチル−１−
フェニル−１ｕ−１１２，４−）リアゾル−５−イルチ
オ基、４，５−ジメチル−４Ｈ−１＋２＋４−トリアゾ
ル−６−イルチオ基、３−または４−カルボキシメチル
−４８−１ｅ ２ ｔ ４− ）リアゾル−６−イルチ
オ基または４−フェニル−４Ｍ−１，２，４−トリアゾ
ル−３−イルチオ基、特に、削５己のように置換されて
いるかまたは置換されていないテトラゾリルチオ基、例
えば１Ｈ−テトラゾルー５−イルチオ基、１−メチル−
１Ｈ−テトラゾルー５−イルチオ基、１−カルホキツメ
チル−１Ｈ−テトラゾルー５−イルチオノｂ、１−（２
−カルボ乎ジエチル）−１Ｈ−テトラゾルー５−イルチ
オ基、１−スルホメチル−１Ｈ−テトラゾルー５°イル
チオ＆、１−（２−スルホエチル）−１）１−テトラゾ
ルー５−イルチオ基、１−（２−ジメチルアミノエチル
）−１Ｈ−テトラゾルー５−イルチオ基、１−フェニル
−１Ｈ−テトラゾルー５−イルチオ基または１−（４−
クロロフェニル）−１Ｈ−テトラゾルー５−イルチオ基
、低級アルキル基かチェニル盾かによってＬｄ換されて
いるかまたは置換されていないイソチアゾリルチオ基ま
たはチアゾリルチオ基、例えば２−チアゾリルチオ基、
４−（２−チェニル）−２−チアゾリルチオ基、４，５
−ジメチル−２−チアゾリルチオ基、５−イソチアゾリ
ルチオ基、４−イソチアゾリルチオ基または５−インチ
アゾリルチオ基、特に前記したように置換されているか
または置換されていないチアジアゾリルチオ基１例えば
１゜２．３−チアジアゾル−４−イルチオ基、１，２゜
３−チアジアゾル−５−イルチオ基、１，３．４−チア
ジアゾル−２−イルチオ基、２−メチル−１，３，４−
テアジアゾル−５−イルチオ基、２−カルボキシメチル
−１，３，４−チアジアゾル−５−イルチオ基、２−Ｃ
６−カルポキシグロビオニルアミノ）−１，３，４−チ
アジアゾル−５−イルチオ基、１，２．４−チアジアゾ
ル−５−イルチオ基、６−メチル−１，２，４−チアジ
アゾル−５−イルチオ基または１，２．５−チアジアゾ
ル−６−イルチオ冶、チアトリアゾリルチオ基、例えば
１，２，３．４−チアトリアゾル−５−イルチオ基、前
記のように１置換さ几ているかまたは置換さｎていない
イソオキサゾリルチオ等またはオキサゾリルチオ基、例
えば５−オキサゾリルチオ基、４−メチル−５−オキサ
ゾリルチオ基、２−オキサゾリルチオ基、４，５−ジフ
ェニル−２−オキサゾリルチオ基または６−メチル−５
−イソオキサゾリルチオ基、またはＩＩＩＴ ＋１己の
よりに置換されているかまたは１置遺されていないオキ
サジアゾリルチオ基、例えば１，２．４−オキサジアゾ
ル−５−イルチオ基、２−メチル−１，３，４−オキサ
ジアゾル−５−イルチ第４，２−７二二ルー１，６．４
−オキサジアゾル−５−イルチオ基、５−（４−ニトロ
フェニル）−１，６，４−オキサジアゾル−２−イルチ
オ基または２−（２−チェニル）−１，３，４−オキサ
ジアゾル−５−イルチオ基が挙げられる。 ヘテロ環基が対応する率頃、６員の丞または対応する部
分的に飽和された基を表わす好ましいヘテロ壌−チオ基
Ｒ２としては、なかんず（、）〜ロｒノ原子によってｖ
Ｉｔ喚されている力）ま１こを言置換さレテイない１−
オキシドピリゾルチオ基１例え＆プ１−オキシドー２−
ビリゾルチオ基または４−クロロ−１−オキシｌ″−２
−ピリジルチオ基、ヒドロキシル基によってｒｕｍされ
ているかまたは置換されていないピリダジニルチオ基、
例えば６−ビトロキシ−６−ビリダジニルチオ基、低級
アルキル基か低級アルコキシル基かノ〜ロｒ／原子かに
よって置換されているが呼たけ置換されていないＮ−オ
Φシトピリダジニルチオ基、例えば２−オキシド−６−
ピリダジニルチオ基、６−クロロ−１−オギシＦ−６−
ビリダゾニルチオ基、６−メチル−２−オキシド−６−
ピリダジニルチオ基、６−メドキシー１−オキシド・−
６−ピリダジニルチオ基、６−ニトキ７−１−オキシド
ー６−ビ１Ｊダシニルチオ基、５−ｎ−ブトキシ−１−
オキシげ−６−ピリダジニルチオ基また４２５− （２
−エチルヘキンルオキシ）−１−オキシげ−６−ピリダ
ジニルチオ基、または低級アルキル基かアミノ基カシー
低級アルキルアミノ基かカルボキシル基かＫよってず置
換されているかまたは置換されていない２−オキソ−１
，２−ジヒげロピリミジニルチオ基、例えば２−オキソ
−１，２−ジヒドロ−４−ピリミジニルチオ基、６−メ
チル−２−オキソ−１，２−ジヒＰロー４−ピリさゾニ
ルチオ基、５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒｒロ
ー４−ピリはジニルチオ基、６−アミノ−２−オキソ−
１，２−ジヒドロー４−ピリミジニルチオ基、６−シメ
チルアミノー２−オキソー１．２−ジヒドロー４−ピリ
ミジニルチオ基、５−カルボキシ−２−オキソ−１，２
−ジヒｒロー４−ビリきジニルチオ基または６−カルボ
キシ−２−オキノー１．２−ジヒドロ−４−ビリζゾニ
ルチオ基、または同様にして置換されているかまたはｔ
ｉｔ侯されていない４−オキソ−３，４−ジヒドロ−２
−ビリミゾニルチオ基、例えば、特ＶＣ，ｔｉ１換され
ていない４−オキソ−５，４−ジヒドロ−２−ピリミジ
ニルチオ基、または低級アルキル基別えはメチル基また
はと２個以下のオキソ基とによって１１模されている２
）＝また＋言１１ ｍされていないテトラヒドロトリア
ジニルチオ基、特ＫＮ−低級アルキルー５．６−シオキ
ソー１．２．５．６−テトラヒドロー１．２．４−）リ
アジン−５−イルチオ基、例えば１−１２−または４−
メチル−５，６−シオキソー１．２，５．６−テトラヒ
ドロー１．２゜４−トリアジ／−６−イルチオ基、また
はこれらのオキソ化合物に対応する互変Ｓ性の芳香族ヒ
ドロキシ化合物が挙けられる。 ヘテロ環基が、壌当り５個または６個の環原子を含有す
る対応する二環式の基を表わす好ましいヘテロ環−チオ
基としては、なかんす〈、低級アルキル基によって１ｊ
Ｉｔ換されているかまたはｔｌを換されていないインド
リルチオ基、例えばインドルー２−イルチオ基またはＮ
−メチルイソｒルー２−イルチオ基、イソインドリルチ
オ基例えばイソイソｒルー２−イルチオ基、キノリルチ
オ基、例えば２−１４−または８−キノリルチオ基、置
換すれていないか呼たは低級アルキル基かカルボキシ低
級アルキル基かｆよってｖｔ挨されているベンズイミダ
ゾリルチオ基、例えば１−メチル−１１−カルボキシメ
チル−または１−（２−カルざΦジエチル）−ベンズイ
ミダゾルー２−イルチオ基、置換されていないかまたは
低級アルキル基かカルブキシ低級アルキル基かによって
置換されているペン゛戸トリア゛ｔリルチオ基、例えば
１−メチ／ｌ／ −または１−カルボキシメチル−１Ｈ
−ベンゾ〔α〕トリアゾルー５−イルチオ基、または特
ｖｃ、置換されていないかまたは低級アルキル基かカル
ボキシル基かカルボキシ低級アルキル基かカルバモイＡ
Ａ’かＮ−モノ−またはＮ−ジ低級アルキル化カルバモ
イルアミノ基か、またはＮ−モノ−ｆたはＮ−シー低級
アルキル化アミノ基かによって置換されているテトラシ
ロピリダジニルチオ基、例えば８−メチル−１８−エチ
ル−１８−カルボキシ−，８−カルボキシメチル−１８
−（２−カルボキシエチル）−１８−（３−カルボキシ
プロビル）−１８−カルバモイル−１８−（Ｎ−メチル
カルバモイル）−１８−（Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイ
ル）−１８−アミノ−１８−ジメチルアミノ−または８
−ジエチルアミノ−テトラ・戸口−〔１゜５−ｂ〕ピリ
ダジン−６−イルチオ基が挙げられる。 アンモニオ基Ｒ２は１例えは、第三級有情塩基から、４
！−Ｉ−ｆシ〈は対応する脂肪族アミンからまたは、特
に、対応する６１素壌式窒素塩基で）ら誘導されるアン
モニオ基であって、窒素原子？介してメチル炭素原子に
結合しており譲四級化され正に荷′−シた形にあるもの
である。アンモニオ基としては、なかんずく、 トリー
低級アルキルアンモニオ基、例えばトリメチルアンモニ
オ基、トリエチルアンモニオ基、トリプロピルアンモニ
オ基またはトリエチルアンモニオ基が、しかしＨＶｒｌ
ｌＦＩＡ、２個または５１＋６１の環窒素原子を有し壊
かＣ叡原子を貧有するかまたは含有しない単項または二
項の芳香極性のアンモニオ基、輿１えはピリミジニオ基
、ピリダジニオ基、チア・ｔリオ基、キノリニオ基、お
よび、特に、ピリジニオ基、トリアゾリオ基、特に１．
２．５−）リア・戸すオ基、またはビラ・７リオ基（こ
れらは例えば低級アルキル基、例えはメチル基か、ヒド
ロキシ低級アルキル基例えばヒドロキシメチル基か、低
級アルコキ／−低級アルキル基例えばメトキシメチル基
または２−メトキシエチル基か、スルホ−低級アルキル
基、例えばスルホメチル基か、アミノ基か、置換された
スルホｙ７ミド４、例えば４−アミノフェニルスルホン
アミげ基か、ヒげロキシル基か、ハロｃｙ原子例えばフ
ッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子か、１１ロ低級アル
キル系？ｌＪ、ｔばトリフルオロメチル基か、スルホ基
か、官能的に変性されているかまたはされていなりカル
ボキシル基例えばカルボキシル基、低級アルコキシカル
ざニル基、例えをずメトキシカルボニル基か、シアノ基
か、低級アルキル基例えばメチル基またはエチル基によ
って、またはヒげロキシ低級アルキル基例えばヒげロキ
シメチル基によってＮ−モノ置換またはＮ、Ｎ−ジ置換
されているかまたはされていないカルバモイル基例えば
カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基ま”たはＮ
、Ｎ−ジメチルカルバモイル基か、マタは低級アルキル
基によってＮ−置換されているかまたはされていないヒ
げラジ７カルボニル基、別工げヒドラジノヵルゲニル基
か、カルぜキン低級アルキル基例、ｔばカルボキシメチ
ル基または２−カルボキシエチル基か、低、六アルカノ
イル基例えばアセチル基か、または１−低級アルキルピ
ロリジニル基例えば１−メチル−２−ピロリゾニル基か
によってモノまたはポリー換されている・＼または１道
喚されていない）が挙げられる。 複：Ｉｇ環式アンモニオ糸Ｂ２は特に、低級アルキル基
かヒドロキシ低級アルキル基か低級アルコキ７−低級ア
ルキル基か、カルざキシ低級アルキル基か、スルホ低級
アルキル基か、アミノ基か、置イ４されたスルホンアミ
ド基か、ヒドロキシル基か、ハｏ ’ｒ’ ７ ＩＩ
子か、トリフルオロメチル基か、スルホ基か、カルボキ
シル基か、低級アルコキシカルボニル基か、７７ノ基か
、低級アルカノイル基か、１−低級アルキルビ０ リジ
ニル基か、または、低級アルキル基またはヒドロキシ低
級アルキル基によってＮ−置換されているかまたはされ
ていないカルバモイル基かＫよって置換されているかま
たは置換されていないピリジニオ基であって、例として
ピリジニオ基、２−１５−または４−メチルピリジニオ
基、５．５−ジメチルピリジニオ基、２．４．６−ドリ
メチルビリジニオ基、２−１６〜または４−エチルピリ
ジニオ基、２−．５−または４−プロピルピリジニオ基
、または特に６−ｆたは４−ヒｒロキンメチルビリジニ
オ基、５−または４−メトキシメチルピリジニオ基、５
−またけ４−カル♂キシメチルピリジニオ基、また２−
アミノ−１２−アミノ−５−カルバモイル−ピリジニオ
基または２−アミノ−６−メチルピリジニオ基、２−（
４−アミノフェニルスルホンアミｒ）−ピリジニオ基、
５−ヒドロキンピリジニオ基、６−または４−フルオロ
−１６−または４−クロロ−，６−または４−＝ｓ−ド
ーまたは特に３−または４−ゾロモーピリジニオ基、４
−トリフルオロメチルピリジニオ基、４−スルホエチル
ピリジニオ基、５−スルホピリジニオ基、２−２５−ま
たは４−カルボキン−また＋１２−．５−１たけ６．４
−ゾカルざキシピリジニオ基、４−メトキシカルボニル
ピリジニオ基、６−または４−シアノピリジニオ基、５
−カルがキシメチルピリジニオ基、５−または４−アセ
チルピリジニオ基、５−（１−メチル−２−ピロリジニ
ル）−ピリジニオ基、および％［４−カルバモイル−１
６−カルバモイル−１３−カルざキシメチル−４−カル
バモイル−１３−またｔ’：ｔ４−Ｎ−メチルカルバモ
イル−，４−Ｎ、Ｎ−ジメチル−カルバモイル−１４−
Ｎ−エチルカルバモイル−１５−Ｎ、Ｎ−ジエチルカル
バモイル−，４−Ｎ−プロビル力ルパモイＡｔ−１４−
イソゾロビルカルバモイル−および４−ヒドロキシメチ
ルカルバモイル−ピリジニオ基が挙げられろ。さらにア
ンモニオ基Ｒ２トシて好ましいものとして１．２．５−
トリアゾリオ基、特に１−（１，２，５−トリアゾリオ
）基、例えば５−低級アルキルー１−（１，２，５−ト
リアゾリオ）基、例えば５ニメチルー、３−エチル−１
５−プロピル−１５−ブチル−または５−第三級ブチル
−１−（１，２，３−）リアデリオ）基、およびビラデ
リオ基、％に２−低級アルキルー１−ビラψリオ基、例
えば２−メチル−１２−エチル−１２−ｆａｔルー、２
−ブチル−１または２−第三級プチル−１−ピラψリオ
基、および２−カルメキシー低級アルキルー１−ビラデ
リオ基、例えば２−カルボキシ−メチル−または２−（
２−カルｄｅ中ジエチル）−１−ビラゾリオ基がある。 保護されたカルボキシル基Ｒ３は特に４徳和な化学的条
件下でまたは生理学的条件下で容易に開裂し得るエステ
ル化されたカルボキシル基である。 穏和な化学的条件下で容易に開裂し祷るエステル化され
たカルボキシル基Ｒ３は、エステル化基として％に、１
−位において枝分れした。！！たは１−位または２−位
において過当に置換された低級アルキル基！含有する。 エステル化された形で存在する好ましいカルボキシル基
としては、なかんすく、第三級低級アルコキシカルボニ
ル恭、例えば第三級ブトキシカルボニル基；１個ツたけ
２個のアリール＆（確侯されていないかまたは、例えば
低級アルキル基例えば第三級低侯アルキル基例えば第三
級デチル基か、低級アルコキシルｌｋ例えばメトキシル
基か、ヒドロキシル基カ、ハロゲン原子世ｊえば塩素原
子および（または）ニトロ基かによってモノまたはポリ
！°換さＩしているフェニル基ｖ表わす）ｖ有するアリ
−、ルメトキシ力ルボニル基、例えばｔ＃換されていな
いかまたは例えば前記したようＫｍ換されているベンジ
ルオキシカルｒＫニル基、例えば４−ニトロベンジルオ
キシ力ルホニル基または４−メトキシベンシルオキシカ
ルボニル基、または置梼されていないかまたは例え（イ
前記したように瞭悶されているソフェニルメトキシカル
ボエル基、例１えはシフＬニルメト中シカルがニル基ま
たはジー（４−メトキンフェニル）−メトキシカルボニ
ル基；１−低級アルコキシー低級アルコキシカルざニル
基、拗えはメトキシメトキシカルボニル基、１−メトキ
シエトキシカルボニル基または１−エトキシメトキシカ
ルボニル基；１−低級アルキルチオー低域アルコキシか
ルボニル基１例えば１−メチルチオメトキシカルボニル
基または１−エチルチオエトキシカル４ぐニル基；その
アロイル基が、ハロゲン原子例えば臭素原子によって置
換されているかまたは１＃“慣されていないベンゾイル
基であるアロイルメトキシカルボニル基、例えばフェナ
シルオキ７カルポニル基；２−ハロー低級アルコキ／カ
ルボニル基、例えば２ 、２ 、２−） リクロロエト
キシカルビニル基、２−デロモエトキ７カルポニル基ま
たは２−９−げエトキシカルボニル基；または２−（ト
リー置侯シリル）−エトキシカルボニル基であってその
置換基のそれぞれが互いに独立して、１り遺されていな
いかまたは、例えば低級アルキル基か、低級７ Ａ／
コ’ｐ シル基か、アリール基かハロゲン原子および（
または）ニトロ基かＶＣよって＃侠され、例えば％ １
５個以下の炭素原子Ｙ有する脂肪族、芳香脂肪族、脂ｊ
Ｊ式または芳香族の炭化水素基、例えば対応する置換さ
れているかまたは１＃遺されていない低級アルキル基、
フェニル低級アルキル＆。 シクロアルギル基またはフェニル基であるもの、例えば
２−トリ低級アルキルシリルエトキシカルボニル基、例
えば２−トリメチルシリル−エトキシカルざニル基また
は２−（ジ−ｎ−ブチル−メチル−シリル）−エトキシ
カルボニル基、または２−第三級シリルエノーキ７カル
ボニル基、例えハ２− ） ＋７ フェニルシリルエト
キシカルメニル基が挙けられる。 エステル化された形で存在するその他の保護されたカル
ボキシル基としては、対応するシリルオキシカルボニル
基、特に有情、シリルオキ７カルボニル基、そしてまた
対応するスタニルオキシカルｅニル基が挙げられる。こ
れらの基においては、ケイ素またはスズ原子は好ましく
はｊ＋７俟基として低級アルキル基、特にメチル基ン、
しかしまた低級アルコキシル基、例えばメトキシル基、
および（または）ハロゲン原子例えば塙素原子を含有す
る。適当なシリルまたはスタニル株−基としては荷に、
トリ低級アルキルシリル基、轡［）リメチルクリル基が
、しかしまたジメチル第三級ブチルシリル基、 低ｎア
ルコキシ−低級アルキルーハーロ−シリル基、例えばメ
トキシ−メチル−クロロ−シリル基、またけジー低級ア
ルキル−ハローシリル基１例えばジメチル−クロロ−シ
リル基または対応する置換されたスタニル基１例えばト
１７− ｎ−ブチルスタニル基が挙けられる。 好！しい保神されたカルボキシル基としては第三級低級
アルコキクカルボニル基、例えば年三級デトキシカルボ
ニル基、および特に、前記のようＫｔｔｗ；ｓされてい
るかまたは１＃換されていないペンジルオキン力ルボニ
ル基、例えば４−ニド四ベンジルオキシカルボニル基、
またはシフ１ニルメト中ジカルボニル基が皐けられる。 生理学的条件下で開袋し得るエステル化されたカルざキ
フル基としては特に、アシルオキ７メトキシカル♂ニル
基であってそのアシル基が、例えば、有機カルボ／＃、
峙に＃要されているかまたは１Ｗ換されていない低級ア
ルカンカルボン酸の基であるもの、またはそのアシルオ
キシメチル基がラクトンの基Ｙ形成するものが挙げられ
る。か〜る基としては低級アルカノイルオキシメトキシ
カルホニル基、世」えはアセトキシメトキシカルＳ ＝
ル基またはピバロイルオキシメトキクカルボニル基、ア
ミノ低級アルカノイルオキシメトキシカルざニル基、％
にα−アミノ−低級アルカノイルオキシメトキシカルボ
ニル基、例えばグリンルオキシメトキシヵルざニル基％
Ｌ−パリルオキシメトキ７カルボニル基またはＬ−ロイ
シルオキシメトキシカルボニル基、またフタリジルオキ
シカルボニル基、例えば２−フタリジルオキシカルボニ
ル基、またはインダニルオキシカルボニル基、例えば５
−インダニルオキシカルボニル基が争げられる。生理学
的条件下で開裂し侍るその１世の好ｆしＩＡ 力ｋ ｄ
ｅキンル基としては低級アルコキシ力ルポニルオキシメ
トキ７力ルボニル基、劉えばメトキシ−、エトキシ−ま
たはプロポキシ−カルボニルオキシメトキシカルざニル
基が挙けられる。 低級アルコΦシル基Ｒ４は好−１’ｔ（は１−４＋１の
炭素原子ケ含み、例えばエトキシル基、ゾロ飲キシル基
、シトキシル基または轡にメトキシル基である。 式−〇 （＝Ｎ−０−Ｒ５）−で表わされる基はシン（
または乙）形またはアンチ（またはＥ）形であって、シ
／（ｔたはＺ）形が好ましい。 低級アルキル基Ｒ６は好ましくは１−４個の炭素原子？
含有し１例としてエチル基、プロピル基、エチル基ｆｙ
：は特にメチル基が挙けられる。 シクロアルキル基Ｒ５は好ましくを言３−８個の、％に
６−６個のＪｊｌｌ員を含み１例としてシクロエチル基
、シフローンチル基またはンクロヘキシル基、または特
にシクロゾロビル基が挙けられる。 置換された低級アルキル基またはシクロアルキル基Ｒ６
の置換基の例としてはアリール基例えばフェニル基また
はフリル基、エーテル化されているかまたはされていな
いヒドロヤシル基、例えば低級アルコキシル基、第一級
、第二級または第三級アミノ基、例えばアミノ基または
ジ低級アルキルアミノ基、官能的に変性されているかさ
れていない（工ｘ５−ル化、アミｒ化されまたは保ｄ！
されている本のを含む）カルボキシル基またはスルホ基
、および低級アルキル４によってＮ−置換されているか
またはされていないウレイドカルボニル基が辛けられる
。ｔｌを換された低級アルキル基および７クロアルキル
基は好ましくは、カルボキシル基かスルホ基かによって
＋４１１’洟され、これらは好ましくけ、ヒドロキシイ
ミノ基のｍ素１＝−を子ＶｃＭ付した炭１ｇ原子に存在
する。 このような置換された低級アルキル基およびシクロアル
キル基Ｒ５０例としてはベンジル基、２−フェニルエチ
ル基、フリルメチル基、２−アミノエチル基、２−ジメ
チルアミノエチル鱗、カルざキシメチル基、１−または
２−カルボキシエチルＭ、１−１２−マｙ、：は５−カ
ルざキシプロパー１−イル基、１−．２−または６−カ
ルボキシプロパー２−イル基、１−カルメキシプター１
−イル基、１−カルボキシシクロプロパー１−イル基お
よび１−カルポキンシクロデター１−イル基、そしてま
た対応する、スルホ基によって置換されたシクロアルキ
ル基および低級アルキル基が李けられる。 基Ｒδにおけるカルボキシル基およびスルホ基は、例え
ば低級アルキル基、例えばエチル基、エチル基または第
三級エチル基か、または生理学的に除去し祷る基、例え
ばピバロイルオキンメチル基’ｎＶＣよってエステル化
されていてもよく、またハアンモニアか第一級または第
二級アミン、例えばモノ−またはシー低級アルキルアミ
ン、例えばメチル−またはエチル−アミン、またはジメ
チル−またはジエチルーアミノかによってアミＰ化され
ていてもよく、または後述の基によって保−されていて
もよい。 シクロアルケニル基Ｒ５は好ましくは６−８個、特に３
−６個のｊＪ貞ン含み、例えば、シクロプロ（二／１４
、シルロブテニル基、シクロペンテニル基またはシクロ
ヘキセニル基？表わす。 低級アルキル基Ｒ，としては例えば、ビニル基、１−ゾ
ロベニル基、１−１２−または６−ブテニル基または特
にアリル基が挙けられる。 基Ｒ５としてのＮ−置換されているかまたはされていな
いカルバモイル基は、例えば基−ｃ （＝ｏ ）−Ｎ）
（Ｒ′ＩＳでその的が次紀のものを表わすものである：
水素ＩＱ子；低級アルキル？ｌｃ１＋′ｌＩえばメチル
基、エチル基または１−または２−プロピル基：保−さ
れているかまたは保−されていないカルボキシ−低級ア
ルキル基１例えばカルボキシメチル基、１−または２−
カルボキシメチル基または１−１２−または５−カルボ
キンプロピル４（こ＼でカルボ中シル基は慣用のカルボ
キシル保護基の一つによって保護されていてもよく、か
つ、例えば低級アルキル基例えばメチル基、エチル基、
ｎ−またはイソ−ゾロビル基、またはｎ−または第三級
−エチル基によってエステル化されていてもよいものと
する）；保護されているイン・または保護されていない
スルホ−低級アルキルｉ、：ｙ＋ｌｊば′スルホメチル
基、１−または２−スルホエチル基または１−１２−ま
たは６−スルホエチル基（ここでスルホ基は慣用のスル
ホ保護基の−っによって保護されていて屹よぐ、かつ、
１タリえは低級アルキル基例えばメチル基またはエチル
基によって保Ｈされていてもよいものとする）；保護さ
れているかまたは保護されていないヒドロキ／−低級ア
ルキル基、例えばとＰロキシメチル基、２−ヒドロキシ
エチル基または２−！！たは５−ヒドロキシプロピル基
（こ＼でヒドロキシル基は慣用のヒドロキシル保−基の
一つによって保−されていてもよく、かつ、例えば、ア
シル化例えばアセチル化されていて鳴よいものとする）
；保護されているかまたは保護されていないアミノ−低
級アルキル基、例えば２−アミノエチル基、２−または
６−アミノエチル基、または２−１６−また＆２４−ア
ミノデチル基（こ〜でアミノ基は慣用のアミノ保護基の
一つＫよって保護されていてもよく、かつ、例えば、ア
シル化例えばアセチル化されていてもよいものとする）
；アリール−低級アルキル基、ＮＪ、ｔばフェニル−低
級アルキル基、例えばベンジル基または１−または２−
フェニルエチル基：ハロー低級アルキル基、例えばフル
オロ−、クロロ−またはゾロモー低級アルキル基、例え
ば２−り四ロエチル基、５−クロロノロピル基または４
−クロロエチル基；またはアリール基、例えばフェニル
基または、低級アルキル基例えばメチル基か、低級アル
コキシル４例えばメトキシル基か、ハロゲン原子例えば
塩素原子が、またはニトロ基かによってモノないしトリ
置換され１こフェニル基。 置積されているかまたは置換されていない炭化水素基Ｒ
６としては特に、対応する脂幼族、崩壊式、芳香族また
は労資Ｈ）ｆ肪族の、２０個以下の炭素原子ン有し、特
に低級アルキル基、１壕縁アルケニル基、シクロアルキ
ル基、フェニル基、またはフェニル低級アルキル基によ
って宵便されているかまたは峙侯されていない炭化水素
基が革けられる。 低級アルキル基Ｒ６としては６ｗメチルノ〜、エチル基
、プロピル基、インプロピル基、−パチル基またはイソ
エチル基が挙げられる。 低級アルケニル基としてのＲ６は好ｆＬ（は２−５個の
炭素原子Ｙ有する。か＼る基の例としてはビニル基、ア
リル基、１−ゾロベニル＆ ｆ ｆ、ニー １ｔ１−イ
ソブテニル基が挙げられる。 シクロアルキル基Ｒ６は５−８個、好ましくは６−６１
１の炭素原子を言み、特にシクロデロピル基、シクロブ
チル基、シクロベンチル基またはシクロへ中クル基が挙
げられる。 ７ｘニル−低級アルキル基Ｒ６トしては例えば／（ｙ
シルＪｆ、 、 １−または２−フェニルメチＡ４、
ジフェニルメチル基またはトリチル基が革はラレる。 低級アルケニル基、シクロアルキル基および特に低級ア
ルキル基Ｒ６のｔｔ ＊基の例としては次のものが挙げ
られる：ヒドロキシル基；低級アルコキシル基例えばメ
トキシル基またはエトキクル基；カルボキシル基；慎用
の保膿基によって保−された、または低級アルキル基例
えばメチル基またはエチル基によってエステル化された
カルボキシル基；シアノ基ニアξ）基；低級アルキルア
ミノ基例えばメチルアきノ基またはエチルアミノ基；ジ
低級アルキルアミノ基例えばジメチル−またはジエチル
−アミノ基：カルざニル基；ハロゲン原子例えば塩素原
子または−ｊｊ素原子；スルホ基；低級アルキルチオ基
例えばメチルチオ基またはエチルチオ基：またはアミノ
スルフィニル基。このような（ｄ（央さ７した低級アル
キル基、低級アルケニル基およびシクロアルキルＪＲ，
としては、例えは、カルボキンメチル基、ンアノエチル
丞、２−カルボキンメチル基、２−ジメチルアミノエチ
ル基、２−アミノエチル基、２−メトキシエチル基、２
−カルバモイルエチル基、スルホメチル基、２−スルホ
エチル基および２−カルボキシビニル基が挙けられる。 フェニル基およびフェニル１戊級アルキル基Ｒ６は、フ
ェニル環において例えば次のような基によって置換され
ていてもよい：ヒドロキンル基；低級アルコキシル基例
えばメトキシル基またはエトキシル基；慣用の保緬基に
よって保諌されたカルざキシル基、または低級アルキル
基１ンリえばメチル基またはエチル基によってエステル
化されたカルゴギシル基：アミ７基；カルバモイル基；
ハロゲン原子例えばフッ素、塩素、臭素！ ７二はヨウ
累原子：スルホ基：低級アルキルチオ基例えばメチルチ
オ基またはエチルチオ基；トリフルオロメチル基；また
はアミノスルフィニル基。このような基としては、例え
ば２−１３−または４−カルボ中ジフェニル基、２−ま
たは４−カルバモイルフェニル基および５−または４−
スルホフェニル基が挙げられる。 有機スルホニル基Ｒ６の例としては、低級アルキルスル
ホニル基または、置換されていないかまたは低級アルキ
ル基例えばメチル基またげエチル基か、ハロゲン原子例
えばフッ素、堪累または臭素原子かによってｔｌｔ（Ｉ
Ｉ！されているフェニル低級アルキルスルホニル基また
はフェニルスルホニル基かやけられる。 低級アルキルスルホニル基としては例えばメチルスルホ
ニル基、エチルスルホニル＆、ｎ−ｆロピルスルホニル
基、イソプロピルスルホニル基またＧｊ ｎ−ブチルス
ルホニル基が挙けられる。 ＠記のようＶＣ１η侯されているかまたは置換されてい
ないフェニル低級アルキルスルホニル基マたはフェニル
スルホニルｌＩｓトシテ＋ｔｍＪ工は、ｙｘ−ニルスル
ホニル基、４−メチルフェニルスルホニル基、４−ブロ
モフェニルスルホニル基マたはベンジル゛スルホニル基
が挙げられる。 アフル基Ｒ６としては特に、１２ ＋ｌＩ！ＩＩ以下の
炭素原子を有するカルボン酸から、カルボン噛の半エス
テルから、またはカルバミン酸から請纏されるアシル４
．が挙げられ、好５しくはアロイル基、低級アルカノイ
ル基、低級アルコキシカルボニル基ｔたは、モノまたは
ジ低級アルキル化されているかまたはされていないカル
バモイル基ケ表わす。 アロイル基Ｒ６としては特に、ベンゾイル基またはナフ
トイル基であってハロ）ｆ ｙ ｒｐ子例えば塩素原子
またＧ２Ｘ素原子か、低級アルキル）Ｉｊ、例えばメチ
ル基か、ヒドロキシル基か、低級アルコキシル基例えば
メトキシル基ｆたはエトキシル基か、ジ低級アルキルア
ミノ基例えばジメチル−またはジエチル−アミノ基か、
低級アルキルスルホニルアミノ基例えばメンルアミノ基
か、低級アルカノイルアミノ基例えばアセトアミノ基か
、アミノ基かニトロ基かによって置換されているかまた
は置換されていないもの、またはピリドイル基例えば２
−１６−または４−ピリドイル基、チオニル基例えば２
−またけ６−テオニル基、フロイル基例えば２−またけ
３−フロイル基、またはピロイル基例えば２−または３
−ピロイル基（これらはそれぞれ低級アルキル基例えば
メチル基か、ハロゲン原子例えばフッ素、塩素または臭
素原子かによって＃換されている力為またはｒＩｌｔ遺
されてぃなｈ吃のとする）が挙けられる。 低級アルカノイル基Ｒ６としては例えばホルミル基、ア
セチル基、プロピオニル基、ブチリル基またはインブチ
リル基が挙げられる。 低級アルコキクカルボニル基Ｒ６としては例えば、メト
キシ−、エトキシ−、ｎｎ−１ｏキシ−、イソプロポキ
シ−１ｎ−ブトキシ−、イソブトキシ−または第三級ブ
トキシ−カルボニル基が挙げられる。 ％／低Ｎフルキル化されたカルバモイル基Ｒ。 としては、例えば、Ｎ−メチル−またはＮ−エチル−カ
ルバモイル基が挙げられる。ジ低級アルキル化されたカ
ルバモイル基としては、例えばＮ。 Ｎ−ジメチル−またはＮ、Ｎ−ジエチル−カルバモイル
基が挙げられる。 置換されたアミノ基Ａｍは、例えは、ゾ低級アルキルア
ミノー低級アルキリデンアミノ糸であり、特ｖｃ１−ゾ
低級アルキルアミノー低級アルキリデンアミノ基である
。これらの基において、ジ低級アルキルアミノ＆は、例
えば、ジメチルアミ７基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−
プロピルアミノ基、ジインプロピルア２ノ基またはソー
ｎ−ブチルアミノ基７表わし、低級アルキリデン基は例
えばエチリデン基、１−プロピリデン基、２−プロピリ
デン基または峙にメチレン基ン表わ丁。過当なジ低級ア
ルキルアミノ−低級アルキリデンアミノ基としては例え
ば１−ゾメチルアミノエチリデ／アミノ基、１−ジエチ
ルアミノエチリデンアミノ基または特に、ジエチルアミ
ノメチレンアミノ基およびジエチルアミノメチレンアミ
ノ基が挙げられる。しかし置換されたアミノ基Ａｍはま
た、保繰されたアミノ基であってもよい。 式（１）で表わされる化合物中に存在する官能基、％に
カルボキシル基およびアミノ基、しかしまたヒドロキシ
ル基およびスルホ基は、ペニシリン、セファロスポリン
およびペプチド化学で１ｔ！用される慣用の保ｅ基によ
って保護されているかまたは保睡されていないものとす
る。 このような保−基は容易に、すなわち望ましくない嗣反
応を生ずることなしに、例えばソルボリシス、還元、光
分解によって、もしくはまた生理学的条件下で、除去す
ることができる。 この柚の保―基ならびにそれらを除去する方法は、例え
ば、ジエー、エフ、ダブリュー マツコーミー著１デロ
テクチデ グループスー イン オーがニック ケミス
トリー１（プレナムプレス、ロンドン、ニューヨーク、
１９７５年）、１ペゾ、 チド１、第−巻、（シュレー
ダーおよびリュプケ、アカデミツクプレス、ロンドン、
ニューヨーク、１９６５年）、および”メトーデン デ
ル オルがニツシエンヒエミ−１（ホウペン−パイル、
第１Ｊｊ、５／ＩＪＪ、ゲオルグ チーミーフエルラー
ク、ジュツットガル）、１９７４年）Ｋ記載されている
。 すなわち、カルボキシル基は１例えば、エステル化され
た形で保護され、このエステル基は徳利な条件下で容易
に除去することができる。過当な保饅基としては例えば
、保護されたカル〆キシル４Ｒ３の場合に述べたものが
挙げられる。 保護されたアミノ基は、例えば容易に開詮し得るアシル
アミノ基、アリールメチルアミノ基、エーテル化された
メルカプトアミノ基、１−アシル−低級アルカ−１−エ
ン−２−イルアミノ基、シリルアミノ基またはスタニル
アミノ基の形で、またはアジド基の形で存在してよい。 対応するアシルアミノ基において、アシル＆トしては例
えば、例えば１８個以下の炭素ｊｌｉ＋子ケ有する有機
カルボン酸のアシル基、゛特に、１ｐｔ侵されていない
かｆたけ例えばハロゲン原子かアリール基かによって［
換されているアルカンカルボン酸の、またはＷ麟されて
いないかまたは１例えばハロゲン原子か低級アルコキシ
ル基かニトロ基かによって置換されている安、は香酸の
、または炭系半エステルのアシル基が挙けられる。か＼
るアフル基の例としては、低級アルカノイル基、例えば
ホルミル基、アセチル基またはプロピオニル基、ハロ低
にアルカノイルｌ？ｌＪｔば２−ハロアセチル基、％［
２−クロロ−１２−ｆロモー、２−ｇ−ドー、２．２．
２−）リフルオロ−または２．２゜２−トリクロロ−ア
セチル基、置換されていないかｆたけ、例えばハロゲン
原子か低級アルコキシル基かニトロ基かによって＃換さ
れているベンゾイル基、例えばペン・戸イル基、４−ク
ロロベンゾイル基、４−メトキシベン・戸イル基ｔたは
４−二トロペンゾイル基、または、低級アルキル基の１
−位において枝分れしているか、１−位または２−位に
おいて適ｆｉＫ積換されている低級アルコヤシカルビニ
ル基、％ＩＩＩＬ三級低級アルコキシカルボニル基、例
えば第三級エトキンカルボニル基、ｔ＃換されていない
かまたは、例えば、低級アルキル基特に第三級低級アル
キル基例えば似三級ブチル基か、低級アルコキシル基例
えばメトキシル基か、ヒドロキシル基か、ハロゲン原子
例えハ塩素原子か、および（または）ニトロ基かによっ
てモノｆ＃侯またはポリ筐烟されているフェニル基であ
るアリール基１１個まＬ−は２個廟するアロイルメトキ
シカルボニル基、 １＋ｌＩえば置換されているかまた
は置換されていないぺ／ジルオキシカルビニル基、例え
ば４−ニトロペンジルオキシ力ルギニル基、または置換
されているかまたは置換されていないジフェニルメトキ
ンカルボニル基、例えばペンプヒドリルオキシカルざニ
ル基またはシー（４−メトキシフェニル）−メトキシカ
ルざニル基、アロイルメトキシカルボニル基（そのアロ
イル基が好ましくは、例えば７１０ゲン原子、例えば臭
素障子によって置換されているかまたは１り侯されてい
ないもの）、例えばフェナシルオキ７カルボニル基％２
−ハロー低級アルコキシカルヴニル差、１＋ＩＬｌｆ２
、２ 、２− ）リクロロエトキシ力ルボニル４．２
−ｆロモエトキシ力ルボニル基または２−ヨードエトキ
シカルボニル基、または２−（トリｔＩｔ換ンリル）−
エトキシカルざニルＪｂ （ソの置換基はそれぞれ互い
に独立して、購侵されていないかまたは、例えば低級ア
ルキル基か、低級アルコキシル基か、ア゛リール基か、
）〜口ｒ／原子力）ニトロ基かによって置換されており
、例えｔ’！’ １５ ｅ以下の炭素原子ン有する脂１
！７ｉ１１１！、芳香脂′Ｉｆ５族、月旨壊式または芳
舎族の炭化水素基、例えば対応する置換されているかま
たは宵伊されていないイ氏級アルキル基、フェニル低級
アルキル基、シクロアルキル基またはフェニル基である
もの）、例えＧｆ２−トリメチルシリルエトキンカル♂
ニル基また・ま２−（ジ−ｎ−ジチル−メチル−シリル
）−エトキンカルボニル基、または２−ト１）アリール
ンＩＪルｉトキシカルメニル基、例、ｌ’！’２−トＩ
Ｊ ７エ＝ルシリルエトキ７カルボニル基が挙けられる
。 アミノ保護基として適当なその他のアシル基としてはま
た、有機リン酸、ホスホン酸またＴＩコホスフイン酸の
対応する基、例えばジ低級アルキルホスホリル基１例え
ばジメチルホスホリル基、ジエチルホスホリル基、シー
ｎ−プロピルホスホＩＪル基またはジイソゾロビルホス
ホリル基、シンクロアルキルホスホリル基、例えばシン
クロへキシルホスホリル基、置換されているかまた・言
置換されていないジフェニルホスホリルｉ、ｖ′ｌｊ、
ｔばジフェニルナχホリルＩｋ、 ：ダ侯されていない
かまたシブ世」えはニトロＪｋによって１ＩＩｆｌｖ！
されているジフェニル低級アルキルホスホリル基、例え
ばゾベ／ジルホスホリル基またはジー４−ニトロベンジ
ルホスホリル基、置換されていないかまたはｔｅｔｍさ
れているフェノキシフェニルホスホニル基、例えばフェ
ノキシフェニルホスホニル基、ジーｉ氏級アルキルホス
フィニル基、例えばジエチルホスフィニル基、またはＩ
置換されていない”０）または憧侠されているジフェニ
ルホスフィニル基例えばジフェニルホスフィニル基が挙
げられる。 モノ、ジーまたはｔｐ！ｆＫトリーアリールメチルアミ
ノ基において、アリール基としては特［、＃換されてい
るかまたは眞侯されていないフェニル基が争げられる。 このような基の例としてはベンジルアミノ基、ジフェニ
ルメチルアミノ基および特にトリチルアミノ基が挙けら
れる。 エーテル化されたメルカプト基によって保験されたアミ
ノ基におけるエーテル化されたメルカゾト基としては％
にアリールチオ基！たけアリール低級アルキルチオ基で
あってその了り−ル基が特に、置換されていないかまた
は、例えは、低２〃アルキル基例えばメチル基または第
三級ブチル基か低級アルコキシル基例えばメトキシル基
か、ハロゲン原子例えば塩ｔ、原子かおよび（または）
ニトロ基かによって置換されているフェニル基である鴨
のが挙けられる。対応するアミノ保＃１１２１１！ｉは
例えば４−ニトロフェニルチオ基でアル。 アミノ保摺基として使用し得る１−アシル−低級アルカ
−１−工／−２−イル基において、アンル基ハ、例えば
、低級アルカンカルビン酸の、もしくはａ換されていな
いかまたは、例えば、低級アルキル基例えばメチル基ま
たは第三級ブチル基か、低級アルコキシル基例えばメト
キシル基か、ハロゲン原子例えば塩素原子か、および（
または）ニトロ基かによって置換されている安患査醪の
、もしくは待に炭酸半エステル、例えば炭−低級アルキ
ル半エステルの対応する基である。対応する保護基とし
ては％に、１−低級アルカノイルデロバー１−エン−２
−イル基Ｖすえば１−アセチルプロパー１−エン−２−
イル基、！！たは１−低叡アルコキシ力ルポニルプロ／
七−１−エン−２−イル基、例えば１−エトキシカルボ
ニルプロパー１−工／−２−イル基が挙けられる。 シリルアミノ基またはスタニルアミ７基としては％に、
有機シリルアミノ基またはスタニルアミノ基であってそ
のケイ素またはスズ原子が１１％基として好ましくは低
級アルキル基、待にメチル基、しかしｆた低級アルコキ
シル基例えはメトキシル基、および（または）ハロゲン
原子例えば種木原子ヶ含有するものが挙けられろ。対応
するシリルまたはスタニル基としては特に、トリ低２ア
ルキル基リル基特にトリメチルシリル基、しかしｆたジ
メチル−第三級ブチル−クリル基、低級アルコキク−低
級アルキル−ハローシリル基、？ｌＪ 、ｔ Ｇｆメト
キシメチルクロロシリル基、またはジ低級アルキルーハ
ローシリル基、例えばジメチルクロロシリル基、または
対応して＊候されたスタニル基。 別えば） ’）−ｎ−ブチルスタニル基がψけられる。 アミノ基はｆた、プロトン化された形で保護されていて
屯よい。過当な対応するアニオンとしては、無機ｇ１階
例えばハロゲン化水累醗のアニオン、例えば塩素または
臭素アニオン、もしくは有機スルホン岬、例えばｐ−ト
ルエ／スルホ／醪のアニオンがφけられる。 好ましいアミノ保諌基は戻酸半エステルのアシル基１％
ＫＩＩ三級デトキシ力ルボニル基、例えばＩｌｌ紀のよ
うに置換されているかまたはメ侠されていないぺ／ジル
オキシカルボニル基、例えば４−二トロベンジルオ中シ
カルＣニル基またはジフェニルメトキシカルメニル基、
または２−ハロー低級アルコキシカルメニル基、世ｊえ
は２．２．２−トリクロロエトキシカル♂ニル基、そし
てまたトリチル基またはホルミル基である。 ヒドロキシル保−基としては、例えば、アシル基、例え
ば置換されていないかまたはハロｐｆ ｙ ＩＩＡ子に
よって置換されている低級アルカノイル基。 例えばジクロロアセチル基またはトリクロロアセチル基
、または特に、９１！麹されたアミノ基に関連シテ述べ
た炭酸の半エステルのアシ／Ｌ；革、−％ＶＣ２゜２．
２−）リクロロエトキン力ルピニル基、または臂憎シリ
ル基またはスタニル基、呼た容易に除去し祷るエーテル
化基、レリえば第三帷低・やアルキル基例えば第三級ブ
チル革、２−オキサ−または２−チア−）沼藺族または
一廂寝式炭化水素基、時にα−低級アル“フキシー１氏
級アルキルＪ／ｋまたは１−低伸アルキルチオー低メ々
アルキル基、汐すえばメトキシメチル基、１−メトキシ
エチル基、１−エトキシエチル基、２−メトキシ−２−
７’ロビル基、１−メチルチオメチル基、１−メチルチ
オエチル基またけ１−エチルチオエチル基、または５−
７個の環原子ン有する２−オキサ−または２−チア−シ
クロアルキル基、例えば２−テトＩヒげロフリル基また
は２−ナト２ヒドロピラニル基また＋２対応するチアｔ
ＪＩ嫌体、そしてまた置墳されている、１）ｆたけ１〆
換されていない１−フエニ゛ルー低級アルキル基、例え
ば置換されているかまたを１置換されていないペンシル
基またはジフェニルメチル基（こ＼でフェニル基の［換
革として＆ハ別えｔ−１’）１ロｒ７摩子向えば墳素屓
子、低級アルコキシル基−１えはメトギシル基、および
（または）ニトロ基が過当である）が挙けられる。 保睡されたスルホ基としては特に、エステル化されたス
ルホ基、例えば脂Ｕ５ｓ、脂壌式、廁壌−脂肪族、芳香
りまたは芳香脂肪族のアルコール、例えば低級アルカノ
ールか％またはシリル基またはスタニル基例えばトリ低
級アルキル７リル基かＫ ！ツ”Ｃエステル化されたス
ルホ基が挙けられろ。 スルホ基において、ヒドロキシルＩｋは、例えば、エス
テル化されたカルボキシルＭＫおけるヒドロキシル基と
同６１１してエーテル化されていてもよい。 本発明による化合物の珈としては特に乗♀的に１谷し侍
る無毒性の塩、例えば式■で表わされ酸基、例えば遊離
のカルボキシル基またはスルホ基ン有する化什物の塩が
挙げられる。このような場としては特忙金鵡またはアン
モニウム塩、例えばアルカリ金顧またはアルカリ土類金
輌の塩、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウムま
たはカル７ウム地、そしてまたアンモニアと、５１．１
ｉｊ 増白な有機アミンとから生成されるアンモニウ
ム塩（こ＼で墳形１ｉＶｃ対しては１？４に５哨彷衾、
晴壌式、廟填−脂彷族または芳香脂肪族の記−級、第二
級または第三級モノ−、シーｆたはポリ−アミンならび
に複累壌式塩基、ｙ（１えは低級アルキルアミン。 例えばトリエチルアミン、ヒげロキシ低級アルキルアミ
ン、例えば２−とドロキシエチルアミン、ビス−（２−
ヒげ口中ジエチル）−アミンまたはトリス−（２−ヒげ
口中ジエチル）−アミン、カルボン酸の塩基性脂Ｕｉ族
エステル、飼えば４−アミノ安は査酸２−ジエチルアミ
ノエチルエステル、低級アルキレンアミン、例えば１−
エチルピペリジ７、シクｃｔアル中ルアミン、例えはシ
ンクロヘキシルアミン、またはベンジルアミン、例えば
Ｎ。 Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン、そしてまたピリジ
ン曖の＃１基例えばピリジン、コリシンまたはキノリン
が適当である）が鹸けられる。式■で衣わされ塩基性の
２１！ｉを有する化合物は、トリえは無機酸例えば塩酸
、硫＃またはリン酸と、または適当な有機カルボン＃ま
たはスルホン酸、例えはトリフルオロ酢酸と、そしてま
たアミノ酸例えはアルイニンおよびリジンと酸付加塩ケ
形敦し侍る。数債の酸基または＃Ａ４性基が存在すると
きはモノ−またげポリー虐が生成し憎る。式！で表わさ
れ酸基例えば遊離のカルはキシル基、および塩基性基例
えばアミノ基ケ有する化合物はまた、内部塩の形、すな
わち両性イオンの形で存在することもでき、また分子の
一部は内部塩の形で、他の剖分は普通の塩の形で存在す
ることもできる。 単離および精製のためには、東学的に許容し得ない塩’
Ｖｇｌ！用することも可能である。治療的には、東学的
にＩｌｆ谷し備る無毒性の塩のみが使用され、従ってこ
れらの方が好ましい。 式■で表わされその官能基が遊離の形にあるもの、すな
わち保護された形にないもの、およびその薬学的に許ｄ
し憎る無毒性の場は、特に抗＃Ｉ薗性抗生物質として使
用し侍る、価値ある抗生・Ｉｔ性物質である。例えばそ
れらは試験管内においてグラム陽性およびダラム陰性の
球菌１例えは鍛色デドウ球菌、連−球菌例えば化膿連−
坪薗および肺炎連−球薗、およびナイセリア榴に、そし
てまたインフルエンデ菌に対して約０．０１μＭ／ＩＬ
ｔ−約６２μ／ｌ／ｗｔｔの最小一度において、腸内凶
、例えば大腸菌、クレブシェラ、サルモネラ、セラシア
、エンテロバクタおよびプロテウスａＩＶｒ対し約０．
００５μ９／−からの最小・鋳度において、そしてグラ
ム陽性嫌気性−１例えばクロストリジウム、またはグラ
ム酪性＃ｐ気性困例えばバクテロイドに対して約０．０
０５μ９／−一部６４μ９／ｒｌＬｔの最小画用におい
て有効である。生体内においては、マウスに皮下投与す
る場合この＃税化合物は、例えば、ダラム鋼性＠原−１
例えは鰭色デドウ琢１ｉｔＩＩ。 または腸内鉋例えば大−薗によって起る系統感染に対し
約０．４＃Ｉ９／に９−１”＋１００〜／に９の遍小投
与曖において有効である。 以下の評価試験において１式Ｉで表わされる化合物の活
性ン選定された化付物について示す：評価試験 １、被験化合物： 次の化合物の抗生活性を試験した； １．７β−Ｃ２−（５−アミノ−１−メチル−１Ｈ−１
，２，４−）リア・戸ルー６−イル）−アセトアミノコ
−３−アセトキシメチル−５−セフェム−４−カルボン
酸のナトリウム塩（？ｌＪ １）２．７β−［２−（５
−アミノ−１−メチル−１Ｈ−１，２，４−）リアゾル
−６−イル）−２−２−メトキシイミノアセトアミノ〕
−６−アセドキシメチルー５−セフェム−４−カルボン
酸のナトリウム塩（例３） ′５７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１１（−
１，２，４−）リアデル−６−イル）−２−２−メトキ
シイミノアセトアミノ〕−３−（１−メチル−テトラゾ
ルー５−イルチオメチル）−３−セフェム−４−カルざ
ン醗のナトリウム塩（例４） ４．７β−［：２−（５−アミノ−１−メチル−１Ｈ−
１，２，４−）リアデル−６−イル）−２−２−メトキ
シイきノアセトアミノ］−６−（４−カルバモイルピリ
ジニオメチル）−に−セフェム−４−カルボキシラード
（ｙＩＪ ５ ）５．７β−［２−（５−ジメチルアミ
ノメチレンアミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２，４−ド
リア１戸ルー５−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセ
トアミノ）−１−（４−カルバモイルピリジニオメチル
）−３−セフェム−４−カルボキシラード（例５） ６．７β−Ｃ２−（５−アミノ−１−メチル−１Ｈ−１
，２，４−）リアゾル−６−イル）−２−２−メトキン
イミノアセトアミノ〕−５−セフェム−４−カルボン酸
のナトリウム塩（例１０） Ｉｔ、 Ｋ験方法 Ａ、波峡化合物の試験σ内における抗生活性はエッチ、
エム、エリクスンおよびニス、ンー、シエリス（１９７
１、Ａｃｔ、ａ Ｐａｔｈ、 Ｍｉｃｒｏｂ、 ５ｃａ
ｎｄ。 ５ｅｃｔｉｏｎ Ｂ、 ＠遺Ａｆ２１７ 、１−９０！
り［ｆって寒天希釈法によりＤＳＴ Ｑ天中で測定した
。 試験鑓生物の成長ケなお抑制する最小―度（ＭｒＣ＝最
小抑制帽１ン岐験化合ｖＩに対しミリリットル自りマイ
クログラムＣμｍ１／ｌｔ）として表１に示す。 Ｂ、雌の８ＰＦ、ＭＰ、マウスにおける系統感染に対す
る生体内の化学療法的活性は、デク、オー（Ｚａｋ、
ｏ、）等（１９７９、Ｄｒｕｇｓ Ｅｘｐｔｌ、 Ｃ１
１ｎ。 Ｒｅａ、５．４５−５９）の方法Ｋ ｆ ”） テロ１
１１ 定シた。槽々の鍼生物に対して見いだされたＥＤ
、。 値（マウスキログラム当り物質ミリグラム、（ダ／ｋｇ
））を皮下（ｓ、ｃ、）Ｋ投与した破験化合物に対し表
２に示す。 ■、試験結果 表 １ 抗生活性（試験型内） ＊２ 化学療法的活性（生体内） 従って本新規化合物は、例えば抗生活性な製剤の形で、
グラム噛性およびグラム画性のバクテリヤおよび球−に
よっておこる感染の治療に１戸用することができる。 式Ｉで表わされその官能基が保躾されている化合物は、
式１で表わされその官能基が遊嵯の形にある化合物製造
の中間体として便用される。 本発明は特に、式■で表わされ、式中においてｎは０ま
たは１を表わし、Ｒ１は水素原子、低級アルコキシル基
、フェニル−低級アルコキシル基、ハロゲン原子、低級
アルカノイルオΦシ基、低級アルカ／スルホニルオキシ
着、アレーンスルホニルオキシ基、またはへテロシクリ
ルチオ基（七のヘテロシクリル基がチアヅアデリル基、
オキサシア・戸すル基、トリア・戸すル基また＆ゴテト
ラ・戸すル基であってその各々は環炭素原子を弁してチ
オ基に結合しており、置換基としてジ低級アルキルアミ
ノ基かカルボキシル基かスルホ基かｒ含有しているかま
たは含有していない低級アルキル基によって＃Ｍされて
いるかまたはｔｌを換されていないものとする）ン表わ
すか、またはＲ１は基−ＣＩ（２−Ｒ。 ｃ式中Ｒ２は水素原子、とげロキシル基、カルざキシル
基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイルオ
キシ基、カルバモイルオキシＪ１．Ｎ−１ｊ［アルキル
カルバモイルオキシ基、ヘテロシクリルチオ基（そのヘ
テロシクリル基が、壌脚素原子ケ介してチオ基に結付さ
れ、１−４１１６１のＪＪｉｌ望累原子を有し、＃ｉ素
原子とｔｉｅ鍍原子とから成る群から選ばれる壊ヘテ四
原子Ｙさらに含有するか含有しない単ｍ複素壌式基であ
るもの、例えばトリアゾリルチオ基、夢トラゾリルチオ
基、チアシリ□ルチオ基、チアトリアゾリルチオ基、チ
アシアプリルチオ着、オキサゾリルチオ基、オキサジア
ゾリルチオ基、ピリダゾニルチオ基、ピリミジニルチオ
基または・トリアジニルチオ基であって、と＼で複素ａ
は部分的に飽和されていてもよく、そして（または）次
の基によって置換されているかまたは置換されていない
ものとする；低級アルキル基；カルボキシル基かスルホ
基かジ低級アルキルアミノ基か低級アルカノイルアミノ
基かヒドロキシル基かへロｒ：／原子かによって着換さ
れた低級アルキル基；ンク筒アルキル基；フェニル基；
ベンジル基；カルｄ？＊シル基：カルバモイル基二マた
はＮ−低級アルキルカルバモイル基）ｖ表わすかまたは
Ｒ２はアノモニオ革、例えばトリ低級アルキルアンモニ
オ基、またはビラ１戸リオす、トリアψリオ基、ピリジ
ニオ基、ビリミゾニオ基、ビリダンニオ基、チアプリニ
オ基またはキノリニオ基（これらはそれぞれ、低級アル
キル基か、ヒドロキシ低級アルキル基、カルボキシ低級
アルキル基、スルホ低級アルキル基、カルボキシル第、
カルバモイル基、Ｎ−低級アルキルカルバモイル基、ハ
ロゲン原子、スルホ基、低級アルカノイル基、ヒドロキ
シル基またはシアン基かによってｂぜ侯されているかま
たは置換されていないものとする）を表わすものとでる
〕を表わし、Ｒ３はカルボキシル基または生理学的に開
裂し侍る形ＶＣエステル化されたカルボキシル基１表わ
し、Ｒ４は水Ｊｇ原子または低級アルコキシル基を表わ
し、Ａは基−ＣＨ２−１−ｃ（（ロ））−または−ｃ（
＝Ｎ−ｏ−Ｒ，）−（式中Ｒ３は次のものＹ表わす：水
＃ｇ原子；低級アルキル基；シクロアルキル基；フェニ
ル基か、低級アルコキシル基、カルボキシル基、アミノ
基またはジ低級アルキルアミノ基かＫよって
−６−セフェム−４−カルボン醸化合物、ての輌遣方法
、か＼る化合物を貧有する薬学的製剤、およびこれを薬
学的製剤の・々遺に、または４橿字的に活性な化合物と
して、１史用する方法に関する。 本発明は特に式 〔本式においてｎｄｏまたは１を表わし、Ｈｌは水素原
子、ニーチク化またはエステル化されたヒドロギシル基
、エーテル化されたメルカプト基、ポルミル基または眉
−〇Ｈｇ−’ｚ （Ａ、中Ｈ２は水素原子、官能的に変
性ざ／しているかまたはさｎていないカルボキシル基、
またはアシルオキシ基、ヒドロヤシル基、ヘテロ砿−チ
第４ｔたはアンモニオ基を表わす）を表わし、Ｒ３は保
護されているがまたはされていないカルボキシル基を表
わし・ ８４は水素原子または低級アルコキシル基を衣
ゎし・Ａは基−０）］２−、−ｏ（嘘）−または−Ｃ（
−一〇−Ｈ５）−（式中Ｒｓｄ水未原子、＋１例されて
いるかまたは置換されていない低級アルキル基またはシ
クロアルキル基、シクロアルケニル基、低級アルケニル
基またはＮ −＋ｄｔ換されているかまたはされていな
いカルバモイル基を表わす）を表わし、Ｒ，ｄ水素 、
＋ａｔ子、置換されているかまたは置換されていない炭
化水素基、有機スルホニル基、またはアシル基を表わし
、そしてＡｍは１−換されているかまたは直侠されてい
ないアミノ基を表わす〕 。 で表わされる７β−アミノトリアゾリルアセトアミノ−
３−セフェム−４−カルボン虜化合冊、およびｆｆｉ塩
性基を有するか＼る化合物の４、これらの化合物の製造
方法、か＼る化合＃を貧有する薬学的製剤、２よびｃｎ
らを栗４的−剤の襄泣に、またｒｉ楽浬釣に活性な化合
ぐとして、使用するｂ゛ムに１凋する。 式Ｉで表わされる化曾吻にひいて１叔ｎは待に０の１１
ｊＬを有する。もしｎが１の１直をとるときは対応する
１−オキシドはα−形Ｉたはｄ−形でちってもよい。 １．２．４−トリアゾール環（′ｉ６−またケま５−立
において、ｔｉｔ挨さｎているかまたは１ゴ換されてい
ないアミノ基Ａｍに、または４−Ａ−に請合している。 従って本発明のトリアゾリル化合物において、１，２．
４−トリアゾール環ＡはＹ４性体（またはもしＲ６が水
素原子を表わすなら：ず、互實異性体）の形で存在する
か、 に６ またはこれらの異性不の混合づの杉で（ｆ午してよい。 さらに、式■で表わされ式中Ａｍがｆミノ基を表わす化
合物は、部分式 で表わされる６−または５−イミノトリアシリニル化合
物として、互変異性体の形にあってもよく、または互変
異性体の混合吻の杉にめってもよい・互変異性体間の平
衡はＴＩＩＬ瑛基Ａ２よび（または）Ｒ６の性質、２よ
び（または）外的因子、例えば温度、溶媒および−によ
って左右される。本発明の範囲内では、これらの基を発
明の詳細な説明および特許請求の範囲においてアミノト
リアゾリル基と呼ぶがこれにはイミノトリアシリニル形
も含めている。 式■で表わされる好ましい化合物にハ５− Ａｍ−トリ
アゾル−６−イル基が含有される。 本発明の記載において、置換基または化合物の定義に関
連して使用される一低ＩＩ＆１なる用語は、それぞれの
嬢遺基または化合物が１時記しない限９７個以ド、好ま
しくは４個以ドの炭ｇ原子を言何することを意味する。 本祐明の記載の範囲１りにおいて、ｉ１丁述および吹述
に使用する一般的定戊の慧禾？よ好−ましくは次の通り
で多る： エーテル化されたヒドロキシル４Ｈｘとしては袴に低級
アルコキシル基例えばメトキシル基、さらにエトキシル
基、ｎ−グロポキシル基、イングロボキシル基−ｎ−ブ
トキシル基、インブトヤシル基または第三級ブトキシル
、砺、またｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−へキシルオキシ
基、またはｎ−ヘプチルオキシ基、もしくはまたアリー
ル低級アルコキシル基であってそのアリール基が特に、
ｒ／１］えば低級アルコキシル基かハロゲン原子かニト
ロｋかによって置美されているかまたけＩｔ換されてい
ないフェニル基であるもの、飼えばベンジルオキシ基、
ジフェニルメトキシ基、ｐ−メトキシベンジルオキシ基
またはｐ−ニトロペンジルオ午シ基が挙げられる。− エステル化されたヒドロキシル基［（ｌは輌磯城か有ｍ
ｄか１こよってエステル化されたヒドロキシル基でめっ
て、待にハロゲン原子、また低級アルカノイルオキシ基
、低級アルカンスルホニルオキ７４またはアレー／スル
ホニルオキシ盾、例えば籍に塩業原子、もしくはまたフ
ッ素原子、臭素原子またはヨウ素原子、アセトキシ冶、
グロピオニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、メ
タンスルホニルオキシ基、ベンゼンスルホニルオキシ基
また（ｌｏ−またはｐ−トルエンスルホニルオキシ基が
挙げられる。 エーテル化されたメルカプト基Ｒ１は特にヘテロ墳−チ
オ基でそのヘテロ環基が好ましくは５員または６員で、
ＳｔＳ分的にｉ和されているかまたは飽和されておらず
、少くとも１個の＃Ｉ窒素原子を含み、さらに環窒素原
子、環酸素原子、−よび（または）４硫黄原子を含有す
るかまたは含有せず、環炭素原子を介してチオ硫黄原子
。Ｃ４合しており、置換されているかまたは置換されて
いない芳香族のへテロ環基であるものである。例えばＲ
１は下記のへテロ環−チ第４Ｒｖの一つである。しかし
Ｈｌはｆた、向えばヒドロキシル基かアミノ冶かカルボ
キシル益かｌこよって１侠され−Ｃいるかまたは瀘侯さ
れていない低級アルキルメルカプト基、・丙えばメチル
メルカプト基、エチルメルカプト基またはカルボ中ジメ
チルメルカプト４をも表わす。 ゛ぼ岨的に変性されたカルボキシル基Ｒ３としては飼え
ば、低級アルキル基列えばエチル基またはエチル基か、
生理学的に除去し１洋る屑、列えばピバロイルオキシメ
チル基かによってエステル化きれたカルボキシル基、も
しくはアンモニアが・ルー級または第二級アミン例えば
モノ−またはジー低級アルΦルアミン、例えばメチルア
ミン、エチルアミン、ジエチルアミンまたはジエチルア
ミンかによってアミド化されたカルボキシル基、もしく
は基Ｈ３に対して述べるように保護されたカルボキシル
基が挙げられる。 アシルオキシ基Ｒ２において、アシル基は、列えｄｓ
７供されているかまたは４侯されていない低級榴肪族カ
ルボン１便か、カルボン峡低級アルキルエステルか、低
級アルカンスルホン酸が、芳杏緩スルホ／改か、芳ｆ族
カルボン酸か、アリール基によって＋１！された低級ア
ルカンカルボン酸か、またはｌ’−ｔｉ遺されているか
また１ｄされていないカルバミン酸かのアシル基である
。 このようなアシルオキシ基Ｒ２としては列えば、置換さ
れているかｌたは置換されていない低級アルカノイルオ
キシ基、時にアセトキシ基、さらにホルミルオキシ基、
プロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリ
ルオキシ基、バレリルオキシ基、イノバレリルオキシ基
、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、ピパ
ロイルオキシ基、アセドア七ト午シ基、オキサリルオキ
シ基、スクシニルオキシ−４ｉｓ、低級アルコキシカル
ボニルオキシ基、例えばメトキシカルボニルオキシ基、
エト午ジカルボニルオキシ基、プロポキシカルボニルオ
キシ基、１−シクロプロピルエトキシカルボニルオキシ
基、イソプロポキシカルボニルオキシ基、メトキシカル
ボニルオキシ基、第三級メトキシカルボニルオキシ基、
ペンチルオキシカルボニルオキシ基、第三級ペンチルオ
キシカルボニルオキシ基、ヘキシルオキシカルボニルオ
キシ基等、低級アルカンスルホニルオキシ基１例えばメ
シルオ中シ基、エタンスルホニルオ＃シｔＪｆｉ。 フロハンスルホニルオキシ基、インプロパンスルホニル
オキシ基、ブタンスルホニルオキシ基、ψ、アレーンス
ルホニルオキシ、Ｗ、ｔｌＪえぼベンゼンスルホニルオ
キシ基、トシルオキシ承寺、アシルオキシ基、例えばベ
ンゾイルオキシ基、トルオイルオキシ基、ナフトイルオ
キシ基、フタロイルオキシ−塙、インダンカルボニルオ
キシ基等、アリール低級アルカノイルオキシ基、例えば
フェニルアセトキシ基等であって、こ＼で前記のアシル
基は適当な置換基、例えばハロゲン原子グリえは塩素、
臭素、ヨウ素またはフッ素原子、ヒドロキシル基、シア
ノ基、ニドｏ基、υ（級アルコ午シル＆％Ｊえばメトキ
シル基、エトキシル基、グロボキシル基、インプロポキ
シル基等、低級アルキル基、例えばメチル基、エチル基
、プロピル基、インプロピル基、ブチル基等、低級アル
ケニル基列えばビニル基、アリル基等、または例えばフ
ェニル基、トリル基等を言ゼしてもよい。か＼る直換基
を１個またはそれ以上Ｍするアシルオキシ基の列として
は、好ましくはへロ低級アルカノイルオキク眉、例えば
クロロアセトキシ基、ジクロロアセトキシ基、トリクロ
ロアセトヤシ基またはトリフルオロアセトキシ基が挙げ
られる。 Ｎ−＃ｔ！！８されているかまたはさｎていないカルバ
ミン酸のアシル基において、Ｎ−１ｍ撲基としては、ハ
ロゲン原子例えば塩素原子か、低級アルカノイルオキシ
４ｉ？ＩＪえばアセトキシ基−またはプロピオニルオキ
シ基かｌこよってＩｔ換されているかまたは置換されて
ない低級アルキル基、例えばメチル基、エチル基、２−
クロロエチル基、または２−アセトキシエチル基が・轟
げられる。このようなアシルオキシ基Ｈ２としては例え
ば、カルバモイルオキシ基、Ｎ−メチルカルバモイルオ
キシＭ、 Ｎ−エチルカルバモイルオキシ基、Ｎ−（２
−クロロエチル）−カルバモイルオキシ基また１ｄＮ−
（２−７セトキシエチル）−カルバモイルオキシ基が挙
げられる。 ヘテロ壌−チオ）ＩＡｉ２ｖこおいて、ヘテロ４４とし
ては待に、ｔＩＬｆｉされているかまたは置換されてお
らず、環炭素原子を介してチオ基Ｖこ結合され。 １−４４１５の４−４索原子を有し、そしてさらにｃＩ
ｌ素諷子および硫黄原子から成る群から選ばれる環へテ
ロ原子を有するかまたは有しないモノ煩素墳底もしくは
１−５１固の壌・叉素Ｉ吠子を１するビ煩素工濾基が挙
げられる。 このようなヘテロ４壱としては・吋に、単環式で５員ま
たは６員のジアザ−、トリアザ−、テトラザー、チアザ
−、チアジアザ−、チアトリアザ−、オキサザ−または
オキサジアザ−環式Ｊ５、もしくは墳当１：＞５１１Ａ
または６個の環原子をキ有するアザ−、ジアザ−、トリ
アザ−、テトラザー、またはペンタザー二環式基でろっ
て、こ＼でこれらのＩ、Ｑの七ｎぞれは芳香族的な、ま
たは部分的に＠４０された性格であり、置換されていな
いかまたは＋１ｍされて、例えば次！己のような＋１ｍ
基を含何するものが挙げられる。 このようなヘテロ項基のＩｄ 侠４としては、ｌかんず
く、低級アルキル域、時にメチル基、またエチル基、ｎ
−グロビル基、イソプロピル、＆−または直鎖のまたは
枝分れしたブチル基、またはとドロキシル基かエステル
化されたヒドロキシル４ｖｌＪえば低級アルカノイルオ
キシ基かハロゲン原子かカルボキシル基かエステル化さ
れたカルボキシル基例えば低級アルコキシカルボニル基
かスルホ基がアミド化されたスルホ基かアミノ基か七ノ
ーまたはジー低級アシルアミノ基かアシルアミノ基例え
ば低級アルカノイルアミノ基か、または波濤された低級
アルカノイルアミノ基、例えばカルボキシル基かハロゲ
ン原子かによってＩｔ懺された低級アルカノイルアミノ
基かによって置換された低級７にキル基、例えば２−ヒ
ドロキシエチル基、２−アセトキシエチル基、２−クロ
ロエテル棒、カルボキシメチル基、２−カルボキシエチ
ル基、エトキシカルボニルメチル基、２−エトキシカル
ボニルエチル基、スルホメチル晒、２−メトキシル基、
スルファミルメチル基、２−スルファミルエチル基、２
−アミノエチル基、２−ジメチルアミノエチル基“また
は２−アセトアミノエチル盾がψげられる。ヅ素壌式店
のざらに地の直ＩＡ基の−ｊとしては、シクロアルそル
基、例えばシクロペンチル基またはシクロヘキシル基、
アリール基、例えばハロゲン原子−Ｊえば塩素原子かニ
トロ基かによってｄ決されているか゛またはＲ洟されて
いないフェニル基、アリール１戊級アルキル基、列えば
べシリル基、またはへテロシクリル基、ｔ；＝ｌＪ 、
ｔばフリル基例えば２−フリル基、チェニル壜列えば２
−チェニル基、またはオキサシリル基例えば２−または
５−オキサシリル基、または１すを基例え、ｆノ・ロゲ
ン原子例えばフッ素、塩素または臭素原子、置換されて
いるかまた（ｌま置換されていな１ハアミノ基、例えば
低級アルキル漬によってモノまたはジ置換きれているか
またはされていないアミノ壱、列えばアミノ基、メチル
アミツノ〜またはジメチルアミノ基、アシルアミノ基、
ｙｌえは低級アルカノイルアミノ基、または）１０ゲン
原子かカルボキシル基かによって置換された低級アルカ
ノイルアミノ基１例えばアセトアミノ基、２−クロログ
ロピオニルアミノ基または６−カルポキシグロビオニル
アミノ基、ニトロ基、とドロキシル基１低級アルコキシ
ル基例えばメトキシル基、エトキシル告、ｎ−ブトキシ
ル基ま九は２−エチルへキシルオキシ基、または官能的
に変性されているカミまたはされていないカルボキシル
基１例えばカルボキシル基、エステル化され九カルボキ
シル基例えば低級アルコキシカルボニル基例えばメトキ
シｆ） ＃ ホｓ−ル基またはエトキシカルボニル基、
置換されていないかまたは置換されている、例えばＮ−
モノ−またはＮ、Ｎ−ジー低級アルキル化されているカ
ルバモイル基、 ｆｌｌ、ｔばドーメチルカルノ（モイ
ルノンまたはＮ、Ｎ−ジメチルカル・（モイル盾、また
はシアノ基、そしてまたオキソ基またはオキシト１基が
挙げられる。このような置換基は１個またはそれ以上存
在してよく、得に４炭素原子に結合しているが、特に低
級アルキル基およびオキシド°基の場合には、環窒素原
子にも結合する。 そのヘテロ環基が対応する単環式の５貝の壜を表わす好
ましいヘテロミーチオ基Ｒ２としては、なかんずく、イ
ミダゾリルチオ基１７１Ｊえば２−イミダゾリルチオ基
、低級アルキル基および（まｔｌよ）フェニル基によっ
て＋１１遺されているかまたはＩｌｔ侯されていないト
リアゾリルチオ基、例えばＩＨ−１，２，３−トリアゾ
ル−４−イルチオ基、１−メチル−１Ｈ−１＊２＋３−
トリアゾル−４−イルチオ基、１Ｈ−１１２＋４−トリ
アゾル−６−イルチオ基、５−メチル−１）１−１１２
１４−トリアゾル−３−イルチオ７妃６−メチル−１−
フェニル−１ｕ−１１２，４−）リアゾル−５−イルチ
オ基、４，５−ジメチル−４Ｈ−１＋２＋４−トリアゾ
ル−６−イルチオ基、３−または４−カルボキシメチル
−４８−１ｅ ２ ｔ ４− ）リアゾル−６−イルチ
オ基または４−フェニル−４Ｍ−１，２，４−トリアゾ
ル−３−イルチオ基、特に、削５己のように置換されて
いるかまたは置換されていないテトラゾリルチオ基、例
えば１Ｈ−テトラゾルー５−イルチオ基、１−メチル−
１Ｈ−テトラゾルー５−イルチオ基、１−カルホキツメ
チル−１Ｈ−テトラゾルー５−イルチオノｂ、１−（２
−カルボ乎ジエチル）−１Ｈ−テトラゾルー５−イルチ
オ基、１−スルホメチル−１Ｈ−テトラゾルー５°イル
チオ＆、１−（２−スルホエチル）−１）１−テトラゾ
ルー５−イルチオ基、１−（２−ジメチルアミノエチル
）−１Ｈ−テトラゾルー５−イルチオ基、１−フェニル
−１Ｈ−テトラゾルー５−イルチオ基または１−（４−
クロロフェニル）−１Ｈ−テトラゾルー５−イルチオ基
、低級アルキル基かチェニル盾かによってＬｄ換されて
いるかまたは置換されていないイソチアゾリルチオ基ま
たはチアゾリルチオ基、例えば２−チアゾリルチオ基、
４−（２−チェニル）−２−チアゾリルチオ基、４，５
−ジメチル−２−チアゾリルチオ基、５−イソチアゾリ
ルチオ基、４−イソチアゾリルチオ基または５−インチ
アゾリルチオ基、特に前記したように置換されているか
または置換されていないチアジアゾリルチオ基１例えば
１゜２．３−チアジアゾル−４−イルチオ基、１，２゜
３−チアジアゾル−５−イルチオ基、１，３．４−チア
ジアゾル−２−イルチオ基、２−メチル−１，３，４−
テアジアゾル−５−イルチオ基、２−カルボキシメチル
−１，３，４−チアジアゾル−５−イルチオ基、２−Ｃ
６−カルポキシグロビオニルアミノ）−１，３，４−チ
アジアゾル−５−イルチオ基、１，２．４−チアジアゾ
ル−５−イルチオ基、６−メチル−１，２，４−チアジ
アゾル−５−イルチオ基または１，２．５−チアジアゾ
ル−６−イルチオ冶、チアトリアゾリルチオ基、例えば
１，２，３．４−チアトリアゾル−５−イルチオ基、前
記のように１置換さ几ているかまたは置換さｎていない
イソオキサゾリルチオ等またはオキサゾリルチオ基、例
えば５−オキサゾリルチオ基、４−メチル−５−オキサ
ゾリルチオ基、２−オキサゾリルチオ基、４，５−ジフ
ェニル−２−オキサゾリルチオ基または６−メチル−５
−イソオキサゾリルチオ基、またはＩＩＩＴ ＋１己の
よりに置換されているかまたは１置遺されていないオキ
サジアゾリルチオ基、例えば１，２．４−オキサジアゾ
ル−５−イルチオ基、２−メチル−１，３，４−オキサ
ジアゾル−５−イルチ第４，２−７二二ルー１，６．４
−オキサジアゾル−５−イルチオ基、５−（４−ニトロ
フェニル）−１，６，４−オキサジアゾル−２−イルチ
オ基または２−（２−チェニル）−１，３，４−オキサ
ジアゾル−５−イルチオ基が挙げられる。 ヘテロ環基が対応する率頃、６員の丞または対応する部
分的に飽和された基を表わす好ましいヘテロ壌−チオ基
Ｒ２としては、なかんず（、）〜ロｒノ原子によってｖ
Ｉｔ喚されている力）ま１こを言置換さレテイない１−
オキシドピリゾルチオ基１例え＆プ１−オキシドー２−
ビリゾルチオ基または４−クロロ−１−オキシｌ″−２
−ピリジルチオ基、ヒドロキシル基によってｒｕｍされ
ているかまたは置換されていないピリダジニルチオ基、
例えば６−ビトロキシ−６−ビリダジニルチオ基、低級
アルキル基か低級アルコキシル基かノ〜ロｒ／原子かに
よって置換されているが呼たけ置換されていないＮ−オ
Φシトピリダジニルチオ基、例えば２−オキシド−６−
ピリダジニルチオ基、６−クロロ−１−オギシＦ−６−
ビリダゾニルチオ基、６−メチル−２−オキシド−６−
ピリダジニルチオ基、６−メドキシー１−オキシド・−
６−ピリダジニルチオ基、６−ニトキ７−１−オキシド
ー６−ビ１Ｊダシニルチオ基、５−ｎ−ブトキシ−１−
オキシげ−６−ピリダジニルチオ基また４２５− （２
−エチルヘキンルオキシ）−１−オキシげ−６−ピリダ
ジニルチオ基、または低級アルキル基かアミノ基カシー
低級アルキルアミノ基かカルボキシル基かＫよってず置
換されているかまたは置換されていない２−オキソ−１
，２−ジヒげロピリミジニルチオ基、例えば２−オキソ
−１，２−ジヒドロ−４−ピリミジニルチオ基、６−メ
チル−２−オキソ−１，２−ジヒＰロー４−ピリさゾニ
ルチオ基、５−メチル−２−オキソ−１，２−ジヒｒロ
ー４−ピリはジニルチオ基、６−アミノ−２−オキソ−
１，２−ジヒドロー４−ピリミジニルチオ基、６−シメ
チルアミノー２−オキソー１．２−ジヒドロー４−ピリ
ミジニルチオ基、５−カルボキシ−２−オキソ−１，２
−ジヒｒロー４−ビリきジニルチオ基または６−カルボ
キシ−２−オキノー１．２−ジヒドロ−４−ビリζゾニ
ルチオ基、または同様にして置換されているかまたはｔ
ｉｔ侯されていない４−オキソ−３，４−ジヒドロ−２
−ビリミゾニルチオ基、例えば、特ＶＣ，ｔｉ１換され
ていない４−オキソ−５，４−ジヒドロ−２−ピリミジ
ニルチオ基、または低級アルキル基別えはメチル基また
はと２個以下のオキソ基とによって１１模されている２
）＝また＋言１１ ｍされていないテトラヒドロトリア
ジニルチオ基、特ＫＮ−低級アルキルー５．６−シオキ
ソー１．２．５．６−テトラヒドロー１．２．４−）リ
アジン−５−イルチオ基、例えば１−１２−または４−
メチル−５，６−シオキソー１．２，５．６−テトラヒ
ドロー１．２゜４−トリアジ／−６−イルチオ基、また
はこれらのオキソ化合物に対応する互変Ｓ性の芳香族ヒ
ドロキシ化合物が挙けられる。 ヘテロ環基が、壌当り５個または６個の環原子を含有す
る対応する二環式の基を表わす好ましいヘテロ環−チオ
基としては、なかんす〈、低級アルキル基によって１ｊ
Ｉｔ換されているかまたはｔｌを換されていないインド
リルチオ基、例えばインドルー２−イルチオ基またはＮ
−メチルイソｒルー２−イルチオ基、イソインドリルチ
オ基例えばイソイソｒルー２−イルチオ基、キノリルチ
オ基、例えば２−１４−または８−キノリルチオ基、置
換すれていないか呼たは低級アルキル基かカルボキシ低
級アルキル基かｆよってｖｔ挨されているベンズイミダ
ゾリルチオ基、例えば１−メチル−１１−カルボキシメ
チル−または１−（２−カルざΦジエチル）−ベンズイ
ミダゾルー２−イルチオ基、置換されていないかまたは
低級アルキル基かカルブキシ低級アルキル基かによって
置換されているペン゛戸トリア゛ｔリルチオ基、例えば
１−メチ／ｌ／ −または１−カルボキシメチル−１Ｈ
−ベンゾ〔α〕トリアゾルー５−イルチオ基、または特
ｖｃ、置換されていないかまたは低級アルキル基かカル
ボキシル基かカルボキシ低級アルキル基かカルバモイＡ
Ａ’かＮ−モノ−またはＮ−ジ低級アルキル化カルバモ
イルアミノ基か、またはＮ−モノ−ｆたはＮ−シー低級
アルキル化アミノ基かによって置換されているテトラシ
ロピリダジニルチオ基、例えば８−メチル−１８−エチ
ル−１８−カルボキシ−，８−カルボキシメチル−１８
−（２−カルボキシエチル）−１８−（３−カルボキシ
プロビル）−１８−カルバモイル−１８−（Ｎ−メチル
カルバモイル）−１８−（Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイ
ル）−１８−アミノ−１８−ジメチルアミノ−または８
−ジエチルアミノ−テトラ・戸口−〔１゜５−ｂ〕ピリ
ダジン−６−イルチオ基が挙げられる。 アンモニオ基Ｒ２は１例えは、第三級有情塩基から、４
！−Ｉ−ｆシ〈は対応する脂肪族アミンからまたは、特
に、対応する６１素壌式窒素塩基で）ら誘導されるアン
モニオ基であって、窒素原子？介してメチル炭素原子に
結合しており譲四級化され正に荷′−シた形にあるもの
である。アンモニオ基としては、なかんずく、 トリー
低級アルキルアンモニオ基、例えばトリメチルアンモニ
オ基、トリエチルアンモニオ基、トリプロピルアンモニ
オ基またはトリエチルアンモニオ基が、しかしＨＶｒｌ
ｌＦＩＡ、２個または５１＋６１の環窒素原子を有し壊
かＣ叡原子を貧有するかまたは含有しない単項または二
項の芳香極性のアンモニオ基、輿１えはピリミジニオ基
、ピリダジニオ基、チア・ｔリオ基、キノリニオ基、お
よび、特に、ピリジニオ基、トリアゾリオ基、特に１．
２．５−）リア・戸すオ基、またはビラ・７リオ基（こ
れらは例えば低級アルキル基、例えはメチル基か、ヒド
ロキシ低級アルキル基例えばヒドロキシメチル基か、低
級アルコキ／−低級アルキル基例えばメトキシメチル基
または２−メトキシエチル基か、スルホ−低級アルキル
基、例えばスルホメチル基か、アミノ基か、置換された
スルホｙ７ミド４、例えば４−アミノフェニルスルホン
アミげ基か、ヒげロキシル基か、ハロｃｙ原子例えばフ
ッ素、塩素、臭素またはヨウ素原子か、１１ロ低級アル
キル系？ｌＪ、ｔばトリフルオロメチル基か、スルホ基
か、官能的に変性されているかまたはされていなりカル
ボキシル基例えばカルボキシル基、低級アルコキシカル
ざニル基、例えをずメトキシカルボニル基か、シアノ基
か、低級アルキル基例えばメチル基またはエチル基によ
って、またはヒげロキシ低級アルキル基例えばヒげロキ
シメチル基によってＮ−モノ置換またはＮ、Ｎ−ジ置換
されているかまたはされていないカルバモイル基例えば
カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基ま”たはＮ
、Ｎ−ジメチルカルバモイル基か、マタは低級アルキル
基によってＮ−置換されているかまたはされていないヒ
げラジ７カルボニル基、別工げヒドラジノヵルゲニル基
か、カルぜキン低級アルキル基例、ｔばカルボキシメチ
ル基または２−カルボキシエチル基か、低、六アルカノ
イル基例えばアセチル基か、または１−低級アルキルピ
ロリジニル基例えば１−メチル−２−ピロリゾニル基か
によってモノまたはポリー換されている・＼または１道
喚されていない）が挙げられる。 複：Ｉｇ環式アンモニオ糸Ｂ２は特に、低級アルキル基
かヒドロキシ低級アルキル基か低級アルコキ７−低級ア
ルキル基か、カルざキシ低級アルキル基か、スルホ低級
アルキル基か、アミノ基か、置イ４されたスルホンアミ
ド基か、ヒドロキシル基か、ハｏ ’ｒ’ ７ ＩＩ
子か、トリフルオロメチル基か、スルホ基か、カルボキ
シル基か、低級アルコキシカルボニル基か、７７ノ基か
、低級アルカノイル基か、１−低級アルキルビ０ リジ
ニル基か、または、低級アルキル基またはヒドロキシ低
級アルキル基によってＮ−置換されているかまたはされ
ていないカルバモイル基かＫよって置換されているかま
たは置換されていないピリジニオ基であって、例として
ピリジニオ基、２−１５−または４−メチルピリジニオ
基、５．５−ジメチルピリジニオ基、２．４．６−ドリ
メチルビリジニオ基、２−１６〜または４−エチルピリ
ジニオ基、２−．５−または４−プロピルピリジニオ基
、または特に６−ｆたは４−ヒｒロキンメチルビリジニ
オ基、５−または４−メトキシメチルピリジニオ基、５
−またけ４−カル♂キシメチルピリジニオ基、また２−
アミノ−１２−アミノ−５−カルバモイル−ピリジニオ
基または２−アミノ−６−メチルピリジニオ基、２−（
４−アミノフェニルスルホンアミｒ）−ピリジニオ基、
５−ヒドロキンピリジニオ基、６−または４−フルオロ
−１６−または４−クロロ−，６−または４−＝ｓ−ド
ーまたは特に３−または４−ゾロモーピリジニオ基、４
−トリフルオロメチルピリジニオ基、４−スルホエチル
ピリジニオ基、５−スルホピリジニオ基、２−２５−ま
たは４−カルボキン−また＋１２−．５−１たけ６．４
−ゾカルざキシピリジニオ基、４−メトキシカルボニル
ピリジニオ基、６−または４−シアノピリジニオ基、５
−カルがキシメチルピリジニオ基、５−または４−アセ
チルピリジニオ基、５−（１−メチル−２−ピロリジニ
ル）−ピリジニオ基、および％［４−カルバモイル−１
６−カルバモイル−１３−カルざキシメチル−４−カル
バモイル−１３−またｔ’：ｔ４−Ｎ−メチルカルバモ
イル−，４−Ｎ、Ｎ−ジメチル−カルバモイル−１４−
Ｎ−エチルカルバモイル−１５−Ｎ、Ｎ−ジエチルカル
バモイル−，４−Ｎ−プロビル力ルパモイＡｔ−１４−
イソゾロビルカルバモイル−および４−ヒドロキシメチ
ルカルバモイル−ピリジニオ基が挙げられろ。さらにア
ンモニオ基Ｒ２トシて好ましいものとして１．２．５−
トリアゾリオ基、特に１−（１，２，５−トリアゾリオ
）基、例えば５−低級アルキルー１−（１，２，５−ト
リアゾリオ）基、例えば５ニメチルー、３−エチル−１
５−プロピル−１５−ブチル−または５−第三級ブチル
−１−（１，２，３−）リアデリオ）基、およびビラデ
リオ基、％に２−低級アルキルー１−ビラψリオ基、例
えば２−メチル−１２−エチル−１２−ｆａｔルー、２
−ブチル−１または２−第三級プチル−１−ピラψリオ
基、および２−カルメキシー低級アルキルー１−ビラデ
リオ基、例えば２−カルボキシ−メチル−または２−（
２−カルｄｅ中ジエチル）−１−ビラゾリオ基がある。 保護されたカルボキシル基Ｒ３は特に４徳和な化学的条
件下でまたは生理学的条件下で容易に開裂し得るエステ
ル化されたカルボキシル基である。 穏和な化学的条件下で容易に開裂し祷るエステル化され
たカルボキシル基Ｒ３は、エステル化基として％に、１
−位において枝分れした。！！たは１−位または２−位
において過当に置換された低級アルキル基！含有する。 エステル化された形で存在する好ましいカルボキシル基
としては、なかんすく、第三級低級アルコキシカルボニ
ル恭、例えば第三級ブトキシカルボニル基；１個ツたけ
２個のアリール＆（確侯されていないかまたは、例えば
低級アルキル基例えば第三級低侯アルキル基例えば第三
級デチル基か、低級アルコキシルｌｋ例えばメトキシル
基か、ヒドロキシル基カ、ハロゲン原子世ｊえば塩素原
子および（または）ニトロ基かによってモノまたはポリ
！°換さＩしているフェニル基ｖ表わす）ｖ有するアリ
−、ルメトキシ力ルボニル基、例えばｔ＃換されていな
いかまたは例えば前記したようＫｍ換されているベンジ
ルオキシカルｒＫニル基、例えば４−ニトロベンジルオ
キシ力ルホニル基または４−メトキシベンシルオキシカ
ルボニル基、または置梼されていないかまたは例え（イ
前記したように瞭悶されているソフェニルメトキシカル
ボエル基、例１えはシフＬニルメト中シカルがニル基ま
たはジー（４−メトキンフェニル）−メトキシカルボニ
ル基；１−低級アルコキシー低級アルコキシカルざニル
基、拗えはメトキシメトキシカルボニル基、１−メトキ
シエトキシカルボニル基または１−エトキシメトキシカ
ルボニル基；１−低級アルキルチオー低域アルコキシか
ルボニル基１例えば１−メチルチオメトキシカルボニル
基または１−エチルチオエトキシカル４ぐニル基；その
アロイル基が、ハロゲン原子例えば臭素原子によって置
換されているかまたは１＃“慣されていないベンゾイル
基であるアロイルメトキシカルボニル基、例えばフェナ
シルオキ７カルポニル基；２−ハロー低級アルコキ／カ
ルボニル基、例えば２ 、２ 、２−） リクロロエト
キシカルビニル基、２−デロモエトキ７カルポニル基ま
たは２−９−げエトキシカルボニル基；または２−（ト
リー置侯シリル）−エトキシカルボニル基であってその
置換基のそれぞれが互いに独立して、１り遺されていな
いかまたは、例えば低級アルキル基か、低級７ Ａ／
コ’ｐ シル基か、アリール基かハロゲン原子および（
または）ニトロ基かＶＣよって＃侠され、例えば％ １
５個以下の炭素原子Ｙ有する脂肪族、芳香脂肪族、脂ｊ
Ｊ式または芳香族の炭化水素基、例えば対応する置換さ
れているかまたは１＃遺されていない低級アルキル基、
フェニル低級アルキル＆。 シクロアルギル基またはフェニル基であるもの、例えば
２−トリ低級アルキルシリルエトキシカルボニル基、例
えば２−トリメチルシリル−エトキシカルざニル基また
は２−（ジ−ｎ−ブチル−メチル−シリル）−エトキシ
カルボニル基、または２−第三級シリルエノーキ７カル
ボニル基、例えハ２− ） ＋７ フェニルシリルエト
キシカルメニル基が挙けられる。 エステル化された形で存在するその他の保護されたカル
ボキシル基としては、対応するシリルオキシカルボニル
基、特に有情、シリルオキ７カルボニル基、そしてまた
対応するスタニルオキシカルｅニル基が挙げられる。こ
れらの基においては、ケイ素またはスズ原子は好ましく
はｊ＋７俟基として低級アルキル基、特にメチル基ン、
しかしまた低級アルコキシル基、例えばメトキシル基、
および（または）ハロゲン原子例えば塙素原子を含有す
る。適当なシリルまたはスタニル株−基としては荷に、
トリ低級アルキルシリル基、轡［）リメチルクリル基が
、しかしまたジメチル第三級ブチルシリル基、 低ｎア
ルコキシ−低級アルキルーハーロ−シリル基、例えばメ
トキシ−メチル−クロロ−シリル基、またけジー低級ア
ルキル−ハローシリル基１例えばジメチル−クロロ−シ
リル基または対応する置換されたスタニル基１例えばト
１７− ｎ−ブチルスタニル基が挙けられる。 好！しい保神されたカルボキシル基としては第三級低級
アルコキクカルボニル基、例えば年三級デトキシカルボ
ニル基、および特に、前記のようＫｔｔｗ；ｓされてい
るかまたは１＃換されていないペンジルオキン力ルボニ
ル基、例えば４−ニド四ベンジルオキシカルボニル基、
またはシフ１ニルメト中ジカルボニル基が皐けられる。 生理学的条件下で開袋し得るエステル化されたカルざキ
フル基としては特に、アシルオキ７メトキシカル♂ニル
基であってそのアシル基が、例えば、有機カルボ／＃、
峙に＃要されているかまたは１Ｗ換されていない低級ア
ルカンカルボン酸の基であるもの、またはそのアシルオ
キシメチル基がラクトンの基Ｙ形成するものが挙げられ
る。か〜る基としては低級アルカノイルオキシメトキシ
カルホニル基、世」えはアセトキシメトキシカルＳ ＝
ル基またはピバロイルオキシメトキクカルボニル基、ア
ミノ低級アルカノイルオキシメトキシカルざニル基、％
にα−アミノ−低級アルカノイルオキシメトキシカルボ
ニル基、例えばグリンルオキシメトキシヵルざニル基％
Ｌ−パリルオキシメトキ７カルボニル基またはＬ−ロイ
シルオキシメトキシカルボニル基、またフタリジルオキ
シカルボニル基、例えば２−フタリジルオキシカルボニ
ル基、またはインダニルオキシカルボニル基、例えば５
−インダニルオキシカルボニル基が争げられる。生理学
的条件下で開裂し侍るその１世の好ｆしＩＡ 力ｋ ｄ
ｅキンル基としては低級アルコキシ力ルポニルオキシメ
トキ７力ルボニル基、劉えばメトキシ−、エトキシ−ま
たはプロポキシ−カルボニルオキシメトキシカルざニル
基が挙けられる。 低級アルコΦシル基Ｒ４は好−１’ｔ（は１−４＋１の
炭素原子ケ含み、例えばエトキシル基、ゾロ飲キシル基
、シトキシル基または轡にメトキシル基である。 式−〇 （＝Ｎ−０−Ｒ５）−で表わされる基はシン（
または乙）形またはアンチ（またはＥ）形であって、シ
／（ｔたはＺ）形が好ましい。 低級アルキル基Ｒ６は好ましくは１−４個の炭素原子？
含有し１例としてエチル基、プロピル基、エチル基ｆｙ
：は特にメチル基が挙けられる。 シクロアルキル基Ｒ５は好ましくを言３−８個の、％に
６−６個のＪｊｌｌ員を含み１例としてシクロエチル基
、シフローンチル基またはンクロヘキシル基、または特
にシクロゾロビル基が挙けられる。 置換された低級アルキル基またはシクロアルキル基Ｒ６
の置換基の例としてはアリール基例えばフェニル基また
はフリル基、エーテル化されているかまたはされていな
いヒドロヤシル基、例えば低級アルコキシル基、第一級
、第二級または第三級アミノ基、例えばアミノ基または
ジ低級アルキルアミノ基、官能的に変性されているかさ
れていない（工ｘ５−ル化、アミｒ化されまたは保ｄ！
されている本のを含む）カルボキシル基またはスルホ基
、および低級アルキル４によってＮ−置換されているか
またはされていないウレイドカルボニル基が辛けられる
。ｔｌを換された低級アルキル基および７クロアルキル
基は好ましくは、カルボキシル基かスルホ基かによって
＋４１１’洟され、これらは好ましくけ、ヒドロキシイ
ミノ基のｍ素１＝−を子ＶｃＭ付した炭１ｇ原子に存在
する。 このような置換された低級アルキル基およびシクロアル
キル基Ｒ５０例としてはベンジル基、２−フェニルエチ
ル基、フリルメチル基、２−アミノエチル基、２−ジメ
チルアミノエチル鱗、カルざキシメチル基、１−または
２−カルボキシエチルＭ、１−１２−マｙ、：は５−カ
ルざキシプロパー１−イル基、１−．２−または６−カ
ルボキシプロパー２−イル基、１−カルメキシプター１
−イル基、１−カルボキシシクロプロパー１−イル基お
よび１−カルポキンシクロデター１−イル基、そしてま
た対応する、スルホ基によって置換されたシクロアルキ
ル基および低級アルキル基が李けられる。 基Ｒδにおけるカルボキシル基およびスルホ基は、例え
ば低級アルキル基、例えばエチル基、エチル基または第
三級エチル基か、または生理学的に除去し祷る基、例え
ばピバロイルオキンメチル基’ｎＶＣよってエステル化
されていてもよく、またハアンモニアか第一級または第
二級アミン、例えばモノ−またはシー低級アルキルアミ
ン、例えばメチル−またはエチル−アミン、またはジメ
チル−またはジエチルーアミノかによってアミＰ化され
ていてもよく、または後述の基によって保−されていて
もよい。 シクロアルケニル基Ｒ５は好ましくは６−８個、特に３
−６個のｊＪ貞ン含み、例えば、シクロプロ（二／１４
、シルロブテニル基、シクロペンテニル基またはシクロ
ヘキセニル基？表わす。 低級アルキル基Ｒ，としては例えば、ビニル基、１−ゾ
ロベニル基、１−１２−または６−ブテニル基または特
にアリル基が挙けられる。 基Ｒ５としてのＮ−置換されているかまたはされていな
いカルバモイル基は、例えば基−ｃ （＝ｏ ）−Ｎ）
（Ｒ′ＩＳでその的が次紀のものを表わすものである：
水素ＩＱ子；低級アルキル？ｌｃ１＋′ｌＩえばメチル
基、エチル基または１−または２−プロピル基：保−さ
れているかまたは保−されていないカルボキシ−低級ア
ルキル基１例えばカルボキシメチル基、１−または２−
カルボキシメチル基または１−１２−または５−カルボ
キンプロピル４（こ＼でカルボ中シル基は慣用のカルボ
キシル保護基の一つによって保護されていてもよく、か
つ、例えば低級アルキル基例えばメチル基、エチル基、
ｎ−またはイソ−ゾロビル基、またはｎ−または第三級
−エチル基によってエステル化されていてもよいものと
する）；保護されているイン・または保護されていない
スルホ−低級アルキルｉ、：ｙ＋ｌｊば′スルホメチル
基、１−または２−スルホエチル基または１−１２−ま
たは６−スルホエチル基（ここでスルホ基は慣用のスル
ホ保護基の−っによって保護されていて屹よぐ、かつ、
１タリえは低級アルキル基例えばメチル基またはエチル
基によって保Ｈされていてもよいものとする）；保護さ
れているかまたは保護されていないヒドロキ／−低級ア
ルキル基、例えばとＰロキシメチル基、２−ヒドロキシ
エチル基または２−！！たは５−ヒドロキシプロピル基
（こ＼でヒドロキシル基は慣用のヒドロキシル保−基の
一つによって保−されていてもよく、かつ、例えば、ア
シル化例えばアセチル化されていて鳴よいものとする）
；保護されているかまたは保護されていないアミノ−低
級アルキル基、例えば２−アミノエチル基、２−または
６−アミノエチル基、または２−１６−また＆２４−ア
ミノデチル基（こ〜でアミノ基は慣用のアミノ保護基の
一つＫよって保護されていてもよく、かつ、例えば、ア
シル化例えばアセチル化されていてもよいものとする）
；アリール−低級アルキル基、ＮＪ、ｔばフェニル−低
級アルキル基、例えばベンジル基または１−または２−
フェニルエチル基：ハロー低級アルキル基、例えばフル
オロ−、クロロ−またはゾロモー低級アルキル基、例え
ば２−り四ロエチル基、５−クロロノロピル基または４
−クロロエチル基；またはアリール基、例えばフェニル
基または、低級アルキル基例えばメチル基か、低級アル
コキシル４例えばメトキシル基か、ハロゲン原子例えば
塩素原子が、またはニトロ基かによってモノないしトリ
置換され１こフェニル基。 置積されているかまたは置換されていない炭化水素基Ｒ
６としては特に、対応する脂幼族、崩壊式、芳香族また
は労資Ｈ）ｆ肪族の、２０個以下の炭素原子ン有し、特
に低級アルキル基、１壕縁アルケニル基、シクロアルキ
ル基、フェニル基、またはフェニル低級アルキル基によ
って宵便されているかまたは峙侯されていない炭化水素
基が革けられる。 低級アルキル基Ｒ６としては６ｗメチルノ〜、エチル基
、プロピル基、インプロピル基、−パチル基またはイソ
エチル基が挙げられる。 低級アルケニル基としてのＲ６は好ｆＬ（は２−５個の
炭素原子Ｙ有する。か＼る基の例としてはビニル基、ア
リル基、１−ゾロベニル＆ ｆ ｆ、ニー １ｔ１−イ
ソブテニル基が挙げられる。 シクロアルキル基Ｒ６は５−８個、好ましくは６−６１
１の炭素原子を言み、特にシクロデロピル基、シクロブ
チル基、シクロベンチル基またはシクロへ中クル基が挙
げられる。 ７ｘニル−低級アルキル基Ｒ６トしては例えば／（ｙ
シルＪｆ、 、 １−または２−フェニルメチＡ４、
ジフェニルメチル基またはトリチル基が革はラレる。 低級アルケニル基、シクロアルキル基および特に低級ア
ルキル基Ｒ６のｔｔ ＊基の例としては次のものが挙げ
られる：ヒドロキシル基；低級アルコキシル基例えばメ
トキシル基またはエトキクル基；カルボキシル基；慎用
の保膿基によって保−された、または低級アルキル基例
えばメチル基またはエチル基によってエステル化された
カルボキシル基；シアノ基ニアξ）基；低級アルキルア
ミノ基例えばメチルアきノ基またはエチルアミノ基；ジ
低級アルキルアミノ基例えばジメチル−またはジエチル
−アミノ基：カルざニル基；ハロゲン原子例えば塩素原
子または−ｊｊ素原子；スルホ基；低級アルキルチオ基
例えばメチルチオ基またはエチルチオ基：またはアミノ
スルフィニル基。このような（ｄ（央さ７した低級アル
キル基、低級アルケニル基およびシクロアルキルＪＲ，
としては、例えは、カルボキンメチル基、ンアノエチル
丞、２−カルボキンメチル基、２−ジメチルアミノエチ
ル基、２−アミノエチル基、２−メトキシエチル基、２
−カルバモイルエチル基、スルホメチル基、２−スルホ
エチル基および２−カルボキシビニル基が挙けられる。 フェニル基およびフェニル１戊級アルキル基Ｒ６は、フ
ェニル環において例えば次のような基によって置換され
ていてもよい：ヒドロキンル基；低級アルコキシル基例
えばメトキシル基またはエトキシル基；慣用の保緬基に
よって保諌されたカルざキシル基、または低級アルキル
基１ンリえばメチル基またはエチル基によってエステル
化されたカルゴギシル基：アミ７基；カルバモイル基；
ハロゲン原子例えばフッ素、塩素、臭素！ ７二はヨウ
累原子：スルホ基：低級アルキルチオ基例えばメチルチ
オ基またはエチルチオ基；トリフルオロメチル基；また
はアミノスルフィニル基。このような基としては、例え
ば２−１３−または４−カルボ中ジフェニル基、２−ま
たは４−カルバモイルフェニル基および５−または４−
スルホフェニル基が挙げられる。 有機スルホニル基Ｒ６の例としては、低級アルキルスル
ホニル基または、置換されていないかまたは低級アルキ
ル基例えばメチル基またげエチル基か、ハロゲン原子例
えばフッ素、堪累または臭素原子かによってｔｌｔ（Ｉ
Ｉ！されているフェニル低級アルキルスルホニル基また
はフェニルスルホニル基かやけられる。 低級アルキルスルホニル基としては例えばメチルスルホ
ニル基、エチルスルホニル＆、ｎ−ｆロピルスルホニル
基、イソプロピルスルホニル基またＧｊ ｎ−ブチルス
ルホニル基が挙けられる。 ＠記のようＶＣ１η侯されているかまたは置換されてい
ないフェニル低級アルキルスルホニル基マたはフェニル
スルホニルｌＩｓトシテ＋ｔｍＪ工は、ｙｘ−ニルスル
ホニル基、４−メチルフェニルスルホニル基、４−ブロ
モフェニルスルホニル基マたはベンジル゛スルホニル基
が挙げられる。 アフル基Ｒ６としては特に、１２ ＋ｌＩ！ＩＩ以下の
炭素原子を有するカルボン酸から、カルボン噛の半エス
テルから、またはカルバミン酸から請纏されるアシル４
．が挙げられ、好５しくはアロイル基、低級アルカノイ
ル基、低級アルコキシカルボニル基ｔたは、モノまたは
ジ低級アルキル化されているかまたはされていないカル
バモイル基ケ表わす。 アロイル基Ｒ６としては特に、ベンゾイル基またはナフ
トイル基であってハロ）ｆ ｙ ｒｐ子例えば塩素原子
またＧ２Ｘ素原子か、低級アルキル）Ｉｊ、例えばメチ
ル基か、ヒドロキシル基か、低級アルコキシル基例えば
メトキシル基ｆたはエトキシル基か、ジ低級アルキルア
ミノ基例えばジメチル−またはジエチル−アミノ基か、
低級アルキルスルホニルアミノ基例えばメンルアミノ基
か、低級アルカノイルアミノ基例えばアセトアミノ基か
、アミノ基かニトロ基かによって置換されているかまた
は置換されていないもの、またはピリドイル基例えば２
−１６−または４−ピリドイル基、チオニル基例えば２
−またけ６−テオニル基、フロイル基例えば２−またけ
３−フロイル基、またはピロイル基例えば２−または３
−ピロイル基（これらはそれぞれ低級アルキル基例えば
メチル基か、ハロゲン原子例えばフッ素、塩素または臭
素原子かによって＃換されている力為またはｒＩｌｔ遺
されてぃなｈ吃のとする）が挙けられる。 低級アルカノイル基Ｒ６としては例えばホルミル基、ア
セチル基、プロピオニル基、ブチリル基またはインブチ
リル基が挙げられる。 低級アルコキクカルボニル基Ｒ６としては例えば、メト
キシ−、エトキシ−、ｎｎ−１ｏキシ−、イソプロポキ
シ−１ｎ−ブトキシ−、イソブトキシ−または第三級ブ
トキシ−カルボニル基が挙げられる。 ％／低Ｎフルキル化されたカルバモイル基Ｒ。 としては、例えば、Ｎ−メチル−またはＮ−エチル−カ
ルバモイル基が挙げられる。ジ低級アルキル化されたカ
ルバモイル基としては、例えばＮ。 Ｎ−ジメチル−またはＮ、Ｎ−ジエチル−カルバモイル
基が挙げられる。 置換されたアミノ基Ａｍは、例えは、ゾ低級アルキルア
ミノー低級アルキリデンアミノ糸であり、特ｖｃ１−ゾ
低級アルキルアミノー低級アルキリデンアミノ基である
。これらの基において、ジ低級アルキルアミノ＆は、例
えば、ジメチルアミ７基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−
プロピルアミノ基、ジインプロピルア２ノ基またはソー
ｎ−ブチルアミノ基７表わし、低級アルキリデン基は例
えばエチリデン基、１−プロピリデン基、２−プロピリ
デン基または峙にメチレン基ン表わ丁。過当なジ低級ア
ルキルアミノ−低級アルキリデンアミノ基としては例え
ば１−ゾメチルアミノエチリデ／アミノ基、１−ジエチ
ルアミノエチリデンアミノ基または特に、ジエチルアミ
ノメチレンアミノ基およびジエチルアミノメチレンアミ
ノ基が挙げられる。しかし置換されたアミノ基Ａｍはま
た、保繰されたアミノ基であってもよい。 式（１）で表わされる化合物中に存在する官能基、％に
カルボキシル基およびアミノ基、しかしまたヒドロキシ
ル基およびスルホ基は、ペニシリン、セファロスポリン
およびペプチド化学で１ｔ！用される慣用の保ｅ基によ
って保護されているかまたは保睡されていないものとす
る。 このような保−基は容易に、すなわち望ましくない嗣反
応を生ずることなしに、例えばソルボリシス、還元、光
分解によって、もしくはまた生理学的条件下で、除去す
ることができる。 この柚の保―基ならびにそれらを除去する方法は、例え
ば、ジエー、エフ、ダブリュー マツコーミー著１デロ
テクチデ グループスー イン オーがニック ケミス
トリー１（プレナムプレス、ロンドン、ニューヨーク、
１９７５年）、１ペゾ、 チド１、第−巻、（シュレー
ダーおよびリュプケ、アカデミツクプレス、ロンドン、
ニューヨーク、１９６５年）、および”メトーデン デ
ル オルがニツシエンヒエミ−１（ホウペン−パイル、
第１Ｊｊ、５／ＩＪＪ、ゲオルグ チーミーフエルラー
ク、ジュツットガル）、１９７４年）Ｋ記載されている
。 すなわち、カルボキシル基は１例えば、エステル化され
た形で保護され、このエステル基は徳利な条件下で容易
に除去することができる。過当な保饅基としては例えば
、保護されたカル〆キシル４Ｒ３の場合に述べたものが
挙げられる。 保護されたアミノ基は、例えば容易に開詮し得るアシル
アミノ基、アリールメチルアミノ基、エーテル化された
メルカプトアミノ基、１−アシル−低級アルカ−１−エ
ン−２−イルアミノ基、シリルアミノ基またはスタニル
アミノ基の形で、またはアジド基の形で存在してよい。 対応するアシルアミノ基において、アシル＆トしては例
えば、例えば１８個以下の炭素ｊｌｉ＋子ケ有する有機
カルボン酸のアシル基、゛特に、１ｐｔ侵されていない
かｆたけ例えばハロゲン原子かアリール基かによって［
換されているアルカンカルボン酸の、またはＷ麟されて
いないかまたは１例えばハロゲン原子か低級アルコキシ
ル基かニトロ基かによって置換されている安、は香酸の
、または炭系半エステルのアシル基が挙けられる。か＼
るアフル基の例としては、低級アルカノイル基、例えば
ホルミル基、アセチル基またはプロピオニル基、ハロ低
にアルカノイルｌ？ｌＪｔば２−ハロアセチル基、％［
２−クロロ−１２−ｆロモー、２−ｇ−ドー、２．２．
２−）リフルオロ−または２．２゜２−トリクロロ−ア
セチル基、置換されていないかｆたけ、例えばハロゲン
原子か低級アルコキシル基かニトロ基かによって＃換さ
れているベンゾイル基、例えばペン・戸イル基、４−ク
ロロベンゾイル基、４−メトキシベン・戸イル基ｔたは
４−二トロペンゾイル基、または、低級アルキル基の１
−位において枝分れしているか、１−位または２−位に
おいて適ｆｉＫ積換されている低級アルコヤシカルビニ
ル基、％ＩＩＩＬ三級低級アルコキシカルボニル基、例
えば第三級エトキンカルボニル基、ｔ＃換されていない
かまたは、例えば、低級アルキル基特に第三級低級アル
キル基例えば似三級ブチル基か、低級アルコキシル基例
えばメトキシル基か、ヒドロキシル基か、ハロゲン原子
例えハ塩素原子か、および（または）ニトロ基かによっ
てモノｆ＃侯またはポリ筐烟されているフェニル基であ
るアリール基１１個まＬ−は２個廟するアロイルメトキ
シカルボニル基、 １＋ｌＩえば置換されているかまた
は置換されていないぺ／ジルオキシカルビニル基、例え
ば４−ニトロペンジルオキシ力ルギニル基、または置換
されているかまたは置換されていないジフェニルメトキ
ンカルボニル基、例えばペンプヒドリルオキシカルざニ
ル基またはシー（４−メトキシフェニル）−メトキシカ
ルざニル基、アロイルメトキシカルボニル基（そのアロ
イル基が好ましくは、例えば７１０ゲン原子、例えば臭
素障子によって置換されているかまたは１り侯されてい
ないもの）、例えばフェナシルオキ７カルボニル基％２
−ハロー低級アルコキシカルヴニル差、１＋ＩＬｌｆ２
、２ 、２− ）リクロロエトキシ力ルボニル４．２
−ｆロモエトキシ力ルボニル基または２−ヨードエトキ
シカルボニル基、または２−（トリｔＩｔ換ンリル）−
エトキシカルざニルＪｂ （ソの置換基はそれぞれ互い
に独立して、購侵されていないかまたは、例えば低級ア
ルキル基か、低級アルコキシル基か、ア゛リール基か、
）〜口ｒ／原子力）ニトロ基かによって置換されており
、例えｔ’！’ １５ ｅ以下の炭素原子ン有する脂１
！７ｉ１１１！、芳香脂′Ｉｆ５族、月旨壊式または芳
舎族の炭化水素基、例えば対応する置換されているかま
たは宵伊されていないイ氏級アルキル基、フェニル低級
アルキル基、シクロアルキル基またはフェニル基である
もの）、例えＧｆ２−トリメチルシリルエトキンカル♂
ニル基また・ま２−（ジ−ｎ−ジチル−メチル−シリル
）−エトキンカルボニル基、または２−ト１）アリール
ンＩＪルｉトキシカルメニル基、例、ｌ’！’２−トＩ
Ｊ ７エ＝ルシリルエトキ７カルボニル基が挙けられる
。 アミノ保護基として適当なその他のアシル基としてはま
た、有機リン酸、ホスホン酸またＴＩコホスフイン酸の
対応する基、例えばジ低級アルキルホスホリル基１例え
ばジメチルホスホリル基、ジエチルホスホリル基、シー
ｎ−プロピルホスホＩＪル基またはジイソゾロビルホス
ホリル基、シンクロアルキルホスホリル基、例えばシン
クロへキシルホスホリル基、置換されているかまた・言
置換されていないジフェニルホスホリルｉ、ｖ′ｌｊ、
ｔばジフェニルナχホリルＩｋ、 ：ダ侯されていない
かまたシブ世」えはニトロＪｋによって１ＩＩｆｌｖ！
されているジフェニル低級アルキルホスホリル基、例え
ばゾベ／ジルホスホリル基またはジー４−ニトロベンジ
ルホスホリル基、置換されていないかまたはｔｅｔｍさ
れているフェノキシフェニルホスホニル基、例えばフェ
ノキシフェニルホスホニル基、ジーｉ氏級アルキルホス
フィニル基、例えばジエチルホスフィニル基、またはＩ
置換されていない”０）または憧侠されているジフェニ
ルホスフィニル基例えばジフェニルホスフィニル基が挙
げられる。 モノ、ジーまたはｔｐ！ｆＫトリーアリールメチルアミ
ノ基において、アリール基としては特［、＃換されてい
るかまたは眞侯されていないフェニル基が争げられる。 このような基の例としてはベンジルアミノ基、ジフェニ
ルメチルアミノ基および特にトリチルアミノ基が挙けら
れる。 エーテル化されたメルカプト基によって保験されたアミ
ノ基におけるエーテル化されたメルカゾト基としては％
にアリールチオ基！たけアリール低級アルキルチオ基で
あってその了り−ル基が特に、置換されていないかまた
は、例えは、低２〃アルキル基例えばメチル基または第
三級ブチル基か低級アルコキシル基例えばメトキシル基
か、ハロゲン原子例えば塩ｔ、原子かおよび（または）
ニトロ基かによって置換されているフェニル基である鴨
のが挙けられる。対応するアミノ保＃１１２１１！ｉは
例えば４−ニトロフェニルチオ基でアル。 アミノ保摺基として使用し得る１−アシル−低級アルカ
−１−工／−２−イル基において、アンル基ハ、例えば
、低級アルカンカルビン酸の、もしくはａ換されていな
いかまたは、例えば、低級アルキル基例えばメチル基ま
たは第三級ブチル基か、低級アルコキシル基例えばメト
キシル基か、ハロゲン原子例えば塩素原子か、および（
または）ニトロ基かによって置換されている安患査醪の
、もしくは待に炭酸半エステル、例えば炭−低級アルキ
ル半エステルの対応する基である。対応する保護基とし
ては％に、１−低級アルカノイルデロバー１−エン−２
−イル基Ｖすえば１−アセチルプロパー１−エン−２−
イル基、！！たは１−低叡アルコキシ力ルポニルプロ／
七−１−エン−２−イル基、例えば１−エトキシカルボ
ニルプロパー１−工／−２−イル基が挙けられる。 シリルアミノ基またはスタニルアミ７基としては％に、
有機シリルアミノ基またはスタニルアミノ基であってそ
のケイ素またはスズ原子が１１％基として好ましくは低
級アルキル基、待にメチル基、しかしｆた低級アルコキ
シル基例えはメトキシル基、および（または）ハロゲン
原子例えば種木原子ヶ含有するものが挙けられろ。対応
するシリルまたはスタニル基としては特に、トリ低２ア
ルキル基リル基特にトリメチルシリル基、しかしｆたジ
メチル−第三級ブチル−クリル基、低級アルコキク−低
級アルキル−ハローシリル基、？ｌＪ 、ｔ Ｇｆメト
キシメチルクロロシリル基、またはジ低級アルキルーハ
ローシリル基、例えばジメチルクロロシリル基、または
対応して＊候されたスタニル基。 別えば） ’）−ｎ−ブチルスタニル基がψけられる。 アミノ基はｆた、プロトン化された形で保護されていて
屯よい。過当な対応するアニオンとしては、無機ｇ１階
例えばハロゲン化水累醗のアニオン、例えば塩素または
臭素アニオン、もしくは有機スルホン岬、例えばｐ−ト
ルエ／スルホ／醪のアニオンがφけられる。 好ましいアミノ保諌基は戻酸半エステルのアシル基１％
ＫＩＩ三級デトキシ力ルボニル基、例えばＩｌｌ紀のよ
うに置換されているかまたはメ侠されていないぺ／ジル
オキシカルボニル基、例えば４−二トロベンジルオ中シ
カルＣニル基またはジフェニルメトキシカルメニル基、
または２−ハロー低級アルコキシカルメニル基、世ｊえ
は２．２．２−トリクロロエトキシカル♂ニル基、そし
てまたトリチル基またはホルミル基である。 ヒドロキシル保−基としては、例えば、アシル基、例え
ば置換されていないかまたはハロｐｆ ｙ ＩＩＡ子に
よって置換されている低級アルカノイル基。 例えばジクロロアセチル基またはトリクロロアセチル基
、または特に、９１！麹されたアミノ基に関連シテ述べ
た炭酸の半エステルのアシ／Ｌ；革、−％ＶＣ２゜２．
２−）リクロロエトキン力ルピニル基、または臂憎シリ
ル基またはスタニル基、呼た容易に除去し祷るエーテル
化基、レリえば第三帷低・やアルキル基例えば第三級ブ
チル革、２−オキサ−または２−チア−）沼藺族または
一廂寝式炭化水素基、時にα−低級アル“フキシー１氏
級アルキルＪ／ｋまたは１−低伸アルキルチオー低メ々
アルキル基、汐すえばメトキシメチル基、１−メトキシ
エチル基、１−エトキシエチル基、２−メトキシ−２−
７’ロビル基、１−メチルチオメチル基、１−メチルチ
オエチル基またけ１−エチルチオエチル基、または５−
７個の環原子ン有する２−オキサ−または２−チア−シ
クロアルキル基、例えば２−テトＩヒげロフリル基また
は２−ナト２ヒドロピラニル基また＋２対応するチアｔ
ＪＩ嫌体、そしてまた置墳されている、１）ｆたけ１〆
換されていない１−フエニ゛ルー低級アルキル基、例え
ば置換されているかまたを１置換されていないペンシル
基またはジフェニルメチル基（こ＼でフェニル基の［換
革として＆ハ別えｔ−１’）１ロｒ７摩子向えば墳素屓
子、低級アルコキシル基−１えはメトギシル基、および
（または）ニトロ基が過当である）が挙けられる。 保睡されたスルホ基としては特に、エステル化されたス
ルホ基、例えば脂Ｕ５ｓ、脂壌式、廁壌−脂肪族、芳香
りまたは芳香脂肪族のアルコール、例えば低級アルカノ
ールか％またはシリル基またはスタニル基例えばトリ低
級アルキル７リル基かＫ ！ツ”Ｃエステル化されたス
ルホ基が挙けられろ。 スルホ基において、ヒドロキシルＩｋは、例えば、エス
テル化されたカルボキシルＭＫおけるヒドロキシル基と
同６１１してエーテル化されていてもよい。 本発明による化合物の珈としては特に乗♀的に１谷し侍
る無毒性の塩、例えば式■で表わされ酸基、例えば遊離
のカルボキシル基またはスルホ基ン有する化什物の塩が
挙げられる。このような場としては特忙金鵡またはアン
モニウム塩、例えばアルカリ金顧またはアルカリ土類金
輌の塩、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウムま
たはカル７ウム地、そしてまたアンモニアと、５１．１
ｉｊ 増白な有機アミンとから生成されるアンモニウ
ム塩（こ＼で墳形１ｉＶｃ対しては１？４に５哨彷衾、
晴壌式、廟填−脂彷族または芳香脂肪族の記−級、第二
級または第三級モノ−、シーｆたはポリ−アミンならび
に複累壌式塩基、ｙ（１えは低級アルキルアミン。 例えばトリエチルアミン、ヒげロキシ低級アルキルアミ
ン、例えば２−とドロキシエチルアミン、ビス−（２−
ヒげ口中ジエチル）−アミンまたはトリス−（２−ヒげ
口中ジエチル）−アミン、カルボン酸の塩基性脂Ｕｉ族
エステル、飼えば４−アミノ安は査酸２−ジエチルアミ
ノエチルエステル、低級アルキレンアミン、例えば１−
エチルピペリジ７、シクｃｔアル中ルアミン、例えはシ
ンクロヘキシルアミン、またはベンジルアミン、例えば
Ｎ。 Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン、そしてまたピリジ
ン曖の＃１基例えばピリジン、コリシンまたはキノリン
が適当である）が鹸けられる。式■で衣わされ塩基性の
２１！ｉを有する化合物は、トリえは無機酸例えば塩酸
、硫＃またはリン酸と、または適当な有機カルボン＃ま
たはスルホン酸、例えはトリフルオロ酢酸と、そしてま
たアミノ酸例えはアルイニンおよびリジンと酸付加塩ケ
形敦し侍る。数債の酸基または＃Ａ４性基が存在すると
きはモノ−またげポリー虐が生成し憎る。式！で表わさ
れ酸基例えば遊離のカルはキシル基、および塩基性基例
えばアミノ基ケ有する化合物はまた、内部塩の形、すな
わち両性イオンの形で存在することもでき、また分子の
一部は内部塩の形で、他の剖分は普通の塩の形で存在す
ることもできる。 単離および精製のためには、東学的に許容し得ない塩’
Ｖｇｌ！用することも可能である。治療的には、東学的
にＩｌｆ谷し備る無毒性の塩のみが使用され、従ってこ
れらの方が好ましい。 式■で表わされその官能基が遊離の形にあるもの、すな
わち保護された形にないもの、およびその薬学的に許ｄ
し憎る無毒性の場は、特に抗＃Ｉ薗性抗生物質として使
用し侍る、価値ある抗生・Ｉｔ性物質である。例えばそ
れらは試験管内においてグラム陽性およびダラム陰性の
球菌１例えは鍛色デドウ球菌、連−球菌例えば化膿連−
坪薗および肺炎連−球薗、およびナイセリア榴に、そし
てまたインフルエンデ菌に対して約０．０１μＭ／ＩＬ
ｔ−約６２μ／ｌ／ｗｔｔの最小一度において、腸内凶
、例えば大腸菌、クレブシェラ、サルモネラ、セラシア
、エンテロバクタおよびプロテウスａＩＶｒ対し約０．
００５μ９／−からの最小・鋳度において、そしてグラ
ム陽性嫌気性−１例えばクロストリジウム、またはグラ
ム酪性＃ｐ気性困例えばバクテロイドに対して約０．０
０５μ９／−一部６４μ９／ｒｌＬｔの最小画用におい
て有効である。生体内においては、マウスに皮下投与す
る場合この＃税化合物は、例えば、ダラム鋼性＠原−１
例えは鰭色デドウ琢１ｉｔＩＩ。 または腸内鉋例えば大−薗によって起る系統感染に対し
約０．４＃Ｉ９／に９−１”＋１００〜／に９の遍小投
与曖において有効である。 以下の評価試験において１式Ｉで表わされる化合物の活
性ン選定された化付物について示す：評価試験 １、被験化合物： 次の化合物の抗生活性を試験した； １．７β−Ｃ２−（５−アミノ−１−メチル−１Ｈ−１
，２，４−）リア・戸ルー６−イル）−アセトアミノコ
−３−アセトキシメチル−５−セフェム−４−カルボン
酸のナトリウム塩（？ｌＪ １）２．７β−［２−（５
−アミノ−１−メチル−１Ｈ−１，２，４−）リアゾル
−６−イル）−２−２−メトキシイミノアセトアミノ〕
−６−アセドキシメチルー５−セフェム−４−カルボン
酸のナトリウム塩（例３） ′５７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１１（−
１，２，４−）リアデル−６−イル）−２−２−メトキ
シイミノアセトアミノ〕−３−（１−メチル−テトラゾ
ルー５−イルチオメチル）−３−セフェム−４−カルざ
ン醗のナトリウム塩（例４） ４．７β−［：２−（５−アミノ−１−メチル−１Ｈ−
１，２，４−）リアデル−６−イル）−２−２−メトキ
シイきノアセトアミノ］−６−（４−カルバモイルピリ
ジニオメチル）−に−セフェム−４−カルボキシラード
（ｙＩＪ ５ ）５．７β−［２−（５−ジメチルアミ
ノメチレンアミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２，４−ド
リア１戸ルー５−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセ
トアミノ）−１−（４−カルバモイルピリジニオメチル
）−３−セフェム−４−カルボキシラード（例５） ６．７β−Ｃ２−（５−アミノ−１−メチル−１Ｈ−１
，２，４−）リアゾル−６−イル）−２−２−メトキン
イミノアセトアミノ〕−５−セフェム−４−カルボン酸
のナトリウム塩（例１０） Ｉｔ、 Ｋ験方法 Ａ、波峡化合物の試験σ内における抗生活性はエッチ、
エム、エリクスンおよびニス、ンー、シエリス（１９７
１、Ａｃｔ、ａ Ｐａｔｈ、 Ｍｉｃｒｏｂ、 ５ｃａ
ｎｄ。 ５ｅｃｔｉｏｎ Ｂ、 ＠遺Ａｆ２１７ 、１−９０！
り［ｆって寒天希釈法によりＤＳＴ Ｑ天中で測定した
。 試験鑓生物の成長ケなお抑制する最小―度（ＭｒＣ＝最
小抑制帽１ン岐験化合ｖＩに対しミリリットル自りマイ
クログラムＣμｍ１／ｌｔ）として表１に示す。 Ｂ、雌の８ＰＦ、ＭＰ、マウスにおける系統感染に対す
る生体内の化学療法的活性は、デク、オー（Ｚａｋ、
ｏ、）等（１９７９、Ｄｒｕｇｓ Ｅｘｐｔｌ、 Ｃ１
１ｎ。 Ｒｅａ、５．４５−５９）の方法Ｋ ｆ ”） テロ１
１１ 定シた。槽々の鍼生物に対して見いだされたＥＤ
、。 値（マウスキログラム当り物質ミリグラム、（ダ／ｋｇ
））を皮下（ｓ、ｃ、）Ｋ投与した破験化合物に対し表
２に示す。 ■、試験結果 表 １ 抗生活性（試験型内） ＊２ 化学療法的活性（生体内） 従って本新規化合物は、例えば抗生活性な製剤の形で、
グラム噛性およびグラム画性のバクテリヤおよび球−に
よっておこる感染の治療に１戸用することができる。 式Ｉで表わされその官能基が保躾されている化合物は、
式１で表わされその官能基が遊嵯の形にある化合物製造
の中間体として便用される。 本発明は特に、式■で表わされ、式中においてｎは０ま
たは１を表わし、Ｒ１は水素原子、低級アルコキシル基
、フェニル−低級アルコキシル基、ハロゲン原子、低級
アルカノイルオΦシ基、低級アルカ／スルホニルオキシ
着、アレーンスルホニルオキシ基、またはへテロシクリ
ルチオ基（七のヘテロシクリル基がチアヅアデリル基、
オキサシア・戸すル基、トリア・戸すル基また＆ゴテト
ラ・戸すル基であってその各々は環炭素原子を弁してチ
オ基に結合しており、置換基としてジ低級アルキルアミ
ノ基かカルボキシル基かスルホ基かｒ含有しているかま
たは含有していない低級アルキル基によって＃Ｍされて
いるかまたはｔｌを換されていないものとする）ン表わ
すか、またはＲ１は基−ＣＩ（２−Ｒ。 ｃ式中Ｒ２は水素原子、とげロキシル基、カルざキシル
基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカノイルオ
キシ基、カルバモイルオキシＪ１．Ｎ−１ｊ［アルキル
カルバモイルオキシ基、ヘテロシクリルチオ基（そのヘ
テロシクリル基が、壌脚素原子ケ介してチオ基に結付さ
れ、１−４１１６１のＪＪｉｌ望累原子を有し、＃ｉ素
原子とｔｉｅ鍍原子とから成る群から選ばれる壊ヘテ四
原子Ｙさらに含有するか含有しない単ｍ複素壌式基であ
るもの、例えばトリアゾリルチオ基、夢トラゾリルチオ
基、チアシリ□ルチオ基、チアトリアゾリルチオ基、チ
アシアプリルチオ着、オキサゾリルチオ基、オキサジア
ゾリルチオ基、ピリダゾニルチオ基、ピリミジニルチオ
基または・トリアジニルチオ基であって、と＼で複素ａ
は部分的に飽和されていてもよく、そして（または）次
の基によって置換されているかまたは置換されていない
ものとする；低級アルキル基；カルボキシル基かスルホ
基かジ低級アルキルアミノ基か低級アルカノイルアミノ
基かヒドロキシル基かへロｒ：／原子かによって着換さ
れた低級アルキル基；ンク筒アルキル基；フェニル基；
ベンジル基；カルｄ？＊シル基：カルバモイル基二マた
はＮ−低級アルキルカルバモイル基）ｖ表わすかまたは
Ｒ２はアノモニオ革、例えばトリ低級アルキルアンモニ
オ基、またはビラ１戸リオす、トリアψリオ基、ピリジ
ニオ基、ビリミゾニオ基、ビリダンニオ基、チアプリニ
オ基またはキノリニオ基（これらはそれぞれ、低級アル
キル基か、ヒドロキシ低級アルキル基、カルボキシ低級
アルキル基、スルホ低級アルキル基、カルボキシル第、
カルバモイル基、Ｎ−低級アルキルカルバモイル基、ハ
ロゲン原子、スルホ基、低級アルカノイル基、ヒドロキ
シル基またはシアン基かによってｂぜ侯されているかま
たは置換されていないものとする）を表わすものとでる
〕を表わし、Ｒ３はカルボキシル基または生理学的に開
裂し侍る形ＶＣエステル化されたカルボキシル基１表わ
し、Ｒ４は水Ｊｇ原子または低級アルコキシル基を表わ
し、Ａは基−ＣＨ２−１−ｃ（（ロ））−または−ｃ（
＝Ｎ−ｏ−Ｒ，）−（式中Ｒ３は次のものＹ表わす：水
＃ｇ原子；低級アルキル基；シクロアルキル基；フェニ
ル基か、低級アルコキシル基、カルボキシル基、アミノ
基またはジ低級アルキルアミノ基かＫよって
【−換され
たシクロアルキル基または低級アルキル基；７クロアル
ケニル基；低級アルクニル基；カルバモイル基；マたは
Ｎ−低級アルキルカルバモイル基；）ヲ衣わし、Ｒ８は
水素原子；低級アルキル基；ヒドロキシル基か低級アル
コキシル基か、カルざキシル基か、低級アルコキシカル
ボニル基か、アミノ基か、低級アルキルアミノ基か、ジ
低級アルキルアミノ基か、カルバモイル基か、ハロゲン
原子か、スルホ基か、低級アル中ルチオ基かまたはアミ
ノスル７イニル基かによって＃候さｔした低級アルキル
基；低級アルケニル基；シクロアルキル基；シクロアル
ケニル基；フェニル基；フェニル低級アルキル基；低級
アルキルスル水ニル基：フェニルスルホニル基またはフ
ェニル低級アルキルスルホニル基（それぞれ、低級アル
キル基か／Ｓロゲン原子かによって置換されているかま
たは置換されていない）；低級アルカノイル基；低級ア
ルコキシカルビニル基；カルバモイル基；またはＮ−低
級アルキルカルバモイル基１表わし、モしてＡｍはアミ
ノ基またはジ低級アルキルアミノ−低級アルキリデンア
ミノ基ン表わす化合物、および式１で表わされ造塩性基
γ有するか＼る化合物の塩、特に東学的ＫＷ！ｆ答し得
る塩に関する。 不発明は好ましくは式ｌで表わされ、式中においてｎは
０または１ヶ表わし、Ｒｏは水素原子、低級アルコキシ
ル基例えばメトキシル基、フェニル低級アルコキシル基
例えばべ／ジルオキシ革、／′−ロｒ／原子例えば塩素
原子、ヘテロシクリルチオ基でそのヘテロシクリル基が
チアジアゾリル基、例えば１，３．４−チアジアゾル−
２−イに４、またはオキサジアゾリル基、例えば１．３
．４−オキサジアゾル−２−イル基であってその各々が
狽炭素原子？介してチオ基に納会しており、低級アルキ
ル基例えばメチル基によってＩ＋Ｖ Ｍされているかま
たは置換されていない吃のを表わずか、またはＲ１は基
−ｃ’Ｈ２−Ｆ１２（式ＩＰＲｇは水素原子、低級アル
カノイルオキシ基、例えばアセトキシ基、カルバモイル
オキ７基、Ｎ−低級アルキル力ルバモイルオキ７基、例
えばＮ−メチル力ルバモイルオキン基、ｆＩｔ（１ｉ！
！されていないかまたは、低級アルキル基例えばメチル
基か、カルボキン低級アルキル基、例えばカルボキンメ
チル基または２−カルボキシエチル基か、スルホ低級ア
ルキル基、汐すえばスルホメチル基または２−スルホエ
チル基か、ジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基、例
えば２−ジメチルアミノエチル基か、または低級アルカ
ノイルアミノ基、例えばアセトアミノ基かによって置換
されているテトラゾルー５−イルチオ基、ｌｔ侠されて
いないかまたは、低級アルキル基例えばメチル基か、カ
ルピキア低級アルキル基？ｌｊえＧプ力ルメキシメチル
基または２−カルボキンエチル基かによってｔ１換され
ている１、５．４−チアジアゾル−２−イルチオ基、置
換されていない力為または、低級アルキル基例えばメチ
ル基によって１換されている１、５．４−オキサジアゾ
ル−２−イルチオ基、置換されていないかまたを言、イ
氏級アルキル基例えばメチル基かカルボキン低級アルキ
ル基例えばカルボキシメチル基かによって置換されてい
る１、２．４−）リアデル−３−イルチオ基、置換され
ていないかまたはヒドロキシル基によって置換されてい
るピリダジン−６−イルチオ基、または置換されていな
いかまたはとｒロキシル基によって置換されているピリ
ミジン−２−イルチオ基′ｌｋ′表わすか、またをまＲ
２）言ト１ノ低級アルキルアンモニオ基、？ＩＪえばト
リメチル−またＦｔ ）リエチルーアンモニオ基、低級
アルキルａ！例えヲｆメチル基によってＮ−置換された
１、２．３−１’リアψリオ基、低級アルキル基例えを
言メチル基力１カルボヤシ低級アルキル基例えばカルボ
キンメチル基か°によってＮ−べ侯されたビラ・ｔリオ
基、または、Ｉ−侘されていないかまたは、低級アルキ
ル基例えばメチル基か、カルボキシル基か、カルバモイ
ル基か、ヒドロキシ低級アルキル基例えばヒドロキシメ
チル基か、カルボキン低級アルキル基例えばカルボキシ
メチル基または２−カルボキシエチル基か、スルホ低級
アルキル基例えばスルホメチル基か、ノーロゲン原子例
えば臭素原子または塩素原子か、またはヒドロキシル基
かによって置換されているピリジニオ基な表わし、Ｒ３
゛はカルがキシル基または生理学日−」に・・ｌ裂し珀
る形忙エステル化されたカルざキシル基、例えは低、吸
アルカノイルオキシメトキシ力ルメニル基、例えばピバ
ロイルオキシ−またはアセトキシ−メトキシカルボニル
基、２−フタリシルオキシカルボニル基、または低級ア
ルコキシカルｒニルオキシメトキシカルボニル基、例え
ばエトキシカルボニルオキシメトキシ男ルざニル基Ｙ表
わし、Ｒ４は水素原子な表わすかまたは、好ましくは−
Ａ−が−ＣＨ２−基であるときはメトキシル基１に−表
わし、Ａは基−ＣＨ，’−１−ｃ（判＞−ｑたは一〇（
＝Ｎ−０−Ｒ５）−Ｃ式中Ｒ５は水素原子、低級アルキ
ル基例えばメチル基、フェニル低級アルキル基例えばベ
ンジル基、カルボキン低級アルキル基例えば２−カルボ
キシ−２−ｆロピル基、カルボキシシクロアルキル基、
例えば１−カルメギシー１−シクロゾロビル基、カルバ
モイル基、Ｎ−低級アルキルカルバモイル基、例えばＮ
−メチルカルバモイル基、または低級アルケニル基例え
ばアリル基Ｖ表わす）を表わし、こ＼で基−Ｃ（搾−０
−Ｒδ）−は好ましくはシン（または２）配ｌｆＫあり
、−Ａｍは１．２．４−）リアゾール環の６−位に結合
しているものとし、Ｒ６は水素原子、低級アルキル基例
えばメチル基、カルＴ！ｅ午シ低級アルキル基例えばカ
ルボキシエチル基または２−カルボキシエチル基、ジ低
級アルキルアミノ−低級アルキル基例えばジメチルアミ
ノエチル基、低級アルコキシカルボニル基例えばメトキ
ン−またはエトキシ−カルボニル基、カルバモイル基、
低級アルケニル基、渕えばアリル基、フェニル基、フェ
ニル低級アルキル基１例えばぺ／ジル基またホニル基世
１えばメチルスルホニル基を表わし、そしてＡｍはテミ
ノ基を表わて化せ吻、および式■で表わされ４塩性ＩＩ
ｇＹ有するヵ為＼る化合物の瑠、特に薬学的に許容し得
る塙にｆＪＡする。 式！で表わされ、式中においてｎは０を表わし、Ｒ１は
水素原子、低級アルコキシル基例えばメトキシル基、ま
たは基−ＯＨ，−Ｒ，（式中Ｒ８は低級アルカノイルオ
キシ基例えばアセトキシ基、１−位にオイテ低級アルキ
ル基例えばメチル基か、カル〆＊ ｙ 低級アルキル基
例えばカルｙｌ？キシメチル基または２−カル＋ｔｅ＊
ジエチル基か、スルホ低級アルキル基例えばスルホメチ
ル基または２−スルホエチル基か、またはジ低級アルキ
ルアミノ−低級アルキル基例えば２−ジメチルアミノエ
チル基かによって置換された１Ｈ−テトラゾルー５−イ
ルチオ基、２−位において低級アルキル基例えばメチル
基か、カルボキン低級アルキル基例えばカルボキシメチ
ル基かによって置換された１、３．４−チアシアフルー
５−イルチオ基、２−低数アルキルビラデリオ基例えば
２−メチルピラゾリオ基、３−低級アルキルー１−（１
，２，３−トリアデリオ）基例えば３−メチル−１−（
１，２，５−） Ｉ＋アデリオ）基、カルボキシピリジ
ニオ基例えば３−または４−カルボキシピリジニオ基、
カルボキシピリジニオ基、例えば３−ま念は４−カルパ
モイルビＩＩジニオ基、ヒーロキシ低載アルキルヒＩＩ
ソニオ基例えば４−ヒｒロキシメチルビリゾニオ基、
カルメキシ低級アルキルピリジニオ基、例えば３−カル
メキシメチルピリジニオ基、マタはへロビリジニオ基例
えば５−または４−ブロモピリジニオ基を表わす）を表
わし、Ｒ１はカルボニル基または低級アルカノイルオキ
シメトキシカルボニル基例えばビパロイルオキシメトキ
シカルゴニル基、または低級アルコキシ力ルズニルオキ
シメトキシカルぜニル基９１１ 、ｌ−はエトキシカル
ボニルオキシメトキシカルビニル基を表わし、Ｒ４は水
素原子を表わすか、または好ましくはＡが一０Ｈ２−基
であるときはメトキシル基を表わし、Ａは基−ＯＨ，−
または一〇（−Ｎ−０−Ｒ６）−（式中Ｒ６は水素原子
、低級アルキル基例えばメチル基、カルざキシ低級アル
キル基例えば２−カルブキシ−２−プロピル基、カルバ
モイル基またはＮ−低級アルキルカルバモイル基例えば
Ｎ−メチルカルバモイル基を表わす）を表わし、こ＼で
基−０（＝ｋＪ−０−Ｒ，）−はシン（または王）配置
にあり、そして−Ａ−は１ 、２ 、４− トＩＩアを
戸−ル壌の３−位に結合しているものとし、Ｒ６は水素
原子、低級アルキル基例えばメチル基、カルぜキシ低級
アルキル基例えばｆｙ ル＄ ＊ シＪ ＋ル基または
２−カルボキシエチル基、ジ低級アルキルアミノ−低級
アルキル基例えば２−ジメチルアミノエチル基、または
フェニル低級アルキル基例えばベンシル基またはジフェ
ニルメチル基な表わし、そして五ｍはアミノ基を表わす
化合物、および式Ｉで表わされ造塩性基を有するか＼る
化合物の場、特に薬学的Ｋｉｌ’）容し得る塩は特記に
値する。 本発明は特に、実施例に記数した式Ｉで表わされる化合
物、および造塩性の基を有するか＼る化合物の塩６、特
に薬学的に許容し得る塩に関する・本発明の化合物は自
体公知の方法によって得られる。 式Ｉで表わされる化合物、および造塩性基を有するか＼
る化合物の塩は、例えば、 ａ）式 （本式において７β−アミノ基はアシル化反応し得る基
によって置換されているかまたは置換されておらず、そ
して場合により存在する官能基は保護されていてもよい
ものとする） で表わされる化合物をアシル化剤と反応メせてアシル化
して式 （本式において、存在する官能基は保循されているかま
たはすれていないものとする） で表わされるカルメン酸のアシル基を導入てるか、また
は ｂ’） 式Ｉで表わされ、式中においてＲ１は式−ＯＨ
，−Ｒ，−（式中ＲＩＩはアンモニオ基またはへテロシ
クリルチオ基を表わす）で表わされる基を表わす化合物
の製造の念めに式 （本式においてＲ，／は求核性反応によって着換するこ
とができる基を表わし、そへ場合により存在する官能基
は保饅され光彩にあってもよいものとする） で表わされる化合物を、式Ｒ，−Ｈで表わされるメルカ
プタンまたは第三級アミンで処理するが、または Ｃ）式！で表わされ、式中においてＲ４は低級アルコキ
シル基を表わす化合物の製造のために、式（本式におい
て官能基は好ましくは＆−されているものとする） で表わされる化合物の７α−位に低級アルコキシル基を
導入するか、または ｄ）式 （本式において場合により存在する官能基は保詐された
形にあってもよいものとする） で表わされる２−セフェム化合物を異性化して対応する
３−セフェム化合物を生成させるか、または ｅ）式Ｉで表わされ、式中においてＡは基−ｊ（＝Ｎ−
０−Ｒ，）−を表わす化合物の１＃造のために、式 （本式において場合忙より存在する官能基は保農された
形にあってもよいものとする） で表わされる化合物を式Ｈ２Ｎ−０−Ｒ５で表わされる
ヒρＯＳジルアミンと反応させるか、または、ｆ）式■
で表わされ式中においてＡは基−０（−Ｎ−０−Ｒδ）
−を表わし、こ＼でＲδはｆｆ挨されてｒるかまたは置
換されていない低級アルキル基またはシクロアルキル基
、シクロアルケニル基、低級アルケニル基または、Ｎ−
置換されているかまたはされてｂないカルバモイル基を
表わす化合物の製造のために、式 （１１１） （本式において、場合により存在する官能基は保めされ
た杉にあってもよいものとする）で表わされる化合物を
、基Ｒ５を導入する剤で処理するか、ま念は ｇ）式１で表わされ式中においてＡは基−０（ｙＮ−０
−Ｒ，）−を表わし、と＼でＲ５は水素原子を表わす化
合物の製造のために、式 （本式におかて、場合により存在する官能基は保噛され
た形にあってもよいものとする）で表わされろ化合物な
ニトロフ化剤で処理するが、ま念は ｈ）丈ｌで表わされ式中においてＲ３は保護されたカル
ボキシル基を表わ１化合物の製造のために、式 （本式において、場合により存在する官能基は保護され
た形にあってもよいものとする）で表わされる化合物に
おいて、４−カルざキシル基を保護されたカルぎキシル
基に転化するか、または１）式ｌで表わされ式中におい
てムは基 −ＯＨ，−を表わし、Ａｍはアミノ基を表わ
す化合物の製造ノタメニ、式Ｒ，−Ｎａ−Ｎ）！、 （
ＸＩ） テｌｌわされるヒｖ（本式においてＲ７はエー
テル化されたヒドロキシル基を表わし、その、基Ｒ１お
よば（または）Ｒ３に場合により存在する官能基は保護
された形にあってもよいものとする） で表わシれる化合物上を反応させるか、ｆ士はＪ）式■
で表わきれ、式中においてＲＩ！ｌは１負換されている
かまたは置換されていない炭化水素基、有機スルホニル
基またはアシル基を次ゎす化合物の製造のために、式 （本式において官能基は、必要ならば、保護された形に
ある） で表わされる化合物に基Ｒ６を導入し、セして必要なら
ば、本発明によって得られる式ｌで表わされる化合物を
式■で表わされる別の化合物に転化し、そして（または
）、必すならげ、本発明によって得られる式ｌによって
表わシれ式中ｎは０である化合物を式１で表わさｎ式中
ｎは１である化合物に転化するか、または、式１で表わ
され式中ｎは１である化合ｖＪｖ式■で表わされ式中ｎ
は０である化合物に転化し、そして（または）、式１で
表わされろ化合＃ｌＪにおいて、保護された形にある官
能基を遊離の官能基に転化し、そして（または）生成し
た塩な遊離の化合物（１）に、または別の塩に転化し、
そして（または）生成した造塩性の基を有する遊離の化
合物を塩に転化し、そして（４！たけ）生成した式１で
表わこれる異性体化合物の混合物を個々の異性体に分離
することによつ° で製造されろ、 弐Ｂで表わされる出発材料において、７β−７２ノ基は
、アシル化し得る基によってｔｌｔ換されてイルかまた
は置換されていない。このような基の例としては有機シ
リル基中たはスタニル基が、そしてまたアミノ基と一緒
になってシップ糧基を形成するイリデン基が挙げられろ
。前記の有機シリル基またはスタニル基は１例えば、カ
ルボキシル基Ｒ３とも保護されたカルボキシル基を形成
し祷るものである。 これらは特にトリ低級アルキルシリル弘、特にトリメチ
ルシリル基である。 式１で表わされる出発材料の４−カルボキシル基を保６
−ｒろためのシ１１ル化またはスタニル化においては、
もし過−のシ１１ル化斧１まｆｃにスタニル化削が使用
されるときは７β−アミノ基もまたシＩＩル化またはス
タニル化され得る。前記のイ１１デン基として＆文特に
ノ１−ア１；−ルー低ン、χアルキ鵞】−？ン基、特に
１−アリールメ千しン某でその７１ノール基が峙に炭素
環式ア１シール基であり、とりわけ基環の炭素環式アＩ
Ｉ−ル基、例えば＋、ｔｌすされて（八・ないかまたは
低級アルキル基か、ヒドロキシル基、低級アルキル基お
よび（またに）ニトロ基かによってｔｆ＃換されたフェ
ニル基であるもσ）が桔けられろ。 式ｎで表わされる出発材料中にイそ在するその他の官能
基は、例えば前記したような保−基によって保紗するこ
とがで、きる。アシル化反応に関与しない官能基、特に
、場合により存在しアシル化され僧るアミノ基およびヒ
ドロキシル基は、適当に保護されろことが好ましい・ 弐１で表わされる酸のアシル基において、存在てろ官能
基は、反応に関与するカルボキシル基な除いて、保βさ
れた形にあってもよい。トＩＩアゾール墳ｆおけろ遊離
のアミノ基Ａｍはイオン性の形で保護されてもよい。換
言すれば、弐曹で表わ）れろ出発材料は酸付加埒、好ま
しくは無榊脅醪、例ターはハロビン化水素酸例えば＃Ｉ
酸、または硫酸との酸付加塩の形で使甲してもよい。 式璽で表わすれるカルボン酸のアシル基を導入ｆろアシ
ル化部１の例としてはカルピン酔自体、またはその反応
性官能誘導体が挙げられる。 式冒で表わされろ遊離のカルボン酸がアシル化に使用さ
れろと穴は、反応は通常適切な縮合剤、例えばカルボゾ
イミｒ１例えばＮ 、 Ｎ’−ジエ千駄Ｎ 、 Ｎ’−
ジプロピル−１Ｎ 、 Ｎ’−ジシクロへキシル−１ま
たはＮ−エチル−Ｎ／ −５−ゾメチルアミノデロビル
ーカルボゾイｚ１．＊、適当なカルビニル化合物、例え
ばカルボニルジイミダゾール、または１．２−オキサゾ
１１ウム化合物、例えば２−エチル゛−５−フェニルー
１．２−オキサ・戸１１ウム６′−スルホナートまたは
２−第三級プチル−５−メチル−１，２−オキサ、／’
＋１ウム ペルクロラート、または適当なアシルアミ
ノ化合靭、例えば２−エトキシ−１−エトギシーカルゴ
ニル−１，２−ゾヒげロキノ＋１ンの存在において行な
われる。 アシル化のために、例えばＤ Ｔ −ＯＢ２９２７５５
６号と同様に、式■で表わされる酸の塩、例えげアルカ
１１金ＪＩＪＩｔ塩例えばナトＩＩウム燦、または第三
級アミン塩、側光ばトリエチルアミン熔を、リン加、子
においてトリ塩素什されたビス−（３−オ小ンーオキサ
デ１１ジンー１−イル）−ホヌホラン（そのオキサ・ｔ
１１ジン−３−オン環はかＶアルキル基によって＃換さ
れているが一！ｆｆＰ：、は置換されていないものとす
る）の存在において、使用することもできる。 式薯で岩わされるカルボン酸の反応性官能誘導体でその
中の官能基が、反応ＶＣ閏与するカルボキシル基は別と
して、保睦されていてもよいものとしては、特にか＼る
酸の無水ｗ（混合無水物力を含まれ、かつ好ましｔｎ）
が埜げられる。混合無水物２しては例えば無機酸例えば
ハロダン化水素酸とのもの、すなわち対応する酸ハロダ
ン化物、例えば塩化Ｗまたは臭化物、そしてまたアジ化
水素酸とのもの、すなわち対応する酸アシド、＋１ン含
有虐、例えばリン酸、ジエチル１１ン酸または亜すン酸
七の、市たは仇黄含有酸例えば硫酸との、またはシアン
化水素酸とのものが挙げられる。その他の混合無水物と
しては、例えば、有機カルボン酸とのもの、例えば置換
されていないかまたは、例えばハロゲン原子例えばフッ
素原子または塩素原子によって置換されている低級アル
カンカルゼン酸、例えばピパリンｌ１ｌｌま念はトリク
ロロ酢酸との本の、または半エステル、特に炭酸の低級
アルギル半エステル、例えば炭酸のエチルま九はインブ
チル半エステルとのもの、または有機ｆ＞、ＬｆｉＫＭ
ＦＩ肪族または芳香族のスルホン酸、例えばｐ−ｈルエ
ンスルホン酸とのものが卆けられる。 アミノ基との反応に適当な、式ｌで表わされる撤のその
他の誘導体としては活性化されたエステル、例えばビニ
ル系アルコールとの、すなわちエノール、？＋１えげビ
ニル系低級アルケノールとのエステル、またはイミノメ
チルエステルノ＼ロデン化物、例えばゾメチルイミノメ
チルエステルクロリ１、（成層で表わされるカルメン酸
と、例えば、式（０１（ｓ）２Ｎ■−０（０４）ＯＨ，
ＯｔＯで表わされろジメチル−（１−クロロエチリデン
）−イミニウムクロリドとから得られ、後者は例えばＮ
、Ｎ−ジメチルア七ドアξ−とホスゲンとから得られる
、了り−ルエステル、例えば、例えばハロゲン原子例え
ば塩素原子および（または）ニトロ基によって置換さレ
タフェニルエステル、例えば４−ニトロフェニル、２．
４−”ニトロフェニルマタはペンタクロロフェニルエス
テル、Ｎ−へテロ芳香族エステル。 例えばＮ−ベンズ） ＩＩアゾールエステル、側光ば１
−ベンズトリアゾールエステル、またはＮ−シアシルイ
ミノエステル、例えばＮ−スクシニルイミノまたはＮ−
７タリルイミノエステルが亭げられる。 式ｌで表わされるカルメン酸の反応性官能Ｍ導体、例え
ば対応する無水物、％ Ｋ 酸／−ロデン化柳によるア
シル化は、好ましくは＃！結合剤、例えば有機塩基、例
えば有機アミン、例えば第三級アミン、例えばトリ低級
アルキルア２ン、例えばト１）メチルアミン、ト１）エ
チルアミンまたはエチルジイソプロピルアミン、または
Ｎ、Ｎ−ジ低級アルキルアニ１）ン、例えばＮ、Ｎ−ジ
メチルアニ１）ン、または環式第三級アミン、例えばＮ
−低級アルキル化モルホ１１ン、例えＨｎ−メチルモル
ホ１１ン、またはぎＩＩジン型の塩基、例えばｆリジン
、無機１基例えばアルカリ金属またはアルカ＋１士額金
属水酸化物、炭＃塩または重炭酸塩、例えばナト亀１ウ
ム、力Ｉｌｌラムたはカルシウム水酸化物、炭酸塩また
は重炭酸塩、またはオキシラン、例えば１．２−低級ア
ルキレ／オキシＰ１例えばエチレンオキシげまたはプロ
ピレンオキシｒの存在において行なわれる。 前記のアシル化は好ましくは不活性の、好ましくは無水
の溶媒または溶媒混合物中で、例えばカルメン虐アミＰ
例えばホルムアｉド、例えばジメチルホルムアミｈ＋、
ハロｒン化炭化水累例えば塩化メチレン、四塩化炭素ま
たはクロロベンゼン、ケトン例えばアセトン、エステル
例えば酢酸エチル、エーテル例えばテトラヒげロフラン
、ま光はニトリル例えばアセトニトリル、またはそれら
の混合物中で、もし必をであるかまたは望むならば低温
または高温で、例えば約−４０゛Ｃから約十ＩＤＤ’Ｏ
１好マシくハ約−１０’０から約＋５０゛Ｃの温度範囲
で、そして（または）不活性がスふんい舞例えば窒素ふ
んいき中で行なわれろ。 アシル化はまた、式璽で表わされろ酸の適当な誘導体を
使用して適当なアシル酵素の存在において行なうことが
できる。このよう彦アシル酵素は既知であり、宿々の微
生物によって、例えばアセトバクター、例えばアセトバ
クター、オーランチウム（Ａｃｅｔｏｂａｃｔａｒ ａ
ｕｒａｎｔｉｕｍ ）、アクＯ％ ＩＲクター、例えば
アクロモバクタ−、ニー１１ス（Ａｃｈｒｏｍｏｂａｃ
ｔｅｒ ａｅｒｉｇ ）、エーロモナス、例えばエーロ
モナス・ヒドロフイラ（Ａｅｒｏｍｏｎａａｈｙｄｒｏ
ｐｈｉｌａ ） 、またはバチルス、例えばノ々チルス
・メガテｌｌウム（ｊ３ａｃ１１１ｕｓ ｍｅｇａｔｓ
ｒｉｕｍ ） ４００によって生成することができる。 この種の酵素的アシル化においては、対応する誘導体と
して特に、式Ｉで表わされるカルビン戯のアミド、エス
テルまたはチオエステル、例えばメチルまたはエチルエ
ステルが使用される。この檜のアシル化は通常、対応す
る微生物を含有する営養培地中で、培誉肉汁のＰ液中で
、または、担体への吸着な含めてアシル酵素を凰離した
後、または卑離しないで、緩衝剤を含むか含まない水性
媒体中で、例えば約＋２０℃−約＋４０℃の温度範囲に
おいて、好ましくは約＋３７℃忙おいて行なわれる。 アシル化反応に使用される弐Ｉで表わされる酸の反応性
官能誘導体は、所望ならば、その場で生成することがで
きる。すなわち例えば、混合無水物は、式璽で表わされ
、適当に検診された官能基な有するかまたは有しな−＃
、またはその過当な塩、例えば、例えば有機塩基例えば
ピリジンまたは４−メチルモルホリンによって生Ｗする
アンモニウム塩、または金ＩＩＡ塩、例えばアルカリ金
稿廖ケ、置換されているかま念は電供されていなめ低級
アルカンカルメン酸の適当な酸訪導体、例１えげ対応す
る酸ハロゲン化物、例えばトリクｏｏアセ千ルクロリド
と、または炭酸半ハロゲン化物の半エステル、例えばク
ロロギ酸エチルエステルまｔはイソブチルエステルと％
ま念はゾ恢私アルキル＋１’ｆ！ｌのハロゲン化物、例
えばジエチルホスホロデロミダート（亜１１ン酸トリエ
チルと臭素との反応によって生成し得る）とを反応させ
て製造される。かくして得られる混合無水物は朧離せず
にアシル化反応に使用することができる。 式ＩＶで表わこれ、その４−カルビキシル基およびその
他の官能基が保護されているかまたは保護されていない
出発材料において、求核性反応によって置換することの
できる基Ｒ９′は、好ましくは＼ エステル化されたヒＰロキシル基、＃にオキン置′換さ
れているかまたはされていない低級アルカンカルメン酸
、例えばアセト酢酸、ギ酸、または酢酸か、低級アルカ
ノ−またはｔｊｔ、換されてい為かまたは置換されてい
ないベンゼン−スルボン酸、伝えばメタン−１べ／ゼア
ー１ｐ−デロモベンゼンーまたはｐ−）ルエンースルボ
ン酸が、またはハロダン化水素酸例えば臭化水′Ｊｇｆ
ｔＩｆ！たはヨウ化氷素１かによってエステル化された
ヒげロキシル基である。 式Ｒ，−１！で表わされるメルカプタンまたは第三級ア
ミンとの反応は中性条件下で水および場合によ峠水と混
合し得る溶媒の存在において行なうことかで會る。水と
混合し得る有機溶媒としては、例えば、低級アルカノー
ル、例えばメタノールまたはエタノール、低級アルカン
、例えばアセトン、低級アルカルカルボン酸アｓｒ１例
えばジメチルホルムアｔげ、または低級アルカンカルざ
ン酸ニドＩＩル、例えばアセ） ニド１フルを使用し得
る・例えば収車を増加するために、反応混合物に適当な
塩、例えば無機酸例えはへロデン化水素醪、？１１えは
塩酸およびＩ＃にヨウ化水素酸の、そしてチオシアン酸
の、または有機酸、例えば低級アルカンカルボン）、例
えば酢酸の、アルカリ伶、纏惜、例えばナト１ｊウムお
よび、特に、力１１ウム塩、特にヨウ化カリウムおよび
チオシアン版力ＩＩウムヲ拾加することもで館る。この
目的には、飛当なアニオン交換体の酸、例えば酢酸との
塩、例えば塩の形の液状イオン交換体、例えばアンバー
ライト（Ａｍｂｅｒｌｉｔｅ ） Ｌ Ａ −１（３５
１−３９３の分子ｍヶ有する液状第二級アミン；油溶性
で水不溶性；ｍ’ｅｑ・／ｒ −２，５−２，７、例え
ば酢酸塩の杉）を使用するととも可能である。しかし、
特に式Ｒ，−１（で表わされるメルカプタンとの反応の
場合には、操作を弱塩基性条件下で、または、特に第三
級アミンとの反応の場合には、操作を弱Ｍ性条件下で、
例えば約６．５のＭｙおいて、竹なうことも可能である
。塩基性条件は、例えば、無機塩基、例えばアルカリ金
属またはアルカリ土類金枝の水酸化物、炭酸塩または１
ｉ炭酸場、例えばナト１ｊウム、力１１ウムまｔはカル
シウムの水酸化物、玩酸塩または重炭酸塩の添加によっ
てつくることができ、弱増基性条件は適当な有機または
無機の酸、例えば酢酸、塩酸、ＩＩノ酸、もしくは重た
硫酸の添加によってつくることができる。反応は室温で
、または反応性に応じて冷却または穏かに加熱しながら
行なわれる。 アンモニオ基Ｒ２は有利には、式１ｖで表わされ式中Ｒ
１１′は置換された、Ｑ？に芳香族的に置換されたカル
ざニルチオ基そして特にベンゾイルチオ基ｌ！／表わす
中間体を使用して導入することができる。 このような中間体は、例えば、式■で表わされ式中Ｒ，
／はエステル化されたヒｒロキシル基、特に低級アルカ
ノイルオキシ基、例えばアセトキシ基を表わす出発材料
な適当な塩、例えばチオカルボン酸例えば芳香族チオカ
ルはン酸、例えばチオ安息香酸のアルカリ金属塩、例え
ばす） ＩＩウム塩と反応させて得ることができる。次
に中間体を第三級アミン塩基、特に対応する複素環式塩
基、例えば置換されているかまたは置換されていないピ
１１シンと反応させて、目的のアンモニオ化合物を得る
６反応は通常適当な脱硫削、峙に水銀塩、例えば過塩素
ＭＩ第二水釧、および適当な溶媒または希釈剤、ま゛た
はそれらの混合物の存在において、必要ならば冷却また
は加熱しつつ、’Ｊ閉科６ざ内でそして（または）不活
性がスふんい鎗、例えば窒素ふんいき中で行なわれる。 方法Ｃ）（７α−位のアルコキシル化）：式■で表わさ
れ、その官能基すべてが保誇された形にある化合物にお
いて、７α−低級アルコキシル基Ｒ４は自体公知の方法
によって、例えば前記の中間体をアニオン形成剤、Ｎ−
ハロゲン什剤および低級アルカノールで順次処理するこ
とによって導入することができる。 適当なアニオン形成剤としては特に有機金属塩基、特に
オルがノーアルカリ金楓塩基、さらに特にはオルがノリ
チウム塩基が挙げられる。このような化合物としては特
に、対応するアルコラード、例えば通尚なリチウム低級
アルコキシド、特にリチウムメトキシド、または対応す
る金磯−炭化水素塩基、例えばリチウム低級アルカンお
よびフェニルリチウムが挙げられる。アニオン形成性の
有機金域塩基との反対は通常、冷却しながら、例えば約
０℃−約−８０℃において、適当な溶媒才たは希釈剤、
例えばエーテル、例えばテトラヒドロフランの存在にお
いて、リチウムメトキシドを使用するときはまたメタノ
ールの存在においても、そして所望ならば密閉容器内で
、そして（または）不活性がスふんいき、例えば窒素ふ
んいき中で行なわれる。 Ｎ−ハロゲン化剤としては、通常、立体障碍された有機
次曲ハロゲン酸基、待に次Ｉ＋！ｉ鯵素醒場、そしてな
お特には対応する１１＝肋族仄％ ／％ロｒン峻塩、例
えば次亜塩素ｉ！！１！塩、例えば次曲ノλロデン酸第
三級低級アルキル、例えば次曲塩素酸第三級低級アルキ
ルが使用される。特に次仲糧＊ｔ＆ ｆ、三級ブチルが
使用され、これを、単離していないアニオン化反応生成
物と反応させる０ アニオン形成性塩基、特にリチウムメトキシドの過剰の
存在において、Ｎ−ハロゲン化された中間化合物は、反
応条件下でそして単離することなしに、７−アジルイミ
ノセフエム化合物に転化され、このものは低級アルカノ
ールの添加によって７α−低級アルコキシセフェム化合
物に転化される。もし必要ならば、／１０デン化水素酸
、峙に塩化水素酸をＮ−ハロゲン化された中間体から除
去しなければならない：これはハロゲン化水素を除去す
る塩基、施えば適当なアルカリ金嬌アルコキシｒ１例え
ばリチウム第三級ブトキシｒを冷加することによって行
なわれ、この反応は通常アニオン形成反応およびＮ−ハ
ロゲン化合物形成反応の条件下で起り、操作をメタノー
ルの存在において行なって７α−低級アルコキシセフェ
ム化合物をアシルイミノ化合物の代りに直接得ることが
可能である。出発材料として式■で表わされその官能基
が保護された形にある化合物を使用し、これをアニオン
形成剤、例えばリチウムメトキシドまたはフェニルリチ
ウムの過剰と低級アルカノールの存在で反応させ、次ζ
こＮ−ハロゲン化剤例えば次亜塩素酸第三級ブチルによ
る処理を行ない、かくして直接に目的の式１で表わされ
その官能基が保―されている化合−を得るのが通例であ
る。また低級アルカノールを後で加えることも可能であ
り、脱ハロゲン化水素および低級アルカノールの添加を
アニオン形成およびＮ−ハロゲン化合物生成反応よりも
や＼高い温度、例えば約０℃−約−２０℃で、必要なら
ば密閉器内で、そして（または）不活性がスふんいき例
えば窒素ふんいき中で行なろこきが可能である。 前記の反応−これは塩基性条件下で行なうことができる
が−の場合、ろ−セフェム化合物の一部または全部を異
性化して２−セフェム化合物とすることができる。生成
した２−セフェム化合物または２−および６−セフェム
化合物の混合物は自体公知の方法によって異性化して目
的の５−セフェム化合物を生成するこきができる。 式Ｖ
たシクロアルキル基または低級アルキル基；７クロアル
ケニル基；低級アルクニル基；カルバモイル基；マたは
Ｎ−低級アルキルカルバモイル基；）ヲ衣わし、Ｒ８は
水素原子；低級アルキル基；ヒドロキシル基か低級アル
コキシル基か、カルざキシル基か、低級アルコキシカル
ボニル基か、アミノ基か、低級アルキルアミノ基か、ジ
低級アルキルアミノ基か、カルバモイル基か、ハロゲン
原子か、スルホ基か、低級アル中ルチオ基かまたはアミ
ノスル７イニル基かによって＃候さｔした低級アルキル
基；低級アルケニル基；シクロアルキル基；シクロアル
ケニル基；フェニル基；フェニル低級アルキル基；低級
アルキルスル水ニル基：フェニルスルホニル基またはフ
ェニル低級アルキルスルホニル基（それぞれ、低級アル
キル基か／Ｓロゲン原子かによって置換されているかま
たは置換されていない）；低級アルカノイル基；低級ア
ルコキシカルビニル基；カルバモイル基；またはＮ−低
級アルキルカルバモイル基１表わし、モしてＡｍはアミ
ノ基またはジ低級アルキルアミノ−低級アルキリデンア
ミノ基ン表わす化合物、および式１で表わされ造塩性基
γ有するか＼る化合物の塩、特に東学的ＫＷ！ｆ答し得
る塩に関する。 不発明は好ましくは式ｌで表わされ、式中においてｎは
０または１ヶ表わし、Ｒｏは水素原子、低級アルコキシ
ル基例えばメトキシル基、フェニル低級アルコキシル基
例えばべ／ジルオキシ革、／′−ロｒ／原子例えば塩素
原子、ヘテロシクリルチオ基でそのヘテロシクリル基が
チアジアゾリル基、例えば１，３．４−チアジアゾル−
２−イに４、またはオキサジアゾリル基、例えば１．３
．４−オキサジアゾル−２−イル基であってその各々が
狽炭素原子？介してチオ基に納会しており、低級アルキ
ル基例えばメチル基によってＩ＋Ｖ Ｍされているかま
たは置換されていない吃のを表わずか、またはＲ１は基
−ｃ’Ｈ２−Ｆ１２（式ＩＰＲｇは水素原子、低級アル
カノイルオキシ基、例えばアセトキシ基、カルバモイル
オキ７基、Ｎ−低級アルキル力ルバモイルオキ７基、例
えばＮ−メチル力ルバモイルオキン基、ｆＩｔ（１ｉ！
！されていないかまたは、低級アルキル基例えばメチル
基か、カルボキン低級アルキル基、例えばカルボキンメ
チル基または２−カルボキシエチル基か、スルホ低級ア
ルキル基、汐すえばスルホメチル基または２−スルホエ
チル基か、ジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基、例
えば２−ジメチルアミノエチル基か、または低級アルカ
ノイルアミノ基、例えばアセトアミノ基かによって置換
されているテトラゾルー５−イルチオ基、ｌｔ侠されて
いないかまたは、低級アルキル基例えばメチル基か、カ
ルピキア低級アルキル基？ｌｊえＧプ力ルメキシメチル
基または２−カルボキンエチル基かによってｔ１換され
ている１、５．４−チアジアゾル−２−イルチオ基、置
換されていない力為または、低級アルキル基例えばメチ
ル基によって１換されている１、５．４−オキサジアゾ
ル−２−イルチオ基、置換されていないかまたを言、イ
氏級アルキル基例えばメチル基かカルボキン低級アルキ
ル基例えばカルボキシメチル基かによって置換されてい
る１、２．４−）リアデル−３−イルチオ基、置換され
ていないかまたはヒドロキシル基によって置換されてい
るピリダジン−６−イルチオ基、または置換されていな
いかまたはとｒロキシル基によって置換されているピリ
ミジン−２−イルチオ基′ｌｋ′表わすか、またをまＲ
２）言ト１ノ低級アルキルアンモニオ基、？ＩＪえばト
リメチル−またＦｔ ）リエチルーアンモニオ基、低級
アルキルａ！例えヲｆメチル基によってＮ−置換された
１、２．３−１’リアψリオ基、低級アルキル基例えを
言メチル基力１カルボヤシ低級アルキル基例えばカルボ
キンメチル基か°によってＮ−べ侯されたビラ・ｔリオ
基、または、Ｉ−侘されていないかまたは、低級アルキ
ル基例えばメチル基か、カルボキシル基か、カルバモイ
ル基か、ヒドロキシ低級アルキル基例えばヒドロキシメ
チル基か、カルボキン低級アルキル基例えばカルボキシ
メチル基または２−カルボキシエチル基か、スルホ低級
アルキル基例えばスルホメチル基か、ノーロゲン原子例
えば臭素原子または塩素原子か、またはヒドロキシル基
かによって置換されているピリジニオ基な表わし、Ｒ３
゛はカルがキシル基または生理学日−」に・・ｌ裂し珀
る形忙エステル化されたカルざキシル基、例えは低、吸
アルカノイルオキシメトキシ力ルメニル基、例えばピバ
ロイルオキシ−またはアセトキシ−メトキシカルボニル
基、２−フタリシルオキシカルボニル基、または低級ア
ルコキシカルｒニルオキシメトキシカルボニル基、例え
ばエトキシカルボニルオキシメトキシ男ルざニル基Ｙ表
わし、Ｒ４は水素原子な表わすかまたは、好ましくは−
Ａ−が−ＣＨ２−基であるときはメトキシル基１に−表
わし、Ａは基−ＣＨ，’−１−ｃ（判＞−ｑたは一〇（
＝Ｎ−０−Ｒ５）−Ｃ式中Ｒ５は水素原子、低級アルキ
ル基例えばメチル基、フェニル低級アルキル基例えばベ
ンジル基、カルボキン低級アルキル基例えば２−カルボ
キシ−２−ｆロピル基、カルボキシシクロアルキル基、
例えば１−カルメギシー１−シクロゾロビル基、カルバ
モイル基、Ｎ−低級アルキルカルバモイル基、例えばＮ
−メチルカルバモイル基、または低級アルケニル基例え
ばアリル基Ｖ表わす）を表わし、こ＼で基−Ｃ（搾−０
−Ｒδ）−は好ましくはシン（または２）配ｌｆＫあり
、−Ａｍは１．２．４−）リアゾール環の６−位に結合
しているものとし、Ｒ６は水素原子、低級アルキル基例
えばメチル基、カルＴ！ｅ午シ低級アルキル基例えばカ
ルボキシエチル基または２−カルボキシエチル基、ジ低
級アルキルアミノ−低級アルキル基例えばジメチルアミ
ノエチル基、低級アルコキシカルボニル基例えばメトキ
ン−またはエトキシ−カルボニル基、カルバモイル基、
低級アルケニル基、渕えばアリル基、フェニル基、フェ
ニル低級アルキル基１例えばぺ／ジル基またホニル基世
１えばメチルスルホニル基を表わし、そしてＡｍはテミ
ノ基を表わて化せ吻、および式■で表わされ４塩性ＩＩ
ｇＹ有するヵ為＼る化合物の瑠、特に薬学的に許容し得
る塙にｆＪＡする。 式！で表わされ、式中においてｎは０を表わし、Ｒ１は
水素原子、低級アルコキシル基例えばメトキシル基、ま
たは基−ＯＨ，−Ｒ，（式中Ｒ８は低級アルカノイルオ
キシ基例えばアセトキシ基、１−位にオイテ低級アルキ
ル基例えばメチル基か、カル〆＊ ｙ 低級アルキル基
例えばカルｙｌ？キシメチル基または２−カル＋ｔｅ＊
ジエチル基か、スルホ低級アルキル基例えばスルホメチ
ル基または２−スルホエチル基か、またはジ低級アルキ
ルアミノ−低級アルキル基例えば２−ジメチルアミノエ
チル基かによって置換された１Ｈ−テトラゾルー５−イ
ルチオ基、２−位において低級アルキル基例えばメチル
基か、カルボキン低級アルキル基例えばカルボキシメチ
ル基かによって置換された１、３．４−チアシアフルー
５−イルチオ基、２−低数アルキルビラデリオ基例えば
２−メチルピラゾリオ基、３−低級アルキルー１−（１
，２，３−トリアデリオ）基例えば３−メチル−１−（
１，２，５−） Ｉ＋アデリオ）基、カルボキシピリジ
ニオ基例えば３−または４−カルボキシピリジニオ基、
カルボキシピリジニオ基、例えば３−ま念は４−カルパ
モイルビＩＩジニオ基、ヒーロキシ低載アルキルヒＩＩ
ソニオ基例えば４−ヒｒロキシメチルビリゾニオ基、
カルメキシ低級アルキルピリジニオ基、例えば３−カル
メキシメチルピリジニオ基、マタはへロビリジニオ基例
えば５−または４−ブロモピリジニオ基を表わす）を表
わし、Ｒ１はカルボニル基または低級アルカノイルオキ
シメトキシカルボニル基例えばビパロイルオキシメトキ
シカルゴニル基、または低級アルコキシ力ルズニルオキ
シメトキシカルぜニル基９１１ 、ｌ−はエトキシカル
ボニルオキシメトキシカルビニル基を表わし、Ｒ４は水
素原子を表わすか、または好ましくはＡが一０Ｈ２−基
であるときはメトキシル基を表わし、Ａは基−ＯＨ，−
または一〇（−Ｎ−０−Ｒ６）−（式中Ｒ６は水素原子
、低級アルキル基例えばメチル基、カルざキシ低級アル
キル基例えば２−カルブキシ−２−プロピル基、カルバ
モイル基またはＮ−低級アルキルカルバモイル基例えば
Ｎ−メチルカルバモイル基を表わす）を表わし、こ＼で
基−０（＝ｋＪ−０−Ｒ，）−はシン（または王）配置
にあり、そして−Ａ−は１ 、２ 、４− トＩＩアを
戸−ル壌の３−位に結合しているものとし、Ｒ６は水素
原子、低級アルキル基例えばメチル基、カルぜキシ低級
アルキル基例えばｆｙ ル＄ ＊ シＪ ＋ル基または
２−カルボキシエチル基、ジ低級アルキルアミノ−低級
アルキル基例えば２−ジメチルアミノエチル基、または
フェニル低級アルキル基例えばベンシル基またはジフェ
ニルメチル基な表わし、そして五ｍはアミノ基を表わす
化合物、および式Ｉで表わされ造塩性基を有するか＼る
化合物の場、特に薬学的Ｋｉｌ’）容し得る塩は特記に
値する。 本発明は特に、実施例に記数した式Ｉで表わされる化合
物、および造塩性の基を有するか＼る化合物の塩６、特
に薬学的に許容し得る塩に関する・本発明の化合物は自
体公知の方法によって得られる。 式Ｉで表わされる化合物、および造塩性基を有するか＼
る化合物の塩は、例えば、 ａ）式 （本式において７β−アミノ基はアシル化反応し得る基
によって置換されているかまたは置換されておらず、そ
して場合により存在する官能基は保護されていてもよい
ものとする） で表わされる化合物をアシル化剤と反応メせてアシル化
して式 （本式において、存在する官能基は保循されているかま
たはすれていないものとする） で表わされるカルメン酸のアシル基を導入てるか、また
は ｂ’） 式Ｉで表わされ、式中においてＲ１は式−ＯＨ
，−Ｒ，−（式中ＲＩＩはアンモニオ基またはへテロシ
クリルチオ基を表わす）で表わされる基を表わす化合物
の製造の念めに式 （本式においてＲ，／は求核性反応によって着換するこ
とができる基を表わし、そへ場合により存在する官能基
は保饅され光彩にあってもよいものとする） で表わされる化合物を、式Ｒ，−Ｈで表わされるメルカ
プタンまたは第三級アミンで処理するが、または Ｃ）式！で表わされ、式中においてＲ４は低級アルコキ
シル基を表わす化合物の製造のために、式（本式におい
て官能基は好ましくは＆−されているものとする） で表わされる化合物の７α−位に低級アルコキシル基を
導入するか、または ｄ）式 （本式において場合により存在する官能基は保詐された
形にあってもよいものとする） で表わされる２−セフェム化合物を異性化して対応する
３−セフェム化合物を生成させるか、または ｅ）式Ｉで表わされ、式中においてＡは基−ｊ（＝Ｎ−
０−Ｒ，）−を表わす化合物の１＃造のために、式 （本式において場合忙より存在する官能基は保農された
形にあってもよいものとする） で表わされる化合物を式Ｈ２Ｎ−０−Ｒ５で表わされる
ヒρＯＳジルアミンと反応させるか、または、ｆ）式■
で表わされ式中においてＡは基−０（−Ｎ−０−Ｒδ）
−を表わし、こ＼でＲδはｆｆ挨されてｒるかまたは置
換されていない低級アルキル基またはシクロアルキル基
、シクロアルケニル基、低級アルケニル基または、Ｎ−
置換されているかまたはされてｂないカルバモイル基を
表わす化合物の製造のために、式 （１１１） （本式において、場合により存在する官能基は保めされ
た杉にあってもよいものとする）で表わされる化合物を
、基Ｒ５を導入する剤で処理するか、ま念は ｇ）式１で表わされ式中においてＡは基−０（ｙＮ−０
−Ｒ，）−を表わし、と＼でＲ５は水素原子を表わす化
合物の製造のために、式 （本式におかて、場合により存在する官能基は保噛され
た形にあってもよいものとする）で表わされろ化合物な
ニトロフ化剤で処理するが、ま念は ｈ）丈ｌで表わされ式中においてＲ３は保護されたカル
ボキシル基を表わ１化合物の製造のために、式 （本式において、場合により存在する官能基は保護され
た形にあってもよいものとする）で表わされる化合物に
おいて、４−カルざキシル基を保護されたカルぎキシル
基に転化するか、または１）式ｌで表わされ式中におい
てムは基 −ＯＨ，−を表わし、Ａｍはアミノ基を表わ
す化合物の製造ノタメニ、式Ｒ，−Ｎａ−Ｎ）！、 （
ＸＩ） テｌｌわされるヒｖ（本式においてＲ７はエー
テル化されたヒドロキシル基を表わし、その、基Ｒ１お
よば（または）Ｒ３に場合により存在する官能基は保護
された形にあってもよいものとする） で表わシれる化合物上を反応させるか、ｆ士はＪ）式■
で表わきれ、式中においてＲＩ！ｌは１負換されている
かまたは置換されていない炭化水素基、有機スルホニル
基またはアシル基を次ゎす化合物の製造のために、式 （本式において官能基は、必要ならば、保護された形に
ある） で表わされる化合物に基Ｒ６を導入し、セして必要なら
ば、本発明によって得られる式ｌで表わされる化合物を
式■で表わされる別の化合物に転化し、そして（または
）、必すならげ、本発明によって得られる式ｌによって
表わシれ式中ｎは０である化合物を式１で表わさｎ式中
ｎは１である化合物に転化するか、または、式１で表わ
され式中ｎは１である化合ｖＪｖ式■で表わされ式中ｎ
は０である化合物に転化し、そして（または）、式１で
表わされろ化合＃ｌＪにおいて、保護された形にある官
能基を遊離の官能基に転化し、そして（または）生成し
た塩な遊離の化合物（１）に、または別の塩に転化し、
そして（または）生成した造塩性の基を有する遊離の化
合物を塩に転化し、そして（４！たけ）生成した式１で
表わこれる異性体化合物の混合物を個々の異性体に分離
することによつ° で製造されろ、 弐Ｂで表わされる出発材料において、７β−７２ノ基は
、アシル化し得る基によってｔｌｔ換されてイルかまた
は置換されていない。このような基の例としては有機シ
リル基中たはスタニル基が、そしてまたアミノ基と一緒
になってシップ糧基を形成するイリデン基が挙げられろ
。前記の有機シリル基またはスタニル基は１例えば、カ
ルボキシル基Ｒ３とも保護されたカルボキシル基を形成
し祷るものである。 これらは特にトリ低級アルキルシリル弘、特にトリメチ
ルシリル基である。 式１で表わされる出発材料の４−カルボキシル基を保６
−ｒろためのシ１１ル化またはスタニル化においては、
もし過−のシ１１ル化斧１まｆｃにスタニル化削が使用
されるときは７β−アミノ基もまたシＩＩル化またはス
タニル化され得る。前記のイ１１デン基として＆文特に
ノ１−ア１；−ルー低ン、χアルキ鵞】−？ン基、特に
１−アリールメ千しン某でその７１ノール基が峙に炭素
環式ア１シール基であり、とりわけ基環の炭素環式アＩ
Ｉ−ル基、例えば＋、ｔｌすされて（八・ないかまたは
低級アルキル基か、ヒドロキシル基、低級アルキル基お
よび（またに）ニトロ基かによってｔｆ＃換されたフェ
ニル基であるもσ）が桔けられろ。 式ｎで表わされる出発材料中にイそ在するその他の官能
基は、例えば前記したような保−基によって保紗するこ
とがで、きる。アシル化反応に関与しない官能基、特に
、場合により存在しアシル化され僧るアミノ基およびヒ
ドロキシル基は、適当に保護されろことが好ましい・ 弐１で表わされる酸のアシル基において、存在てろ官能
基は、反応に関与するカルボキシル基な除いて、保βさ
れた形にあってもよい。トＩＩアゾール墳ｆおけろ遊離
のアミノ基Ａｍはイオン性の形で保護されてもよい。換
言すれば、弐曹で表わ）れろ出発材料は酸付加埒、好ま
しくは無榊脅醪、例ターはハロビン化水素酸例えば＃Ｉ
酸、または硫酸との酸付加塩の形で使甲してもよい。 式璽で表わすれるカルボン酸のアシル基を導入ｆろアシ
ル化部１の例としてはカルピン酔自体、またはその反応
性官能誘導体が挙げられる。 式冒で表わされろ遊離のカルボン酸がアシル化に使用さ
れろと穴は、反応は通常適切な縮合剤、例えばカルボゾ
イミｒ１例えばＮ 、 Ｎ’−ジエ千駄Ｎ 、 Ｎ’−
ジプロピル−１Ｎ 、 Ｎ’−ジシクロへキシル−１ま
たはＮ−エチル−Ｎ／ −５−ゾメチルアミノデロビル
ーカルボゾイｚ１．＊、適当なカルビニル化合物、例え
ばカルボニルジイミダゾール、または１．２−オキサゾ
１１ウム化合物、例えば２−エチル゛−５−フェニルー
１．２−オキサ・戸１１ウム６′−スルホナートまたは
２−第三級プチル−５−メチル−１，２−オキサ、／’
＋１ウム ペルクロラート、または適当なアシルアミ
ノ化合靭、例えば２−エトキシ−１−エトギシーカルゴ
ニル−１，２−ゾヒげロキノ＋１ンの存在において行な
われる。 アシル化のために、例えばＤ Ｔ −ＯＢ２９２７５５
６号と同様に、式■で表わされる酸の塩、例えげアルカ
１１金ＪＩＪＩｔ塩例えばナトＩＩウム燦、または第三
級アミン塩、側光ばトリエチルアミン熔を、リン加、子
においてトリ塩素什されたビス−（３−オ小ンーオキサ
デ１１ジンー１−イル）−ホヌホラン（そのオキサ・ｔ
１１ジン−３−オン環はかＶアルキル基によって＃換さ
れているが一！ｆｆＰ：、は置換されていないものとす
る）の存在において、使用することもできる。 式薯で岩わされるカルボン酸の反応性官能誘導体でその
中の官能基が、反応ＶＣ閏与するカルボキシル基は別と
して、保睦されていてもよいものとしては、特にか＼る
酸の無水ｗ（混合無水物力を含まれ、かつ好ましｔｎ）
が埜げられる。混合無水物２しては例えば無機酸例えば
ハロダン化水素酸とのもの、すなわち対応する酸ハロダ
ン化物、例えば塩化Ｗまたは臭化物、そしてまたアジ化
水素酸とのもの、すなわち対応する酸アシド、＋１ン含
有虐、例えばリン酸、ジエチル１１ン酸または亜すン酸
七の、市たは仇黄含有酸例えば硫酸との、またはシアン
化水素酸とのものが挙げられる。その他の混合無水物と
しては、例えば、有機カルボン酸とのもの、例えば置換
されていないかまたは、例えばハロゲン原子例えばフッ
素原子または塩素原子によって置換されている低級アル
カンカルゼン酸、例えばピパリンｌ１ｌｌま念はトリク
ロロ酢酸との本の、または半エステル、特に炭酸の低級
アルギル半エステル、例えば炭酸のエチルま九はインブ
チル半エステルとのもの、または有機ｆ＞、ＬｆｉＫＭ
ＦＩ肪族または芳香族のスルホン酸、例えばｐ−ｈルエ
ンスルホン酸とのものが卆けられる。 アミノ基との反応に適当な、式ｌで表わされる撤のその
他の誘導体としては活性化されたエステル、例えばビニ
ル系アルコールとの、すなわちエノール、？＋１えげビ
ニル系低級アルケノールとのエステル、またはイミノメ
チルエステルノ＼ロデン化物、例えばゾメチルイミノメ
チルエステルクロリ１、（成層で表わされるカルメン酸
と、例えば、式（０１（ｓ）２Ｎ■−０（０４）ＯＨ，
ＯｔＯで表わされろジメチル−（１−クロロエチリデン
）−イミニウムクロリドとから得られ、後者は例えばＮ
、Ｎ−ジメチルア七ドアξ−とホスゲンとから得られる
、了り−ルエステル、例えば、例えばハロゲン原子例え
ば塩素原子および（または）ニトロ基によって置換さレ
タフェニルエステル、例えば４−ニトロフェニル、２．
４−”ニトロフェニルマタはペンタクロロフェニルエス
テル、Ｎ−へテロ芳香族エステル。 例えばＮ−ベンズ） ＩＩアゾールエステル、側光ば１
−ベンズトリアゾールエステル、またはＮ−シアシルイ
ミノエステル、例えばＮ−スクシニルイミノまたはＮ−
７タリルイミノエステルが亭げられる。 式ｌで表わされるカルメン酸の反応性官能Ｍ導体、例え
ば対応する無水物、％ Ｋ 酸／−ロデン化柳によるア
シル化は、好ましくは＃！結合剤、例えば有機塩基、例
えば有機アミン、例えば第三級アミン、例えばトリ低級
アルキルア２ン、例えばト１）メチルアミン、ト１）エ
チルアミンまたはエチルジイソプロピルアミン、または
Ｎ、Ｎ−ジ低級アルキルアニ１）ン、例えばＮ、Ｎ−ジ
メチルアニ１）ン、または環式第三級アミン、例えばＮ
−低級アルキル化モルホ１１ン、例えＨｎ−メチルモル
ホ１１ン、またはぎＩＩジン型の塩基、例えばｆリジン
、無機１基例えばアルカリ金属またはアルカ＋１士額金
属水酸化物、炭＃塩または重炭酸塩、例えばナト亀１ウ
ム、力Ｉｌｌラムたはカルシウム水酸化物、炭酸塩また
は重炭酸塩、またはオキシラン、例えば１．２−低級ア
ルキレ／オキシＰ１例えばエチレンオキシげまたはプロ
ピレンオキシｒの存在において行なわれる。 前記のアシル化は好ましくは不活性の、好ましくは無水
の溶媒または溶媒混合物中で、例えばカルメン虐アミＰ
例えばホルムアｉド、例えばジメチルホルムアミｈ＋、
ハロｒン化炭化水累例えば塩化メチレン、四塩化炭素ま
たはクロロベンゼン、ケトン例えばアセトン、エステル
例えば酢酸エチル、エーテル例えばテトラヒげロフラン
、ま光はニトリル例えばアセトニトリル、またはそれら
の混合物中で、もし必をであるかまたは望むならば低温
または高温で、例えば約−４０゛Ｃから約十ＩＤＤ’Ｏ
１好マシくハ約−１０’０から約＋５０゛Ｃの温度範囲
で、そして（または）不活性がスふんい舞例えば窒素ふ
んいき中で行なわれろ。 アシル化はまた、式璽で表わされろ酸の適当な誘導体を
使用して適当なアシル酵素の存在において行なうことが
できる。このよう彦アシル酵素は既知であり、宿々の微
生物によって、例えばアセトバクター、例えばアセトバ
クター、オーランチウム（Ａｃｅｔｏｂａｃｔａｒ ａ
ｕｒａｎｔｉｕｍ ）、アクＯ％ ＩＲクター、例えば
アクロモバクタ−、ニー１１ス（Ａｃｈｒｏｍｏｂａｃ
ｔｅｒ ａｅｒｉｇ ）、エーロモナス、例えばエーロ
モナス・ヒドロフイラ（Ａｅｒｏｍｏｎａａｈｙｄｒｏ
ｐｈｉｌａ ） 、またはバチルス、例えばノ々チルス
・メガテｌｌウム（ｊ３ａｃ１１１ｕｓ ｍｅｇａｔｓ
ｒｉｕｍ ） ４００によって生成することができる。 この種の酵素的アシル化においては、対応する誘導体と
して特に、式Ｉで表わされるカルビン戯のアミド、エス
テルまたはチオエステル、例えばメチルまたはエチルエ
ステルが使用される。この檜のアシル化は通常、対応す
る微生物を含有する営養培地中で、培誉肉汁のＰ液中で
、または、担体への吸着な含めてアシル酵素を凰離した
後、または卑離しないで、緩衝剤を含むか含まない水性
媒体中で、例えば約＋２０℃−約＋４０℃の温度範囲に
おいて、好ましくは約＋３７℃忙おいて行なわれる。 アシル化反応に使用される弐Ｉで表わされる酸の反応性
官能誘導体は、所望ならば、その場で生成することがで
きる。すなわち例えば、混合無水物は、式璽で表わされ
、適当に検診された官能基な有するかまたは有しな−＃
、またはその過当な塩、例えば、例えば有機塩基例えば
ピリジンまたは４−メチルモルホリンによって生Ｗする
アンモニウム塩、または金ＩＩＡ塩、例えばアルカリ金
稿廖ケ、置換されているかま念は電供されていなめ低級
アルカンカルメン酸の適当な酸訪導体、例１えげ対応す
る酸ハロゲン化物、例えばトリクｏｏアセ千ルクロリド
と、または炭酸半ハロゲン化物の半エステル、例えばク
ロロギ酸エチルエステルまｔはイソブチルエステルと％
ま念はゾ恢私アルキル＋１’ｆ！ｌのハロゲン化物、例
えばジエチルホスホロデロミダート（亜１１ン酸トリエ
チルと臭素との反応によって生成し得る）とを反応させ
て製造される。かくして得られる混合無水物は朧離せず
にアシル化反応に使用することができる。 式ＩＶで表わこれ、その４−カルビキシル基およびその
他の官能基が保護されているかまたは保護されていない
出発材料において、求核性反応によって置換することの
できる基Ｒ９′は、好ましくは＼ エステル化されたヒＰロキシル基、＃にオキン置′換さ
れているかまたはされていない低級アルカンカルメン酸
、例えばアセト酢酸、ギ酸、または酢酸か、低級アルカ
ノ−またはｔｊｔ、換されてい為かまたは置換されてい
ないベンゼン−スルボン酸、伝えばメタン−１べ／ゼア
ー１ｐ−デロモベンゼンーまたはｐ−）ルエンースルボ
ン酸が、またはハロダン化水素酸例えば臭化水′Ｊｇｆ
ｔＩｆ！たはヨウ化氷素１かによってエステル化された
ヒげロキシル基である。 式Ｒ，−１！で表わされるメルカプタンまたは第三級ア
ミンとの反応は中性条件下で水および場合によ峠水と混
合し得る溶媒の存在において行なうことかで會る。水と
混合し得る有機溶媒としては、例えば、低級アルカノー
ル、例えばメタノールまたはエタノール、低級アルカン
、例えばアセトン、低級アルカルカルボン酸アｓｒ１例
えばジメチルホルムアｔげ、または低級アルカンカルざ
ン酸ニドＩＩル、例えばアセ） ニド１フルを使用し得
る・例えば収車を増加するために、反応混合物に適当な
塩、例えば無機酸例えはへロデン化水素醪、？１１えは
塩酸およびＩ＃にヨウ化水素酸の、そしてチオシアン酸
の、または有機酸、例えば低級アルカンカルボン）、例
えば酢酸の、アルカリ伶、纏惜、例えばナト１ｊウムお
よび、特に、力１１ウム塩、特にヨウ化カリウムおよび
チオシアン版力ＩＩウムヲ拾加することもで館る。この
目的には、飛当なアニオン交換体の酸、例えば酢酸との
塩、例えば塩の形の液状イオン交換体、例えばアンバー
ライト（Ａｍｂｅｒｌｉｔｅ ） Ｌ Ａ −１（３５
１−３９３の分子ｍヶ有する液状第二級アミン；油溶性
で水不溶性；ｍ’ｅｑ・／ｒ −２，５−２，７、例え
ば酢酸塩の杉）を使用するととも可能である。しかし、
特に式Ｒ，−１（で表わされるメルカプタンとの反応の
場合には、操作を弱塩基性条件下で、または、特に第三
級アミンとの反応の場合には、操作を弱Ｍ性条件下で、
例えば約６．５のＭｙおいて、竹なうことも可能である
。塩基性条件は、例えば、無機塩基、例えばアルカリ金
属またはアルカリ土類金枝の水酸化物、炭酸塩または１
ｉ炭酸場、例えばナト１ｊウム、力１１ウムまｔはカル
シウムの水酸化物、玩酸塩または重炭酸塩の添加によっ
てつくることができ、弱増基性条件は適当な有機または
無機の酸、例えば酢酸、塩酸、ＩＩノ酸、もしくは重た
硫酸の添加によってつくることができる。反応は室温で
、または反応性に応じて冷却または穏かに加熱しながら
行なわれる。 アンモニオ基Ｒ２は有利には、式１ｖで表わされ式中Ｒ
１１′は置換された、Ｑ？に芳香族的に置換されたカル
ざニルチオ基そして特にベンゾイルチオ基ｌ！／表わす
中間体を使用して導入することができる。 このような中間体は、例えば、式■で表わされ式中Ｒ，
／はエステル化されたヒｒロキシル基、特に低級アルカ
ノイルオキシ基、例えばアセトキシ基を表わす出発材料
な適当な塩、例えばチオカルボン酸例えば芳香族チオカ
ルはン酸、例えばチオ安息香酸のアルカリ金属塩、例え
ばす） ＩＩウム塩と反応させて得ることができる。次
に中間体を第三級アミン塩基、特に対応する複素環式塩
基、例えば置換されているかまたは置換されていないピ
１１シンと反応させて、目的のアンモニオ化合物を得る
６反応は通常適当な脱硫削、峙に水銀塩、例えば過塩素
ＭＩ第二水釧、および適当な溶媒または希釈剤、ま゛た
はそれらの混合物の存在において、必要ならば冷却また
は加熱しつつ、’Ｊ閉科６ざ内でそして（または）不活
性がスふんい鎗、例えば窒素ふんいき中で行なわれる。 方法Ｃ）（７α−位のアルコキシル化）：式■で表わさ
れ、その官能基すべてが保誇された形にある化合物にお
いて、７α−低級アルコキシル基Ｒ４は自体公知の方法
によって、例えば前記の中間体をアニオン形成剤、Ｎ−
ハロゲン什剤および低級アルカノールで順次処理するこ
とによって導入することができる。 適当なアニオン形成剤としては特に有機金属塩基、特に
オルがノーアルカリ金楓塩基、さらに特にはオルがノリ
チウム塩基が挙げられる。このような化合物としては特
に、対応するアルコラード、例えば通尚なリチウム低級
アルコキシド、特にリチウムメトキシド、または対応す
る金磯−炭化水素塩基、例えばリチウム低級アルカンお
よびフェニルリチウムが挙げられる。アニオン形成性の
有機金域塩基との反対は通常、冷却しながら、例えば約
０℃−約−８０℃において、適当な溶媒才たは希釈剤、
例えばエーテル、例えばテトラヒドロフランの存在にお
いて、リチウムメトキシドを使用するときはまたメタノ
ールの存在においても、そして所望ならば密閉容器内で
、そして（または）不活性がスふんいき、例えば窒素ふ
んいき中で行なわれる。 Ｎ−ハロゲン化剤としては、通常、立体障碍された有機
次曲ハロゲン酸基、待に次Ｉ＋！ｉ鯵素醒場、そしてな
お特には対応する１１＝肋族仄％ ／％ロｒン峻塩、例
えば次亜塩素ｉ！！１！塩、例えば次曲ノλロデン酸第
三級低級アルキル、例えば次曲塩素酸第三級低級アルキ
ルが使用される。特に次仲糧＊ｔ＆ ｆ、三級ブチルが
使用され、これを、単離していないアニオン化反応生成
物と反応させる０ アニオン形成性塩基、特にリチウムメトキシドの過剰の
存在において、Ｎ−ハロゲン化された中間化合物は、反
応条件下でそして単離することなしに、７−アジルイミ
ノセフエム化合物に転化され、このものは低級アルカノ
ールの添加によって７α−低級アルコキシセフェム化合
物に転化される。もし必要ならば、／１０デン化水素酸
、峙に塩化水素酸をＮ−ハロゲン化された中間体から除
去しなければならない：これはハロゲン化水素を除去す
る塩基、施えば適当なアルカリ金嬌アルコキシｒ１例え
ばリチウム第三級ブトキシｒを冷加することによって行
なわれ、この反応は通常アニオン形成反応およびＮ−ハ
ロゲン化合物形成反応の条件下で起り、操作をメタノー
ルの存在において行なって７α−低級アルコキシセフェ
ム化合物をアシルイミノ化合物の代りに直接得ることが
可能である。出発材料として式■で表わされその官能基
が保護された形にある化合物を使用し、これをアニオン
形成剤、例えばリチウムメトキシドまたはフェニルリチ
ウムの過剰と低級アルカノールの存在で反応させ、次ζ
こＮ−ハロゲン化剤例えば次亜塩素酸第三級ブチルによ
る処理を行ない、かくして直接に目的の式１で表わされ
その官能基が保―されている化合−を得るのが通例であ
る。また低級アルカノールを後で加えることも可能であ
り、脱ハロゲン化水素および低級アルカノールの添加を
アニオン形成およびＮ−ハロゲン化合物生成反応よりも
や＼高い温度、例えば約０℃−約−２０℃で、必要なら
ば密閉器内で、そして（または）不活性がスふんいき例
えば窒素ふんいき中で行なろこきが可能である。 前記の反応−これは塩基性条件下で行なうことができる
が−の場合、ろ−セフェム化合物の一部または全部を異
性化して２−セフェム化合物とすることができる。生成
した２−セフェム化合物または２−および６−セフェム
化合物の混合物は自体公知の方法によって異性化して目
的の５−セフェム化合物を生成するこきができる。 式Ｖ
【で表わされる２−セ、フエム出う６材料において
、保−されているか才たは保−されていない４−カルざ
キシル基は好ましくはα−７＋ｊ ｋにある。 式Ｖｌで表わされる２−セフェム化合物（マ、弱塩基性
の剤で処理し対応する６−セフェム化合物を単離するこ
とによって異性化することができる。 適当な異性化剤としては、施えば、イイ轡望軍含有塩基
、特に芳香族性の第三級複素壌式編基、特に□ピリジン
型の塩基、例えばピリジント１体、およびピコリン類、
コリシン類またはルチジンづ１１１またキノリン、第三
級芳香族塩基、例えばアニリン型のもの、例えばＮ、Ｎ
−ジ低級アルキルアニリン、例えばＮ、Ｎ−ジメチルア
ニリンまたはＮ、Ｎ−ジエチルアニリン、または第三級
脂肪族、アザ脂填式または芳香脂肪族の塩基、例えばト
リ低級アルキルアミン、例えばトリメチルアミンまたは
ゾイソゾロールエチルアミン、Ｎ−ＩＡＭアルキルγデ
シクロアルロン、例えばＮ−メチルビペリシン、または
Ｎ−フェニル低級アルキル−Ｎ、Ｎ−シイへ゛級アルキ
ルアミン、例えばＮ−ベンゾルーＮ、Ｎ−ゾメチルアミ
ン、およびか＼る塩基性剤の混合物、例えばピリジン型
の塩基七トリイ氏級アルキルアミンとの混合物、例えば
ビリシンとトリエチルアミンとの混合物が挙げられる。 さらに塩基、特に中程度の塩基ないし強塩基と弱酸との
無機または有機の塩、例えば低級アルカンカルボン酸の
アルカリ金属塩またはアンモニウム塩、例えば酢酸ナト
リウム、酢酸トリエチルアンモニウムオたけ酢酸Ｎ−メ
チルピペリジン、およびその他の５ｉ（ＬＪの塩基また
はこのような塩基性剤の混合物もまた使用することがで
きる。 式■１で表わされる２−セフェム化合物の１＝基に［剤
による異性化は、好ましくは無水の媒質中で、浴媒、例
えばハロゲン化、例えばｔ、ｌｔＪ化されているか才た
はされていない８ｇ肋肪族ＨＰ”Ｆ１式また（ゴ％香側
炭化水素、または浴媒混合物の存在また（ｉ不在におい
て（こ＼で、反応刹として１ψ用される反応条件下で液
状である塩基は同時に浴媒として働くことができる）、
場合により冷ム（ｊまたは加艶しつ＼、好才しくは約−
３０°Ｃから１＋１０’０’Ｃの霊ｉ範囲において、不
粘性がスふんいき例えば窒素ふんいき中で、そして（才
たは）密閉器中で行なわれる。 このようにして得られる式！で表わされる６−セフェム
化合物は、残存することのある２−セフェム出発材料か
ら自体公知の方法、例えば吸宥および（または）結晶化
によって分離することができる。 式■！で表わされる２−セフェム化合物の異性化による
対応する３−セフェム化合物の生成は、好ましくは前者
を１−位において暖化し、所望ならば生成した１−オキ
シドの異性体混合物を分離し、そしてこのようにして得
られた対応する３−セフェム化合物の１−オキシドを還
元することによって行なわれる。 式Ｖｔで表わされる２−セフェム化合物の１−位におけ
る酸化のために適当な酸化剤きしては、少くとも＋１．
５１１ｅルトの還元電位を有し非金属元素から成る無機
過酸、有機過酸、または過酸化水素と酸、特に少くとも
１０−６の解離恒数を有する有機カルボン酸とから成る
混合物が挙げられる。適当な無機過酸としては過ヨウ素
酸および寺鑓酸が挙げられる０有機過酸としては対応す
る過カルボン酸および過スルホン酸が挙げられ、これら
はそのもの自体として添加するか、または少くとも１当
責の過酸化水素とカルメン酸とを使用してその場で生成
することができる。この場合、もし、例えば酢酸が爵媒
として使用されるときは、大過剰のカルざン酸を使用す
るのが便利である。適当な過酸としては、例えば、過ギ
酸、過酢酸、トリフルオロ逼酢酸、過マレイン酸、過安
息舎酸、６−クロロ過安息香酸、モノ過フタル酸または
ｐ−トルエン過スルホン酸が挙げられる。 酸化は過酸化水素を、触媒當の解断恒数少くとも１０″
″５の酸と共に使用してｌ１ｆｆＪ様に行なうことかで
き、この場合低濃度例えば１−２％以下の酸を使用する
ことも゛、遂に比較的大量の情を使用するこきも可能で
ある。この場合混合物の効果は主として酸の強度に左右
される０適蟲な混合物の例さしては、過酸化水素と酢酸
、過塩素酸またはトリフルオロ酢酸との混合物が挙げら
れる。 前記の酸化は適当な触媒の存在で行なうことができる。 すなわち、例えば、過カルざン酬による酸化は少くとも
１０−６の解離恒数を有する酸の存在によって触媒作用
され、この酸の効果はその強度に左右される。触媒とし
て適当な酸としては、例えば、酢酸、過塩素酸およびト
リフルオロ酢酸が埜げられる。通常−化剤は少くとも当
量、奸才しくは約１０％−約２０％の小過１！ｌＩｔが
使用されるが、比較的大過剰、すなわち１０倍賞以上の
、＃化剤を使用することもできる。酸化は穏和な条件下
で、例えば約−５゛０℃から約＋１００℃の温度、好ま
しくは約−１０℃から一４０℃の温度で行なわれる＠ ３−セフェム化合物の１−オキシＰの還元は自体会知の
方法により、還元剤で、必要ならば活性化剤の存在にお
いて処理することによって行なうことができる。適当な
還元剤の例としては次のものが挙げられる：接触的に活
性化された水素（この場合パラジウム、白金才たはロジ
ウムを含み、適当な担体例えばカーボンまたは硫酸バリ
ウムと共に１または担体無しで使われる貴金属触媒が使
用される）；還元性スズ、鉄、銅またはマンがン陽イオ
ン（これらは対応する無機または有機の化合物または錯
体の形で、例えば塩化、フッ化、酢酸またはギ酸スズ（
厘）、塩化、硫酸、シラ酸またはコハク醸鉄（Ｉ）、塩
化、安息香酸才たは酸化＠（１）％または塩化、硫酸、
酢酸または酸化マンがン（厘）の形で、ま・たは錯体、
例えばエチレンシアミン四酢酸またはニトロ三酢酸との
錯体の形で一使用される）；還元性の曲、ニチオン酸−
ヨウ素−１またはフェロ（２価）シアン−アニオン（こ
れらは対応する無機または有機の地、例えばアルカリ金
属層ニチオン酸塩、ヨウ化物またはフェロ（２価）シア
ン化物、例えば亜二チオン酬ナトリウムまたはカリウム
、ヨウ化ナトリウムまたはカリウム、才たはフェロシア
ン化ナトリウムまたはカリウムの形で、または対応する
酸、例えばヨウ化水素酸の形で使用される）；ｐ元性の
６価の無機才たは有機のリン化合物、“例えばホスフィ
ン、また亜ホスホン酸、亜ホスフィン酸または曲リン酸
のエステル、アミドおよびノ１０ｒン化物、そしてまた
これらのリンー酸索化合物に対応するリン−硫黄化合物
で、その有機基が特に脂肪族、芳香族または芳香脂肪族
基、例えば（−換されているかまたは置換されていない
低級アルキル基、フェニル基またはフェニル低級アルキ
ル基であるもの、例えばトリフェニルホスフィン、トリ
ーｎ−ブチルホスフィン、ジフェニル曲ホスホン酸メチ
ルエステル、ジフェニルクロロホスフィン、）゛工ニル
ジクロロホスフィン、ベンゼン亜ホスホン酸ゾメチルエ
ステル、ブタン亜リン酸メチルエステル、リン酸トリフ
ェニルエステル、亜リン酸トリメチルエステル、三塩化
リン、三臭化リン等；ケイ素原子に結合した少くきも１
個の水素原子を有し、ハロゲン原子例えば塩素、臭素ま
たはヨウ素原子のほかに有機の基、例えば脂肪族または
芳香族の基、例えば置換されているかまたはＩＷ換され
ていない低級アルキル基またはフェニル基を含有しても
よい、還元性ハロシラン化合物、例えばクロロシラン、
ゾロモジラン、ジーまたはトリークロロシラン、シーま
たはトリーゾロモジラン、ジフェニルクロロシランまた
はジメチルクロロシラン、もしくはまた、その水素原子
全部が有機基によって置換されているハロシラン化合物
、例えばトリ低級アルキルハロシラン、例えばトリメチ
ルクロロシランまたはトリメチルヨードシラン、または
環式硫黄含有シラン、例えば１，３−ジチア−２，４−
ジシラシクロブタンまたは１，５．５−トリチア−２，
４，６−）リシラシクロヘキサンで、°そのケイ素原子
は炭化水素基、例えば特に低級アルキル基によって置換
されているもの、例えば２，２，４．４−テトラメチル
−１，３−ジチア−２，４−シシラシクロブタンまたは
２，２゜４．４，６．６−ヘキサメチル−１，３，５−
トＩＪチアー２．４．６−ドリシラシクロヘキサン等；
還元性の第四級クロロメチレンイミニウム塩、特に塩化
物または臭化物で、そのイミニウム基が２価の有機基１
個または１価の有機基２個（例えばに崇されていないか
または置換されている低級アルキレン基または低級アル
キル基）によって置換されているもの、例えばＮ−クロ
ロメチレン−Ｎ。 Ｎ−ゾエチルイミニウムクロリｒまたはＮ−クロロメチ
レンピロリジニウムクロリド；適当な活性化剤例えば塩
化コパル）（１）の存在における金属水素化物錯体、例
えば水素化ホウ累ナトリウム、そしてまた二塩化ボラン
。 前記の還元剤のうちでそれ自体はルイス酸の性−を持た
ないものと共に、すなわち轡に曲ニチオン酸塩、ヨウ化
物またはフェロシアン化物還元−剤およびハロゲン原子
を含有しない三価リン還元剤と共に使用される、才たは
接触還元において使用される活性化剤としては、特に有
機カルざン酸およびスルホン酸ハロゲン化物、しかし才
た、塩化ベンゾイルと同等または以上の二次加水分解悄
数を有する硫黄、リンオたはケイ素ハロゲン化物、例え
ばホスゲン、オキサリルクロリｒ、アセチルクロリドま
たはデロミｒ１クロロアセチルクロリド、ピパロイルク
ロリド、４−メトキシベンゾイルクロリド、４−シアノ
ベンゾイルクロリド％ｐ−トリエンスルホニルクロリド
、メターンスルホニルクロリド、チオニルクロリｒ、オ
キシ塩化リン、三塩化リン、三臭化リン、フェニルジク
ロロホスフィン、ベンゼン亜ホスホン酸ジクロリｒ１ゾ
メチルクロロシランまたはトリクロロシラン、また適当
な酸無水物、例えばトリフルオロアセチルアンヒドリド
、または環式スルトン、例えばエタンスルメン、プロパ
ンスルトン、１，６−ブタンスルトンまたは１，３−ヘ
キサンスルトンが挙げられる。 還元は好ましくは浴媒またはその混合物の存在において
行なわれ、済媒の選択は主として出健材料の一＃＋解性
および選定した還元剤によってきまる：すなわち例えば
、接触還元の場合には低級アルカンカルボンニオたはそ
のエステル、例えばｃｒｌ、ａおよびσμ酸エチル、そ
して例えば、置−されていないか才たは置換された、例
えばハロゲン化またはニトロ化された、脂肪族、）ｌＦ
堪式、芳査族または芳香脂肪族炭化水素、例えばベンゼ
ン、塩化メチレン、クロロホルムまたはニトロメタン、
適当な２１２４体、例えば低級アルカンカルボン酸エス
テルオたはニトリル、例えば酢酸エチルまたはアセトニ
トリル、または無機酸または有機醒のアミド、例えばジ
メチルホルムアミｈｅまたはヘキサメチルホスホルアミ
ド、エーテル、例えばジエチルエーテル、テトラヒｒロ
フランまたはジオキサン、ケトン例えばアセトン、また
はスルホン、特に脂肪族スルホン、例えばジメチルスル
ホンまたはテト□ラメチレンスルホン等を化学的業元剤
と共ζこ便用し、そしてこれらの泗媒は好ましくは水分
を含−まないものとする０反応は通常約−２０′０から
約１００℃の温度で行なわれるが、非常に反応性の大き
い活性化剤を使用するときは反応はよりイ斤温でも行な
うことができる。 方法ｅ） （置換されていないかまたは置換されて４−
カルボキシ基および他の官能基が置換されていたいかま
た社置換されている成立）で表わされる出発材料におい
て、式Ｈａ Ｎ−０−Ｒｓ で表わされるヒドロキシ
アミン誘導体で処理することにより、７β−アシルアミ
ド基中のアミド基形成に関与しないオキソ基を置換され
ていないかまたは〇−置換されたヒドロキシイミノ基に
変換できる。式（■）で表わされる出発材料とヒドロキ
シアミン誘導体との反応は通常の方法により、例えばそ
れら２種の反応成分を、溶媒中例えば水ま友は有機溶媒
例えばアルコール例えばメタノール中で、わずかに高め
たかまたは下げた温度例えば約−２０℃〜約◆Ｚｏｏ℃
好ましくは約り℃〜約（資）℃で、所望によっては不活
性ガスふん囲気中例えば窒素ふん囲気中で反応させる。 ヒドロキシアミン誘導体社その場で遊離させてもよく、
例えば塩例えばＩ・ロゲン化水素例えば塩化水素から、
無機塩による処理、例えばアルカリ金属水酸化物例えば
水酸化ナトリウムによる処理または有棲塩による処理、
例えば第３アミン例えばトリー低級アルキルアミン例え
ばトリエチルアミンまたはエチルジインプロピルアミン
または複素環式第３塩基例えばピリジンによる処理によ
って遊離させる。 式い１で表わされる出発材料においては、反応すべきヒ
ドロキシイミノ基以外のエーテル化またはカルバモイル
化できる基は保−されているのが好ましい。 所望の置換されていないかまたは置換されている低級ア
ルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基また
は低級アルケニル基であるＲｓｔ−導入する通常のエー
テル化剤によって、遊離の水酸基のエーテル化を行なう
。 適当なエーテル化剤は例えばジアゾ化合物例えばジアゾ
低級アルカンまたはジアゾ環状アルカン例えばジアゾメ
タン、ジアゾエタンまたはジアゾ−ｎ−ブタンであり、
これらのアルカン部分は置換されていないかまたは置換
されている。これらの試薬は適当な不活性溶媒、例えに
脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素例えばヘキサン、
シクロヘキサン、ベンゼンまたにトルエン、７１０ケン
化脂肪族炭化水素例えば塩化メチレン捷たはエーテル、
例えばジ低級アルキルエーテル例えばジエチルエーテル
または環状エーテル例えばテトラヒドロフランまたはジ
オキサンまたは溶媒混合物の存在下に使う。使うジアゾ
試薬によっては冷却下または室温でまたはおだやかな加
熱下に、また必要ならば密閉容器中でおよび（または）
不活性ガス？ｌＪえｆ′ｉｉｉ集ふん囲気中で使う。 他の適当なエーテル化剤は相当するアルコールのエステ
ルとりわけ強い無機＃：または有機酸、例えは鉱酸例え
ばハロゲン化水素酸例えば塩化水素酸、臭化水素酸また
はヨー化水素酸さらに硫酸またはハロゲン化価＃世１え
げフッ化硫酸、またＶｉ強い有機スルホン酸例えば置換
されていないかまたはハロゲン原子例えばフッ素原子に
よって置換されている低級アルカンスルホン酸、または
芳香族スルホン酸例えば置換されていないかまたは例え
ば低級アルキル基例えばメチル基、ノ・ロゲン原子例え
ば臭素原子またはニトロ基によって醸侠されているベン
ゼンスルホン酸、？すえばメタンスルホン酸、トリフル
オルメタンスルホン酸またはｐ−トルエンスルホン酸と
のエステルでアリ、側光ば硫酸シイ氏級アルキルエステ
ル例えば覚醒ジメチルさらにフッ化スルホン酸低級アル
キルエステル例えばフツルスルホン酸メチルエステルま
たは置換されていないか捷たはハロゲン原子によって置
換されているメタンスルホン酸低級アルキルエステル側
光ばトリフルオルメタンスルホン酸メチルエステルであ
る。これらのニステルハ通常、不活性溶媒例えば１１１
１１換されていないかまたはハロゲン化例えば塩素化さ
れている脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素例えば塩
化メチレン、エーテル例えばジオキサンまたにテトラヒ
ドロフランまたはこれらの混合物の存在下に使う。適当
な縮合剤、例えはアルカリ金栖炭酸塩または炭酸水素塩
？ｌｌえばＩＲ酸または炭酸水素ナトリウムま九はカリ
ウム（通常は硫酸塩と一緒に）または有機塩基例えば立
体障害のあるトリー低級アルキルアミン例えばＮ、Ｎ−
ジイソグロビルーＮ−エナルアミン（好ましくハノ・ロ
ゲン化硫醐低級アルキルエステ／Ｌｉ念に置換されてい
ないかまたにハロゲン置換されているメタンスルボン酸
低糾了Ｊ・キルエステルと一緒に）を使うのが好甘しく
、操作は冷却下、室温で捷たけ７Ｉｃ熱下に、例えば室
温で、約−２０℃〜約５０℃で、必要ならば密閉容器中
でおよび（捷たば〕不活性ガス例えば窒素ガスふん囲気
中で行なう。 さらにエーテル化剤は対応するアセタール例えばｇｅｍ
−低級アルコキシ低級アルカン例えば２，２−ンメドキ
ンプロパンであり、強い有機スルホン酸例えばｐ−トル
エンスルホン酸・の存在下、適当な溶媒例えばジ低級ア
ルキルスＪ・ホキシトまたけ低級アルキレンスルホキシ
ド例えばジメチルスルホキシドの存在下に使う。またオ
ルトエステル例えばオルトキ酸トリ低級アルキルエステ
ル％、ｌ 、ｔばオルトギ酸トリエチルエステルであり
、強い鉱酸例えば硫酸筐たは強い有様スルホン酸例えば
ｐ−トルエンスルホン酸の存在下、適当な溶媒例えばエ
ーテル例えばジオキサンの存在下に使う。 エーテル化剤としてはさらに対応するトＩＪ −Ｒ５−
オキソニウム塩（いわゆるメーヤワイン塩）、シーＲ５
−０−力ルペニウム塩マたｕジ Ｒｓ−ノ・ロニウム塩
（これらの式においてＲｓは導入すべき基を表わす）で
あり、例えばトリー低級アルキルオキソニウム塩および
ジー低級アルコキシカルペニウムまたはジ低級アルキル
ハロニウム塩とりわけフッ素原子含有酸錯体ｆ１１えは
対応するテトラフルオルホウ酸塩、ヘキサフルオルリン
酸塩、ヘキサフルオルアンチモン酸塩またはへキサクロ
ルアンチモン酸塩である。このような試薬は例えばトリ
メチルオキソニウムまたはトリエチルオキソニウムヘキ
サフルオルアンチモン酸塩、ヘキサクロルアンチモン酸
塩、ヘキサフルオルリン酸塩またはテトラフルオルホウ
酸塩、ジメトキシカルベニラムヘキサフルオルリン酸塩
またはジメチルブロモニウムヘキサフルオルアンチモン
酸塩である、これらのエーテル化剤は不活性溶媒例えば
エーテルま念ハハロゲン化炭化水素例えばジエチルエー
テル、テトラヒドロフランまたは塩化メチレンまたはそ
れらの混合物の存在下、必簀ならば塩基例えば有機塩基
、例えば好筐しくに立体障害のある、トリー低級アルキ
ルアミン忰えばＮ、Ｎ−ジイソプロピル−Ｎ−エチルア
ミンの存在下、冷却下または室温でまたはおだやかな加
熱下に、例えば約−９０℃〜約５０℃で、必帯ならば密
閉容器中および（または）不活性ガス伊１えは窒素ガス
ふん囲気中で使う０ さらに別のエーテル化剤は対応するＩ Ｒｓ ３−
アリールトリアゼン化合物であり、この式においてＲｓ
Ｕ導入される基であり好ましいアリール基は置換されて
いないかまｆＣＦｉ置換されているフェニル基例えば低
級アルキルフェニル基例えば４−メチルフェニル基であ
る。そのようなトリアゼン化合物は例えば３−了り一ル
ーｌ−低給アルキルトリアゼン例えば３−（４−メチル
フェニル）−１−メチルトリアゼンである。これらの試
薬Ｕｎ常不活性溶媒例えば置換されていないかまたｄノ
・ロゲン化された炭化水素またはエーテル世１えばベン
ゼンまたは溶媒混合物の存在１、冷却下または室温で、
または好ましくは高めた温度例えば約加Ｃ〜約１００℃
で、必要ならば密閉容器中でおよび（４たに）不活性ガ
ス例えば窒素ガスふん囲気中で使う。 水素原子の代わりの置換されていないかまたは［％され
ているカルバモイル基の導入は、それ自体公知のカルバ
モイル化によって行なわれる。この目的のためには、式
（■）で表わされる化合物であって、化合物中のカルバ
モイル化されないかまたはカルバモイル化剤全消費する
か破壊するすべての反応性基が保護されているものを、
所望によっては段階的にカルバモイル化剤で処理する。 適当なカルバモイル化剤ｅよ、置換されていないかまた
ｈａ換されているカルバミン酸の反応性誘導体とりわけ
混合無水物の相当するインシアネート例えば相当するカ
ルバミン酸クロリドであり、ホスゲンとオーアミンとか
らその場で形成してもよい。 インシアネートとの反応は通常の不活性溶媒例えばＦｔ
換されていないかまたはハロゲン化された炭化水素例え
ばベンゼン、キシレンまたは塩化メチレン、エーテル例
えばジエチルエーテル、ジオキサンまたはテトラヒドロ
フラン、またはエステル例えば酢酸エチル中で、塩基性
触媒例えば第３アミン例えばトリエチルアミンまたはピ
リジンの存在下または不在下に、室温でまたはわずかに
高めた温度で、約−加℃〜＋５０℃で行なう。 カルバミン酸の混合無水物の反応においては、例えばア
ルカリ金族水素化物例えばす） ＩＪウムまたはリチウ
ム水素化物との反応により、アルコール残基が最初に金
属化されるのが有利である。水酸基が金属化されている
式（■うで表わされる化合物は、まずホスゲンで処理し
、次にアンモニアまたはオニアミンで処理し、このよう
にして段階的にカルバモイル化することもできる。この
反応もやはり不活性溶媒中で前記の温度において行なわ
れる。 式（幻で表わされる出発材料においてに官能基は保護さ
れているのが好ましい。適当なニトロ化剤は曲硝酸およ
びその誘導体例えば〕・ロゲン化ニトロフル例えば塩化
ニトロシルまたは臭化ニトロシル、亜硝酸塩例えばアル
カリ金属塩例えば亜硝酸ナトリウムまたにカリウム、ま
たはとりわけ亜硝酸エステル例えば相当する低級アルキ
ルエステル例えば亜硝酸ブチル、ペンチルまたはとりわ
けイソ了ミルである。ニトロ化剤として亜硝酸塩を使う
場合は、強い無機酸または有機酸例えば塩化水素酸、硫
酸、ギｆ！？または酢酸の存在下に求応をｈなうのが好
ましい。亜硝酸エステルを使う場合は会い塩基、例えば
アルカリ金蝿アルコキシドの存在下に反応を行なうのが
好ましい。 ニトロ化は適当な溶媒例えば水、カルボン酸例えば酢酸
、低級アルカノール例えばメタノールまタハエタノール
、エーテル例えばジオキサンまたにテトラヒドロフラン
または炭化水素例えばヘキサンまたはベンゼンまたはそ
れらの混合物中で、必要ならば冷却またに加熱下に、室
温で、とりわけ約−１５℃〜はぼ室温までの温度で、お
よび（または）不活性ガスふん囲気中で行なう。 方法ｈ） （遊離のカルボキシ基Ｒ３の保護された式
（１）で表わされる化合物中の遊離のカルボキシ基を、
ゆるやかな化学的条件下′または物理的条件下で容易に
分裂でさる、保護とりわけエステル化されたカルボキシ
基へ変換する反応は、それ自体公知の方法により行なう
。例１えは他の官能基例えばアミン基、水酸基またはス
ルホ・基か置換されていないかまたに保＾されている式
（Ｘｉで表わされる化合物または保護されたカルボキシ
基に関して反応性であるその誘導体またにそれらの塩を
、相当するアルコールまたはその反応性官能性誘導体に
よってエステル化する。 保＾されたカルボキシ基に関する適当な反応性官能性誘
導体は無水物とりわけ混合無水物および活性化されたエ
ステルである。 所望のアルコールによる、遊離のカルボキシ基のエステ
ル化社、縮合剤の存在下に打なう。通常の縮合剤として
はカルボジイミド例えばＮ、Ｎ’−ジエチル−１Ｎ、Ｎ
’−ジプロピル−１Ｎ、Ｎ’−ジシクロヘキシルまたは
Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピル−カル
ボジイミド、適当なカルボニル化合物例えばカルボニル
ジイミダゾールまたはインキサゾリウム３′−スルホン
酸およびＮ−オ三ブチルー５−メチルインキサゾリウム
・バークロレートまたはアシル了ミノ化合物例えば２−
エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロ
キノリンである。 縮合反応は好ましくは無水反応媒質中、好ましくは溶媒
または希釈剤例えば塩化メチレン、ジメチルホルムアミ
ド、アセトニトリルまたはテトラヒドロフランの存在下
、所望または必要ならば冷却または加熱下に、および（
または）不活性ガスふん囲気中行なう。 混合無水物は例えば、無機酸例えばハロゲン化水累酸と
のもの、すなわち相当する酸ハロゲン化物例えば塩化物
または臭化物、さらにヒドラゾン酸とのものすなわち相
当する酸アジド、リン含有酸例えばリン酸、ジエチルリ
ン酸または亜リン酸とのもの、またはイオウ含有酸例え
ば硫酸とのもの、またはシアン化水素酸とのものである
。他の混合無水物は例えば有機カルボン酸とのもの例え
は置換されていないかまたは置換芒れている例えばハロ
ゲン原子例えばフッ素化または塩素原子によって置換さ
れている、低級アルカンカルボン酸例えばピバリン酸ま
ｆＣはトリクロル酢酸とのもの、半エステルとシわけ炭
酸の低級アルキル半エステル９’ｌＪ 、ｔ ハ炭酸エ
チルまたはイソブチル半エステルとのもの、または有機
とりわけ脂肪族または芳香族または芳香族スルホン酸例
えばｐ−）ルエンスルホン酸とのものでおる。 アルコールとの反応に適する活性エステルは、例えばビ
ニル性アルコール（すなわちエノール）例えばビニル性
低級アルケノールとのエステルまたはイミノメチルエス
テルハライド例えばジメチルイミノメチルエステルクロ
リド（これはカルボンｆｉｌ’ （！Ｚ 式（（ＣＨｓ
）＊Ｎ ＝ ＣＨＣｌ ）ｅＣＰ テ表ｂ サｔＬル
’）メチルクロルメチリデンイミニウムクロリドとから
製造する）または了り−ルエステル例えば４−ニトロフ
ェニルエステルまたは２．４−ジニトヲフェニルエステ
ル、複素芳香族エステルｆｉｌ ｊ ハベンズトリアゾ
ールエステル例えばｌ−ベンズトリアゾールエステルま
たはジアシルイミノエステル例えばサクシニルイミノま
たはフタルイミノエステルである。 酸誘導体例えば無水物とりわけ酸ハロゲノ化物によるア
シル化は、酸結合剤例えば有機塩基例えば有機アミン例
えばオ三アミン例えばトリー低級アルキルアミン例えば
トリメチルアミン、トリエチルアミンまたはエチルジイ
ソプロピルアミンまたｔｉ Ｎ、Ｎ−ジー低級アルキル
アニリン例えばＮ、Ｎ−ジメチルアニリンまたは環状第
３アミン例えばＮ−低級アルキル化モルホリン例えばＮ
−メチルモルホリン、またはピリジン型の塩基例えばピ
リジン、無機塩基例えばアルカリ金属またはアルカリ土
類金属の水酸化物、炭１塩または炭酸水素塩例えばナト
リウム、カリウムまたにカルシウムの水酸化物、炭酸塩
、または炭酸水素塩またはエチレンオキシド例えば１．
２−低級アルキレンオキー、シト例えばエチレンオキシ
ドまたはグロビレンオキシドの存゛在下に行なうのが好
ましい。 前記アシル化は、不活性の、好ましくは無水の溶媒また
は溶媒混合物例えばカルボン嗜アミド例えばホルムアミ
ド例えばジメチルホルムアミド、ハロゲン化炭化水素例
えば塩化メチレン、四塩化炭素またはクロルベンゼン、
ケトン例えばアセトン、エステル例えば酢酸エチルまた
はニトリル例えばアセトニトリルま友ハこれらの混合物
中で、室温または必要ならば低めた温度またσ嵩めた温
度で約−４０℃〜約１００℃好ましくは一り０℃〜今４
０℃で、および（または）不、活性ガスふん囲気中例え
ば窒素ガスふん囲気中行なうのが好ましい。 さらに所望ならば酸誘導体をその賽で生成することもで
きる。従って例えば混合無水物は、適当に保瞳された官
能基をもつカルボンｅまたはその適当な塩例えばアンモ
ニウム塩を、例えば有機アミン例えばピペリジンまたは
４−メチルモルホリンで、または金属塩例えばアルカリ
金属塩を適当な酸誘導体例えば置換されていないかまた
は置換されている低級・アルカンカルボン酸の相当する
−酸ハロゲン化物例えばトリクロルアセチル塩化物で、
−またけ炭酸ハロゲン化物の半エステル伊１えはクロル
ギ酸のエチルエステルまたはイソブチルエステルで、ま
たにジ低級アルキルリン酸のハロゲン化物例えばジエチ
ルリン酸臭化物で処理して得ることができ、得られた混
合無水物を分離しないで使う。 式（ｘｉ）で表わされる出発化合物においては、官能基
とりわけ遊離カルボキシ基、スルホ基および水酸基は保
護されているのが好ましい。エーテル化された水酸基Ｒ
７はとりわけ低級アルコキシ基例えばメトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基またはブトキシ基、さらに置換さ
れていないかまたに置換されているアラルコキシ基とり
わけベンジルオキシ基例えばベンジルオキシ基またはｐ
−メトキシベンジルオキシ基を表わす。 反応は、不活性溶媒例えばエーテル例えばジエチルエー
テル、ジオキサンま７’ｊｔｌテトラヒドロフラン、脂
肪族または芳香族炭化水素例えばヘキサン、ベンゼンま
たはトル・エン、ニトリル例えばアセトニトリルまたは
同様のもの、またにそれらの混合物中で、場合によって
は冷却下または加熱下に、すなわち室温、約−２０℃〜
約１１０℃で好捷しくに一１θ℃〜＋２０℃で、および
（または）不活性ガスふん囲気中で行なうのが好ましい
。 式（Ｘ■）で表わされる化合物への基Ｒ６の導入は例え
ばＸが反応性にエステル化されている水酸基である式＆
−Ｘで表わされる化合物との反応により行われる。 反応性Ｖこエステル化されている水酸基は例えばハロゲ
ン化水素酸、有機スルホン酸例えば低級アルカンスルホ
ン酸または置換されていないかまたは置換されているベ
ンゼンスルホン酸、低級アルカンカルボン酸またはホス
フィン酸でエステル化した水酸基および特にハロゲン原
子例えば塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子、スルホ
ニルオキシ基９１１ 、ｔ ハメタンー、ベンゼン、ｐ
−トルエン、’ｔ ｆｒ−１ｄ ｐ −フロムベンゼン
−スルホニルオキシ基、倶締了ルカノイルオキシ基例え
ばアセトキン基またげホスフィノイルオキシ基例えばジ
メチル−ま几ｒまジフェニル−ホスフィノイルオキシ基
である。 しかしＲｅ−Ｘで表わされる化合物は捷たすべての遊離
の水酸基が式Ｒ６−ＯＨで表わされるアルコールでエー
テル化されている、硫酸、リン酸またはホスホン酸例え
ばエチルホスホン酸のエステルであることもできる。 式（ｘｌｌ） で表わされる出発物質において存在す
る他の官能基は好ましくは保護されている。 置換されていないかまたは置換されている炭化水素基Ｒ
６例えば相当する低級アルキル基、低級アルケニル基、
シクロアルキル基またにフェニル−低級アルキル基の導
入はＸが好ましくはハロゲン原子またはスルホニルオキ
シ基である式Ｒ４−Ｘで表わされる化合物により行われ
る。前記の化合物は例えば置換されていないかまたＶｉ
置換されている低級アルキルハライドまたにスルホネー
ト例えばヨウ化メチル、臭化エチル、ブロモ酢酸エチル
エステルまたは３−ブロモプロピオン酸メチルエステル
、低級アルケニル基・ライド例えば鉢化了すル、シクロ
アルキル基・ライドまたはスルホネート例えばシクロへ
キシルプロミドまたはメシレー）、ｔ７’ｊＨフェニル
−低級アルキルノ・ライド例えはベンジル−またはジフ
ェニル−メチルプロミドである。反応は塩基性縮合剤例
えばアルカリ金属またにアルカリ土類金属の水酸化物、
炭酸塩または炭酸水素地、例えばナトリウムの水酸化物
、炭酸塩または炭酸水素塩または炭酸カルシウム、アル
カリ金属低級アルコキシド例えばナトリウムメトキシド
、ナトリウムエトキシドまたはカリウム−ｔ−ブトキシ
ドまたは第３アミン例えばトリエチルアミン、ジインプ
ロピルエチルアミン、ピリジンまだはキノリンの存在下
で、不活性塔媒中、例えば低級アルカノールψ１１えは
メタノール、エタノールまたはｔ−ブタノール、アミド
例えばジメチルホルムアミド中、おるいは過剰のアミン
塩基中、室温または高めたまたは低めた温度例えば約−
２０’Ｃ〜約８０℃の温度で行われる。 置換されていないか筐たは１１！１換されている炭化水
素基Ｒ６特に相当する低級アルキル基またにフェニル−
低級アルキル基の導入に適したものに、式０ ＝ Ｐ
（ＯＲａ）ｓで表わされるリン酸、式０＝Ｐ（ＯＲｓ）
言（Ｙ）（式中、Ｙは例えば低級アルキル基例えばメチ
ル基またはエチル基あるいはフェニル基である）で表わ
されるホスホン酸または式０ ＝ Ｐ （０Ｒｓ）（Ｙ
）ｔ （式中、Ｙ灯前記の意味である）で表わされる
ホスフィン酸である。縮合は場合により塩基例えはトリ
ー低級アルキルアミン例えはトリエチル−またはトリー
ｎ−ブチルアミンの存在下で、そして高めた温度例えば
約り０℃〜約１５０℃の温度で行われ、この操作は不活
性溶媒中または好ましくは溶媒の添加なしで行われる。 有機スルホニル基、了ロイル基または低級アルカノイル
基Ｒ６の導入はそれ自体公知の方法で例えばＲ−が有機
スルホニル基、アロイル基または低級アルカノイル基で
ある式Ｒ，−Ｘで表わされる化合物でのアシル化により
行われる。適当なアシル化剤は例えば相当するアレン−
または低級アルカン−スルホン酸または−カルボン酸の
反応性官能誘導体例えばその無水物例えば対称無水物ま
たに７・ロゲン化水素酸との混合無水物例えば酸塩化物
である。前記アシル化剤の例は低級アルカンスルホニル
クロリド例えばメタンスルホニルクロリド、置換されて
いないかまたは置換されているぺ／ゼンスルホニルクロ
リド側光ばベンゼンスルホニルクロリドまたは４−トル
エンスルホニルクロリド、低級アルカンカルボン酸クロ
リドまたは無水物例えば塩化アセチル、塩化グロピオニ
ル、または無水酢酸、またはアレンカルボン酸ノ１ライ
ド例えば塩化ベンゾイルである。反応は所望により塩基
性縮合剤例えば前記のものの１つの存在下、不活性溶媒
中、例えば芳香族炭化水素例えばベンゼンまタハトルエ
ン、エーテル例えはジオキサン、テトラヒドロフランま
たはジメトキシエタンあるいはアミド例えばジメチルホ
ルムアミド中、室温またに高めた温度例えば約り０℃〜
約ｉｏｏ℃の温度で行われる。 式（ＸＩ）で表わされる化合物を７・口ぎ酸低級アルキ
ルエステル例えばクロルぎ酸エチルエステルと、または
＃換されたカルバミン酸ノーライド例えばジエチルカル
バミン酸クロリドと反応させることによりｓ ＲＩＢが
低級アルコキシカルボニル基またＦｉ直換されたカルバ
モイル基である式（１）で表わされる化合物を製造でき
る。反応は、アロイル基または低級プルカッイル基Ｒ６
の導入で記載したのと同じ反応条件下で行われる。 Ｎ−モノー低級アノルキル化されたカルバモイル基の導
入もまた式（ＸＩ）で表わされる化合物を珂が低級アル
キル基である式ｎ４−Ｎｃｏで表わされるイソシアネー
トと反応させることにより行われる。反応は不活性溶媒
中、例えば第３了ミン例えばピリジン中、室温または好
ましくは高めた温度例えば沸点で竹われる。 さらに、式（ＸＩ）で表わされる化合物をシアン化カリ
ウムおよび同時に溶媒として供給できる有機酸例えば酢
酸から好ましくはその場で生成されるシアン酸と室温ま
たに低めた温度例えば約−（９）℃〜約２０’Ｃで反応
させるか、おるいは水溶液中、塩基性縮合剤特にアルカ
リ金輌水酸化物例えば水酸化ナトＩＪウムの存在下で式
（ＸＩ）で表わされる化合物をハロゲン化シアン例えば
臭化シアンで処理し、この反応を約−加℃〜加℃の温度
で打うことにより、置換されていないカルバモイル基を
導入できる。 しかし、アシル化特に低級アルカノイル化および低級ア
ルコキシカルボニル化は２段階で、例えばＲ・がトリ低
級アルキルシリル基例えばトリメチルシリル基である式
（１）で表わされる化合物を室温またはわずかに低めた
温度例えば約−加℃〜約加℃で、好ましくはその場で形
成し、この化合物を溶媒として使用できるアシル化剤？
１１えは芳香族炭化水素ｆ１１ｉえばベンゼンまたはト
ルエンと反応、させることによや行われる。トリー低級
アルキルシリル中間体化合物Ｈｆ１ｌえは式（ｘｉ）
で表わされる化合物をヘキサ−低級アルキルシラザン
例えばヘキサメチルシラザン、トリ低級アルキルアミノ
シラン例えばトリメチルアルキルシランと、あるいは塩
基例えば７３アミン例えばトリエチルアミンの存在下で
トリ低級アルキルノ・ロンラン例えばトリメチルシリル
クロリドと反応させることにより得られる。 本発明により得ることができる式（Ｉ）で表わされる化
合物は、その製造方法に関係なく、それ自体公知の方法
により式（１）で表わされる別の化合物に変えることが
できる。 １−オキシドの形成： ｎが０である式（Ｉ）で表わされる化合物は酸化により
、例えば方法（ｄ）に記載の酸化方法の１つにより、ｎ
が１である式（Ｉ）で表わされる化合物に変換できる。 ｎが１である式（１）で表わされる化合物は還元により
、例えば方法（ｄ）に記載の還元方法の１つにより、ｎ
がＯである式（Ｉ）で表わされる化合物Ｋｆ換できる。 遊離アミン基軸の置換されたアミン基蝕への変換： 触がアミノ基でろる式（Ｉ）で表わされる化合物はそれ
自体公知の方法でＡｍがｉｂ：！Ｉｉされたアミノ基例
えば特にジー低級アルキルアミノ−低級アルキリデンア
ミノ基である式（１）で表わされる別の化合物に変換で
きる。従って、相当するジー低級アルキルアミノ−低級
アルキリデンアミノ化合物は例えば式（Ｉ）で表わされ
るアミン）＋７アゾ一ル化合物において、低級アルカン
カルボン酸ハロゲン化物ｆ、ｕえば塩化アセチルと、筐
たに無水酢酸の存在下でさ酸と反応させることにより遊
離のアミノ基を低級アルカノイルアミノ基例えばアセチ
ルアミノ基またはホルミルアミノ基に変え、これをハロ
ゲン化剤例えば五塩、化リンと反応させ、そして得られ
たイミドエステルハライドをジー低級アルキルアミン例
えばジメチルアミンまたはジエチルアミンと反応させる
ことにより製造できる。 保護基の除去： １個またはそれ以上の官能基が保護されている式（１）
で表わされる得られた化合物において、これらの基例え
ば保護されたカルボキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基お
よび（または）スルホ基はそれ自体公知の方法で、ソル
ボリシス特にヒドロキシ基、アルコリシスまたはアシド
リシスによるかまたは還元特に水素化分解または化学的
還元により、場合により数段階でま７’（は同時に除去
できる。 保護されたカルボキシ基特に保護されたカルボキシ基Ｋ
ｓｕそれ自体公知の方法で、そして保護基の性質により
種種の方法で好ましくはソルボリンスま九に還元により
除去される。 従って、例えば置換されていないか１念に２−位置でシ
リル基により置換されているかまたは１−位置で低級ア
ルキル基ま九ハ低級アルキルチオ基により置換されてい
る低級アルキルカルボニル基、ポリシクロアルコキシカ
ルボニル基ｉた１まジフェニルメトキシカルボニル基は
場合により求核性化合物例えばフェノールまたはフェノ
ールを加えて適当な酸性剤例えばぎ酸またはトルフルメ
ロ酢酸で処理することにより遊離のカルボキシ基に変換
できる。置換されていないかまたは置換されているベン
ジルオキシカルボニル基は、例えば水素化分解により、
すなわち、水素化触媒例えばパラジウム触媒の存在下、
水素での処理により分裂できる。 さらに、ある種のＭ、換されたベンジルオキシカルボ＝
Ｊ’ Ｍ ？ｌ＋ ｊｃ−ハ４−ニトロベンジルオキ
シカルボニル基は一般に金属と一緒になって発生期の水
素を生成できる水素供給剤、例えば酸特にカルボン酸ま
たはａ−ヒドロキシカルボン酸例えば特に酢酸、ぎ酸、
グリコール酸、ジフェニルグリコール酸、乳酸、マンデ
ル酸、ｐ−クロルマンデル酸、酒石酸等またはアルコー
ルまたはチオールの存在下で、好普しくに水を加えて、
化学的還元により、例えば−ｒルカリ金媚曲ニチオン酸
塩例えば亜ニチオン酸す） ＩＪウムでの処理によるか
または還元金属例えば亜鉛または金属塩例えはクロム（
ｉｔ）塩例えばクロム（ｎ＋鳩化物での処理？こより遊
離のカルボキシル基に変換することもできる。還元金属
または金属塩での処理により前記のように２−ハロー低
級アルコキシカルボニル基（ｔ８Ｍ合によシ２−ブロム
ー低級アルコキシカルボニル基ｔ−２−ヨード−低級ア
ルコキシカルボニル基に変えた後）、またはアロイルノ
１−キ／カルホニル基を遊離のカルボキシ基に変換する
こともできるし、同様に求核性の好ましくは塩形成性の
薬剤例えばナトリウムチオフェルレートまたはヨウ化ナ
トリウムでの処理によりアロイルメトキシカルボニル基
を開裂できる。置換された２−シリルエトキシカルボニ
ル基もまたマクロ環式ポリエーテル（「クラウンエーテ
ルＪ）の存在下フッ素アニオンを生ずるフッ化水素酸の
壌例えばアルカリ金属フッ化物例えばフッ化ナトリウム
または一カリウムでの処理によるか、またに非プロトン
性極性＃奴例えはジメチルスルホキシドまたｉ Ｎ、Ｎ
−ジメチルアセトアミドの存在］有機第４塩基のフッ化
物例オはフッ化テトラアルキルアンモニウムまたはフッ
化トリアルキル−アリールアンモニウム例えばフッ化テ
トラエチルアンキニウムまたはフッ化テトラプチノしア
ン七ニウムでの処理により遊離のカルボキシ基にり侯す
ることもできる。ポリハロアリ＝ルオギシ力ルボニル基
６＋１ 、ｔ ｋｉペンタクロルフェニルオキシカルボ
ニル基は緩和な塩基性条件下で例えば希水酸化す） Ｉ
Ｊウム溶液により捷たに水存在下の有機塩基により加水
分解して遊離カルボキン基になる。 例えばシリル化ま７ｔ（グスタニル化によって保護され
たカルボキシ基は通常の方法例えば水またはアルコール
で処理することにより遊離化することができる。 保護されたアミン基はそれ自体公知の方法により、保護
基の性質に基いて種種の方法好ましくはソルボリシスま
たは還元により遊離化する。２−ハロー低Ｍアルコキシ
カルボニルアミノ基（場合により２−ブロム−低級アル
コキシカルボニルアミノ基は２−ヨード−低級アルコキ
シカルボニルアミノ基に変換しておく）、アロイルメト
キシカルボニルアミノ基または４−二トロベンジルオキ
シカルボニルアミノ基は適当なカルボン酸例えば酢酸水
溶液の存在下で例えば適当な化学的還元剤例えば亜鉛で
処理することにより開裂することができる。了ロイルメ
トキシカルボニルアミノ基は好筐しくに塩形成性の親核
性剤例えばナトＩＪウムチオフエノラートで処理するこ
とにより、そして４−二トロペンジルオキシカルボニル
アミノ基は弊ニチオン酸アルカリ金属塩例えば亜ニチオ
ン酸ナトリウムで処理することにより開裂することがで
さる、置換されていないかまたは置換されていルシフェ
ニルメトキシ力ルポニルアミノ基、ｔ−低級アルコキシ
カルボニルアミノ基または２−トリ置換されているシリ
ルオキシカルボニルアミノ基は適当な酸例えばギ＃′１
念にトリフルオロ酢酸で処理することＶＣより、置換さ
れていないかまたハ諏換されているベンジルオキシカル
ボニルアミノ基は例えば水素添加分解すなわち適当な水
素化触媒９＋Ｉえばパラジウム触媒の存在下で水素によ
る処理により、置換されていないかまたは置換されてい
るトリアリールメチルアミノ基、ホルミルアミノ基また
は１−アシル−低級アルク−１−エン２−イルアミノ基
は例えば酸例えば鉱酸例えば塩酸または有機酸例えばギ
酸、酢酸またはトリフルオロ酢酸により場合により水の
存在下で処理することにより、そして有機シリル基また
はスタニル基で保護したアミン基は例えばヒドロリシス
またはアルコーリシスにより、それぞれ遊離化すること
ができる。２−ハロアセチル基例えは２−クロルアセチ
ル基で保護したアミノ基は塩基の存在１でチオ尿素で処
理するかまたはチオ尿素のチオール酸塩例えはチオール
酸アルカリ金属塩で処理し、そして続いて得られた縮合
生成物をソルボリシス例えばアルコーリシスま友ハヒド
ロリシスすることにより遊離化することができる。２−
ｆｌ換されているシリルエトキシカルボニル基で保護し
たアミン基は、相当する保鐸カルボキシル基の遊離化に
関連して述べたように、フッ化物アニオンを生成するフ
ッ化水素酸堪で処理することにより遊離アミン基に変え
ることができる。ホスホルアミド基、ホスホンアミド基
またはホスフィンアミド基またはげリン含有酸例えばリ
ン酸、ホスホンａまたはホスフィン酸例えばオルトリン
酸またはポリリン酸、それらの酸エステル例えばリン酸
のモノメチル、モノエチル、ジメチルまたはジエチルエ
ステル、またはモノメチルホスホン酸、またはその無水
物例えば５酸化リン処理することにより遊離アミン基に
変えることができる。 アジド基の形で保護したアミン基は例１えば還元例えば
水素化触媒例えば酸化白金、パラジウムまたはラネーニ
ッケルの存在下での水素による接触水素化により、また
は酸例えば酢酸存在下での亜鉛処理により遊離アミン基
に変えることができる。 接触水素化は不活性溶媒例えばハロゲン化炭化水素例え
ば塩化メチレンの中であるいｒＪ氷水中たは水と有機溶
媒例えばアルコールまたはジオキサンとの混合物中で、
約美〜訪℃おるいは冷却またに加熱しながら行うのが好
ましい。 適当なアシル基、有機シリル基またはスタニル基、筐た
は置換されていないか′！、たは置換されている１−フ
ェニル−低級アルキル基で保＾した水酸基は相当する保
護アミノ基と同じ方法で遊離化する。２，２−ジクロル
アセチル基で保護した水酸基は例えば塩基性ヒドロリシ
スによってｍ裂し、一方を一低級アルキル基または２−
オキサ−または２−チア−脂肪族炭化水素基または２−
オキサ−または２−チア−脂環式炭化水素基によってエ
ーテル化した水酸基はアシドリシス例えば鉱ｅＩＩ／ま
たは強有Ｉ！Ｐｉ！例えばトリフルオロ酢酸で処理する
ことにより遊離化する。 保護された、特にはエステル化されたスルホ基は保護さ
れたカルボキシル基に対する方法と同様の方法で遊離化
する。 上記の各開裂反応はそれ自体公知の条件下で、必弗によ
り冷却また＃−１加熱しながら、密閉容器内でそして（
またＦ′ｉ）不活性ガス雰囲気下例えば窒素ガス雰囲気
下で実施する。 Ｈｐの官能性保陣基が存在する場合には、例えはアシド
リシス例えばトリフルオロ酢酸またはギ酸で処理するこ
とによシ、またに還元例えば亜鉛および酢酸でまたは水
素および水素化触ｌ・・例えば木炭上パラジウム触媒で
処理することにより、２個以上の保護基を同時に除去で
きるように保護基を選ぶことが好ましい。 塩形成： 塩形成性基をもつ式（１）の化合物の＃Ｌはそれ自体公
知の方法で製造することができる。すなわち、酸基をも
つ式（Ｉ）の化合物の塩は、例えば金属化合物例えば適
当な有機カルボン酸のアルカリ金属塩例えばａ−エチル
カプロン酸のナトリウム塩または無機アルカリ金槁塩ま
たはアルカリ土類金属塩例えば炭酸水素ナトリウムで処
理することにより、またはアンモニアもしくは適当な有
磯了ミンで処理することにより、好１しくは塩形成性剤
を什学量論的ｉまたは僅かの過剰量で使うことによって
形成することができる。式（１）の化合物の醜付７ＴＩ
Ｔ地にフ申常の方法例えば酸またに適当なアニオン交換
剤で処理することによって得る。例えば遊離カルボキシ
ル基を含む式（１）の化合物の分子内ｔｓｕ−ｔ、例え
ば塩例えば酸付加塩を例えば弱塩基で等電点まで中和す
るかめるいは液体イオン交換体で処理することによって
形成することができる。 塩は通常の方法で遊離化合物に変えることができる。金
属塩およびアンモニウム塩は例えば適当な酸で処理する
ことにより、そして酸付加塩は例えば適当な塩基性剤で
′処理することにより、遊離化合物に変えることができ
る。 異性体混合物上それ自体公知の方法例えば分別結晶、ク
ロマトグラフィー等により個個の異性体に分離すること
ができる。 本発明方法は、本発明方法によって中間生成物として形
成される化合物を邑発材料として使い残りの工程を行う
か、または工程を任意の段階で中断するか、あるいは出
発材料を誘導体の形で使うかまたは反応工程中で形成す
る各種の態様を含むものである。 出発材料および反応条件は、上記で特に好ましいとして
述べた化合物が得られるようなものを選ぶのが好ましい
。 出発物質 本発明の化合物の與造工程中で使用する出発物質は公知
であるか、または新規であるならば、それ自体公知の方
法で製造できる。 式（Ｈ）で表わされる出発物質および保護官能基を持つ
相当する化合物も１ｆｃ公知である、５−アミノ−１，
２，４−トリアゾール−３−イル酢酸（ソビエト特許第
３２０４９６号明細書）を除くと、式（１）で表わされ
る化合物は公知ではなかつ次。式（１）で表わされる新
規化合物はそれ自体公知の方法で製造できる。製造方法
に以下の反応図式で説明される。 （ＸＩＶ） （ＸＶ）段階ｌ： 式（ＸＷ ） で表わされる化合物において、２はエ
ーテル化されている水酸基特に低級アルコキシ基例えば
メトキーシ基またはエトキシ基でろるか、または置換さ
れていないかまたは置換されているアラルコキシ基例え
ばベンジルオキシ基またはｐ−メトキシベンジルオキシ
基であり、そ、してＲ８は水素原子、シアノ基または保
護されたカルボキシ基である。保護されたカルボキシ基
は特に温和な化学的条件下で容易に除去できるエステル
化されたカルボキシ基である。適当な保護基に例えば保
護すれたカルボキシ基Ｒ３の場合に記載のもの、特に置
換されていないかまたは置換されている低級アルキル基
である。 式（Ｘ＊） で表わされる化合物は公知であるかまた
はそれ自体公知の方法によシ、例えばＭｃＣａｌｌによ
り記載の方法（５ｙｎｔｈｅ＠ｉｓ 、１９８０．１２
３ ）に従って製造できる。 式（ＸＶ）で表わされる化合物は例えば方法（ｉ）に記
載の方法により、式（ＸＩＶ） で表わされるシアノ
イミンを弐Ｒｓ −ＮＨＮＨ雪で表わされるヒドラジン
と反応させることにより得られる。 閉環反応においては、反応生成物として５−アミ／ −
３（Ｒ＠−ＣＨ２） ｌ−（Ｒｓ） −トリアゾールの
他に異性体の３−アミノ−ｓ （Ｒ＠ −ＣＨ２）
ｌ （Ｒａ）−トリアゾールもまた形成する。弄性体比
Ｆ′ｉ反応条件例えば温度またＦｉ溶媒、および順換基
Ｒ６ぞしてとりわけＲ１の性質に依存する。 所望により異性体は常法により、例えば分別結晶、クロ
マトグラフィーへにより分離できる。式（ＸＶ）で表わ
される化合物に次の反応段階で異性体混合物の杉また社
純粋な異性体の形で使用することができる。 段階２： 式（Ｉａ ）で表わされる化合物において、アミノ基苦
とカルボキシ基とは場合により保護された形である。式
（Ｉａ）で表わされる化合物に式（ＸＶ）で表わされる
化合物において、その遊離のアミン基を保会されたアミ
ノ基に質えることにより、およびＲ８が水素原子またに
シアノ基゛である式（ＸＶ）で表わされる化合物におい
て、水１ｇ原子またはシアノ基をカルボキシ基でおきか
えることにより、製造できる。 アミノ保護基の導入に常法の１つにより、例えｄアシル
化、シリル化ま次はアルキル化に−よって竹われる。保
捧された了ミノ基は前記の保護基例えばホルミル基、ｔ
−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基
また＃−１２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル
基の１つを含有スル。 Ｒｓ が水素原子ま友はシアン基である式（ＸＶ）で
表わされる化合物において、水素原子またはシアノ基に
それ自体公知の方法にょ９、例えばカルボキシル化ある
いに塩基性または酸性加水分解によりカルボキシ基であ
きかえられる。Ｒ８が水素原子である式（ＸＶ）で表わ
される化合物のカルボキシル化に、例えば化合物を金属
化し、そしてそれを二酸化炭素で処理することにより行
われる。金属化剤としては、特に有機リチウム化合物例
えば低級アルキルリチウム例えばメチル−、エチル−ま
たはブチル−リチウム、了り一ルリチウム例えばフェニ
ルリチウム、およびリチウムアミド例えばリチウム−ジ
ー低級アルキルアミド例えばリチウムジイングロビルア
ミドが考えられる。金属化は不活性溶媒中、例えばエー
テル例えばジエチルエーテル、ジオキサンまたはテトラ
ヒドロフランまたは炭化水素例えばヘキサンまたはベン
ゼン、または第３アミン、またはジアミン例えばテトラ
メチルエチレンジアミン中で、減じた温度？＋１えげ約
θ℃〜約−８０℃の温度で行われる。次に同じ温度で二
酸化炭素を導入するか、または金属化混合物を乾燥した
氷上に江別する。二酸化炭素の代ゎシにハＯぎ酸エステ
ルを使うと、式（ｌＩａ）で表わされる酸のエステルが
得られる。 式（Ｉａ） で表わされるカルボンｅは式（ＸＶ）で
表わされるニトリル（Ｒ８＝シＪ））をアルカリ性また
は好ましくは酸性加水分解にかけることによっても得る
ことができる。アルカリ性加水分解の場合、操作をアル
カリ金属またはアルカリ土類金楓の水酸化物例えば水酸
化ナトリウム、−カリウム、−カルシウムまたは一バリ
ウムの存在下、沸とう水溶液中、またはよシ高い温度ｆ
ｒｉｊえば１００〜１５０℃を達成するため、アルコー
ル性溶液中、例えばアミルアルコールまた祉グリセリン
中で行う。酸性加水分解は加熱して例えば８０−１２０
Ｔ、で、濃ハロゲン化水素酸例えば塩酸または臭化水素
酸によるか、または遊離酸を高い割合例えば５０〜７５
チ含む硫酸により行われ、出発物質の溶解性を改良する
ため、可溶化剤例えが酢酸を加えることもできる。 段階３： 式（ｌａ ） で表わされる５−アミノトリアゾール
−３−イル酢酸は式（ｘ■）で表わされるアミノグアニ
ジンまたにその塩をマロン酸と反応させることにより得
ることもできる。 式（Ｘ＋Ｖ） で表わされる化合物の塩は特に鉱酸例
えばハロゲン化水素酸、硫酸または硝酸あるいはカルボ
ン酸の塩である。前記塩は例えば塩酸塩、臭化水素酸塩
、硫酸水素塩、硝酸塩または炭酸水素酸である。 反応を例えば水溶液中、酸性縮合剤例えば硝酸または硫
酸の触媒量を場合により添加して、高めた温度例えば沸
とう温度または約１２０〜１８０℃の温度範囲で行い、
最後に記載の場合、反応を密閉容器中で行う。しかし、
操作を有機溶媒中、例えは水と共沸混合物を好ましくは
形成する、トルエンまたはキシレンのような溶媒中で打
い、反応中に生成する水を使用する溶媒の沸点で加熱す
ることにより共沸的に留去することも可能である。 段階４ニ アミノ基崩 が保護されており、カルボキシ基が場合に
より保護されている形の式（Ｉｂ） で表わされる化
合物ｔ’；ｉ ？ｌｊえば式（Ｉｉｌａ） で表わさ
れる化合物の相当する保護された誘導体を適当な酸化剤
例えば二酸化セレンで処理することにより得られる。 反応を不活性溶媒中例えばエーテル例えばジオキサンま
たにテトラヒドロフラン、了ミド例えばジメチルホルム
了ミド、あるいは第３アミン例えばピリジ／中、場合に
より減じたまたに高めた温度例えば約θ℃〜約１００℃
、好ましくは室温〜約９５℃の温度で行う。 段階５： 式（Ｉｍ）で表わされる化合物のアミン基Ａｍ が保護
された形で、カルボキシ基が場合により保護された形で
ある式（ｌｉｅ） で表わされる化合物への変１１Ｉ
ｉｌｔ例えば方法（２）で記載の方法の１つにより、そ
こで記載のニトロソ化剤の１種を使って行われる。 段階６： アミノ基Ａｍが保糧されており、カルボキシ基が場合に
より保護されている式（厘ｂ）で表わされる化合′＄１
１と式Ｈ，Ｎ−ＯＲ，で表わされるヒドロキシルアミン
との反応は、例えば方法（ｅ）に記載の方法の１つによ
り行われる。 前記の方法により得ることができる式（Ｉａ）、（Ｉｂ
）および（Ｉｃ） で表わされる化合物において、存
在してもよい保護基はそれ自体公知の方法で除去するこ
とができる。従って、例えばアミン保護基は前記のよう
に除去され、そしてカルボキシ保饅基は方法（ｈ）で記
載のようにして除去される。 アシル化に適当な式（１）で表わされるカルボン酸の反
応性官能誘導体は、場合によりその場で、それ自体公知
の方法によシ、９１えは方法（ａ）に記載の方法により
製造される。 さらに、Ｒ６が水素原子である式（ｌｃ）で表わされる
化合物において、ヒドロキシイミノ基を方法（ｆ）に記
載したのと同様の方法でエーテル化オたはカルバモイル
化することができる。 Ｒ６が水素原子である式（Ｉｌａ）、（ｍｂ）および（
ｌｉｅ）で表わされる化合物において、例えば方法Ｕ）
に記載の方法の１つにより置換されていないかまたは置
換されている炭化水素基またはアシル基Ｒ６を導入する
ことができる。トリアゾール環の置換基および基Ｒ６の
性質、および選択する反応粂件（温度、溶媒、塩基性縮
合剤等）により、５−アミノ−１−（Ｒｓ）−）リアゾ
ール−３−イル酢酸または３−アミノ−１−（Ｒｅ）−
１リアゾール−５−イル酢酸、またはそれらの混合物が
生成する。混合物は常法により、例えば分別結晶、クロ
マトグラフィー等により分離できる。 さらに、式（Ｉａ入（ｍｂ）および（Ｉｌｌｃ）、 な
らびに（ＸＶ）で表わされる化合物において、アミン基
軸にそれ自体公知の方法により、例えば前記の方法によ
り、置換されたアミノ基例えばジー低級アルキルアミノ
−低級アルキリデンアミノ基にｆ換できる。 得られた式（ＩＭ）で表わされる異性体化合物の混合物
は、例えば式（１）で表わされる化合特に対して記載し
た方法で個個の異性体に分離できる。 式（Ｆ／）で表わされる化合物は公知であるかま念はそ
れ自体公知の方法で、例えば出発物質として相当する７
β−アミノ−３−（Ｒ’鵞−ＣＨｘ ）−３−セフェム
−４−カルボン酸化合物を使って、アミノ基を例えは方
法（ａ）に記載の方法の１つにより例えば式（ｉｌ）で
表わされる酸にアシル基を導入するアシル化剤での処理
によシ、アシル化することによシ得ることができる。 式ＣＶｉ）で表わされる出発物質はとりわけ式（１）で
表わされる種類の化合物を塩基性条件下で形成する場合
、それらの製造の副生成物として得ることができる。そ
れらは純粋な形である必要はなく、例えσ式（Ｉ）で表
わされる相当する化合物と混合しても使用できる。 式（ＸＵ） で表わされる出発物質に例えば方法（ａ
）に記載の方法の１つにより、例えば式（１）で表わさ
れる７β−丁ミノセフエム化合物をンアンプセ千ル基を
導入する試薬例えばシアノ酢酸で処理し、得られた式 で表ワサれる７β−シアノアセチルアミノ化合物を塩化
水素および低級アルカノール例えばエタノールと共に式 ％式％（） で表わされるイミノエステル塩酸塩に変え、そしてこれ
をシアノアミドで処理することにより製造できる。 式（Ｖ入（ｖｉ）〜（Ｘ）および＜ｘｍ）で表わされる
化合物に一般式（Ｉ）ｒｃ該当し、そして力／ｉｃｅ
（＆）、（ｂ）、（ｄ）また１４（ｉ）の１つにより得
ることができる。 本発明にまた新規の出発物質および中間体、ならびにそ
れらの製法にも関する。 本発明の薬学的に客間できる化合物は例えば、活性成分
の有効量を好ましくは非経口的投与に適した無接または
有接で、固体または液体の薬学的に容認できる担体と共
に、または混合して含有する薬学的製剤の製造のために
使用できる。 本発明の薬学的に活性な化合物は非経口的例えば筋肉内
また社静脈内の投薬製剤の形を友は注射溶液の形で好ま
しくは使用する。前記溶液は好ましくは等張の水溶液ま
たは懸濁液であり、それらは使用前に活性成分のみまた
は担体例えばマンニトールをも共に含有する凍結乾燥製
剤から調製することができる。薬学的製剤は殺菌されて
いてもよく、そして（ま７？＋は）助剤例えば防腐剤、
安定剤、湿潤剤および（または）乳化剤、可溶化剤、浸
透圧を調節するための塩類および（ｔたは）緩衝液を含
有していてもよい。所望によシ、他の薬学的に価値のあ
る物質を含有していてもよい本発明の薬学的製剤はそれ
自体公知の方法により、例えば通常の溶解法または凍結
乾燥法により製造でき、活性成分を約０．１チ〜１００
◆特に約５０チ、そして凍結乾燥剤の場合は１００％ま
で含有する。 式（Ｉ）で表わされるある種の化合物、例えば−が生理
学的条件下で容易に分裂できるエステル化されたカルボ
キシ基である化合物は経口的に、例えばカプセルの形で
投与することもできる。これらハ場合により適当な担体
と一緒に活性成分を顆粒状で１投薬率位当たシ約０．２
〜０．５９含有する。 感染の性質および感染生物の状態により、約７０嗜の温
血動物の治療に対して約０．５２〜約５ｆ（例えばｉ
、ｍ、またはｉ、ｖ、 ）の非経口的投薬７日が使用さ
れる。 以下の実施例により本発明を説明する。 例において、以下の省略形を便用する。 ＢＯＣ： ｔ−ブトキシカルボニル 薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ） ｍ Ａｎｔｅｃに
より製造された０ｐｔｉ −［ＰＣ□２グレートはシリ
カゲルでコーティングされたガラスプレートであり、こ
のシリカゲルは（逆相クロマトグラフイーのため）ドデ
シルトリクロロシランで処理」されている。 例 １ （ｍｌ ７β−（２−（５−アミノ−１〜メチル−１Ｈ
−１，２，４−）リアゾール−３−イル）−アセトアミ
ノコ−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸のナトリウム塩 トリフロオロ酢酸１０．７５ ｔηＣを室温で塩化メチ
レン２．５ｑＡとアニソール帆８３婬との中の７β−〔
２−（５−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−メチル
−１）１−１．２．４− ）リアゾール−３−イル）−
アセドアｚノ〕−３−アセトキシメチル〜３−セフェム
−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル１．０７
？ （１，５０ミリモル）の浴液に加え、混合物を３０
分間かきまぜ、そして久にジエチルエーテル／ヘキサン
（１：２）３００ｗｊ＆中でかきまぜる０題の化合物の
トリフルオロ酢酸塩から取る沈殿をろ過により率離し、
メタノール中１：溶解し、そして約３Ｎのメタノール性
ナトリウム２−エチルヘキサノエート溶液で−７，０に
調製する。ジエチルエーテルの添加後、侍られた沈殿を
吸引ろ過し、クロマトグラフ処理（ＵＰＣ，、プレート
、水／アセトニトリル６：１）する。Ｆ、ｆ値帆５０
（ＵＰＣ，２プＬ’−１−１水／アセトニトリル６：１
）の均一なｓの化合物が位られる。ＩＲスペクトル（又
ショール）： ３４５０．１７８５．１６１０． １３
８５．１２３５ｍ−’に特性吸収帯。ＵＶスペクトル（
エチルアルコール）λｍ□（ｇ）： ２６３ （６８
００）ｍμ。 出発物質は以下のようにして製造できる。 （ａｍ） ５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２
，４−トリアゾール−３−イル酢酸エチルエステルメチ
ルヒドラジン１３．１−をアセトニトリル６５−中の３
−シアノイミノ−３−エトキシ−プロピオン酸エチルエ
ステル３５．５ｆ （０，１９３モル）ノ溶液中に０°
Ｃで加え、そして混合物をこの温度で４時間かきまぜる
。得られた沈殿をろ過し、そしてジエチルエーテルで洗
う。ろ液を濃縮し、そしてジエチルエーテルを添加し、
さらＣ二生底物を沈殿させる。Ｒｆ値０．７０ （シリ
カゲル、クロロホルム／メタノール／氷酢酸８５ ：
１２ ： ３ ）の均一な題の化合物か得られる。融点
１１５〜６°Ｃ，ＩＲスペクトル（Ｃ１２Ｃ１２） ：
３４７５．３３８０．１６３０（Ｘ−’に特性吸収帯
。 （ａｂ） １−メチル−５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブト
キシカルボニルアミノ） −１１（−１，２，４−トリ
アソール−３−イル酢酸エチルエステル ５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリア
ソール−３−イル酢酸エチルエステル２．０９ｆ （１
０，８７ミリモル）とＢＯＣ無水物５．２ｆとの＠＾、
液を６０°Ｃ（浴Ｙ！！、 ）で３時間かきまぜる。反
応混合向を放冷し、酢酸エテル２０ｆｆｎで希釈１−１
飽和塩化ナトリウム浴欣で洗い、蝋酸マグネシウム上で
乾燥し、そして濃縮する。残さを酢酸エチル／ヘキサン
から沈殿させる。Ｒｆｆ［帆６０（シリカゲル、クロロ
ホルム／メタノール９５：５）の魂の化合物が得られる
。融点９８〜１００″Ｃ，ＩＲスペクトル（ＣＭ２Ｃ１
２） ： ３４００．３１００．１７８５．１６６０．
１１２５イ１に特性吸収帯。 題の化合物は以Ｆのよ、１ｙ、にして祷ることもできる
。 （ａｂｌ ）テトラヒドロンラン１０−〃Ｑ中の５−ア
ミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール
−３−イル酢酸エチルエステル帆９２１ （５，０ミリ
モル）とトリエチルアミン０−８ｗＱとの懸濁液を−２
０”Ｃでトルエン中の２０１ホスゲン５福とテトラヒド
ロフラン８−、の浴液中Ｃ二加え、そして混合物を１０
分間か負まぜる。ｔ−ブチルアルコール１０ｄとトリエ
チルアミン２ ｙＯとの添加後、混合物をゆっくり室温
に加熱し、ジエチルエーテルで希釈し、水で洗い、偕酸
ナトリウム上で乾燥し、そして灘縮する。 残さな酢酸エチル／ヘキサンから沈殿させる。Ｒｆ値０
．６０ （シリカゲル、クロロホルム／メタノール９５
：５）の題の化合物が得られる。 題の化合物は同様に以下のようにして得ることができる
。 （ａｂ２） ５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２
，４−トリアゾール−３−イル酢酸エチルエステル０．
１８４ｆ （１，０ミリモル）とｔ−ブチルアルコール
１ ｎ＝Ｑ。 とＢＵＣ無水ｖＪＬ）、２６２ ｆ ト０） ＠ ｉｔ
ｉ液を５５’Ｃ（浴温）で１６時間かきませる。反応混
合物を冷却し、酢酸エチルで希釈し、飽和塩化す） Ｉ
Ｊウム浴液で洗い、恢酸マグネシウム上で乾燥し、そし
てｓｍする。 残さを酢酸エチル／ヘキサンから沈殿させる・、Ｒｆ値
０．６０ （シリカゲル、クロロホルム／メタノール９
５：５）の題の化合物が得られる。 （ａｃ） １−メチル−５−ｔ−ブトキシカルボニル
アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル
酢酸 水４５−中の水酸化カリウＡ ５．４７５ｆ （／Ｊ
ｆｇ液を９５チエチルアルコール１１０顧中の１−メチ
ル−５＝（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
）−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル酢酸
エチルエステル４．Ｏｆの溶液に加え、混合物を５０°
（で１．５時間かきまぜる。反応混合物を真空下で濃縮
し、水で希釈し、４Ｎ塩酸でｐＨ８，５に調整し、そし
て酢酸エチルで抽出する。次に水性相を４Ｎ塩酸でｐＨ
３，０に調整し、得られた沈殿をろ過し、ジエチルエー
テルで洗い、そして乾燥する。Ｒ１？ｔｌＯ，５０（シ
リカゲル、１ｅｅ−ブタノール／木酢６Ｉ２／水６７
： １０ ： ２３）の題の化合物が得られる。融点１
４０〜１４２°Ｃｏ ＩＲスヘクトル（Ｃ）１２Ｃ１２
） ：３２００゜３０８０．１７３５．１７１Ｏ１１１
５５ｃＲ−’に特性吸収帯。 （ａｄ） ７β−［２−（５−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾ
ール−３−イル）−アセトアミノシー３−アセトキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル 乾燥テトラヒドロフラン２ｄ中の１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール帆２１ｆおよびＮ、Ｎ’−ジシクロへキシ
ルカルボジイミド０．６０ｆを０°Ｃで乾燥テトラヒド
ロフラン１５フρ中の１−メチル−５−を−ブトキシカ
ルボニルアミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−
３−イル酢酸０．５Ｏｆ （１，２７ミリモル）と７β
−アミノ−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル帆８２３ｆ （１
，８８ミリモル）との溶液に加え、そして混合物を０°
Ｃで２．５時間、そしてさらに室温で６時間かきまぜる
。反応混合物のろ過後、ろ液（二酢酸エチル５０ｗＭを
加え、そしてこの混合物を−８，０のリン酸塩緩衝液と
塩化ナトリウム水溶液とで連続的に洗い、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、そして真空下で濃縮する。残さなジエ
チルエーテル／ヘキサンですりつぶす。Ｒｆ値帆６０（
シリカゲル、酢酸エチル）の題の化合物が得られる。Ｉ
Ｒスペクトル（ＣＨ２Ｃｌ、 ） ： ３３６０．１７
８５．１７１５．１２２０．１１５５ｃｍ−’ ｌ−％
性吸収帯。 （ｂ）７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−
１，２，４−トリアゾール−３−イル）−アセトアミノ
〕−３−アセＩ・キシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸は以下のようにして製造できる。 ５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリア
ゾール−３−イル酢酸１．５６Ｆ （１，０ミリモル）
および酢酸エチル０．５ｍ＃をＯ゛ＣでＶｉ ｌ ｓｍ
ｅｙｅ ｒ試薬〔塩化オキサリル０．１，１０．１２ミ
リモル）および酢酸エチル３りｐ、中のＮ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド０．０９−から調製〕のかきまぜた懸′
／１６沿中に加える。 混合物をＯ″Ｃで４５分間かきまぜ、そして次に一１０
°Ｃに冷却する（溶液１）。一方、７β−アミノ−３−
アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸０．
２７ｆ （１，０ミリモル）とＮ、０−ビス−（トリメ
チルシリル）−アセトアミド１１ ｙＯと酢酸エチル４
０ｙｗｌ＝どの混合物を室温で２０分間かきまぜ、そし
゛て久ｃ−１０’Ｃに冷却する（ｆｇＱ２ ）ａ Ｍ液
２および溶液１を合わせる。この混合物を２時間かきま
ぜ、次に飽和炭酸水素ナトリウム溶液中（二江別する。 水性相を除去し、そして濃縮する。 ＵＰＣ，２シリカゲル上、水でクロマトグラフィーを行
うと、Ｒｆｉ直０．５０ （ＵＰＣ，２プレート、水／
アセトニトリル６：ｌ）の題の化合物が得られる。 出発物質は以下のようにして製造できる＠（ｂａ）
５−アミノ−１−メチル−１）１−１．２．４−トリア
ゾール−３−イルアセトニトリルメチルヒドラジ７２．
２ｒｐｔＢをＯ′Ｃでアセトニトリル１０ ｖｆｆ、中
の３−シアノイミノ−３−エトキシ−プロピオニトリｙ
＝ ４．７６ｆ （３４，７５ミリモル）、の溶液に力
りえ、混合物を１時間この温度でかきまぜる。 得られた沈殿を洗う◎ろ液を濃縮し、エチルアルコール
を加え、さらに生成物を沈殿させるＯＲ。 値０．３３ （シリカゲル、クロロホルム／メタノール
／氷酢酸８５ ： １２ ： ３ ）の均一な題の化合
物が得られる。ＩＲスペクトル（ＫＢｒ） ： ３３７
５．１６３７．１５７５ｃＩＩＬ’Ｃ％性吸収帯。 （ｂｂ） ５−アミノ−１−メチル−１）１−１．２
．４−トリアゾール−３−イル酢酸 ５〇−恢酸７．４ｍＱ中の５−アミノ−１−メチル−Ｉ
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イルアセトニト
リル０．４９ Ｆ （３，５９ミリモル）の溶液を１ｏ
ｏ−ｃで１６時間かきまぜろ。反応混合物を冷却し、水
中に江別し、尋アンモニア溶液で岬５．５に調整し、そ
してエチルアルコールを加える。沈殿を吸引ろ過し、エ
チルアルコールで洗い、そして乾燥する。 粗生成物のクロマトグラフィー（ＵＰＣ，、グレート、
水／アセトニトリル６：１）を行うと、Ｋｆ値０．８０
（口ｐｃ、、プレート、水／アセトニトリル６：１）
の均一な題の化合物か得られる。ＩＲスペクトル（又シ
ョール） ： ３４５０．３３７５．１６００．１５３
７ｃｗ１７ ’に特性吸収帯。 例 ２ （ａ）７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１ｉ−
１−１，２，４−）リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−
メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキゾメチル
ー３′−セフェム−４−カルボン酸塩酸塩 ２−（５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−
トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸１
．９９２（１０，０ミリモル）および塩化メチｖ ｙ
４０ ｙｅｎ 乞−５Ｃ′ｃＶｉ １ｓｕｎｅｙｅｒ試
薬（塩化オキサリル１．ＯｍＱと塩化メチレン１〇−中
のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド０．９ｍｌとから調製
）のかきまぜた懸ｆ＠液に加える。混合物を０ ”Ｃで
２０分間かきまぜ、セして仄（ニーｌＯ°Ｃに冷却する
（溶Ｑｌ ）ｏ一方、７β−アミノ−３−アセトキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸２．７９ （１０
，０ミリモル）とＮ、Ｕ−ビス−（トリメチルシリル）
−アセトアミド１１．ｄと塩化メチレン５０ｆｆ１．と
の混合物を室温で３０分間かきまぜ、そして次に一１０
°Ｃに冷却する（浴液２）。溶液２および溶液１を合わ
せる。混＠ｒ物をＯ゛Ｃで２．５ Ｘｊ間かきまぜ、そ
して次に飽和炭酸水素ナトリウム溶液中に圧加する。水
性相を除去し、水性塩酸で散性にし、固体塩化ナトリウ
ムで飽和し、そして酢涜エチル／アセトン（４：１）で
抽出する。有機抽出液を硫酸す） ＩＪウム上で乾燥し
、真空下でａ＠する。残さをＸＡＤ−２樹脂（水）土ク
ロマトグラフィーにかけると、Ｒ（＠０．３０ （ＵＰ
Ｃ，２プレート、水／アセトニトリル６：１）の題の化
合物か得られる。間スペクトル（水）λｍ＆Ｘ’ε）：
２３５ （１１７００）、２６０ （１２７００）
ｍμ。 出発物質は以下のようＣ二して製造できる０（ｂ） ２
− ［５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ）−
１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−
イル）−酢酸エチルエステルクロルキ酸ベンジルエステ
ル２．９４を０”Ｃｆ５−アミノ−１−メチル−１）１
−１．２．４−）リアゾール−３−イルー酢酸エチルエ
ステル１０．Ｏｆ （５４，３５ミリモル）と水５４＋
＋ｒ９中の炭酸ナトリウム５．８ｆとの混合物に加え、
混合物を０“Ｃで４時間かきまぜる。混合物を水で希釈
し、そして酢酸エチルで抽出する。有機抽出液を飽和塩
化ナトリウム溶液で洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥し
、そして濃縮する。残さをクロマトグラフ処理（シリカ
ゲル、酢酸エチル部分を増加するトルエン）する。Ｒ，
値帆２５（シリカゲル、トルエン／酢酸エチル１：ｌ）
の均一な題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（フィ
ルム） ： ３１５０ 、１７３５．１５７０にｌ１ｌ
−’に特性吸収帯。 （ｃ）２−［５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）−
１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾール−３−
イルニーオキソ酢酸エチルエステルジオキサン２３５
ｙＱ中の２−（５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ）−１−メチル−ＩＨ−１，２，４−）リアゾール
−３−イル〕−酢鈑エチルエステル１６．４ ｆ （５
１，５ミリモル）と二酸化セレン１５．４Ｆとの懸濁液
を９５”Ｃで２．５時間かきまぜる。反応混合物のろ過
後、ろ液を真空下、濃縮する。残さはＲｆ値０．３５
（シリカゲル、酢酸エチル）の題の化合物を含有する。 ＩＲスペクトル（フィルＡ ） ： ３３００ 、１７
３７．１７１５ｃＩＬ−’ Ｃ特性吸収帯。 （ｄ） ２− （５−アミノ−１−メチル−１）１−１
．２゜４−トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイ
ミノ酢酸エチルエステル ９５チ工タノール２１５ｖｇ中の２−（５−（Ｎ−ベン
ジルオキシカルボニル）−１−メチル−１日−１，２，
４−）リアゾール−３−イル〕−２−オキソ酢酸エチル
エステル２２．６５ ｆ （６８，２０ミリモル）とメ
トキシアミン塩酸塩６．３Ｏｆとピリジン６．８ｍｌ！
との懸濁液を室温で３．５時間かきまぜる。反応ｍ合物
を真空下で濃縮する。残さを酢酸エチル（二溶解し、そ
して溶液を希塩酸と水と塩化ナトリウム水溶液とで連続
的に抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燦し、そして真を
丁で濃縮する。残さをジエチルエーテルですりつぶす。 Ｒｆｌｌｏ、２５．（シリカケル、クロロホルム／メタ
ノール９５ ： ５ ） ＯＪ 題Ｃｌ）化合物か得ら
れる。ＩＲスペクトル（又ショール）： ３３５０．１
７３５．１６４５．１０４５ ｃｓ−’ −二判性吸収
帯。 （、ｅ）２− （５−アミノ−１−メチル−１）１−１
．２゜４−トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイ
ミノ酢酸 水酸化カリウム１７．２５ ｆおよび水１４０ｗ１２を
９５％エタノール３５０苛Ｃ中の２−（５−アミノ−１
−メチル−１１（−１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル）−２−メトキシイミノ酢酸エチルエステル１１．９
６？ （５２，６４ミＩＪモル）の溶液に加え、そして
混合物を４０’Ｃで３時間かきまぜる。反応混合物を真
空下で濃縮し、残さな水に溶解し、この溶液を希塩酸で
−８，５に調整し、そして酢酸エチルで抽出する。水性
相を除去し、希塩酸でｐＩＩ４．０に調整し、そして生
成物をエタノールで沈殿させる。Ｒｆ値０．２０ （シ
リカゲル、１ｌｅｅ−ブタノール／氷酢酸／水６７ ：
１０ ： ２３）の題の化合物が得られる。 ＩＲス
ペクトル（又ショール） ： ３３５０．３３２５．１
６６０．１１２５ｃＩＬ−’ｔｊ％ｎ吸収帯。 例 ３ （ａ） ７１− （２−（５−アミノ−１−メチル−Ｉ
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−２−
メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム塩 例１ （ａ）と同様にして、塩化メチレン１３！Ｌとア
ニソール４ ｗｎとトリフルオロ酢酸６０ｍＢとの中の
７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１）１−１゜
２．４−トリアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシ
イミノアセトアミン〕−３−アセトキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル５．
１ ？ （８，２ミリモル）から、Ｒ（ｈＯ，２０（Ｕ
ＰＣ，２プレート、水／アセトニトリル９５：５）の題
の化合物が傅られる。Ｕｖ：λ （ｇ）ａｘ ２３５ （１１７００） ！ｔｉｐ。ｌスペクトル（又
ショール）： ３３５０．１７６５．１６０５．１２３
５．１０４５ｃＩＬ−’に特性吸収帯。 出発物質は以下のようにして製造できる。 （ｂ）７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−
１，２，４−）リアゾール−３−イル）−２−２−メト
キシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３
−セフェム−４−カルボン醐ジフェニルメチルエステル ２−（５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−
トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸１
．９９ ｔ （１０，０ミリモル）および塩化メチレフ
４０ ＝９を一５°ＣでＶｉｌｓｍｅｙｅｒ試薬（塩
化オキサリル１．Ｏｄと塩化メチレン１０ ｑＱ中のＮ
、Ｎ−ジメチルホルムアミド０．９ ｄとから調煕）の
かきまぜた懸蜀檜中に加える。混合物をσＣで２０分間
かきまぜ、次Ｃニー１０”Ｃに冷却する。７β−アミノ
−３−アセドギシメチルー３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル４．４０ ｆ ＋ １０．
０ミリモル）の添加後、混合物を０ ’Ｃで２．５時間
かきまぜ、次に１化メチレン５０→で希釈し、そして水
とｐ４１８．０のリン酸緩衝液と塩化ナトリウム水溶液
とで連続的（−洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そ
して真空下で濃縮する。Ｒ，［０，６０（シリカゲル、
クロロホルム／メタノール／氷酢＃ｓｓ ： １２：３
）の題の化合物を含有する残さが得られる０例 ４ ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−）リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイ
ミノアセトアミノ］−３−（１−メチルテトラゾール−
５−イル）−チオメチル）−３−セフェム−４−カルボ
ン酸のナトリウム塩水４．５呵ｌ！中の７β−（２−（
５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２１４−トリア
ゾール−３−イル）−２−２−メトキシイミノアセトア
ミノ〕−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム０−
４７５９ （１，０ミリモル）およびナトリウム１−メ
チルテトラゾール−５−イルチオレート帆２０７ ｆ
（１，５ミリモル）の浴液な７０″Ｃで５時間かきまぜ
、次≦二水で希釈し、そして酢酸エチルで抽出する。水
性相を濃縮し、そしてクロマトグラフィー（ＵＰＣ，２
プレート、水／アセトニトリル９５：５）Ｙ行う。Ｒ。 値０．２５ （ＵＰ（、：、２プレート、水／アセトニ
トリル９５：５）の題の化合物が潜られる。ＩＲスペク
トル（メジョール） ： ３４００．１７６２．１６４
０． １５９５．１０４５１、’１１ ’に特性吸収帯
。 ｖ］５ ７．１ｒ−（２−（５−アミノ−１−メチル−Ｉｌｌ−
１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メト
キシイミノアセトアミノ）−３−（４−カルバモイルピ
リジニオメナル）−３−セフェム−４−カルボキシレー
トおよび７β−［２−（５−ジメチルアミノメチレンア
ミノ−１−メチル−１）１−１．２．４− トリアゾー
ル−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイばノアセトアミノ
）−３−（４−カルバモイルヒリシニオメチル）−３−
セフェム−４−カルボキシレート ２−（５−アミノ−１−メチル−１）１−１．２．４−
トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸１
．９９ ｆ （１０，０ミリモル）を−５’Ｃ１”Ｖｉ
ｌ−ａｍｅｙｅｒ 試咬（環化オキサリル１．０ｍｎ
、と塩化メチレン２５．＋ｇ中のＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド０．９ ｍｇとから調製）のかきまぜた＠濁液
中に加える。この混合物を０°（Ｊで２０分間かきまぜ
、仄ζニー１０ ’Ｃｆ二冷却すｂ（浴液１）。一方、
７β−アミノ−３−（４−カルバモイルピリジニオメチ
ル）−３−セフェム−４−カルボン酸４．０８ ｆ （
１０ミリモル）とＮ、０−ビス−（トリメチルシリル）
−アセトアミド１（１，５＝ｇと塩化メチレン４０ ｍ
Ｑとの混合物を室温で３０分間かきまぜ、次に一２０″
Ｃに冷却する（溶液２）。溶孜１および溶＃Ｌ２を合わ
せる。この混合物を０゛０で３時間かきまぜ、次にＩＮ
縦酸水素ナトリウム溶液甲に江別する。水性相を除去し
、塩酸水溶液で酸性にし、そしてクロマトグラフィー（
ＸＡＤ −２ｍ脂、水／ ｘ ｌ ／ −ル＆合物）
ｋ行う。Ｒｆ値０．６５ （ＵＰＣ，２プレート、水／
アセトニトリル６：１）で、ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
： ３４２５．１７７５．１６２０．１３８５ ｔｖ
−’Ｉ’−Ｗ性吸収帯を持つ、吻−な題の化合物、７β
−［２−（５−アミノ−１−メチル−１）ｉ−１，２，
４−トリアン−ルー３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミ
ノアセトアミノ〕−３−（４−カルバモイルビリジ−Ｚ
メチル）−３−セフェム−４−カルボキシレートおよび
Ｒｆ噴＋］、３０ （ＵＰＣ，、プレート、水／アセト
アミド１１ル６：１）で、ＩＲスペクト／’ （ＫＢｒ
） ： １７７”、）、１６１５．１５３７ｃＩｒＬ
に特性吸収帯を待つ、均一な題の化合物、７β−［２
−（５−ジメチルアミノメチレンアミノ−１−メチル−
Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−
Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ）−３−（４−カルバ
モイルピリジニオメチル）−３−セフェム−４−カルホ
キ７し〜トが得られる。 例 ６ ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−）リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイ
ミノアセトアミン）−３−（４−カルバモイルピリジニ
オメチル）−３−セフェム−４−カルボキシレートはま
た以下のようにして製造できる。 水２４中のナトリウム７β−［２−（５−アミノ−１−
メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル
）−２−Ｚ−メトキシイミノアセチルアミノ］−３−ア
セトキシメチル−３−セフェム−４−カルボキシレート
０．９５０ ｆ （２，０ミリモル）の溶液を水０．７
５ｍＱ中のイ゛ソニコチンアミド０．３４Ｆとヨウ化ナ
トリウム３．４２ｆどの８０Ｃに加熱した浴液中に加え
、混合物を７５′Ｃで２．５時間かきまぜる。 室温に冷却後、混合物をアセトン２５０ ｗｙｌ、中に
江別し、得られた沈殿をろ過しそして乾燥する。ＸＡＤ
−２カラム上、水／メタノール混合物を使って粗生成物
のクロマトグラフィーを行うと、Ｒｆｉ［０，６５（Ｕ
ＰＣ，、プレート、水／アセトニトリル６：１）の均一
な題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
： １７７５．１６２０．１０４５０ＩＬ−’に特性吸
収帯。 例 ７ ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル〜ＩＨ−１，２
，４−トリアゾール−３−イル） −２−Ｚ−メトキシ
イミノアセトアミノ）−３−（４−ヒドロキシメチルピ
リジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト 出発物質としてナトリウム７／−Ｃ２−（５−アミノ−
１−メチル−１ｆ（−１，２，４−トリアゾール−３−
イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−
アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト０．４７５９ （１，０ミリモル）、４−ヒドロキシ
メチルピリジン０．１２Ｆ （１，１ミリモル）および
水Ｚ ｗＡ中のヨウ化ナトリウム１．７５ｆを使って例
６と同様の方法を行えば、Ｒｆ値帆５５（ＵＰＣ，、プ
レート、水／アセトニトリル６：１）の題の化合物が得
られる。ＩＲスペクトル（又ショール ） ： １
７６５ 、 １６２０ 、 １１Ｊ４０ｃｍ−’ｌ二
％性吸収帯。 例 ８ （ａ）７β−［２−（５−アミノ−１−メチル−１）１
−１．２．４− ）リアゾール−３−イル）−２−ヒド
ロキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム塩 トリフルオロ酢酸４９ｍ６を室温で塩化メチレンｌ。 冑ａ中の７Ｉｊ−４２−（５−ｔ−ブトキシカルボニル
アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル）−２−テトラヒドロピラニルオキシイミ
ノアセトアミノ〕−３−アセトキンメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸２．７７ｆ （４，４５ミリモル）
の溶液中に加え、混合物をこの温度で６０分間かきまぜ
、次にジエチルエーテル／ヘキサン（１： ２ ） ６
００ｉ中にかきまぜながら加える＠賄の化合物のトリフ
ルオロアセテートから成る沈殿をろ過により単離し、メ
タノールに溶解し、そしてメタノール性ナトリウム２−
エチルヘキサノエート浴液【約３Ｎ）でｐＨ７，０に調
整する。ジエチルエーテルの添加後、生成した沈殿を吸
引ろ過し、そしてクロマトグラフィー（ＵＰＣ，２シリ
カゲル、水）を行う。Ｒｆ値０．６５ （ＵＰＣ，、プ
レート、水／アセトニトリル９：１）の均一な題の化合
物が得られる。ＩＲスペクトル（メジョール）二３４２
５．１７６７．１７３５．１６００ｃｌＬ−’（ユ特性
吸収＃ｆ。 出発物質は以下のようにして製造できる。 （ｂ） ２− （５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１
，２゜４−トリアゾール−３−イル）−２−テトラヒド
ロピラニルオキシイミノ酢酸エチルエステル９５％エタ
ノール８０婬中の２−（５−（Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ）−１−メチル−１Ｈ−１，２，４−トリ
アゾール−３−イル〕−２−オキソー酢酸エチルエステ
ル１０．Ｏｆ （３０，０ミＩＪモル）およびテトラヒ
ドロピラニルオキシアミン５．３０ｆの溶液を室温で２
時間か舞まぜ、そしてさら（二６０”Ｃで２時間かきま
ぜる。反応混合物を真空下で濃縮する。シリカゲル上（
クロロホルム、徐徐Ｃニメタノールを増加させる）残さ
のクロマトクラフィーを行えば、Ｒｆ値０−４０ （シ
リカゲル、クロロホルム／メタノール９：１）の順の化
合物か得られる。ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨ，、ＣＬ
）Ｃ１５） ：１．４６（ｔ）、３．７０ （ｇ）、４
．７０ （ｑ）、５．ｓ Ｏ（８） ｐ ｐ ｒｎ＋二
特性シグナル。 （ｃ） ２− （５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカル
ボニルアミノ）−１−メチル−１）１−１．２．４−
）リアゾール−３−イルツー２−テトラヒドロピラニル
オキシイミノ酢酸エチルエステル２−（５−アミノ−１
−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル）−２−テトラヒドロピラニルオキシイミノ酢酸エチ
ルエステル４．３Ｏｆ（１４，６ミリモル）、とＢＯＣ
無水物８．３Ｏｆと４−（Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ノ）−ピリジン０．４０ｆとの懸濁液を室温で３．５時
間かきまぜ、酢酸エチルで希釈し、塩化す） ＩＪウム
水溶液で抽出し、硫（マグネシウム上で乾撮し、そして
真空下で濃縮する。Ｒｆ ｊｌＩ Ｏ，８５（シリカゲ
ル、クロロホルム／メタノール９５：５）の題の化合物
が得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレンン： １７
９０．１７３５．１６００ｃ＋＋＋ に特性吸収帯
。 （ｄ） ２− （５−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−
１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾール−３−
イル）−２−テトラヒドロピラニルオキシイミノ酢酸 出発物情として水４５婬と９５−エタノール１１０−と
の中の２− ［５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボ
ニルアミノ）−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４＝トリ
アゾール−３−イルツー２−テトラヒドロピラニルオキ
シイミノ酢酸エチルエステル）３．３０ｆ（１６，７ミ
リモル）および水酸化カリウム５．４３ ｆを使って、
例２（ｅ）と同様の方法を行えば、Ｒ８値０．４０（シ
リカゲル、５ｅｃ−ブタノール／氷酢酸／水６７ ：
１０ ： ２３）の題の化合物が得られる。ＩＲスペク
トル（又ショール） ： ３５００．１７４０：ｘ’−
’に特性吸収帯。 （ｅ）７β−［２−（５−ｔ−フトキシ力ルホニルアミ
ノー１−メチル−１）１−１．２．４−− ）すｒンー
ル−３−イル）−２−テトラヒドロピラニルオキシイミ
ノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルホン酸２−（５−ｔ−ブトキシカルボニル
アミノ−１−メチル−１）ｉ−１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル）−２−テトラヒドロピラニルオキシイミ
ノ酢酸２．７０ Ｆ （７，３２ミリモル）およびＮ−
メチルモルホリン０．９７＋ｎｎを一５°ＣでＶｉｌｓ
ｍｅｙｅｒ試薬（塩化オキサリル０．７３鱈と塩化メチ
レン２７ ｍＱ中のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド０．
６５ｍ（１，とから調製）のかきまぜた懸濁液に加える
。混合物をＯ′Ｃで３０４間かきまぜ、次に一１０°Ｃ
に冷却する（溶液１）。一方、塩化メチレン４（Ｌｙ６
中の７β−アミノ−３−アセトキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸２．４３ Ｆ （８，９１ミリモル
）とＮ、０−ビス−（トリメチルシリル）−アセトアミ
ド８．１ｍＧとＮ−メチルモルホリン１．５４４との混
合物を室温で３０分間かきま−ぎ、ｖコに一１０″Ｃに
冷却する（溶液２）。溶液１お・よび浴液２を合わせる
。混合物をＯ’Ｃで３時間θλきまぜ、Ｊｋ、９下で濃
★６し、酢酸エチルで希釈し、そして水とｐＨ８，０の
リン鍍塩緩衝液と水性塩酸と塩化ナトリウム水浴液とで
４Ｍ的に抽出し、硫官マグネシウム上で乾囃し、そして
真空下で濃縮する。Ｒｆ値０．６０ （シリカゲル、８
ｅｅ−ブタノール／氷酢酸／水６７ ： １０ 二２３
）の題の化合物を含む残さが得られる。ＩＲスペクトル
（又ショール）： ３３５０．１７４０．１６２０．ｚ
に特性吸収帯。 例 ９ Ｃ＆）７β−［２−（５−アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４
−トリアゾール−３−イル）−２−２−メトキシイミノ
アセトアミノ〕−３−アセトキシメチ八−３−セフェム
−４−カルボン酸 出発物質として増化メチレン２−とフニソール０．６３
−ｒＱ、とトリフルオロ酢酸８．６宥（）とのｑ】の７
β−（２−（５−ｔ−ブトキシプノル７ズニルアミノ−
１Ｈ−１，２，４−）リアゾール−３−１ル）−Ｚ−Ｚ
−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルホン市ジフェニルメチルエ
ステル０．８５ｆ （１，２ミリモル）Ｉｔつて例１
（ａ）と１′５１様の方法を竹えば、ｇｆ値０浦０（Ｕ
ＰＣ，２プレー１・、水／アセトニトリル６：１）の題
の化合物がイ神られる。Ｉｌ（スペクト／Ｌ（タジョー
ル） ： ３３００．１７６５．１６００、！（１４５
σ−′（１特性吸収帯。 出発物質は以下のよう（二して製造で専る。 （ｂ） ２− （５−アミノ−１−ｔ−ブトキシカルボ
ニルーＩ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）
−装置エチルエステル 出発物質としてアセトニトリル３７０鹸中の３−シアノ
イミノ−３−エトキシプロピオン酸エチルエステル７４
．Ｏｆ （４０１，７ミリモル）およびｔ−ブトキシカ
ルボニルヒドラジン１０７．３ Ｆを使って例１ （ａ
ａ）と同様の方法を行えば、Ｒｆ［ｔ ０．６０ （シ
リカゲル、酢酸エチル）で、融点１１７〜１１８°Ｃの
題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレフ
） ： １７３５．１６２５ｃｌＩＬ−’ （ｎ特性
吸収帯。 （ｃ） ２− Ｃ５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカル
ボニルアミノ）−ｔ−ｔ−ブトキシカルボニル−１）１
−１．２．４−トリアゾール−３−イル）−酢酸エチル
エステル 出発物質として２−（５−アミノ−１−ｔ−ブトキシカ
ルボニル−１ｆ（−１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル）−酢酸エチルエステル１７．７０ ｆ （６５，５
ミリモル）、ＢＯＣ無水物２８．６ ｆおよび４−（Ｎ
、Ｎ−ジメチルアミノ）−ピリジン６５０ ｌｌｖを使
って例８（ｃ）と同様の方法を行えば、Ｒｆ値０．６５
（シリカゲル、トルエン／酢酸エチル１：１）の題の化
合物が得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレン） ：
１８００ 、 １７６０．１７３５（Ｘ’に特性吸収
帯。 （ｄ） ２− Ｃ５−（、Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカ
ルボニルアミノ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−１１
４−１，２，４−トリアゾール−３−イル〕−２−オキ
ソ酢酸エチルエステル 出発物質としてジオキサン１９０・マ必中の２−〔５−
（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−１−
ｔ−ブトキシカルボニル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリア
ゾール−３−イルツー酢酸エチルエステル２２、Ｏｆ
（４４，４ミリモル）および二鎖化セレン１３．８ｆを
使って例２（Ｃ）と同様の方法を行えば、Ｒｆ値０．２
５（シリカゲル、トルエン／酢酸エチル４：１）の題の
化合物が得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレン）
： １７６５．１７３５．１７１５ｃｍ＋’ｌ二特性吸
収帯。 （ｅ） ２− （５−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−
１−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｉ Ｈ−１，２，４−ト
リアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチ
ルエステル 出発物質として９５チエタノール２６５ｕ必中の２−（
５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−
１−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｉ Ｈ，−１，２゜４−
トリアゾール−３−イル〕−２−オキノ酢酸エチルエス
テル２６．４ ｆ （５４，５ミリモル）、メトキシア
ミン場酸塩６．９０ｆおよびピリジン６．５ｙ９’Ｙ使
って例２ （ｄ）と同様の方法乞行えば、Ｒｆｆ＃Ｌ０
．４５ （シリカゲル、トルエン／酢酸エチルｌ：１）
の題の化合物が侍られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレ
ン） ： １７３５．１０５０ＣＩＬ”−’に％注吸収
帝。 （ｆ） ２− （５−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−
１ｆ（−１，２，４−トリアゾール−３−イル〕−２−
メトキシイミノ酢酸 出発物質として水１１ ｆｌ、と９５％エタノール２４
ｍαとの中の２−（５−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
−１−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｉ Ｈ−１，２，４−
トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エ
チルエステル１．２Ｏｆ （２，９０ミリモル）および
水酸化カリウム１．２５ ｆを使つＣＡ２（ｅ）と同様
の方法を行えば、Ｒｆ愉０．２０ （シリカゲル、８ｅ
ｅ−ブタノール／氷酢酸／水６７ ： １０ ： ２３
）の題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（又ショー
ル） ： ３３１５．１７１０．１０５０ｆｆｉ−’に
特性吸収帯。 （ｇ）７β−（２−（５−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ−１１，１−１，２，４−トリアゾール−３−イル）
−２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセト
キシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル 出発物質として塩化メチレン１４ｄ中の２−（５−ｔ−
ブトキシカルボニルアミノ−１）１−１．２．４−トリ
アゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢粱（１，
８０６ｆ （２，８２ミリモルンおよび７β−アミノ−
３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル１．２Ｏｆ（２，７３ミリモ
ル）を１史って例３（ｂ）とｌｈ＋様の方法を行えば、
Ｒｆ値帆６５（シリカゲル、クロロホルム／メタノール
／氷酢１％、８５：１２：３）の題の化合物が得られる
。ＩＲスペクトル（塩化メチレン）： １７６５．１７
３５ｃｍ−’≦二特性吸収帯。 例 １０ ７β−［２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−） Ｉ７７ゾールー３−（ル）−２−Ｚ−メトキ
シイミノアセトアミノ〕−３−セフェム−４−カルボン
酸のナトリウム塩 出発物質として２−（５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ
−１，２，４−）リアゾール−３−イル）−２−メドキ
シイミノ酢酸２．９ｆ （１０，０ミリモル）および７
β−アミノ−３−セフェム−４−カルボン酸１．０５Ｆ
を使ってｆｔ４２（＆）と同様の方法を行えば、Ｒｆ＠
０．３０ （ＵＰＣ，、プレート、水／アセトニトリ
ル９５：５）の題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル
（又ショール） ： ３３００．１７５５．１６００．
１０４５１−′に特性吸収帯・ 例 １１ ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−）リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイ
ミノアセトアミノ〕−３−セフェム−４−カルボン酸ビ
バロイルオキシメチルエステルヨードメチルビパレート
１．１２−をσＣでＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２５
ｄ中のナトリウム７β−（２−（５−アミノ−１−メチ
ル−Ｉ Ｋ −１，２，４−トリアゾール−３−イル）
−２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−セフェ
ム−４−カルホキシレー） ２．Ｏｆ （４，９６ミリ
モル）の混合物中に加え、この混合物をこの温度で６０
分間かきまぜ、次にｐＨ７，０のリン酸塩緩衛液１４〇
−中盛二注加し、−ｔ−して酢酸エチル／アセトン４：
１で抽出するＯ有機抽出液を塩化す） ＩＪウム水浴液
で洗い、恢酸マグネシウム上で乾燥し、そして真空Ｆで
濃縮する。残さをジエチルエーテルですりつぶすと、Ｒ
ｆ値０．７５ （シリカゲル、５ｉｅｃ−ブタノール／
氷酢酸／水６７ ： １０ ： ２３ ）の題の化合物
が得られる。１にスペクトル（又ショール） ： ３３
００．１７６５．１７３５．１０５０ｃＩＩＬ−’＋：
特性吸収ｉ。 例 １２ ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−）リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイ
ミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル Ｎ、０−ビス−（トリメチルシリル）−アセトアミド１
．０ｍ９を塩化メチレン５ｍＱ中の７β−〔２−（５−
アミノ−１）１−１．２．４−トリアゾール−３−イル
）−２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセ
トキシメチル−３−セフェム−４−カルボ／酸ジフェニ
ルメチルエステル１．Ｏｆ（１，４１ミリモル）の混合
物中に加え、混合物を室温で６０分間かきまぜ、次にＯ
″Ｃに冷却し、そしてヨウ化メチル０．２５−を加える
。混合物を５°Ｃで４時間かきまぜ、そして酢酸エチル
と水とで希釈する。有機相を除去し、塩化す） ＩＪウ
ム水溶液で洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして
真空下で濃縮する。シリカゲル上、クロロホルム／メタ
ノールを除徐に増加を使って残さをクロマトグラフィー
にかけると、Ｒｆ頃０．６５ （シリカゲル、クロロホ
ルム／メタノール／氷酢酸８５ ： １２ ： ３ ）
の題の化合物が得られる。 例 １３ （ａ）７β−（２−（５−アミノ−１−カルボキシメチ
ル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−
２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキ
シ゛メチルー３−セフェム−４−カルボン酸のジナトリ
ウム塩 トリフルオロ酢酸１５４を＋ｌ化メチレン４清Ｑ中の７
β−［２−（５−アミノ−１−ｔ−ブトキシカルボニル
メチル−１１−１−１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ］−３−ア
セトキシメチル−３−セフェム−４−カルポン＃１．５
Ｆ （２，７１ミリモル）の混合物に加え、この混合物
を６０分間か＾まぜ、久にジエチルエーテル／ヘキサン
１ 二２２００ ｖｇ中にかきまぜながら入れる。沈殿
をろ過（二より竿離し、メタノール中に溶解し、そして
メタノール性ナトリウム２−エチルヘキサノエート浴液
（約３Ｎ）でｐｌ＋７．０に１斃する。ジエチルエーテ
ルのｆＩ≦加後、得られた沈設を吸引ろ過し、そしてク
ロマトグラフィー（ＵＰＣ，２シリカゲル、水）にかけ
６ｏＲｆＩＩ［０，６０（ＵＰＣ，２プレート、水／ア
セトニトリル９：１）の題の化合物が得ら才しる。ＩＲ
スペクトル（又ショール） ： ３４３０ 、１７６５
．１６２０．１０１０４５Ｃ’に特性吸収帯。 出発物質は以十のようにして製造する。 （ｂ） ２− （５−Ｎ−ホルミルアミノ−１−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１ｉ（−１，２，４−）リア
ソール−３−イル）−酢（ｎエチルエステル２−（５−
Ｎ−ホルミルアミノ−１１４−１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル）−６１Ｍエチルエステル１２．Ｏｆ （
６０ミリモル）ノ溶液をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
１０−中の水素化ナトリウム３．１８ｆの懸濁液中（ニ
ガ１・え、混合物を４０°Ｃ″′ｒ：２時間加熱し、久
（：０°０に冷却し、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１
２ｍ１中のブロモ酢飯ｔ−ブチルエステル１１補の浴液
を添カロし、混会′吻を室温に加熱しそしてこの温度で
４時間かきまぜる。混合物を真空下で濃縮し、酢酸エチ
ルで希釈し、水と希ｊ４Ｈと塩化ナトリウム水浴液とで
連続的（−洗い、４ＪＭ＃マグネシウム上で乾燥し、そ
して真ｌ下で８ｍする０＠生ａ″ＪＩＡをジエチルエー
テルですりつぶすと、Ｒｆｆｔｆｆｉ帆６５（シリカゲ
ル、クロロホルム／メタノール９：１）の鴎の化合物が
得られる。ＩＲスペクトル（４化メチレン） ： ３４
００．１７４５．１７１０ 、１１５７ ｃｍ−’ ＋
−％性吸収帯。 （ｃ）２−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−１−ｔ−ブトキ
シ力ルホニルメチル−１）１−１．２．４− ）リアゾ
ール−３−イル）−２−オキソ酢酸エチルエステル 出発物質としてジオキサン５０７必中の２−（５−Ｎ−
ホルミルアミノ−１−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−
ＩＨ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−ｆ６’
酸エチルエステル３．１２９（１０ミｌＪモルおよび二
酸化セレン３．Ｏ２を使って例２（Ｃ）と同様の方法を
行えば、Ｒｆ値０．８０ （シリカゲル、クロロホルム
／メタノール／氷酢酸８５：１２：３）の題の化合物が
得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレン） ： ３３
８０．１７３５．１７００．１１４５イ１に特性吸収帯
。 （ｄ）２−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−１−ｔ−ブトキ
シカルボニルメチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾー
ル′−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチルエス
テル 出発物質として９５％エタノール２０ｍ９中の２−（５
−Ｎ−ホルミルアミノ−１−ｔ−ブトキシカルボニルメ
チル−１ｔ（−１，２，４−トリアゾール−３−イル）
−２−オキン酢散エチルエステル１．４７ｆ（４，５ミ
リモル）とメトキシアミン塩酸塩０．５２とピリジン０
．５５＋ｄとを使って例２（ｄ）と同様の方法な行えば
、Ｅｆ値０．７０ （シリカゲル、クロロホルム／メタ
ノール９：１）の題の化合物が得られる。 スペクトル
（塩化メチレン） ： ３４００．１７３５．１７００
．１０５５ ｃｍ−’ ｃ特性吸収帯。 （ｅ） ２− （５−アミノ−１−ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル−１）ｉ−１，２，４−）リアゾール−３−
イル）〜２−メトキシイミノ酢歌 出発向ｐとして水１６Ｍａと９５チエタノール４０ｙＡ
との中の２−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−１−ｔ−ブト
キシカルボニルメチル−１１４−１，２，４−トリアゾ
ール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチルエス
テル２．１３ｆ （６，０ミリモル）および水酸化カリ
ウム１．９７ｆを使って例２（ｅ）と同様の方法を行え
ば、Ｒｆ＊ ｏ、２０ （シリカゲル、ｓｅｅ −ブタ
ノール／氷酢＃に／水６７ ： １０ ： ２３ ）の
題の１ヒ会物が得られる。ＩＲスペクトル（タジョール
）： ３４００ 、 １７３５ 、 １１４５
、 １（１４０ｍ−’ （二 特ゼ（ψ！ 耳叉帯
〇（ｆ）７β−［２−（５−アミノ−１−ｔ−ブトキ
シカルボニルメチル−ＩＨ−１，２，４−トリアゾール
−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕
−３−アセトキシメチル−３〜セフェム−４−カルボン
所 出発物′薩として塩化メチレン４０ｍ１中の２−（５−
アミノ−１−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１）Ｉ
−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２＝メトキ
シイミノ酢ｄｌ １．ｓ７ ｔ （６，２５ミリモル）
および７β−アミノ−３−アセトキシメチル−３−セ７
エム−４−カルボン（４１１，６２ｆ （６，０ミリモ
ル）を便って例２（ａ）と同様の方法を行えば、Ｒ［ｆ
ｍｚｏ、５５（シリカゲル、ａｅｃ−ブタノール／水酊
煉／水６７ ： １０ ： ２３）の題の化合物が祷ら
れる。ＩＲスペクトル（又ショール） ： １７６５．
１１４５．１０４シ１１（−％性吸収帯。 例 １４ （ａ） ７１− （２−（５−アミノ−１−メチル−１
１−１−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−
ヒドロキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム塩 出発’［として順化メチレン１．４−ｔｇとアニソール
０ 、５５ ）Ｑ、とトリフルオロ酢酸７．２．＝１７
．との中の７β−［２−（５−ｔ−ブトキシカルボニル
アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミノ］
−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル０．７０５ ｆ （１，０
ミリモル）を使って例１ （ａ）と同様の方法を行えば
、Ｒｆ値０．６５ （ＵＰＣ，２プレート、水／アセト
ニトリル９：１）で、例８（ａ）に与えたＩＲテータと
回じデータを持つ題の化合物が得られる。 出発物置は以下のようにして製造できる。 （ｂ）２〜（５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ）−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリア
ゾール−３−イル〕−２−オキノ酢酸エチルエステル 出発物置としてジオキサ７１５０ ｍＯ，中の２−〔５
−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−１
−メチル−１）１−１．２．４− ）リアゾール−３−
イル〕−昨ｆ疲エチルエステル１１．５２ ｆ （３ｔ
）０ミリモル）および二酸化セレン８．３Ｏｆを便って
：”ｌ ２Ｃｃ）と同様の方法を行えば、ル（＋ｐ ０
．５５ ！シリカゲル、クロロホルム、′メタノール）
のｌ＠の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチ
レン）：１８０５．１７３５．１７１５Ｌ：１ｎ’ｌ二
特性吸収帯。 （ｃ） ２− （ラーｔ−グトキシ力ルポニルアミノー
ｌ−メチル−１＋（−１，２，４−トリアゾール−３−
イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸エチルエステル 出発１句尚として９５チエタノール４００ ＱＱ中の２
−（５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
）−１−メチル−１）１−１．２．４−トリアゾール−
３−（ル〕−２−：ｉｒｅソ、Ｓ１１エチルエステル３
９．８ｆ （１００ミリモル）、ヒドロキシルアミン塩
酸塩１３．９ｆおよびピリジン１７．７補を使ってｉ？
ｌ１２（ｄ）と同様の方法を行えば、Ｒ，ｊｌｉ ０．
２５ （シリカゲル、クロロホルム／メタノール９５：
５）の肩の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（塩化メ
チレン）：３５４０．１７４０信−１に特性吸収帯。 （ｄ） ２− （５−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−
１−メチル−１）１−１．２．４− トリアゾール−３
−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸 ２Ｎ水酸化ナトリウム溶液２５．ｓｚｇをメタノール２
００ ｍ（！、中の２−（５−ｔ−ブトキシカルボニル
アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢蹟エチルエス
テル７．１ ｆ （１７０６１７モル）の溶液中に加え
、この混合物を６σＣで３．５時間かきまぜる。反応混
合物をＡ−空下で濃縮し、水で希釈し、４Ｎ４咳で１）
１１８．５１ユ、１４整し、ぞして酢酸エチルで抽出す
る。 水性相を次に２Ｎ塩酸でｐＨ３，０に調整し、酢酸エチ
ルで抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして真空
下で濃縮する。残さなジエチルエーテルですりつぶすと
、Ｒｆｌｌ ０．２０ （シリカゲル、８ｅＣ−ブＪ
／−に／氷ｅ酸／水６７ ： １０ ン−２３＞ｃｏ題
の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（Ｘショール）：
３４００ 、 １７３５ ｃｔＬ−’ ｔ：、
峙ｅ級、ａｉ 。 （ｅ）７β−（２−（ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ− ール−３−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミノ
〕−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン庸ジフェニルメチルエステル 出発物質として塩化メチレン２５ｗ６中の２−（５−ｔ
−ブトキシカルボニルアミノ−１−メチル−１ ）１
− １．２．４ − ）リアゾール−３−イル）−２−
ヒドロキシイミノ酸１．１＃ １．３４ｆ （ ５．０
ミリモル）および７β−アミノ−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル２．２Ｏｆ （ ５
．０ ６１７モル）を１更ってｉ／Ｉ１３（ｂ）と同様
の方法を行えば、Ｒ。 ［０．６５（シリカゲル、クロロホルム／メタノール／
氷酢酸８５ ： １２ ： ３ ）の題の化合物が得ら
れる。 ＩＲスペクトル（塩化メチレン） ： ３４００、１７
６５、１７３５ｃＷＬ−’Ｃ特性Ｍ収帯。 題の化合物はまた、以下のよう（ニしても製造できる。 叱硝酸ナトリウム７６Ｉｖを５〜１０’Ｃで氷酢酸５、
５罰中の７β−（２−（５−ｔ−プトキシ力ルホニルア
ミノー１ーメチル−１１１ − １．２．４−トリアゾ
ール−３−イル）−アセトアミノクー３−アセトキフメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル帆７１ ’ｆ （ １．０ミリモル）のｌＰ．
、１ｍ加え、混合物をこの温度で３０分間かきまぜ、酢
酸エチルで重訳し、水と炭酸水素ナトリウノ、水だ准と
塩化ナトリウム水苗准とで連続的に洗う。枦１削マグネ
シウム上で乾燥を有った抜、真空下で尋旬する。残さは
Ｒ４ １ｍ Ｕ．ｂ５ （シリカゲル、クロロホルム／
メタノール／氷酢酸８５ ： １２ ： ３ ）の私の
化合物から成る。 例 １５ ７β−［２−（５−アミノ−１−メチル−１）１− １
．２．４−トリアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキ
シイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル ジエチルエーテル中すジアソメタンの冷溶液（ＯＣ）？
メタノール２θτら中り７β−（２−（５−ｔ−ブトキ
シカルボニルアミノ−１−メチル−１ ）１ − １．
２．４−−）リアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミノ〕−３−γーヒトヤシメチルー３ー
セフェム−４−カルボ／，４ ； フェニルノチルエス
テル０．４６１ ９ （ １．（１５ ミＩＪ七ル）の
ｆｇ液に反応が終了する王で瀕加し、そしてＯ〜５゛（
：で４５分間かきまセを行う。又応混合向とｆｇ ２
Ｆ’で１４し、そして堝さをシリカゲルグレート十、ク
ロロホルム／メタノール（９：１）な１史うクロマトグ
ラフィーＣ二より１製゛する。Ｈｆｆｉ［ ｆｌ．ｆｉ
５ （シリカゲル、クロロホルム／メタノール／メ′、
σ，酢８５：１２：：’ｌ）の題の化合物が得らＪＬる
。ＩＲスペクトル（塩化メチレフ ） ： ｊ３＋ＪＯ
、 １７６３、１ ７ ４ ［）、１０４３Ｃｒｌ
Ｌ−’ｌ二特性吸収帝。ζ． ｌ／Ｊ 王Ｌｌ− ｊラ
フ’． Ｈ＋１１ １ ２（１）生成蜀とＩｈ」−であ
る。 １ダＪ １６ （ａ）７β−［２−Ｃ５−アごノーｌ′Ａ− ｔ，２．
４−トリア７１−ルー“３−イル）−２−Ｚ−メトキシ
イミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン戚、ナトリウム塩 埴化メチレン１０Ｘ４中の五塩化リン０．５８５ｆと２
−（５−アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾール−
３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸０．４６３ ｆ
（２−５ミ’）モル）との混合＃を一１０’ｃで３０分
間かきまぜる（溶液１）。一方、７Ｉ−アミノ−３−ア
セトキシメチル−３−セフェム−４−７フルボン酸Ｏ，
５４４ｆ （２，０ミリモル）とトリメチルシリルアセ
トアミド４．２９と聰化メチレン１０ 耐−との混合物
な室温で１５分間かきまぜ、次に一１０°Ｃ１−冷却す
る（浴准２）。醪檜１および沼ぺ２？３υせる。 混合物をＯ″Ｇで３時間かきまぜ、区に飽オロ炭酸水減
ナトリウム溶液中シニ江別する。水ｅｉｌをδ去し、水
性塩酸で＋；４４．５にｈ崗督し、そしてクロマトグラ
フィー（ＸＡｉ） −２樹１旨、水）を行う。生成物を
含ｔｒｕｉ分を＃禰し、メタノールに＠解し、そしてメ
タノール性ナトリウム２−エチルヘキサノエート溶液（
約３Ｎ）で−１１７．Ｑ ｌ二調整する。ジエチルエー
テルの添加後、得られた洗穀を吸引ろ過し、そしてクロ
マトグラフィー（ＵＰＣ，２プレート、水／アセトニト
リル６：ｌ）を行う。ＲｆイｌＩＯ，６０（ＵＰＣｔ
ｚプレート、水／アセトニトリル６：１）の題の化合物
が得られるｃ例９参照）。 出発物質は以下のようにして製造できる。 （ｂ） ２− （５−アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−ト
リアゾール−３−イル）−酢酸エチルエステル出発物質
としてアセ゛トニトリル８８−中の３−シアノイミノ−
３−エトキシプロピオン鹸エチルエステル４８．５Ｆ
（０，２６３モル）およｄ９５チヒドラジン１０ｄを使
って例１ （ａｍ）と同様に行えば、ｋＬｆ値０．２５
（シリカゲル、クロロホルム／メタノール９５：５）
で、融点１５１〜１５３’Ｃの題の化合物が得られる。 ＩＲスペクトル（又ショール） ： ３３５０．１７３
５．１６５５ｃｍ−’Ｃ４Ｉ性１１収”Ｊ。 （ｃ）２−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−１）１−１．２
゜４−トリアゾール−３−イル）−酢酸エチルエステル 無水酢酸２５＋ＩｉＶ、をぎ１１１１３０ ｄ中に滴加
し、このｍ赦を４０°Ｃで３０分間かきまぜ、室ｍＣユ
冷却し、そして５−アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリ
アゾール−３−イルー酢酸エチルエステル１０．８Ｆ
（６３，５５ξリモル）の添加後、この混合物を室温で
４時間かきまぜる。反応混合物を真空下で？１１ｍし、
残さをジエチルエーテルですりつぶす。Ｒｆ＠ ０．６
５シリカゲル、クロロホルム／メタノール／氷酢酸８５
：１２：３）で、融点２０８〜２１０°Ｃの題の化合物
が得られる。ｉＲスペクトル（又ショール） ： ３２
９０．１７３２．１６８５．１５９５ｃＩＩＬ−’に特
性吸収帯。 （ｄ）２−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−１）１−１．２
゜４−トリアゾール−３−イル）−２−オキソ酢酸エチ
ルエステル 出発物質としてジオキサン４３５−中の２−（５−Ｎ−
ホルミルアミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾール−
３−イル）−酢酸エチルエステル８．７０ ｆ（４３，
９ミリモル）および二酸化セレン１２．２ ｆを使って
例２ｃｃ）と同様の方法を行えば、埒値０．４５（シリ
カゲル、クロロホルム／メタノール／氷酢酸８５ ：
１２ ： ３ ）の題の化合物が得られる。Ｈレベクト
ル（又ジＥ’−／’ ） ： ３２５０．１７３５．１
７１０ 。 １６７５．１６００ｃｍ ’ ｃ特性吸収帯。 （ｅ）２−（５−Ｎ−ホルｉ ／ｌ／アミノーＩ Ｈ−
１，２゜４−トリアゾール−３−イル）−２−メトキシ
イミノ酢酸エチルエステル 出発物鍜として９５チエタノール２００＝ｒｊ＆中の２
−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−１）１−１．２．４−）
リアゾール−３−イル）−２−オキソ酢酸エチルエステ
ル１２．Ｏｆ （５６，５６ミリモル）、メトキシアミ
ン塩酸塩６．Ｏｆおよびピリジン６．５４を使って例２
（ｄ）と同様の方法を行えば、Ｒｆ（Ｉ育０．４５ （
シリカゲル、クロロホルム／メタノール９：ｌ）で融点
１８４〜１８７ ’Ｃの題の化合物が得られる。ｎｔス
ペクトル（又ショール） ： ３３００．１７３５、ｌ
０４５Ｇｘに特性吸収帯。 （ｆ） ２−（５−アミノ−１ｉ−１−トリアゾール−
３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸 ２−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−
トリアゾール−３゛−イル）−２−メトキシイミノ酢酸
エチルエステル４．６Ｆ （１９，０ミリモル）と水性
塩＃！４９−との混合物を１００℃で１時間かきまぜ、
冷却し、そしてクロロホルムで抽出する。水相抽出液を
ａ＠し、残さをメタノールに溶解し、プロピレンオキシ
ドを添加し、そして混合物を０°Ｃで１時間かきまぜる
。沈殿を吸引ろ過し１．ジエチルエーテルで洗い、そし
て乾燥する。Ｒｆ［１０，１５（シリカゲル、５ｅＣ−
ブタノール／氷酢酸／水６７： １０ ： ２３ ）の
題の化合物が得られる。ＩＥＬスペクトル（又ショール
） ： ３３００ 、 １６８５．１０４θｃＩｌ−′
に特性吸収帯。 例 １７ （ａ）７β−（２−（５−アミノ−１−メチルスルホニ
ル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−
２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ）−３−アセトキ
シメチル−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム
塩 出発物質として塩化メチレン２．５ｗＱ中の７β−Ｃ２
−（５−アミノ−１−メチルスルホニル−ＩＭ −１，
２，４−トリアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシ
イミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル１．
Ｏｆ （１，５ミリモル）とアニソール帆７３ＩＣとト
リフルオロ酢酸１０ｙρとを使って例３（ａ）と同様の
方法を行えば、Ｒｆ値０．３５ （ＵＰＣ，、プレート
、水／アセトニトリル６：１）の題の化合物が得られる
。■Ｒスペクトル（又ジョーｋ） ３３５０．１７６
５．１６４０．１１６０ｃｍ−’に＝１Ｆ吸収帯・ 出＃１吻員は以下のよう１ニして装造できる。 （ｂ） ２− （５−アミノ−１−メチルスルホニル−
Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾール−３−イル）−２−
メトキシイミノ酢酸エチルエステル Ｎ、０−ビス−（トリメチルシリル）−アセトアミド３
１Ｑ、を塩化メチレン１５ ａｎ中の２−（５−Ｎ−ホ
ルミルアミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３
−イル）−２−メトキシイミノ酢飯エチルエステル〔例
１６’ （ｅ） ） ２．４０？ （１０，０ミリモル
）の浴ｇ（−加え、混合物を室温で３０分間かきまぜ、
次に一１０’Ｃ４：冷却し、そしてメタンスルホニルク
ロリド０．２４４を添加する。混合列をＯＣで４時間か
きまぜ、久（：室温で１６時間かきまぜ、それから酢酸
エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウム水浴液と水と塩化
ナトリウム水溶液とで連続的に洗い、硫酸マグネシウム
上で乾燥し、そして真空下で濃縮する。残さのクロマト
グラフィー（シリカゲル、クロロホルム、メタノールを
除徐に増加）を行つと、ｍｆ＋１０．６０ （シリカゲ
ル、クロロホルム／メタノール９：１）の題の化合物が
得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレン） ： １７
３５．１１５５．１０４５ＧＩＩＬ”−’６二特性吸収
帯〇 （ｃ） ２− （５−アミノ−１−メチルスルホニル−
Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−
メトキシイミノ酢酸 出発物質として水性塩酸２４−中の２−（５−アミノ−
１−メチルスルホニル−１−ｋｌ −１，２，４−）リ
アゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチル
エステル３．０３ ｆ （１０，３７ミ’Ｊモル）ヲ使
って例１６ （ｆ）と同様の方法を行えば、ａｆ＊ｏ、
ｚ。 （５ｅｅ−ブタノール／氷酢酸／水６７ ： １０ ：
２３ ）の魂の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（
又ショール） ： ３３３０ 、１１６０．１０４５ｃ
ｍ−’にａＳ吸収帯。 （ｄ）７β−［２−（５−アミノ−１−メチルスルホニ
ル−１１４−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−
２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキ
シメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル 出発物質として塩化メチレン２０ｍ１中の２−（５−ア
ミノ−１−メチルスルホニル−１ｔ（−１，２，４−ト
リアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸１．
０５Ｆ （４，０ミリモルンおよび７β−アミノ−３−
アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル１．７６９ （４，０ミリモル）
を使って列３（ｂ）と同様の方法を行えｋｉ 、Ｒｆｆ
ｌＯ−５０（シリカゲル、クロロホルム／メタノール／
氷０赦８５ ： １２ ： ３ ）の馳の化合物が得ら
れる。ＩＲスペクトル（又ショール） ： １７６５．
１１５５．１０４５ｃＩＬ’ Ｃ−％性吸収帯。 例 １８ （ａ）７β−（２−（５−アミノ−１−フェニル−１）
１−１．２．４−トリアゾール−３−イル）−２−２−
メトキシイミノアセトアミノ〕−３−セフエムー４−カ
ルボン曖のナトリウム場出発物質として２−（５−アミ
ノ−１−７エ二ルーＩＨ−トリアゾール−３−イル）−
２−メトキシイミノ＃［酸１．０４ｆ （４，０ミリモ
ル）および７Ｉ−アミノ−３−セフェム−４−カルボン
酸ｏ、４２ｆを使って例２（ａ）と同様の方法を行えば
、Ｋｔ（ＩＩｏ、５０ （ＵＰＣ，、プレート、水／ア
セトニトリル６：ｌ）の趙の化合物が得られる。ＩＲス
ペクトル（又ショール） ： ３３００．１７６５．１
６２０ 、１０４５ｃｍ１−’に特性吸収帯。 出発物質は以下のようＣ二して製造できる＠（ｂ） ２
− （５−アミノ−１−フェニル−１ｉ（−１゜２．４
− ）リアゾール−３−イル）−酢酸エチルエステル 出発物・疼としてアセトニトリル４ｏ−中の３−シアノ
イミノ−３−エトキシグロビオン酸エチルエステル２０
ｆ （１０８ミリモル）およびフェニルヒドラジン１５
．３ ｆを使って例１ （ａｍ）と同様の方法を行えば
、Ｒｆ１直ｔ）、８０ （シリカゲル、クロロホルム／
メタノール／氷酢ｆｆ８５：１２：３）で、融点９２〜
９３′Ｃの題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（塩
化メチレン） ： ３４６０．１７４０ 、１６２０ｍ
−’に特性吸収帯。 （ｃ） ２− （５−Ｎ、Ｎ−ジーｔ−プトキシカルポ
ニルアξ）−１−フェニル−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リ
アゾール−３−イル）−酢酸エチルエステルおよび２−
（５−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−フェニ
ル−１）１−１．２．４− トリアゾール−３−イル）
−酢酸エチルエステル出発物質として２−（５−アミノ
−１−フェニル−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾール−
３−イル）−酢酸エチルエステル１０ ｆ （４０，６
ミＩＪモル）、ＢＯＣ無水物２６．６ｆおよびＮ、Ｎ−
ジメチルアミノピリジン０．４２を使って例８（ｃ）と
同様の方法を行えば、Ｒ，飴０．７０ （シリカゲル、
トルエン／酢酸エチル１：１）で、ＩＲスペクトル（塩
化メチレン）： １８１０．１７３５ｃｍ−’にｌｌｌ
？ｌｌ状帯を持つ２−（５−Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシ
カルボニルアミノ−１−フェニル−１１１−１，２，４
−）リアゾール−３−イル）−酢酸エチルエステル、お
よびＲ，値０．４０（シリカゲル、トルエン／酢酸エチ
ル１：１）で、ＩＲ２ベクトル（塩化メチンｙ ） ：
３４００．１７３５ｃＩｌ−’ＣユＷ性液吸収帯持つ
２− （５−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−
フェニル−１）１−１．２．４−トリアン−ルー３−イ
ル）−酢酸エチルエステルが得られる。 （ｄ） ２− （５−Ｎ −ｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ−１−フェニル−ＩＨ−１，２，４−）リアゾール
−３−イル）−２−オキソ酢酸エチルエステル 出発８質としてジオキサン２９〇−中の２−（５−Ｎ−
ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−フェニル−１）１
−１．２．４− ）リアゾール−３−イル）−酢酸エチ
ルエステル１５．３ ｆ （４３，８ミリモル）および
二酸化セレン１２．９ｆを使って例２（Ｃ）と同様の方
法を行えば、Ｒｆ値０．２０ （シリカゲル、トルエン
／酢酸エチル１：１）の鴫の化合物が得られる。ＩＲス
ペクトル（塩化メチレン） ： １７４０．１７０５ｃ
Ｉｒ’ｃ特性１＆４Ｓｌ。 （ｅ） ２− （５−アミノ−１−フェニル−Ｉ Ｈ−
１ｔ２．４− ）リアゾール−３−イル）−２−メトキ
シイミノ酢酸エチルエステル 出発物質として９５チエタノール９０！ｌ中の２−（５
−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−フェニル−
１）１−１．２．４− ）リアゾール−３−イル）−２
−オキソ酢酸エチルエステル８．７５ ｆ（２４，２５
ミリモル）、メトキシアミンｔｉｉｉ酸珈２．５５ｆお
よびピリジン２．７−を使って例２（ｄ）と同様の方法
を行えば、Ｒ４１１０，７５（シリカゲル、クロロホル
ム／メタノール／氷酢酸８５：１２：３）の題の化合物
が得られる。ＩＲスペクトル（４化メチレン） ： ３
４００．１７３５．１０５０；’ｍｌ−’に特性吸収帯
。 （ｆ） ２− （５−アミノ−１−フェニル−１）１−
１゜２．４− ）リアゾール−３−イル）−２−メトキ
シイミノ酢酸 出発物質として水３５闘と９５多エタノール８５耐との
中の２−（５−アミノ−１−フェニル−ＩＨ−１，２，
４−トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢
酸エチルエステル４．Ｏｆ （１３，８３ミリモル）お
よび水酸化カリウム４．５ｔを使って例２（ｅ）と同様
の方法を行えば、Ｒｆ値０．２５ （シリカゲル、１ｅ
ｅ−ブタノール／氷酢酸／水６７ ： １０：２３）の
題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（ヌジ：１−
＃ ） ： ３５００．３３３０ 、 １６００ 、
１０３５ｃｓｔ−’に特性吸収帯。 例 １９ 例１〜１８と同様の方法で、適尚な出発物質を使って以
下の化合物が製造できる。 ７β−［２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−トリアゾール−３−４ル） −２−Ｚ −メトキ
シイミノアセトアミノ）−３−（１−カルボキシメチル
−テトラゾール−５−イルチオメチル）−３−セフェム
−４−カルボン酸のジナトリウＡ４、ＩｆＬ （父ジＥ
ｌ −ル） ： ３４００ 、１７７０ 、１６０５．
１０４５ｃｍ 。 ７Ｉ／−（２−（５−アミノ−１ｉ（−１，２，４−ト
リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノ）−
３−（１−メチルナト２ゾールー５−イルチオメチル）
−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム塩、ＩＲ
（又ジョー ル） ： ３３７０ 、１７７０ｃＩＩＬ
−’。 ７／’−［２−（５−アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−）
リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセ
トアミノ）−３−（１〜カルボキンメチルテトラゾール
−５−イルチオメチルクー３−セフェム−４−カルボン
酸のジナトリウム塩、ｌ１ｌ（又ショール） ： １７
７０ 、１６１０ｗ−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１ｆ（−１，２，４−）リ
アゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセト
アミノ）−３−（４−力ルバモイルビリジニオメテル）
−３−セフェム−４−カルボキシレート、ＩＲ（又ショ
ール） ： ３４００ 、 １７６５ 、１６２０゜１
０４５ｃＩＩＬ。 ７β−（２−（５−アミノ−１）（−１，２，４−トリ
アゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセト
アミノ〕−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム
塩、ＩＲ（又ショール） ： ３３５０．１７６５．１
６６０ 、１６０５ＣＩＬ−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１）１−１．
２．４−トリアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシイ
ミノアセトアミノ］−３−（１−メチルテトラゾール−
５−イルチオメチル）−３−セフェ五−４−カルボン酸
のナトリウム塩、ＩＲ（又ショール） ： ３４００．
１７６５ｚ−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−）リアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシイミ
ノアセトアミノ）−３−（１−カルボキシメチルテトラ
ゾール−５−イルチオメチル）−３−セフェム−４−カ
ルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（又ショール） ：
３４００ 、１７６５．１６１０ ｄ−’。 ７β−［２−（５−アミノ−１−メチル−１）１−１．
２．４− ）リアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミノ）−３−（’４−カルバモイルピリ
ジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキシレート
、ＩＲ（又ショール） ： ３４２５．１７７０ｃ＊
。 ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−トリアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシイミ
ノアセトアミノ〕−３−セフェム−４−カルボン酸のナ
トリウム塩、ＩＲ（又ショール）：４７７０、１６５５
ｃｔＬ−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−トリアシーｔｂ−３−イｈ）−２−Ｚ−（２−カ
ルボキシ−２−プロポキシイミノ）−アセトアミノ）−
３−＜４−カルバモイルピリジニオメチル）−３−セフ
ェム−４−カルボキンレートのナトリウム塩、ＩＢ （
ヌジョール）：３３００゜１７６５．１６２０ｍ−’。 ７１１−（２−（５−アミノ−ＩＨ−１，２，４−）リ
アゾール−３−イＡ）−２−Ｚ−メトキシイミノアセト
アミノ）−３−（４−ヒドロキシメチルピリジニオメチ
ル）−３−セフェム−４−カルボキシレート、ＩＲ（ヌ
ジ−ｉ −ル） ： ３４００ 、１７６５．１１０４
０ｔｌｌ１’ ０ ７β−（２−（５−アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リ
アゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセト
アミノ〕−３−セフェム−４−カルボン敵ピバロイルオ
キシメチルエステル、Ｉｆｔ（５？、ショール） ：
１７６５．１７３５ｃｍ−’。 ４β−（２−（５−アミノ−１）１−１．２．４− ）
リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−（２−カルボキシ−
２−プロピルイミノ）−アセトアミノコ−３−ピリジニ
オメチル−４−カルボキシレートのナトリウム編、ＩＲ
（又ショール） ： １７６５．１６２０儒−１゜ ７β−（２−（５−アミノ−１１−１−１，２，４−ト
リアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシイミノアセト
アミノ）−３−（１−メチルテトラゾール−５−イルチ
オメチル）−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウ
ムｉ、ＩＲ（″Ｊ、ショール）：３３３０．１７６５１
ＪＩ−’。 ７β−（２−（５−アＺノー１１−１−１．２．４−ト
リアシー ルー３−イル）−２−ヒドロキシイミノアセ
トアミノ）−３−（１−カルボキシメチルテトラソール
−５−イルチオメチル）−３−セフェム−４−カルボン
酸の芽ナトリウムｆｆｌ、ＩＮ（メジョール） ： ３
３００ 、 １７６５．１２２０ｃｍ−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１−メチルスルホニル−１
１４−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−Ｚ
−メトキシイミノアセトアミノ）−３−（１−メチルテ
トラゾール−５−イルチオメチル）−３−セフェム−４
−カルボン酸のナトリウム塩、ＩＲ（又ジョーｋ ）
： ３３３０ 、１７６５．１１６０ｃｙ−’。 ７β−［２−（６−アミノ−１−メチルスルホニル−１
ｄ−１，２，４−トリアゾール−３−イＡ）−２−２−
メトキシイはノアセトアミノＪ−３−（４−カルバモイ
ルピリジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキシ
レート、ＩＲ（ヌジョール）： １７６５．１６２０
・スー１゜ ７β−（２−（５−アミノ−１−メチルスルホニル−１
ｋ（−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−２
−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−（ｌ−カルボキ
シメチルテトラゾール−５−イルチオメチル）−３−モ
ノエム−４−カルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（又シ
ョール） ： １７６５．１６２０ 、 １０４５ ｃ
ｙｉ−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１−メチルスルボニル−Ｉ
Ｈ−１，２，４−）リアゾール−ｊ−イル）−２−ヒ
ドロキシイミノアセトアミノ）−３−（ｌ−カルボキシ
メチルテトラゾ−５−イルチオメチル）−３−セフェム
−４−カルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（又ショール
） ： ３３５０．１７６７．１６２５ｍ ’。 ７β−［２−（５−アミノ−１−フェニル−１）１−１
．２．４− トリ７ゾールー ３− イル） −２−Ｚ
−メトキシイミノアセトアミノ）−３−（４−カルバモ
イルピリジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキ
シレート、ＩＲ（又ショール） ：１７６５．１０５０
Ｃ１ｌ！−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１−フェニル−ＩＭ −１
，２，４−）リアゾール−３−イル） −２−Ｚ−メト
キシイミノアセトアミノ）−３−（１−メチルテトラゾ
ール−５−イルチオメチル）−３−セフェム−４−カル
ボン酸のナトリウム塩−Ｖ−１ＩＲ（又ジ”−ル） ：
１７６５．１６１５．１０４５ｃｍ−’。 ７／−（２−（５−アきノー１−フェニル−１１１−１
，２，４−）リアゾール−３−イｋ ） −２−Ｚ−メ
トキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウＡｍ、ＩＲ（
５１シ＊−ル） ： ３３３０ 、 １７６５ｃｓｃ−
’。 ７Ｉｌ−（’２−（５−アミノ−１−フェニル−１）１
−１．２．４− ）リアゾール−３−イル）−２−ヒド
ロキシイミノアセトアミノ）−２−（１−カルボキシメ
チルテトラゾール−５−イルチオメチル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（又ショー
ル） ： ３３３５．１７６０ 、１６２０ｃＷＬ−’
。 ７β−（２−（５’−アミノ−１−カルボキシメチル−
１）１−１．２．４−トリアゾール−３−イル）−２−
２−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−（１−メチル
テトラゾール−５−イルチオメチル）−３−セフェム−
４−カルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（又ショール）
： ３３５０．１７６５ ｃｙｉ−’。 ７＃−［２−（５−アミノ−１−カルボキシメチル−１
）１−１．２．４− トリアゾール−３−イル）−２−
２−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−（１−カルボ
キシメチルテトラゾール−５−イルチオメチル）−３−
セフェム−４−カルボン酸のトリナトリウム塩、ＩＲ（
又ショール） ： ３３００．１７６５０ｍ１ 。 ７β−（２−（５−アミノ−１−カルボキシメチル−Ｉ
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−２
−メトキシイミノアセトアミノ）−３−（４−ヒドロキ
シメチルピリジニオメチル）−３−セフェム−４−カル
ボキシレートのナトリウム塩、ＩＲ（Ｘショール） ：
３３５０５１７６５．１０５０イ１゜７β−（２−（
５−アミノ−１−カルボキシメチル−Ｉ Ｈ−１，２，
４−トリアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシイミノ
アセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（又ショール
３ ： １７６５．１７３５ｍ 。 ７１Ｉ−（２−（５−アミノ−１−カルボキシメチル−
１ｔｌ −１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセドアきノ）−３−（ｌ−メチル
テトラゾール−５−イルチオメチル）−３−セフェム−
４−カルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（Ｘショール）
： １７６５．１６２０ａｌＬ−’ 。 ７／−（２−（５−アミノ−１−アセチル−１）１−１
．２．４− ）リアゾール−３−イル）−２−ヒドロキ
シイミノアセトアミノ〕−３−アセトキクメチル−３−
セフェム−４−１フルポン酸のナトリウム塩、ＩＲ（又
ショール） ： １７６５．１７３５．１６３０ｃＩＬ
。 例 ２０ 活性成分例えば７β−［２−（５−アミノ−１−メチル
−１）１−１．２．４−トリアン−ルー３−イル）−２
−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ］−２−（４−カル
バモイルピリジ、ニオメチル）−３−セフェム−４−カ
ルホキシレー） ０．５ ｆを各各含有するアンプルま
たは渠びんは、列えば以下のよう堪ユして調製できる。 組 成（アンプルまたは桑びん１個当たり）活性性分
０．５ｆ マンニトール ０．０５ｆ活性成分および
マンニトールの殺菌水溶液を無明条件の下、５−のアン
グルまたは５！ＩＯの薬びん１；充てんし、そしてこれ
らを常閉して試験する。
、保−されているか才たは保−されていない４−カルざ
キシル基は好ましくはα−７＋ｊ ｋにある。 式Ｖｌで表わされる２−セフェム化合物（マ、弱塩基性
の剤で処理し対応する６−セフェム化合物を単離するこ
とによって異性化することができる。 適当な異性化剤としては、施えば、イイ轡望軍含有塩基
、特に芳香族性の第三級複素壌式編基、特に□ピリジン
型の塩基、例えばピリジント１体、およびピコリン類、
コリシン類またはルチジンづ１１１またキノリン、第三
級芳香族塩基、例えばアニリン型のもの、例えばＮ、Ｎ
−ジ低級アルキルアニリン、例えばＮ、Ｎ−ジメチルア
ニリンまたはＮ、Ｎ−ジエチルアニリン、または第三級
脂肪族、アザ脂填式または芳香脂肪族の塩基、例えばト
リ低級アルキルアミン、例えばトリメチルアミンまたは
ゾイソゾロールエチルアミン、Ｎ−ＩＡＭアルキルγデ
シクロアルロン、例えばＮ−メチルビペリシン、または
Ｎ−フェニル低級アルキル−Ｎ、Ｎ−シイへ゛級アルキ
ルアミン、例えばＮ−ベンゾルーＮ、Ｎ−ゾメチルアミ
ン、およびか＼る塩基性剤の混合物、例えばピリジン型
の塩基七トリイ氏級アルキルアミンとの混合物、例えば
ビリシンとトリエチルアミンとの混合物が挙げられる。 さらに塩基、特に中程度の塩基ないし強塩基と弱酸との
無機または有機の塩、例えば低級アルカンカルボン酸の
アルカリ金属塩またはアンモニウム塩、例えば酢酸ナト
リウム、酢酸トリエチルアンモニウムオたけ酢酸Ｎ−メ
チルピペリジン、およびその他の５ｉ（ＬＪの塩基また
はこのような塩基性剤の混合物もまた使用することがで
きる。 式■１で表わされる２−セフェム化合物の１＝基に［剤
による異性化は、好ましくは無水の媒質中で、浴媒、例
えばハロゲン化、例えばｔ、ｌｔＪ化されているか才た
はされていない８ｇ肋肪族ＨＰ”Ｆ１式また（ゴ％香側
炭化水素、または浴媒混合物の存在また（ｉ不在におい
て（こ＼で、反応刹として１ψ用される反応条件下で液
状である塩基は同時に浴媒として働くことができる）、
場合により冷ム（ｊまたは加艶しつ＼、好才しくは約−
３０°Ｃから１＋１０’０’Ｃの霊ｉ範囲において、不
粘性がスふんいき例えば窒素ふんいき中で、そして（才
たは）密閉器中で行なわれる。 このようにして得られる式！で表わされる６−セフェム
化合物は、残存することのある２−セフェム出発材料か
ら自体公知の方法、例えば吸宥および（または）結晶化
によって分離することができる。 式■！で表わされる２−セフェム化合物の異性化による
対応する３−セフェム化合物の生成は、好ましくは前者
を１−位において暖化し、所望ならば生成した１−オキ
シドの異性体混合物を分離し、そしてこのようにして得
られた対応する３−セフェム化合物の１−オキシドを還
元することによって行なわれる。 式Ｖｔで表わされる２−セフェム化合物の１−位におけ
る酸化のために適当な酸化剤きしては、少くとも＋１．
５１１ｅルトの還元電位を有し非金属元素から成る無機
過酸、有機過酸、または過酸化水素と酸、特に少くとも
１０−６の解離恒数を有する有機カルボン酸とから成る
混合物が挙げられる。適当な無機過酸としては過ヨウ素
酸および寺鑓酸が挙げられる０有機過酸としては対応す
る過カルボン酸および過スルホン酸が挙げられ、これら
はそのもの自体として添加するか、または少くとも１当
責の過酸化水素とカルメン酸とを使用してその場で生成
することができる。この場合、もし、例えば酢酸が爵媒
として使用されるときは、大過剰のカルざン酸を使用す
るのが便利である。適当な過酸としては、例えば、過ギ
酸、過酢酸、トリフルオロ逼酢酸、過マレイン酸、過安
息舎酸、６−クロロ過安息香酸、モノ過フタル酸または
ｐ−トルエン過スルホン酸が挙げられる。 酸化は過酸化水素を、触媒當の解断恒数少くとも１０″
″５の酸と共に使用してｌ１ｆｆＪ様に行なうことかで
き、この場合低濃度例えば１−２％以下の酸を使用する
ことも゛、遂に比較的大量の情を使用するこきも可能で
ある。この場合混合物の効果は主として酸の強度に左右
される０適蟲な混合物の例さしては、過酸化水素と酢酸
、過塩素酸またはトリフルオロ酢酸との混合物が挙げら
れる。 前記の酸化は適当な触媒の存在で行なうことができる。 すなわち、例えば、過カルざン酬による酸化は少くとも
１０−６の解離恒数を有する酸の存在によって触媒作用
され、この酸の効果はその強度に左右される。触媒とし
て適当な酸としては、例えば、酢酸、過塩素酸およびト
リフルオロ酢酸が埜げられる。通常−化剤は少くとも当
量、奸才しくは約１０％−約２０％の小過１！ｌＩｔが
使用されるが、比較的大過剰、すなわち１０倍賞以上の
、＃化剤を使用することもできる。酸化は穏和な条件下
で、例えば約−５゛０℃から約＋１００℃の温度、好ま
しくは約−１０℃から一４０℃の温度で行なわれる＠ ３−セフェム化合物の１−オキシＰの還元は自体会知の
方法により、還元剤で、必要ならば活性化剤の存在にお
いて処理することによって行なうことができる。適当な
還元剤の例としては次のものが挙げられる：接触的に活
性化された水素（この場合パラジウム、白金才たはロジ
ウムを含み、適当な担体例えばカーボンまたは硫酸バリ
ウムと共に１または担体無しで使われる貴金属触媒が使
用される）；還元性スズ、鉄、銅またはマンがン陽イオ
ン（これらは対応する無機または有機の化合物または錯
体の形で、例えば塩化、フッ化、酢酸またはギ酸スズ（
厘）、塩化、硫酸、シラ酸またはコハク醸鉄（Ｉ）、塩
化、安息香酸才たは酸化＠（１）％または塩化、硫酸、
酢酸または酸化マンがン（厘）の形で、ま・たは錯体、
例えばエチレンシアミン四酢酸またはニトロ三酢酸との
錯体の形で一使用される）；還元性の曲、ニチオン酸−
ヨウ素−１またはフェロ（２価）シアン−アニオン（こ
れらは対応する無機または有機の地、例えばアルカリ金
属層ニチオン酸塩、ヨウ化物またはフェロ（２価）シア
ン化物、例えば亜二チオン酬ナトリウムまたはカリウム
、ヨウ化ナトリウムまたはカリウム、才たはフェロシア
ン化ナトリウムまたはカリウムの形で、または対応する
酸、例えばヨウ化水素酸の形で使用される）；ｐ元性の
６価の無機才たは有機のリン化合物、“例えばホスフィ
ン、また亜ホスホン酸、亜ホスフィン酸または曲リン酸
のエステル、アミドおよびノ１０ｒン化物、そしてまた
これらのリンー酸索化合物に対応するリン−硫黄化合物
で、その有機基が特に脂肪族、芳香族または芳香脂肪族
基、例えば（−換されているかまたは置換されていない
低級アルキル基、フェニル基またはフェニル低級アルキ
ル基であるもの、例えばトリフェニルホスフィン、トリ
ーｎ−ブチルホスフィン、ジフェニル曲ホスホン酸メチ
ルエステル、ジフェニルクロロホスフィン、）゛工ニル
ジクロロホスフィン、ベンゼン亜ホスホン酸ゾメチルエ
ステル、ブタン亜リン酸メチルエステル、リン酸トリフ
ェニルエステル、亜リン酸トリメチルエステル、三塩化
リン、三臭化リン等；ケイ素原子に結合した少くきも１
個の水素原子を有し、ハロゲン原子例えば塩素、臭素ま
たはヨウ素原子のほかに有機の基、例えば脂肪族または
芳香族の基、例えば置換されているかまたはＩＷ換され
ていない低級アルキル基またはフェニル基を含有しても
よい、還元性ハロシラン化合物、例えばクロロシラン、
ゾロモジラン、ジーまたはトリークロロシラン、シーま
たはトリーゾロモジラン、ジフェニルクロロシランまた
はジメチルクロロシラン、もしくはまた、その水素原子
全部が有機基によって置換されているハロシラン化合物
、例えばトリ低級アルキルハロシラン、例えばトリメチ
ルクロロシランまたはトリメチルヨードシラン、または
環式硫黄含有シラン、例えば１，３−ジチア−２，４−
ジシラシクロブタンまたは１，５．５−トリチア−２，
４，６−）リシラシクロヘキサンで、°そのケイ素原子
は炭化水素基、例えば特に低級アルキル基によって置換
されているもの、例えば２，２，４．４−テトラメチル
−１，３−ジチア−２，４−シシラシクロブタンまたは
２，２゜４．４，６．６−ヘキサメチル−１，３，５−
トＩＪチアー２．４．６−ドリシラシクロヘキサン等；
還元性の第四級クロロメチレンイミニウム塩、特に塩化
物または臭化物で、そのイミニウム基が２価の有機基１
個または１価の有機基２個（例えばに崇されていないか
または置換されている低級アルキレン基または低級アル
キル基）によって置換されているもの、例えばＮ−クロ
ロメチレン−Ｎ。 Ｎ−ゾエチルイミニウムクロリｒまたはＮ−クロロメチ
レンピロリジニウムクロリド；適当な活性化剤例えば塩
化コパル）（１）の存在における金属水素化物錯体、例
えば水素化ホウ累ナトリウム、そしてまた二塩化ボラン
。 前記の還元剤のうちでそれ自体はルイス酸の性−を持た
ないものと共に、すなわち轡に曲ニチオン酸塩、ヨウ化
物またはフェロシアン化物還元−剤およびハロゲン原子
を含有しない三価リン還元剤と共に使用される、才たは
接触還元において使用される活性化剤としては、特に有
機カルざン酸およびスルホン酸ハロゲン化物、しかし才
た、塩化ベンゾイルと同等または以上の二次加水分解悄
数を有する硫黄、リンオたはケイ素ハロゲン化物、例え
ばホスゲン、オキサリルクロリｒ、アセチルクロリドま
たはデロミｒ１クロロアセチルクロリド、ピパロイルク
ロリド、４−メトキシベンゾイルクロリド、４−シアノ
ベンゾイルクロリド％ｐ−トリエンスルホニルクロリド
、メターンスルホニルクロリド、チオニルクロリｒ、オ
キシ塩化リン、三塩化リン、三臭化リン、フェニルジク
ロロホスフィン、ベンゼン亜ホスホン酸ジクロリｒ１ゾ
メチルクロロシランまたはトリクロロシラン、また適当
な酸無水物、例えばトリフルオロアセチルアンヒドリド
、または環式スルトン、例えばエタンスルメン、プロパ
ンスルトン、１，６−ブタンスルトンまたは１，３−ヘ
キサンスルトンが挙げられる。 還元は好ましくは浴媒またはその混合物の存在において
行なわれ、済媒の選択は主として出健材料の一＃＋解性
および選定した還元剤によってきまる：すなわち例えば
、接触還元の場合には低級アルカンカルボンニオたはそ
のエステル、例えばｃｒｌ、ａおよびσμ酸エチル、そ
して例えば、置−されていないか才たは置換された、例
えばハロゲン化またはニトロ化された、脂肪族、）ｌＦ
堪式、芳査族または芳香脂肪族炭化水素、例えばベンゼ
ン、塩化メチレン、クロロホルムまたはニトロメタン、
適当な２１２４体、例えば低級アルカンカルボン酸エス
テルオたはニトリル、例えば酢酸エチルまたはアセトニ
トリル、または無機酸または有機醒のアミド、例えばジ
メチルホルムアミｈｅまたはヘキサメチルホスホルアミ
ド、エーテル、例えばジエチルエーテル、テトラヒｒロ
フランまたはジオキサン、ケトン例えばアセトン、また
はスルホン、特に脂肪族スルホン、例えばジメチルスル
ホンまたはテト□ラメチレンスルホン等を化学的業元剤
と共ζこ便用し、そしてこれらの泗媒は好ましくは水分
を含−まないものとする０反応は通常約−２０′０から
約１００℃の温度で行なわれるが、非常に反応性の大き
い活性化剤を使用するときは反応はよりイ斤温でも行な
うことができる。 方法ｅ） （置換されていないかまたは置換されて４−
カルボキシ基および他の官能基が置換されていたいかま
た社置換されている成立）で表わされる出発材料におい
て、式Ｈａ Ｎ−０−Ｒｓ で表わされるヒドロキシ
アミン誘導体で処理することにより、７β−アシルアミ
ド基中のアミド基形成に関与しないオキソ基を置換され
ていないかまたは〇−置換されたヒドロキシイミノ基に
変換できる。式（■）で表わされる出発材料とヒドロキ
シアミン誘導体との反応は通常の方法により、例えばそ
れら２種の反応成分を、溶媒中例えば水ま友は有機溶媒
例えばアルコール例えばメタノール中で、わずかに高め
たかまたは下げた温度例えば約−２０℃〜約◆Ｚｏｏ℃
好ましくは約り℃〜約（資）℃で、所望によっては不活
性ガスふん囲気中例えば窒素ふん囲気中で反応させる。 ヒドロキシアミン誘導体社その場で遊離させてもよく、
例えば塩例えばＩ・ロゲン化水素例えば塩化水素から、
無機塩による処理、例えばアルカリ金属水酸化物例えば
水酸化ナトリウムによる処理または有棲塩による処理、
例えば第３アミン例えばトリー低級アルキルアミン例え
ばトリエチルアミンまたはエチルジインプロピルアミン
または複素環式第３塩基例えばピリジンによる処理によ
って遊離させる。 式い１で表わされる出発材料においては、反応すべきヒ
ドロキシイミノ基以外のエーテル化またはカルバモイル
化できる基は保−されているのが好ましい。 所望の置換されていないかまたは置換されている低級ア
ルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基また
は低級アルケニル基であるＲｓｔ−導入する通常のエー
テル化剤によって、遊離の水酸基のエーテル化を行なう
。 適当なエーテル化剤は例えばジアゾ化合物例えばジアゾ
低級アルカンまたはジアゾ環状アルカン例えばジアゾメ
タン、ジアゾエタンまたはジアゾ−ｎ−ブタンであり、
これらのアルカン部分は置換されていないかまたは置換
されている。これらの試薬は適当な不活性溶媒、例えに
脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素例えばヘキサン、
シクロヘキサン、ベンゼンまたにトルエン、７１０ケン
化脂肪族炭化水素例えば塩化メチレン捷たはエーテル、
例えばジ低級アルキルエーテル例えばジエチルエーテル
または環状エーテル例えばテトラヒドロフランまたはジ
オキサンまたは溶媒混合物の存在下に使う。使うジアゾ
試薬によっては冷却下または室温でまたはおだやかな加
熱下に、また必要ならば密閉容器中でおよび（または）
不活性ガス？ｌＪえｆ′ｉｉｉ集ふん囲気中で使う。 他の適当なエーテル化剤は相当するアルコールのエステ
ルとりわけ強い無機＃：または有機酸、例えは鉱酸例え
ばハロゲン化水素酸例えば塩化水素酸、臭化水素酸また
はヨー化水素酸さらに硫酸またはハロゲン化価＃世１え
げフッ化硫酸、またＶｉ強い有機スルホン酸例えば置換
されていないかまたはハロゲン原子例えばフッ素原子に
よって置換されている低級アルカンスルホン酸、または
芳香族スルホン酸例えば置換されていないかまたは例え
ば低級アルキル基例えばメチル基、ノ・ロゲン原子例え
ば臭素原子またはニトロ基によって醸侠されているベン
ゼンスルホン酸、？すえばメタンスルホン酸、トリフル
オルメタンスルホン酸またはｐ−トルエンスルホン酸と
のエステルでアリ、側光ば硫酸シイ氏級アルキルエステ
ル例えば覚醒ジメチルさらにフッ化スルホン酸低級アル
キルエステル例えばフツルスルホン酸メチルエステルま
たは置換されていないか捷たはハロゲン原子によって置
換されているメタンスルホン酸低級アルキルエステル側
光ばトリフルオルメタンスルホン酸メチルエステルであ
る。これらのニステルハ通常、不活性溶媒例えば１１１
１１換されていないかまたはハロゲン化例えば塩素化さ
れている脂肪族、脂環式または芳香族炭化水素例えば塩
化メチレン、エーテル例えばジオキサンまたにテトラヒ
ドロフランまたはこれらの混合物の存在下に使う。適当
な縮合剤、例えはアルカリ金栖炭酸塩または炭酸水素塩
？ｌｌえばＩＲ酸または炭酸水素ナトリウムま九はカリ
ウム（通常は硫酸塩と一緒に）または有機塩基例えば立
体障害のあるトリー低級アルキルアミン例えばＮ、Ｎ−
ジイソグロビルーＮ−エナルアミン（好ましくハノ・ロ
ゲン化硫醐低級アルキルエステ／Ｌｉ念に置換されてい
ないかまたにハロゲン置換されているメタンスルボン酸
低糾了Ｊ・キルエステルと一緒に）を使うのが好甘しく
、操作は冷却下、室温で捷たけ７Ｉｃ熱下に、例えば室
温で、約−２０℃〜約５０℃で、必要ならば密閉容器中
でおよび（捷たば〕不活性ガス例えば窒素ガスふん囲気
中で行なう。 さらにエーテル化剤は対応するアセタール例えばｇｅｍ
−低級アルコキシ低級アルカン例えば２，２−ンメドキ
ンプロパンであり、強い有機スルホン酸例えばｐ−トル
エンスルホン酸・の存在下、適当な溶媒例えばジ低級ア
ルキルスＪ・ホキシトまたけ低級アルキレンスルホキシ
ド例えばジメチルスルホキシドの存在下に使う。またオ
ルトエステル例えばオルトキ酸トリ低級アルキルエステ
ル％、ｌ 、ｔばオルトギ酸トリエチルエステルであり
、強い鉱酸例えば硫酸筐たは強い有様スルホン酸例えば
ｐ−トルエンスルホン酸の存在下、適当な溶媒例えばエ
ーテル例えばジオキサンの存在下に使う。 エーテル化剤としてはさらに対応するトＩＪ −Ｒ５−
オキソニウム塩（いわゆるメーヤワイン塩）、シーＲ５
−０−力ルペニウム塩マたｕジ Ｒｓ−ノ・ロニウム塩
（これらの式においてＲｓは導入すべき基を表わす）で
あり、例えばトリー低級アルキルオキソニウム塩および
ジー低級アルコキシカルペニウムまたはジ低級アルキル
ハロニウム塩とりわけフッ素原子含有酸錯体ｆ１１えは
対応するテトラフルオルホウ酸塩、ヘキサフルオルリン
酸塩、ヘキサフルオルアンチモン酸塩またはへキサクロ
ルアンチモン酸塩である。このような試薬は例えばトリ
メチルオキソニウムまたはトリエチルオキソニウムヘキ
サフルオルアンチモン酸塩、ヘキサクロルアンチモン酸
塩、ヘキサフルオルリン酸塩またはテトラフルオルホウ
酸塩、ジメトキシカルベニラムヘキサフルオルリン酸塩
またはジメチルブロモニウムヘキサフルオルアンチモン
酸塩である、これらのエーテル化剤は不活性溶媒例えば
エーテルま念ハハロゲン化炭化水素例えばジエチルエー
テル、テトラヒドロフランまたは塩化メチレンまたはそ
れらの混合物の存在下、必簀ならば塩基例えば有機塩基
、例えば好筐しくに立体障害のある、トリー低級アルキ
ルアミン忰えばＮ、Ｎ−ジイソプロピル−Ｎ−エチルア
ミンの存在下、冷却下または室温でまたはおだやかな加
熱下に、例えば約−９０℃〜約５０℃で、必帯ならば密
閉容器中および（または）不活性ガス伊１えは窒素ガス
ふん囲気中で使う０ さらに別のエーテル化剤は対応するＩ Ｒｓ ３−
アリールトリアゼン化合物であり、この式においてＲｓ
Ｕ導入される基であり好ましいアリール基は置換されて
いないかまｆＣＦｉ置換されているフェニル基例えば低
級アルキルフェニル基例えば４−メチルフェニル基であ
る。そのようなトリアゼン化合物は例えば３−了り一ル
ーｌ−低給アルキルトリアゼン例えば３−（４−メチル
フェニル）−１−メチルトリアゼンである。これらの試
薬Ｕｎ常不活性溶媒例えば置換されていないかまたｄノ
・ロゲン化された炭化水素またはエーテル世１えばベン
ゼンまたは溶媒混合物の存在１、冷却下または室温で、
または好ましくは高めた温度例えば約加Ｃ〜約１００℃
で、必要ならば密閉容器中でおよび（４たに）不活性ガ
ス例えば窒素ガスふん囲気中で使う。 水素原子の代わりの置換されていないかまたは［％され
ているカルバモイル基の導入は、それ自体公知のカルバ
モイル化によって行なわれる。この目的のためには、式
（■）で表わされる化合物であって、化合物中のカルバ
モイル化されないかまたはカルバモイル化剤全消費する
か破壊するすべての反応性基が保護されているものを、
所望によっては段階的にカルバモイル化剤で処理する。 適当なカルバモイル化剤ｅよ、置換されていないかまた
ｈａ換されているカルバミン酸の反応性誘導体とりわけ
混合無水物の相当するインシアネート例えば相当するカ
ルバミン酸クロリドであり、ホスゲンとオーアミンとか
らその場で形成してもよい。 インシアネートとの反応は通常の不活性溶媒例えばＦｔ
換されていないかまたはハロゲン化された炭化水素例え
ばベンゼン、キシレンまたは塩化メチレン、エーテル例
えばジエチルエーテル、ジオキサンまたはテトラヒドロ
フラン、またはエステル例えば酢酸エチル中で、塩基性
触媒例えば第３アミン例えばトリエチルアミンまたはピ
リジンの存在下または不在下に、室温でまたはわずかに
高めた温度で、約−加℃〜＋５０℃で行なう。 カルバミン酸の混合無水物の反応においては、例えばア
ルカリ金族水素化物例えばす） ＩＪウムまたはリチウ
ム水素化物との反応により、アルコール残基が最初に金
属化されるのが有利である。水酸基が金属化されている
式（■うで表わされる化合物は、まずホスゲンで処理し
、次にアンモニアまたはオニアミンで処理し、このよう
にして段階的にカルバモイル化することもできる。この
反応もやはり不活性溶媒中で前記の温度において行なわ
れる。 式（幻で表わされる出発材料においてに官能基は保護さ
れているのが好ましい。適当なニトロ化剤は曲硝酸およ
びその誘導体例えば〕・ロゲン化ニトロフル例えば塩化
ニトロシルまたは臭化ニトロシル、亜硝酸塩例えばアル
カリ金属塩例えば亜硝酸ナトリウムまたにカリウム、ま
たはとりわけ亜硝酸エステル例えば相当する低級アルキ
ルエステル例えば亜硝酸ブチル、ペンチルまたはとりわ
けイソ了ミルである。ニトロ化剤として亜硝酸塩を使う
場合は、強い無機酸または有機酸例えば塩化水素酸、硫
酸、ギｆ！？または酢酸の存在下に求応をｈなうのが好
ましい。亜硝酸エステルを使う場合は会い塩基、例えば
アルカリ金蝿アルコキシドの存在下に反応を行なうのが
好ましい。 ニトロ化は適当な溶媒例えば水、カルボン酸例えば酢酸
、低級アルカノール例えばメタノールまタハエタノール
、エーテル例えばジオキサンまたにテトラヒドロフラン
または炭化水素例えばヘキサンまたはベンゼンまたはそ
れらの混合物中で、必要ならば冷却またに加熱下に、室
温で、とりわけ約−１５℃〜はぼ室温までの温度で、お
よび（または）不活性ガスふん囲気中で行なう。 方法ｈ） （遊離のカルボキシ基Ｒ３の保護された式
（１）で表わされる化合物中の遊離のカルボキシ基を、
ゆるやかな化学的条件下′または物理的条件下で容易に
分裂でさる、保護とりわけエステル化されたカルボキシ
基へ変換する反応は、それ自体公知の方法により行なう
。例１えは他の官能基例えばアミン基、水酸基またはス
ルホ・基か置換されていないかまたに保＾されている式
（Ｘｉで表わされる化合物または保護されたカルボキシ
基に関して反応性であるその誘導体またにそれらの塩を
、相当するアルコールまたはその反応性官能性誘導体に
よってエステル化する。 保＾されたカルボキシ基に関する適当な反応性官能性誘
導体は無水物とりわけ混合無水物および活性化されたエ
ステルである。 所望のアルコールによる、遊離のカルボキシ基のエステ
ル化社、縮合剤の存在下に打なう。通常の縮合剤として
はカルボジイミド例えばＮ、Ｎ’−ジエチル−１Ｎ、Ｎ
’−ジプロピル−１Ｎ、Ｎ’−ジシクロヘキシルまたは
Ｎ−エチル−Ｎ’−３−ジメチルアミノプロピル−カル
ボジイミド、適当なカルボニル化合物例えばカルボニル
ジイミダゾールまたはインキサゾリウム３′−スルホン
酸およびＮ−オ三ブチルー５−メチルインキサゾリウム
・バークロレートまたはアシル了ミノ化合物例えば２−
エトキシ−１−エトキシカルボニル−１，２−ジヒドロ
キノリンである。 縮合反応は好ましくは無水反応媒質中、好ましくは溶媒
または希釈剤例えば塩化メチレン、ジメチルホルムアミ
ド、アセトニトリルまたはテトラヒドロフランの存在下
、所望または必要ならば冷却または加熱下に、および（
または）不活性ガスふん囲気中行なう。 混合無水物は例えば、無機酸例えばハロゲン化水累酸と
のもの、すなわち相当する酸ハロゲン化物例えば塩化物
または臭化物、さらにヒドラゾン酸とのものすなわち相
当する酸アジド、リン含有酸例えばリン酸、ジエチルリ
ン酸または亜リン酸とのもの、またはイオウ含有酸例え
ば硫酸とのもの、またはシアン化水素酸とのものである
。他の混合無水物は例えば有機カルボン酸とのもの例え
は置換されていないかまたは置換芒れている例えばハロ
ゲン原子例えばフッ素化または塩素原子によって置換さ
れている、低級アルカンカルボン酸例えばピバリン酸ま
ｆＣはトリクロル酢酸とのもの、半エステルとシわけ炭
酸の低級アルキル半エステル９’ｌＪ 、ｔ ハ炭酸エ
チルまたはイソブチル半エステルとのもの、または有機
とりわけ脂肪族または芳香族または芳香族スルホン酸例
えばｐ−）ルエンスルホン酸とのものでおる。 アルコールとの反応に適する活性エステルは、例えばビ
ニル性アルコール（すなわちエノール）例えばビニル性
低級アルケノールとのエステルまたはイミノメチルエス
テルハライド例えばジメチルイミノメチルエステルクロ
リド（これはカルボンｆｉｌ’ （！Ｚ 式（（ＣＨｓ
）＊Ｎ ＝ ＣＨＣｌ ）ｅＣＰ テ表ｂ サｔＬル
’）メチルクロルメチリデンイミニウムクロリドとから
製造する）または了り−ルエステル例えば４−ニトロフ
ェニルエステルまたは２．４−ジニトヲフェニルエステ
ル、複素芳香族エステルｆｉｌ ｊ ハベンズトリアゾ
ールエステル例えばｌ−ベンズトリアゾールエステルま
たはジアシルイミノエステル例えばサクシニルイミノま
たはフタルイミノエステルである。 酸誘導体例えば無水物とりわけ酸ハロゲノ化物によるア
シル化は、酸結合剤例えば有機塩基例えば有機アミン例
えばオ三アミン例えばトリー低級アルキルアミン例えば
トリメチルアミン、トリエチルアミンまたはエチルジイ
ソプロピルアミンまたｔｉ Ｎ、Ｎ−ジー低級アルキル
アニリン例えばＮ、Ｎ−ジメチルアニリンまたは環状第
３アミン例えばＮ−低級アルキル化モルホリン例えばＮ
−メチルモルホリン、またはピリジン型の塩基例えばピ
リジン、無機塩基例えばアルカリ金属またはアルカリ土
類金属の水酸化物、炭１塩または炭酸水素塩例えばナト
リウム、カリウムまたにカルシウムの水酸化物、炭酸塩
、または炭酸水素塩またはエチレンオキシド例えば１．
２−低級アルキレンオキー、シト例えばエチレンオキシ
ドまたはグロビレンオキシドの存゛在下に行なうのが好
ましい。 前記アシル化は、不活性の、好ましくは無水の溶媒また
は溶媒混合物例えばカルボン嗜アミド例えばホルムアミ
ド例えばジメチルホルムアミド、ハロゲン化炭化水素例
えば塩化メチレン、四塩化炭素またはクロルベンゼン、
ケトン例えばアセトン、エステル例えば酢酸エチルまた
はニトリル例えばアセトニトリルま友ハこれらの混合物
中で、室温または必要ならば低めた温度またσ嵩めた温
度で約−４０℃〜約１００℃好ましくは一り０℃〜今４
０℃で、および（または）不、活性ガスふん囲気中例え
ば窒素ガスふん囲気中行なうのが好ましい。 さらに所望ならば酸誘導体をその賽で生成することもで
きる。従って例えば混合無水物は、適当に保瞳された官
能基をもつカルボンｅまたはその適当な塩例えばアンモ
ニウム塩を、例えば有機アミン例えばピペリジンまたは
４−メチルモルホリンで、または金属塩例えばアルカリ
金属塩を適当な酸誘導体例えば置換されていないかまた
は置換されている低級・アルカンカルボン酸の相当する
−酸ハロゲン化物例えばトリクロルアセチル塩化物で、
−またけ炭酸ハロゲン化物の半エステル伊１えはクロル
ギ酸のエチルエステルまたはイソブチルエステルで、ま
たにジ低級アルキルリン酸のハロゲン化物例えばジエチ
ルリン酸臭化物で処理して得ることができ、得られた混
合無水物を分離しないで使う。 式（ｘｉ）で表わされる出発化合物においては、官能基
とりわけ遊離カルボキシ基、スルホ基および水酸基は保
護されているのが好ましい。エーテル化された水酸基Ｒ
７はとりわけ低級アルコキシ基例えばメトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基またはブトキシ基、さらに置換さ
れていないかまたに置換されているアラルコキシ基とり
わけベンジルオキシ基例えばベンジルオキシ基またはｐ
−メトキシベンジルオキシ基を表わす。 反応は、不活性溶媒例えばエーテル例えばジエチルエー
テル、ジオキサンま７’ｊｔｌテトラヒドロフラン、脂
肪族または芳香族炭化水素例えばヘキサン、ベンゼンま
たはトル・エン、ニトリル例えばアセトニトリルまたは
同様のもの、またにそれらの混合物中で、場合によって
は冷却下または加熱下に、すなわち室温、約−２０℃〜
約１１０℃で好捷しくに一１θ℃〜＋２０℃で、および
（または）不活性ガスふん囲気中で行なうのが好ましい
。 式（Ｘ■）で表わされる化合物への基Ｒ６の導入は例え
ばＸが反応性にエステル化されている水酸基である式＆
−Ｘで表わされる化合物との反応により行われる。 反応性Ｖこエステル化されている水酸基は例えばハロゲ
ン化水素酸、有機スルホン酸例えば低級アルカンスルホ
ン酸または置換されていないかまたは置換されているベ
ンゼンスルホン酸、低級アルカンカルボン酸またはホス
フィン酸でエステル化した水酸基および特にハロゲン原
子例えば塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子、スルホ
ニルオキシ基９１１ 、ｔ ハメタンー、ベンゼン、ｐ
−トルエン、’ｔ ｆｒ−１ｄ ｐ −フロムベンゼン
−スルホニルオキシ基、倶締了ルカノイルオキシ基例え
ばアセトキン基またげホスフィノイルオキシ基例えばジ
メチル−ま几ｒまジフェニル−ホスフィノイルオキシ基
である。 しかしＲｅ−Ｘで表わされる化合物は捷たすべての遊離
の水酸基が式Ｒ６−ＯＨで表わされるアルコールでエー
テル化されている、硫酸、リン酸またはホスホン酸例え
ばエチルホスホン酸のエステルであることもできる。 式（ｘｌｌ） で表わされる出発物質において存在す
る他の官能基は好ましくは保護されている。 置換されていないかまたは置換されている炭化水素基Ｒ
６例えば相当する低級アルキル基、低級アルケニル基、
シクロアルキル基またにフェニル−低級アルキル基の導
入はＸが好ましくはハロゲン原子またはスルホニルオキ
シ基である式Ｒ４−Ｘで表わされる化合物により行われ
る。前記の化合物は例えば置換されていないかまたＶｉ
置換されている低級アルキルハライドまたにスルホネー
ト例えばヨウ化メチル、臭化エチル、ブロモ酢酸エチル
エステルまたは３−ブロモプロピオン酸メチルエステル
、低級アルケニル基・ライド例えば鉢化了すル、シクロ
アルキル基・ライドまたはスルホネート例えばシクロへ
キシルプロミドまたはメシレー）、ｔ７’ｊＨフェニル
−低級アルキルノ・ライド例えはベンジル−またはジフ
ェニル−メチルプロミドである。反応は塩基性縮合剤例
えばアルカリ金属またにアルカリ土類金属の水酸化物、
炭酸塩または炭酸水素地、例えばナトリウムの水酸化物
、炭酸塩または炭酸水素塩または炭酸カルシウム、アル
カリ金属低級アルコキシド例えばナトリウムメトキシド
、ナトリウムエトキシドまたはカリウム−ｔ−ブトキシ
ドまたは第３アミン例えばトリエチルアミン、ジインプ
ロピルエチルアミン、ピリジンまだはキノリンの存在下
で、不活性塔媒中、例えば低級アルカノールψ１１えは
メタノール、エタノールまたはｔ−ブタノール、アミド
例えばジメチルホルムアミド中、おるいは過剰のアミン
塩基中、室温または高めたまたは低めた温度例えば約−
２０’Ｃ〜約８０℃の温度で行われる。 置換されていないか筐たは１１！１換されている炭化水
素基Ｒ６特に相当する低級アルキル基またにフェニル−
低級アルキル基の導入に適したものに、式０ ＝ Ｐ
（ＯＲａ）ｓで表わされるリン酸、式０＝Ｐ（ＯＲｓ）
言（Ｙ）（式中、Ｙは例えば低級アルキル基例えばメチ
ル基またはエチル基あるいはフェニル基である）で表わ
されるホスホン酸または式０ ＝ Ｐ （０Ｒｓ）（Ｙ
）ｔ （式中、Ｙ灯前記の意味である）で表わされる
ホスフィン酸である。縮合は場合により塩基例えはトリ
ー低級アルキルアミン例えはトリエチル−またはトリー
ｎ−ブチルアミンの存在下で、そして高めた温度例えば
約り０℃〜約１５０℃の温度で行われ、この操作は不活
性溶媒中または好ましくは溶媒の添加なしで行われる。 有機スルホニル基、了ロイル基または低級アルカノイル
基Ｒ６の導入はそれ自体公知の方法で例えばＲ−が有機
スルホニル基、アロイル基または低級アルカノイル基で
ある式Ｒ，−Ｘで表わされる化合物でのアシル化により
行われる。適当なアシル化剤は例えば相当するアレン−
または低級アルカン−スルホン酸または−カルボン酸の
反応性官能誘導体例えばその無水物例えば対称無水物ま
たに７・ロゲン化水素酸との混合無水物例えば酸塩化物
である。前記アシル化剤の例は低級アルカンスルホニル
クロリド例えばメタンスルホニルクロリド、置換されて
いないかまたは置換されているぺ／ゼンスルホニルクロ
リド側光ばベンゼンスルホニルクロリドまたは４−トル
エンスルホニルクロリド、低級アルカンカルボン酸クロ
リドまたは無水物例えば塩化アセチル、塩化グロピオニ
ル、または無水酢酸、またはアレンカルボン酸ノ１ライ
ド例えば塩化ベンゾイルである。反応は所望により塩基
性縮合剤例えば前記のものの１つの存在下、不活性溶媒
中、例えば芳香族炭化水素例えばベンゼンまタハトルエ
ン、エーテル例えはジオキサン、テトラヒドロフランま
たはジメトキシエタンあるいはアミド例えばジメチルホ
ルムアミド中、室温またに高めた温度例えば約り０℃〜
約ｉｏｏ℃の温度で行われる。 式（ＸＩ）で表わされる化合物を７・口ぎ酸低級アルキ
ルエステル例えばクロルぎ酸エチルエステルと、または
＃換されたカルバミン酸ノーライド例えばジエチルカル
バミン酸クロリドと反応させることによりｓ ＲＩＢが
低級アルコキシカルボニル基またＦｉ直換されたカルバ
モイル基である式（１）で表わされる化合物を製造でき
る。反応は、アロイル基または低級プルカッイル基Ｒ６
の導入で記載したのと同じ反応条件下で行われる。 Ｎ−モノー低級アノルキル化されたカルバモイル基の導
入もまた式（ＸＩ）で表わされる化合物を珂が低級アル
キル基である式ｎ４−Ｎｃｏで表わされるイソシアネー
トと反応させることにより行われる。反応は不活性溶媒
中、例えば第３了ミン例えばピリジン中、室温または好
ましくは高めた温度例えば沸点で竹われる。 さらに、式（ＸＩ）で表わされる化合物をシアン化カリ
ウムおよび同時に溶媒として供給できる有機酸例えば酢
酸から好ましくはその場で生成されるシアン酸と室温ま
たに低めた温度例えば約−（９）℃〜約２０’Ｃで反応
させるか、おるいは水溶液中、塩基性縮合剤特にアルカ
リ金輌水酸化物例えば水酸化ナトＩＪウムの存在下で式
（ＸＩ）で表わされる化合物をハロゲン化シアン例えば
臭化シアンで処理し、この反応を約−加℃〜加℃の温度
で打うことにより、置換されていないカルバモイル基を
導入できる。 しかし、アシル化特に低級アルカノイル化および低級ア
ルコキシカルボニル化は２段階で、例えばＲ・がトリ低
級アルキルシリル基例えばトリメチルシリル基である式
（１）で表わされる化合物を室温またはわずかに低めた
温度例えば約−加℃〜約加℃で、好ましくはその場で形
成し、この化合物を溶媒として使用できるアシル化剤？
１１えは芳香族炭化水素ｆ１１ｉえばベンゼンまたはト
ルエンと反応、させることによや行われる。トリー低級
アルキルシリル中間体化合物Ｈｆ１ｌえは式（ｘｉ）
で表わされる化合物をヘキサ−低級アルキルシラザン
例えばヘキサメチルシラザン、トリ低級アルキルアミノ
シラン例えばトリメチルアルキルシランと、あるいは塩
基例えば７３アミン例えばトリエチルアミンの存在下で
トリ低級アルキルノ・ロンラン例えばトリメチルシリル
クロリドと反応させることにより得られる。 本発明により得ることができる式（Ｉ）で表わされる化
合物は、その製造方法に関係なく、それ自体公知の方法
により式（１）で表わされる別の化合物に変えることが
できる。 １−オキシドの形成： ｎが０である式（Ｉ）で表わされる化合物は酸化により
、例えば方法（ｄ）に記載の酸化方法の１つにより、ｎ
が１である式（Ｉ）で表わされる化合物に変換できる。 ｎが１である式（１）で表わされる化合物は還元により
、例えば方法（ｄ）に記載の還元方法の１つにより、ｎ
がＯである式（Ｉ）で表わされる化合物Ｋｆ換できる。 遊離アミン基軸の置換されたアミン基蝕への変換： 触がアミノ基でろる式（Ｉ）で表わされる化合物はそれ
自体公知の方法でＡｍがｉｂ：！Ｉｉされたアミノ基例
えば特にジー低級アルキルアミノ−低級アルキリデンア
ミノ基である式（１）で表わされる別の化合物に変換で
きる。従って、相当するジー低級アルキルアミノ−低級
アルキリデンアミノ化合物は例えば式（Ｉ）で表わされ
るアミン）＋７アゾ一ル化合物において、低級アルカン
カルボン酸ハロゲン化物ｆ、ｕえば塩化アセチルと、筐
たに無水酢酸の存在下でさ酸と反応させることにより遊
離のアミノ基を低級アルカノイルアミノ基例えばアセチ
ルアミノ基またはホルミルアミノ基に変え、これをハロ
ゲン化剤例えば五塩、化リンと反応させ、そして得られ
たイミドエステルハライドをジー低級アルキルアミン例
えばジメチルアミンまたはジエチルアミンと反応させる
ことにより製造できる。 保護基の除去： １個またはそれ以上の官能基が保護されている式（１）
で表わされる得られた化合物において、これらの基例え
ば保護されたカルボキシ基、アミノ基、ヒドロキシ基お
よび（または）スルホ基はそれ自体公知の方法で、ソル
ボリシス特にヒドロキシ基、アルコリシスまたはアシド
リシスによるかまたは還元特に水素化分解または化学的
還元により、場合により数段階でま７’（は同時に除去
できる。 保護されたカルボキシ基特に保護されたカルボキシ基Ｋ
ｓｕそれ自体公知の方法で、そして保護基の性質により
種種の方法で好ましくはソルボリンスま九に還元により
除去される。 従って、例えば置換されていないか１念に２−位置でシ
リル基により置換されているかまたは１−位置で低級ア
ルキル基ま九ハ低級アルキルチオ基により置換されてい
る低級アルキルカルボニル基、ポリシクロアルコキシカ
ルボニル基ｉた１まジフェニルメトキシカルボニル基は
場合により求核性化合物例えばフェノールまたはフェノ
ールを加えて適当な酸性剤例えばぎ酸またはトルフルメ
ロ酢酸で処理することにより遊離のカルボキシ基に変換
できる。置換されていないかまたは置換されているベン
ジルオキシカルボニル基は、例えば水素化分解により、
すなわち、水素化触媒例えばパラジウム触媒の存在下、
水素での処理により分裂できる。 さらに、ある種のＭ、換されたベンジルオキシカルボ＝
Ｊ’ Ｍ ？ｌ＋ ｊｃ−ハ４−ニトロベンジルオキ
シカルボニル基は一般に金属と一緒になって発生期の水
素を生成できる水素供給剤、例えば酸特にカルボン酸ま
たはａ−ヒドロキシカルボン酸例えば特に酢酸、ぎ酸、
グリコール酸、ジフェニルグリコール酸、乳酸、マンデ
ル酸、ｐ−クロルマンデル酸、酒石酸等またはアルコー
ルまたはチオールの存在下で、好普しくに水を加えて、
化学的還元により、例えば−ｒルカリ金媚曲ニチオン酸
塩例えば亜ニチオン酸す） ＩＪウムでの処理によるか
または還元金属例えば亜鉛または金属塩例えはクロム（
ｉｔ）塩例えばクロム（ｎ＋鳩化物での処理？こより遊
離のカルボキシル基に変換することもできる。還元金属
または金属塩での処理により前記のように２−ハロー低
級アルコキシカルボニル基（ｔ８Ｍ合によシ２−ブロム
ー低級アルコキシカルボニル基ｔ−２−ヨード−低級ア
ルコキシカルボニル基に変えた後）、またはアロイルノ
１−キ／カルホニル基を遊離のカルボキシ基に変換する
こともできるし、同様に求核性の好ましくは塩形成性の
薬剤例えばナトリウムチオフェルレートまたはヨウ化ナ
トリウムでの処理によりアロイルメトキシカルボニル基
を開裂できる。置換された２−シリルエトキシカルボニ
ル基もまたマクロ環式ポリエーテル（「クラウンエーテ
ルＪ）の存在下フッ素アニオンを生ずるフッ化水素酸の
壌例えばアルカリ金属フッ化物例えばフッ化ナトリウム
または一カリウムでの処理によるか、またに非プロトン
性極性＃奴例えはジメチルスルホキシドまたｉ Ｎ、Ｎ
−ジメチルアセトアミドの存在］有機第４塩基のフッ化
物例オはフッ化テトラアルキルアンモニウムまたはフッ
化トリアルキル−アリールアンモニウム例えばフッ化テ
トラエチルアンキニウムまたはフッ化テトラプチノしア
ン七ニウムでの処理により遊離のカルボキシ基にり侯す
ることもできる。ポリハロアリ＝ルオギシ力ルボニル基
６＋１ 、ｔ ｋｉペンタクロルフェニルオキシカルボ
ニル基は緩和な塩基性条件下で例えば希水酸化す） Ｉ
Ｊウム溶液により捷たに水存在下の有機塩基により加水
分解して遊離カルボキン基になる。 例えばシリル化ま７ｔ（グスタニル化によって保護され
たカルボキシ基は通常の方法例えば水またはアルコール
で処理することにより遊離化することができる。 保護されたアミン基はそれ自体公知の方法により、保護
基の性質に基いて種種の方法好ましくはソルボリシスま
たは還元により遊離化する。２−ハロー低Ｍアルコキシ
カルボニルアミノ基（場合により２−ブロム−低級アル
コキシカルボニルアミノ基は２−ヨード−低級アルコキ
シカルボニルアミノ基に変換しておく）、アロイルメト
キシカルボニルアミノ基または４−二トロベンジルオキ
シカルボニルアミノ基は適当なカルボン酸例えば酢酸水
溶液の存在下で例えば適当な化学的還元剤例えば亜鉛で
処理することにより開裂することができる。了ロイルメ
トキシカルボニルアミノ基は好筐しくに塩形成性の親核
性剤例えばナトＩＪウムチオフエノラートで処理するこ
とにより、そして４−二トロペンジルオキシカルボニル
アミノ基は弊ニチオン酸アルカリ金属塩例えば亜ニチオ
ン酸ナトリウムで処理することにより開裂することがで
さる、置換されていないかまたは置換されていルシフェ
ニルメトキシ力ルポニルアミノ基、ｔ−低級アルコキシ
カルボニルアミノ基または２−トリ置換されているシリ
ルオキシカルボニルアミノ基は適当な酸例えばギ＃′１
念にトリフルオロ酢酸で処理することＶＣより、置換さ
れていないかまたハ諏換されているベンジルオキシカル
ボニルアミノ基は例えば水素添加分解すなわち適当な水
素化触媒９＋Ｉえばパラジウム触媒の存在下で水素によ
る処理により、置換されていないかまたは置換されてい
るトリアリールメチルアミノ基、ホルミルアミノ基また
は１−アシル−低級アルク−１−エン２−イルアミノ基
は例えば酸例えば鉱酸例えば塩酸または有機酸例えばギ
酸、酢酸またはトリフルオロ酢酸により場合により水の
存在下で処理することにより、そして有機シリル基また
はスタニル基で保護したアミン基は例えばヒドロリシス
またはアルコーリシスにより、それぞれ遊離化すること
ができる。２−ハロアセチル基例えは２−クロルアセチ
ル基で保護したアミノ基は塩基の存在１でチオ尿素で処
理するかまたはチオ尿素のチオール酸塩例えはチオール
酸アルカリ金属塩で処理し、そして続いて得られた縮合
生成物をソルボリシス例えばアルコーリシスま友ハヒド
ロリシスすることにより遊離化することができる。２−
ｆｌ換されているシリルエトキシカルボニル基で保護し
たアミン基は、相当する保鐸カルボキシル基の遊離化に
関連して述べたように、フッ化物アニオンを生成するフ
ッ化水素酸堪で処理することにより遊離アミン基に変え
ることができる。ホスホルアミド基、ホスホンアミド基
またはホスフィンアミド基またはげリン含有酸例えばリ
ン酸、ホスホンａまたはホスフィン酸例えばオルトリン
酸またはポリリン酸、それらの酸エステル例えばリン酸
のモノメチル、モノエチル、ジメチルまたはジエチルエ
ステル、またはモノメチルホスホン酸、またはその無水
物例えば５酸化リン処理することにより遊離アミン基に
変えることができる。 アジド基の形で保護したアミン基は例１えば還元例えば
水素化触媒例えば酸化白金、パラジウムまたはラネーニ
ッケルの存在下での水素による接触水素化により、また
は酸例えば酢酸存在下での亜鉛処理により遊離アミン基
に変えることができる。 接触水素化は不活性溶媒例えばハロゲン化炭化水素例え
ば塩化メチレンの中であるいｒＪ氷水中たは水と有機溶
媒例えばアルコールまたはジオキサンとの混合物中で、
約美〜訪℃おるいは冷却またに加熱しながら行うのが好
ましい。 適当なアシル基、有機シリル基またはスタニル基、筐た
は置換されていないか′！、たは置換されている１−フ
ェニル−低級アルキル基で保＾した水酸基は相当する保
護アミノ基と同じ方法で遊離化する。２，２−ジクロル
アセチル基で保護した水酸基は例えば塩基性ヒドロリシ
スによってｍ裂し、一方を一低級アルキル基または２−
オキサ−または２−チア−脂肪族炭化水素基または２−
オキサ−または２−チア−脂環式炭化水素基によってエ
ーテル化した水酸基はアシドリシス例えば鉱ｅＩＩ／ま
たは強有Ｉ！Ｐｉ！例えばトリフルオロ酢酸で処理する
ことにより遊離化する。 保護された、特にはエステル化されたスルホ基は保護さ
れたカルボキシル基に対する方法と同様の方法で遊離化
する。 上記の各開裂反応はそれ自体公知の条件下で、必弗によ
り冷却また＃−１加熱しながら、密閉容器内でそして（
またＦ′ｉ）不活性ガス雰囲気下例えば窒素ガス雰囲気
下で実施する。 Ｈｐの官能性保陣基が存在する場合には、例えはアシド
リシス例えばトリフルオロ酢酸またはギ酸で処理するこ
とによシ、またに還元例えば亜鉛および酢酸でまたは水
素および水素化触ｌ・・例えば木炭上パラジウム触媒で
処理することにより、２個以上の保護基を同時に除去で
きるように保護基を選ぶことが好ましい。 塩形成： 塩形成性基をもつ式（１）の化合物の＃Ｌはそれ自体公
知の方法で製造することができる。すなわち、酸基をも
つ式（Ｉ）の化合物の塩は、例えば金属化合物例えば適
当な有機カルボン酸のアルカリ金属塩例えばａ−エチル
カプロン酸のナトリウム塩または無機アルカリ金槁塩ま
たはアルカリ土類金属塩例えば炭酸水素ナトリウムで処
理することにより、またはアンモニアもしくは適当な有
磯了ミンで処理することにより、好１しくは塩形成性剤
を什学量論的ｉまたは僅かの過剰量で使うことによって
形成することができる。式（１）の化合物の醜付７ＴＩ
Ｔ地にフ申常の方法例えば酸またに適当なアニオン交換
剤で処理することによって得る。例えば遊離カルボキシ
ル基を含む式（１）の化合物の分子内ｔｓｕ−ｔ、例え
ば塩例えば酸付加塩を例えば弱塩基で等電点まで中和す
るかめるいは液体イオン交換体で処理することによって
形成することができる。 塩は通常の方法で遊離化合物に変えることができる。金
属塩およびアンモニウム塩は例えば適当な酸で処理する
ことにより、そして酸付加塩は例えば適当な塩基性剤で
′処理することにより、遊離化合物に変えることができ
る。 異性体混合物上それ自体公知の方法例えば分別結晶、ク
ロマトグラフィー等により個個の異性体に分離すること
ができる。 本発明方法は、本発明方法によって中間生成物として形
成される化合物を邑発材料として使い残りの工程を行う
か、または工程を任意の段階で中断するか、あるいは出
発材料を誘導体の形で使うかまたは反応工程中で形成す
る各種の態様を含むものである。 出発材料および反応条件は、上記で特に好ましいとして
述べた化合物が得られるようなものを選ぶのが好ましい
。 出発物質 本発明の化合物の與造工程中で使用する出発物質は公知
であるか、または新規であるならば、それ自体公知の方
法で製造できる。 式（Ｈ）で表わされる出発物質および保護官能基を持つ
相当する化合物も１ｆｃ公知である、５−アミノ−１，
２，４−トリアゾール−３−イル酢酸（ソビエト特許第
３２０４９６号明細書）を除くと、式（１）で表わされ
る化合物は公知ではなかつ次。式（１）で表わされる新
規化合物はそれ自体公知の方法で製造できる。製造方法
に以下の反応図式で説明される。 （ＸＩＶ） （ＸＶ）段階ｌ： 式（ＸＷ ） で表わされる化合物において、２はエ
ーテル化されている水酸基特に低級アルコキシ基例えば
メトキーシ基またはエトキシ基でろるか、または置換さ
れていないかまたは置換されているアラルコキシ基例え
ばベンジルオキシ基またはｐ−メトキシベンジルオキシ
基であり、そ、してＲ８は水素原子、シアノ基または保
護されたカルボキシ基である。保護されたカルボキシ基
は特に温和な化学的条件下で容易に除去できるエステル
化されたカルボキシ基である。適当な保護基に例えば保
護すれたカルボキシ基Ｒ３の場合に記載のもの、特に置
換されていないかまたは置換されている低級アルキル基
である。 式（Ｘ＊） で表わされる化合物は公知であるかまた
はそれ自体公知の方法によシ、例えばＭｃＣａｌｌによ
り記載の方法（５ｙｎｔｈｅ＠ｉｓ 、１９８０．１２
３ ）に従って製造できる。 式（ＸＶ）で表わされる化合物は例えば方法（ｉ）に記
載の方法により、式（ＸＩＶ） で表わされるシアノ
イミンを弐Ｒｓ −ＮＨＮＨ雪で表わされるヒドラジン
と反応させることにより得られる。 閉環反応においては、反応生成物として５−アミ／ −
３（Ｒ＠−ＣＨ２） ｌ−（Ｒｓ） −トリアゾールの
他に異性体の３−アミノ−ｓ （Ｒ＠ −ＣＨ２）
ｌ （Ｒａ）−トリアゾールもまた形成する。弄性体比
Ｆ′ｉ反応条件例えば温度またＦｉ溶媒、および順換基
Ｒ６ぞしてとりわけＲ１の性質に依存する。 所望により異性体は常法により、例えば分別結晶、クロ
マトグラフィーへにより分離できる。式（ＸＶ）で表わ
される化合物に次の反応段階で異性体混合物の杉また社
純粋な異性体の形で使用することができる。 段階２： 式（Ｉａ ）で表わされる化合物において、アミノ基苦
とカルボキシ基とは場合により保護された形である。式
（Ｉａ）で表わされる化合物に式（ＸＶ）で表わされる
化合物において、その遊離のアミン基を保会されたアミ
ノ基に質えることにより、およびＲ８が水素原子またに
シアノ基゛である式（ＸＶ）で表わされる化合物におい
て、水１ｇ原子またはシアノ基をカルボキシ基でおきか
えることにより、製造できる。 アミノ保護基の導入に常法の１つにより、例えｄアシル
化、シリル化ま次はアルキル化に−よって竹われる。保
捧された了ミノ基は前記の保護基例えばホルミル基、ｔ
−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基
また＃−１２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル
基の１つを含有スル。 Ｒｓ が水素原子ま友はシアン基である式（ＸＶ）で
表わされる化合物において、水素原子またはシアノ基に
それ自体公知の方法にょ９、例えばカルボキシル化ある
いに塩基性または酸性加水分解によりカルボキシ基であ
きかえられる。Ｒ８が水素原子である式（ＸＶ）で表わ
される化合物のカルボキシル化に、例えば化合物を金属
化し、そしてそれを二酸化炭素で処理することにより行
われる。金属化剤としては、特に有機リチウム化合物例
えば低級アルキルリチウム例えばメチル−、エチル−ま
たはブチル−リチウム、了り一ルリチウム例えばフェニ
ルリチウム、およびリチウムアミド例えばリチウム−ジ
ー低級アルキルアミド例えばリチウムジイングロビルア
ミドが考えられる。金属化は不活性溶媒中、例えばエー
テル例えばジエチルエーテル、ジオキサンまたはテトラ
ヒドロフランまたは炭化水素例えばヘキサンまたはベン
ゼン、または第３アミン、またはジアミン例えばテトラ
メチルエチレンジアミン中で、減じた温度？＋１えげ約
θ℃〜約−８０℃の温度で行われる。次に同じ温度で二
酸化炭素を導入するか、または金属化混合物を乾燥した
氷上に江別する。二酸化炭素の代ゎシにハＯぎ酸エステ
ルを使うと、式（ｌＩａ）で表わされる酸のエステルが
得られる。 式（Ｉａ） で表わされるカルボンｅは式（ＸＶ）で
表わされるニトリル（Ｒ８＝シＪ））をアルカリ性また
は好ましくは酸性加水分解にかけることによっても得る
ことができる。アルカリ性加水分解の場合、操作をアル
カリ金属またはアルカリ土類金楓の水酸化物例えば水酸
化ナトリウム、−カリウム、−カルシウムまたは一バリ
ウムの存在下、沸とう水溶液中、またはよシ高い温度ｆ
ｒｉｊえば１００〜１５０℃を達成するため、アルコー
ル性溶液中、例えばアミルアルコールまた祉グリセリン
中で行う。酸性加水分解は加熱して例えば８０−１２０
Ｔ、で、濃ハロゲン化水素酸例えば塩酸または臭化水素
酸によるか、または遊離酸を高い割合例えば５０〜７５
チ含む硫酸により行われ、出発物質の溶解性を改良する
ため、可溶化剤例えが酢酸を加えることもできる。 段階３： 式（ｌａ ） で表わされる５−アミノトリアゾール
−３−イル酢酸は式（ｘ■）で表わされるアミノグアニ
ジンまたにその塩をマロン酸と反応させることにより得
ることもできる。 式（Ｘ＋Ｖ） で表わされる化合物の塩は特に鉱酸例
えばハロゲン化水素酸、硫酸または硝酸あるいはカルボ
ン酸の塩である。前記塩は例えば塩酸塩、臭化水素酸塩
、硫酸水素塩、硝酸塩または炭酸水素酸である。 反応を例えば水溶液中、酸性縮合剤例えば硝酸または硫
酸の触媒量を場合により添加して、高めた温度例えば沸
とう温度または約１２０〜１８０℃の温度範囲で行い、
最後に記載の場合、反応を密閉容器中で行う。しかし、
操作を有機溶媒中、例えは水と共沸混合物を好ましくは
形成する、トルエンまたはキシレンのような溶媒中で打
い、反応中に生成する水を使用する溶媒の沸点で加熱す
ることにより共沸的に留去することも可能である。 段階４ニ アミノ基崩 が保護されており、カルボキシ基が場合に
より保護されている形の式（Ｉｂ） で表わされる化
合物ｔ’；ｉ ？ｌｊえば式（Ｉｉｌａ） で表わさ
れる化合物の相当する保護された誘導体を適当な酸化剤
例えば二酸化セレンで処理することにより得られる。 反応を不活性溶媒中例えばエーテル例えばジオキサンま
たにテトラヒドロフラン、了ミド例えばジメチルホルム
了ミド、あるいは第３アミン例えばピリジ／中、場合に
より減じたまたに高めた温度例えば約θ℃〜約１００℃
、好ましくは室温〜約９５℃の温度で行う。 段階５： 式（Ｉｍ）で表わされる化合物のアミン基Ａｍ が保護
された形で、カルボキシ基が場合により保護された形で
ある式（ｌｉｅ） で表わされる化合物への変１１Ｉ
ｉｌｔ例えば方法（２）で記載の方法の１つにより、そ
こで記載のニトロソ化剤の１種を使って行われる。 段階６： アミノ基Ａｍが保糧されており、カルボキシ基が場合に
より保護されている式（厘ｂ）で表わされる化合′＄１
１と式Ｈ，Ｎ−ＯＲ，で表わされるヒドロキシルアミン
との反応は、例えば方法（ｅ）に記載の方法の１つによ
り行われる。 前記の方法により得ることができる式（Ｉａ）、（Ｉｂ
）および（Ｉｃ） で表わされる化合物において、存
在してもよい保護基はそれ自体公知の方法で除去するこ
とができる。従って、例えばアミン保護基は前記のよう
に除去され、そしてカルボキシ保饅基は方法（ｈ）で記
載のようにして除去される。 アシル化に適当な式（１）で表わされるカルボン酸の反
応性官能誘導体は、場合によりその場で、それ自体公知
の方法によシ、９１えは方法（ａ）に記載の方法により
製造される。 さらに、Ｒ６が水素原子である式（ｌｃ）で表わされる
化合物において、ヒドロキシイミノ基を方法（ｆ）に記
載したのと同様の方法でエーテル化オたはカルバモイル
化することができる。 Ｒ６が水素原子である式（Ｉｌａ）、（ｍｂ）および（
ｌｉｅ）で表わされる化合物において、例えば方法Ｕ）
に記載の方法の１つにより置換されていないかまたは置
換されている炭化水素基またはアシル基Ｒ６を導入する
ことができる。トリアゾール環の置換基および基Ｒ６の
性質、および選択する反応粂件（温度、溶媒、塩基性縮
合剤等）により、５−アミノ−１−（Ｒｓ）−）リアゾ
ール−３−イル酢酸または３−アミノ−１−（Ｒｅ）−
１リアゾール−５−イル酢酸、またはそれらの混合物が
生成する。混合物は常法により、例えば分別結晶、クロ
マトグラフィー等により分離できる。 さらに、式（Ｉａ入（ｍｂ）および（Ｉｌｌｃ）、 な
らびに（ＸＶ）で表わされる化合物において、アミン基
軸にそれ自体公知の方法により、例えば前記の方法によ
り、置換されたアミノ基例えばジー低級アルキルアミノ
−低級アルキリデンアミノ基にｆ換できる。 得られた式（ＩＭ）で表わされる異性体化合物の混合物
は、例えば式（１）で表わされる化合特に対して記載し
た方法で個個の異性体に分離できる。 式（Ｆ／）で表わされる化合物は公知であるかま念はそ
れ自体公知の方法で、例えば出発物質として相当する７
β−アミノ−３−（Ｒ’鵞−ＣＨｘ ）−３−セフェム
−４−カルボン酸化合物を使って、アミノ基を例えは方
法（ａ）に記載の方法の１つにより例えば式（ｉｌ）で
表わされる酸にアシル基を導入するアシル化剤での処理
によシ、アシル化することによシ得ることができる。 式ＣＶｉ）で表わされる出発物質はとりわけ式（１）で
表わされる種類の化合物を塩基性条件下で形成する場合
、それらの製造の副生成物として得ることができる。そ
れらは純粋な形である必要はなく、例えσ式（Ｉ）で表
わされる相当する化合物と混合しても使用できる。 式（ＸＵ） で表わされる出発物質に例えば方法（ａ
）に記載の方法の１つにより、例えば式（１）で表わさ
れる７β−丁ミノセフエム化合物をンアンプセ千ル基を
導入する試薬例えばシアノ酢酸で処理し、得られた式 で表ワサれる７β−シアノアセチルアミノ化合物を塩化
水素および低級アルカノール例えばエタノールと共に式 ％式％（） で表わされるイミノエステル塩酸塩に変え、そしてこれ
をシアノアミドで処理することにより製造できる。 式（Ｖ入（ｖｉ）〜（Ｘ）および＜ｘｍ）で表わされる
化合物に一般式（Ｉ）ｒｃ該当し、そして力／ｉｃｅ
（＆）、（ｂ）、（ｄ）また１４（ｉ）の１つにより得
ることができる。 本発明にまた新規の出発物質および中間体、ならびにそ
れらの製法にも関する。 本発明の薬学的に客間できる化合物は例えば、活性成分
の有効量を好ましくは非経口的投与に適した無接または
有接で、固体または液体の薬学的に容認できる担体と共
に、または混合して含有する薬学的製剤の製造のために
使用できる。 本発明の薬学的に活性な化合物は非経口的例えば筋肉内
また社静脈内の投薬製剤の形を友は注射溶液の形で好ま
しくは使用する。前記溶液は好ましくは等張の水溶液ま
たは懸濁液であり、それらは使用前に活性成分のみまた
は担体例えばマンニトールをも共に含有する凍結乾燥製
剤から調製することができる。薬学的製剤は殺菌されて
いてもよく、そして（ま７？＋は）助剤例えば防腐剤、
安定剤、湿潤剤および（または）乳化剤、可溶化剤、浸
透圧を調節するための塩類および（ｔたは）緩衝液を含
有していてもよい。所望によシ、他の薬学的に価値のあ
る物質を含有していてもよい本発明の薬学的製剤はそれ
自体公知の方法により、例えば通常の溶解法または凍結
乾燥法により製造でき、活性成分を約０．１チ〜１００
◆特に約５０チ、そして凍結乾燥剤の場合は１００％ま
で含有する。 式（Ｉ）で表わされるある種の化合物、例えば−が生理
学的条件下で容易に分裂できるエステル化されたカルボ
キシ基である化合物は経口的に、例えばカプセルの形で
投与することもできる。これらハ場合により適当な担体
と一緒に活性成分を顆粒状で１投薬率位当たシ約０．２
〜０．５９含有する。 感染の性質および感染生物の状態により、約７０嗜の温
血動物の治療に対して約０．５２〜約５ｆ（例えばｉ
、ｍ、またはｉ、ｖ、 ）の非経口的投薬７日が使用さ
れる。 以下の実施例により本発明を説明する。 例において、以下の省略形を便用する。 ＢＯＣ： ｔ−ブトキシカルボニル 薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ） ｍ Ａｎｔｅｃに
より製造された０ｐｔｉ −［ＰＣ□２グレートはシリ
カゲルでコーティングされたガラスプレートであり、こ
のシリカゲルは（逆相クロマトグラフイーのため）ドデ
シルトリクロロシランで処理」されている。 例 １ （ｍｌ ７β−（２−（５−アミノ−１〜メチル−１Ｈ
−１，２，４−）リアゾール−３−イル）−アセトアミ
ノコ−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸のナトリウム塩 トリフロオロ酢酸１０．７５ ｔηＣを室温で塩化メチ
レン２．５ｑＡとアニソール帆８３婬との中の７β−〔
２−（５−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−メチル
−１）１−１．２．４− ）リアゾール−３−イル）−
アセドアｚノ〕−３−アセトキシメチル〜３−セフェム
−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル１．０７
？ （１，５０ミリモル）の浴液に加え、混合物を３０
分間かきまぜ、そして久にジエチルエーテル／ヘキサン
（１：２）３００ｗｊ＆中でかきまぜる０題の化合物の
トリフルオロ酢酸塩から取る沈殿をろ過により率離し、
メタノール中１：溶解し、そして約３Ｎのメタノール性
ナトリウム２−エチルヘキサノエート溶液で−７，０に
調製する。ジエチルエーテルの添加後、侍られた沈殿を
吸引ろ過し、クロマトグラフ処理（ＵＰＣ，、プレート
、水／アセトニトリル６：１）する。Ｆ、ｆ値帆５０
（ＵＰＣ，２プＬ’−１−１水／アセトニトリル６：１
）の均一なｓの化合物が位られる。ＩＲスペクトル（又
ショール）： ３４５０．１７８５．１６１０． １３
８５．１２３５ｍ−’に特性吸収帯。ＵＶスペクトル（
エチルアルコール）λｍ□（ｇ）： ２６３ （６８
００）ｍμ。 出発物質は以下のようにして製造できる。 （ａｍ） ５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２
，４−トリアゾール−３−イル酢酸エチルエステルメチ
ルヒドラジン１３．１−をアセトニトリル６５−中の３
−シアノイミノ−３−エトキシ−プロピオン酸エチルエ
ステル３５．５ｆ （０，１９３モル）ノ溶液中に０°
Ｃで加え、そして混合物をこの温度で４時間かきまぜる
。得られた沈殿をろ過し、そしてジエチルエーテルで洗
う。ろ液を濃縮し、そしてジエチルエーテルを添加し、
さらＣ二生底物を沈殿させる。Ｒｆ値０．７０ （シリ
カゲル、クロロホルム／メタノール／氷酢酸８５ ：
１２ ： ３ ）の均一な題の化合物か得られる。融点
１１５〜６°Ｃ，ＩＲスペクトル（Ｃ１２Ｃ１２） ：
３４７５．３３８０．１６３０（Ｘ−’に特性吸収帯
。 （ａｂ） １−メチル−５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブト
キシカルボニルアミノ） −１１（−１，２，４−トリ
アソール−３−イル酢酸エチルエステル ５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリア
ソール−３−イル酢酸エチルエステル２．０９ｆ （１
０，８７ミリモル）とＢＯＣ無水物５．２ｆとの＠＾、
液を６０°Ｃ（浴Ｙ！！、 ）で３時間かきまぜる。反
応混合向を放冷し、酢酸エテル２０ｆｆｎで希釈１−１
飽和塩化ナトリウム浴欣で洗い、蝋酸マグネシウム上で
乾燥し、そして濃縮する。残さを酢酸エチル／ヘキサン
から沈殿させる。Ｒｆｆ［帆６０（シリカゲル、クロロ
ホルム／メタノール９５：５）の魂の化合物が得られる
。融点９８〜１００″Ｃ，ＩＲスペクトル（ＣＭ２Ｃ１
２） ： ３４００．３１００．１７８５．１６６０．
１１２５イ１に特性吸収帯。 題の化合物は以Ｆのよ、１ｙ、にして祷ることもできる
。 （ａｂｌ ）テトラヒドロンラン１０−〃Ｑ中の５−ア
ミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール
−３−イル酢酸エチルエステル帆９２１ （５，０ミリ
モル）とトリエチルアミン０−８ｗＱとの懸濁液を−２
０”Ｃでトルエン中の２０１ホスゲン５福とテトラヒド
ロフラン８−、の浴液中Ｃ二加え、そして混合物を１０
分間か負まぜる。ｔ−ブチルアルコール１０ｄとトリエ
チルアミン２ ｙＯとの添加後、混合物をゆっくり室温
に加熱し、ジエチルエーテルで希釈し、水で洗い、偕酸
ナトリウム上で乾燥し、そして灘縮する。 残さな酢酸エチル／ヘキサンから沈殿させる。Ｒｆ値０
．６０ （シリカゲル、クロロホルム／メタノール９５
：５）の題の化合物が得られる。 題の化合物は同様に以下のようにして得ることができる
。 （ａｂ２） ５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２
，４−トリアゾール−３−イル酢酸エチルエステル０．
１８４ｆ （１，０ミリモル）とｔ−ブチルアルコール
１ ｎ＝Ｑ。 とＢＵＣ無水ｖＪＬ）、２６２ ｆ ト０） ＠ ｉｔ
ｉ液を５５’Ｃ（浴温）で１６時間かきませる。反応混
合物を冷却し、酢酸エチルで希釈し、飽和塩化す） Ｉ
Ｊウム浴液で洗い、恢酸マグネシウム上で乾燥し、そし
てｓｍする。 残さを酢酸エチル／ヘキサンから沈殿させる・、Ｒｆ値
０．６０ （シリカゲル、クロロホルム／メタノール９
５：５）の題の化合物が得られる。 （ａｃ） １−メチル−５−ｔ−ブトキシカルボニル
アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル
酢酸 水４５−中の水酸化カリウＡ ５．４７５ｆ （／Ｊ
ｆｇ液を９５チエチルアルコール１１０顧中の１−メチ
ル−５＝（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
）−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル酢酸
エチルエステル４．Ｏｆの溶液に加え、混合物を５０°
（で１．５時間かきまぜる。反応混合物を真空下で濃縮
し、水で希釈し、４Ｎ塩酸でｐＨ８，５に調整し、そし
て酢酸エチルで抽出する。次に水性相を４Ｎ塩酸でｐＨ
３，０に調整し、得られた沈殿をろ過し、ジエチルエー
テルで洗い、そして乾燥する。Ｒ１？ｔｌＯ，５０（シ
リカゲル、１ｅｅ−ブタノール／木酢６Ｉ２／水６７
： １０ ： ２３）の題の化合物が得られる。融点１
４０〜１４２°Ｃｏ ＩＲスヘクトル（Ｃ）１２Ｃ１２
） ：３２００゜３０８０．１７３５．１７１Ｏ１１１
５５ｃＲ−’に特性吸収帯。 （ａｄ） ７β−［２−（５−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾ
ール−３−イル）−アセトアミノシー３−アセトキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル 乾燥テトラヒドロフラン２ｄ中の１−ヒドロキシベンゾ
トリアゾール帆２１ｆおよびＮ、Ｎ’−ジシクロへキシ
ルカルボジイミド０．６０ｆを０°Ｃで乾燥テトラヒド
ロフラン１５フρ中の１−メチル−５−を−ブトキシカ
ルボニルアミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−
３−イル酢酸０．５Ｏｆ （１，２７ミリモル）と７β
−アミノ−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−
カルボン酸ジフェニルメチルエステル帆８２３ｆ （１
，８８ミリモル）との溶液に加え、そして混合物を０°
Ｃで２．５時間、そしてさらに室温で６時間かきまぜる
。反応混合物のろ過後、ろ液（二酢酸エチル５０ｗＭを
加え、そしてこの混合物を−８，０のリン酸塩緩衝液と
塩化ナトリウム水溶液とで連続的に洗い、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、そして真空下で濃縮する。残さなジエ
チルエーテル／ヘキサンですりつぶす。Ｒｆ値帆６０（
シリカゲル、酢酸エチル）の題の化合物が得られる。Ｉ
Ｒスペクトル（ＣＨ２Ｃｌ、 ） ： ３３６０．１７
８５．１７１５．１２２０．１１５５ｃｍ−’ ｌ−％
性吸収帯。 （ｂ）７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−
１，２，４−トリアゾール−３−イル）−アセトアミノ
〕−３−アセＩ・キシメチル−３−セフェム−４−カル
ボン酸は以下のようにして製造できる。 ５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリア
ゾール−３−イル酢酸１．５６Ｆ （１，０ミリモル）
および酢酸エチル０．５ｍ＃をＯ゛ＣでＶｉ ｌ ｓｍ
ｅｙｅ ｒ試薬〔塩化オキサリル０．１，１０．１２ミ
リモル）および酢酸エチル３りｐ、中のＮ、Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド０．０９−から調製〕のかきまぜた懸′
／１６沿中に加える。 混合物をＯ″Ｃで４５分間かきまぜ、そして次に一１０
°Ｃに冷却する（溶液１）。一方、７β−アミノ−３−
アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸０．
２７ｆ （１，０ミリモル）とＮ、０−ビス−（トリメ
チルシリル）−アセトアミド１１ ｙＯと酢酸エチル４
０ｙｗｌ＝どの混合物を室温で２０分間かきまぜ、そし
゛て久ｃ−１０’Ｃに冷却する（ｆｇＱ２ ）ａ Ｍ液
２および溶液１を合わせる。この混合物を２時間かきま
ぜ、次に飽和炭酸水素ナトリウム溶液中（二江別する。 水性相を除去し、そして濃縮する。 ＵＰＣ，２シリカゲル上、水でクロマトグラフィーを行
うと、Ｒｆｉ直０．５０ （ＵＰＣ，２プレート、水／
アセトニトリル６：ｌ）の題の化合物が得られる。 出発物質は以下のようにして製造できる＠（ｂａ）
５−アミノ−１−メチル−１）１−１．２．４−トリア
ゾール−３−イルアセトニトリルメチルヒドラジ７２．
２ｒｐｔＢをＯ′Ｃでアセトニトリル１０ ｖｆｆ、中
の３−シアノイミノ−３−エトキシ−プロピオニトリｙ
＝ ４．７６ｆ （３４，７５ミリモル）、の溶液に力
りえ、混合物を１時間この温度でかきまぜる。 得られた沈殿を洗う◎ろ液を濃縮し、エチルアルコール
を加え、さらに生成物を沈殿させるＯＲ。 値０．３３ （シリカゲル、クロロホルム／メタノール
／氷酢酸８５ ： １２ ： ３ ）の均一な題の化合
物が得られる。ＩＲスペクトル（ＫＢｒ） ： ３３７
５．１６３７．１５７５ｃＩＩＬ’Ｃ％性吸収帯。 （ｂｂ） ５−アミノ−１−メチル−１）１−１．２
．４−トリアゾール−３−イル酢酸 ５〇−恢酸７．４ｍＱ中の５−アミノ−１−メチル−Ｉ
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イルアセトニト
リル０．４９ Ｆ （３，５９ミリモル）の溶液を１ｏ
ｏ−ｃで１６時間かきまぜろ。反応混合物を冷却し、水
中に江別し、尋アンモニア溶液で岬５．５に調整し、そ
してエチルアルコールを加える。沈殿を吸引ろ過し、エ
チルアルコールで洗い、そして乾燥する。 粗生成物のクロマトグラフィー（ＵＰＣ，、グレート、
水／アセトニトリル６：１）を行うと、Ｋｆ値０．８０
（口ｐｃ、、プレート、水／アセトニトリル６：１）
の均一な題の化合物か得られる。ＩＲスペクトル（又シ
ョール） ： ３４５０．３３７５．１６００．１５３
７ｃｗ１７ ’に特性吸収帯。 例 ２ （ａ）７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１ｉ−
１−１，２，４−）リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−
メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキゾメチル
ー３′−セフェム−４−カルボン酸塩酸塩 ２−（５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−
トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸１
．９９２（１０，０ミリモル）および塩化メチｖ ｙ
４０ ｙｅｎ 乞−５Ｃ′ｃＶｉ １ｓｕｎｅｙｅｒ試
薬（塩化オキサリル１．ＯｍＱと塩化メチレン１〇−中
のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド０．９ｍｌとから調製
）のかきまぜた懸ｆ＠液に加える。混合物を０ ”Ｃで
２０分間かきまぜ、セして仄（ニーｌＯ°Ｃに冷却する
（溶Ｑｌ ）ｏ一方、７β−アミノ−３−アセトキシメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸２．７９ （１０
，０ミリモル）とＮ、Ｕ−ビス−（トリメチルシリル）
−アセトアミド１１．ｄと塩化メチレン５０ｆｆ１．と
の混合物を室温で３０分間かきまぜ、そして次に一１０
°Ｃに冷却する（浴液２）。溶液２および溶液１を合わ
せる。混＠ｒ物をＯ゛Ｃで２．５ Ｘｊ間かきまぜ、そ
して次に飽和炭酸水素ナトリウム溶液中に圧加する。水
性相を除去し、水性塩酸で散性にし、固体塩化ナトリウ
ムで飽和し、そして酢涜エチル／アセトン（４：１）で
抽出する。有機抽出液を硫酸す） ＩＪウム上で乾燥し
、真空下でａ＠する。残さをＸＡＤ−２樹脂（水）土ク
ロマトグラフィーにかけると、Ｒ（＠０．３０ （ＵＰ
Ｃ，２プレート、水／アセトニトリル６：１）の題の化
合物か得られる。間スペクトル（水）λｍ＆Ｘ’ε）：
２３５ （１１７００）、２６０ （１２７００）
ｍμ。 出発物質は以下のようＣ二して製造できる０（ｂ） ２
− ［５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルアミノ）−
１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−
イル）−酢酸エチルエステルクロルキ酸ベンジルエステ
ル２．９４を０”Ｃｆ５−アミノ−１−メチル−１）１
−１．２．４−）リアゾール−３−イルー酢酸エチルエ
ステル１０．Ｏｆ （５４，３５ミリモル）と水５４＋
＋ｒ９中の炭酸ナトリウム５．８ｆとの混合物に加え、
混合物を０“Ｃで４時間かきまぜる。混合物を水で希釈
し、そして酢酸エチルで抽出する。有機抽出液を飽和塩
化ナトリウム溶液で洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥し
、そして濃縮する。残さをクロマトグラフ処理（シリカ
ゲル、酢酸エチル部分を増加するトルエン）する。Ｒ，
値帆２５（シリカゲル、トルエン／酢酸エチル１：ｌ）
の均一な題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（フィ
ルム） ： ３１５０ 、１７３５．１５７０にｌ１ｌ
−’に特性吸収帯。 （ｃ）２−［５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニル）−
１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾール−３−
イルニーオキソ酢酸エチルエステルジオキサン２３５
ｙＱ中の２−（５−（Ｎ−ベンジルオキシカルボニルア
ミノ）−１−メチル−ＩＨ−１，２，４−）リアゾール
−３−イル〕−酢鈑エチルエステル１６．４ ｆ （５
１，５ミリモル）と二酸化セレン１５．４Ｆとの懸濁液
を９５”Ｃで２．５時間かきまぜる。反応混合物のろ過
後、ろ液を真空下、濃縮する。残さはＲｆ値０．３５
（シリカゲル、酢酸エチル）の題の化合物を含有する。 ＩＲスペクトル（フィルＡ ） ： ３３００ 、１７
３７．１７１５ｃＩＬ−’ Ｃ特性吸収帯。 （ｄ） ２− （５−アミノ−１−メチル−１）１−１
．２゜４−トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイ
ミノ酢酸エチルエステル ９５チ工タノール２１５ｖｇ中の２−（５−（Ｎ−ベン
ジルオキシカルボニル）−１−メチル−１日−１，２，
４−）リアゾール−３−イル〕−２−オキソ酢酸エチル
エステル２２．６５ ｆ （６８，２０ミリモル）とメ
トキシアミン塩酸塩６．３Ｏｆとピリジン６．８ｍｌ！
との懸濁液を室温で３．５時間かきまぜる。反応ｍ合物
を真空下で濃縮する。残さを酢酸エチル（二溶解し、そ
して溶液を希塩酸と水と塩化ナトリウム水溶液とで連続
的に抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燦し、そして真を
丁で濃縮する。残さをジエチルエーテルですりつぶす。 Ｒｆｌｌｏ、２５．（シリカケル、クロロホルム／メタ
ノール９５ ： ５ ） ＯＪ 題Ｃｌ）化合物か得ら
れる。ＩＲスペクトル（又ショール）： ３３５０．１
７３５．１６４５．１０４５ ｃｓ−’ −二判性吸収
帯。 （、ｅ）２− （５−アミノ−１−メチル−１）１−１
．２゜４−トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイ
ミノ酢酸 水酸化カリウム１７．２５ ｆおよび水１４０ｗ１２を
９５％エタノール３５０苛Ｃ中の２−（５−アミノ−１
−メチル−１１（−１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル）−２−メトキシイミノ酢酸エチルエステル１１．９
６？ （５２，６４ミＩＪモル）の溶液に加え、そして
混合物を４０’Ｃで３時間かきまぜる。反応混合物を真
空下で濃縮し、残さな水に溶解し、この溶液を希塩酸で
−８，５に調整し、そして酢酸エチルで抽出する。水性
相を除去し、希塩酸でｐＩＩ４．０に調整し、そして生
成物をエタノールで沈殿させる。Ｒｆ値０．２０ （シ
リカゲル、１ｌｅｅ−ブタノール／氷酢酸／水６７ ：
１０ ： ２３）の題の化合物が得られる。 ＩＲス
ペクトル（又ショール） ： ３３５０．３３２５．１
６６０．１１２５ｃＩＬ−’ｔｊ％ｎ吸収帯。 例 ３ （ａ） ７１− （２−（５−アミノ−１−メチル−Ｉ
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−２−
メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル
−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム塩 例１ （ａ）と同様にして、塩化メチレン１３！Ｌとア
ニソール４ ｗｎとトリフルオロ酢酸６０ｍＢとの中の
７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１）１−１゜
２．４−トリアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシ
イミノアセトアミン〕−３−アセトキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル５．
１ ？ （８，２ミリモル）から、Ｒ（ｈＯ，２０（Ｕ
ＰＣ，２プレート、水／アセトニトリル９５：５）の題
の化合物が傅られる。Ｕｖ：λ （ｇ）ａｘ ２３５ （１１７００） ！ｔｉｐ。ｌスペクトル（又
ショール）： ３３５０．１７６５．１６０５．１２３
５．１０４５ｃＩＬ−’に特性吸収帯。 出発物質は以下のようにして製造できる。 （ｂ）７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−
１，２，４−）リアゾール−３−イル）−２−２−メト
キシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３
−セフェム−４−カルボン醐ジフェニルメチルエステル ２−（５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−
トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸１
．９９ ｔ （１０，０ミリモル）および塩化メチレフ
４０ ＝９を一５°ＣでＶｉｌｓｍｅｙｅｒ試薬（塩
化オキサリル１．Ｏｄと塩化メチレン１０ ｑＱ中のＮ
、Ｎ−ジメチルホルムアミド０．９ ｄとから調煕）の
かきまぜた懸蜀檜中に加える。混合物をσＣで２０分間
かきまぜ、次Ｃニー１０”Ｃに冷却する。７β−アミノ
−３−アセドギシメチルー３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル４．４０ ｆ ＋ １０．
０ミリモル）の添加後、混合物を０ ’Ｃで２．５時間
かきまぜ、次に１化メチレン５０→で希釈し、そして水
とｐ４１８．０のリン酸緩衝液と塩化ナトリウム水溶液
とで連続的（−洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そ
して真空下で濃縮する。Ｒ，［０，６０（シリカゲル、
クロロホルム／メタノール／氷酢＃ｓｓ ： １２：３
）の題の化合物を含有する残さが得られる０例 ４ ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−）リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイ
ミノアセトアミノ］−３−（１−メチルテトラゾール−
５−イル）−チオメチル）−３−セフェム−４−カルボ
ン酸のナトリウム塩水４．５呵ｌ！中の７β−（２−（
５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２１４−トリア
ゾール−３−イル）−２−２−メトキシイミノアセトア
ミノ〕−３−セフェム−４−カルボン酸ナトリウム０−
４７５９ （１，０ミリモル）およびナトリウム１−メ
チルテトラゾール−５−イルチオレート帆２０７ ｆ
（１，５ミリモル）の浴液な７０″Ｃで５時間かきまぜ
、次≦二水で希釈し、そして酢酸エチルで抽出する。水
性相を濃縮し、そしてクロマトグラフィー（ＵＰＣ，２
プレート、水／アセトニトリル９５：５）Ｙ行う。Ｒ。 値０．２５ （ＵＰ（、：、２プレート、水／アセトニ
トリル９５：５）の題の化合物が潜られる。ＩＲスペク
トル（メジョール） ： ３４００．１７６２．１６４
０． １５９５．１０４５１、’１１ ’に特性吸収帯
。 ｖ］５ ７．１ｒ−（２−（５−アミノ−１−メチル−Ｉｌｌ−
１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メト
キシイミノアセトアミノ）−３−（４−カルバモイルピ
リジニオメナル）−３−セフェム−４−カルボキシレー
トおよび７β−［２−（５−ジメチルアミノメチレンア
ミノ−１−メチル−１）１−１．２．４− トリアゾー
ル−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイばノアセトアミノ
）−３−（４−カルバモイルヒリシニオメチル）−３−
セフェム−４−カルボキシレート ２−（５−アミノ−１−メチル−１）１−１．２．４−
トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸１
．９９ ｆ （１０，０ミリモル）を−５’Ｃ１”Ｖｉ
ｌ−ａｍｅｙｅｒ 試咬（環化オキサリル１．０ｍｎ
、と塩化メチレン２５．＋ｇ中のＮ、Ｎ−ジメチルホル
ムアミド０．９ ｍｇとから調製）のかきまぜた＠濁液
中に加える。この混合物を０°（Ｊで２０分間かきまぜ
、仄ζニー１０ ’Ｃｆ二冷却すｂ（浴液１）。一方、
７β−アミノ−３−（４−カルバモイルピリジニオメチ
ル）−３−セフェム−４−カルボン酸４．０８ ｆ （
１０ミリモル）とＮ、０−ビス−（トリメチルシリル）
−アセトアミド１（１，５＝ｇと塩化メチレン４０ ｍ
Ｑとの混合物を室温で３０分間かきまぜ、次に一２０″
Ｃに冷却する（溶液２）。溶孜１および溶＃Ｌ２を合わ
せる。この混合物を０゛０で３時間かきまぜ、次にＩＮ
縦酸水素ナトリウム溶液甲に江別する。水性相を除去し
、塩酸水溶液で酸性にし、そしてクロマトグラフィー（
ＸＡＤ −２ｍ脂、水／ ｘ ｌ ／ −ル＆合物）
ｋ行う。Ｒｆ値０．６５ （ＵＰＣ，２プレート、水／
アセトニトリル６：１）で、ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
： ３４２５．１７７５．１６２０．１３８５ ｔｖ
−’Ｉ’−Ｗ性吸収帯を持つ、吻−な題の化合物、７β
−［２−（５−アミノ−１−メチル−１）ｉ−１，２，
４−トリアン−ルー３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミ
ノアセトアミノ〕−３−（４−カルバモイルビリジ−Ｚ
メチル）−３−セフェム−４−カルボキシレートおよび
Ｒｆ噴＋］、３０ （ＵＰＣ，、プレート、水／アセト
アミド１１ル６：１）で、ＩＲスペクト／’ （ＫＢｒ
） ： １７７”、）、１６１５．１５３７ｃＩｒＬ
に特性吸収帯を待つ、均一な題の化合物、７β−［２
−（５−ジメチルアミノメチレンアミノ−１−メチル−
Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−
Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ）−３−（４−カルバ
モイルピリジニオメチル）−３−セフェム−４−カルホ
キ７し〜トが得られる。 例 ６ ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−）リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイ
ミノアセトアミン）−３−（４−カルバモイルピリジニ
オメチル）−３−セフェム−４−カルボキシレートはま
た以下のようにして製造できる。 水２４中のナトリウム７β−［２−（５−アミノ−１−
メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル
）−２−Ｚ−メトキシイミノアセチルアミノ］−３−ア
セトキシメチル−３−セフェム−４−カルボキシレート
０．９５０ ｆ （２，０ミリモル）の溶液を水０．７
５ｍＱ中のイ゛ソニコチンアミド０．３４Ｆとヨウ化ナ
トリウム３．４２ｆどの８０Ｃに加熱した浴液中に加え
、混合物を７５′Ｃで２．５時間かきまぜる。 室温に冷却後、混合物をアセトン２５０ ｗｙｌ、中に
江別し、得られた沈殿をろ過しそして乾燥する。ＸＡＤ
−２カラム上、水／メタノール混合物を使って粗生成物
のクロマトグラフィーを行うと、Ｒｆｉ［０，６５（Ｕ
ＰＣ，、プレート、水／アセトニトリル６：１）の均一
な題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（ＫＢｒ）
： １７７５．１６２０．１０４５０ＩＬ−’に特性吸
収帯。 例 ７ ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル〜ＩＨ−１，２
，４−トリアゾール−３−イル） −２−Ｚ−メトキシ
イミノアセトアミノ）−３−（４−ヒドロキシメチルピ
リジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト 出発物質としてナトリウム７／−Ｃ２−（５−アミノ−
１−メチル−１ｆ（−１，２，４−トリアゾール−３−
イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−
アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボキシレー
ト０．４７５９ （１，０ミリモル）、４−ヒドロキシ
メチルピリジン０．１２Ｆ （１，１ミリモル）および
水Ｚ ｗＡ中のヨウ化ナトリウム１．７５ｆを使って例
６と同様の方法を行えば、Ｒｆ値帆５５（ＵＰＣ，、プ
レート、水／アセトニトリル６：１）の題の化合物が得
られる。ＩＲスペクトル（又ショール ） ： １
７６５ 、 １６２０ 、 １１Ｊ４０ｃｍ−’ｌ二
％性吸収帯。 例 ８ （ａ）７β−［２−（５−アミノ−１−メチル−１）１
−１．２．４− ）リアゾール−３−イル）−２−ヒド
ロキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム塩 トリフルオロ酢酸４９ｍ６を室温で塩化メチレンｌ。 冑ａ中の７Ｉｊ−４２−（５−ｔ−ブトキシカルボニル
アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル）−２−テトラヒドロピラニルオキシイミ
ノアセトアミノ〕−３−アセトキンメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸２．７７ｆ （４，４５ミリモル）
の溶液中に加え、混合物をこの温度で６０分間かきまぜ
、次にジエチルエーテル／ヘキサン（１： ２ ） ６
００ｉ中にかきまぜながら加える＠賄の化合物のトリフ
ルオロアセテートから成る沈殿をろ過により単離し、メ
タノールに溶解し、そしてメタノール性ナトリウム２−
エチルヘキサノエート浴液【約３Ｎ）でｐＨ７，０に調
整する。ジエチルエーテルの添加後、生成した沈殿を吸
引ろ過し、そしてクロマトグラフィー（ＵＰＣ，２シリ
カゲル、水）を行う。Ｒｆ値０．６５ （ＵＰＣ，、プ
レート、水／アセトニトリル９：１）の均一な題の化合
物が得られる。ＩＲスペクトル（メジョール）二３４２
５．１７６７．１７３５．１６００ｃｌＬ−’（ユ特性
吸収＃ｆ。 出発物質は以下のようにして製造できる。 （ｂ） ２− （５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１
，２゜４−トリアゾール−３−イル）−２−テトラヒド
ロピラニルオキシイミノ酢酸エチルエステル９５％エタ
ノール８０婬中の２−（５−（Ｎ−ベンジルオキシカル
ボニルアミノ）−１−メチル−１Ｈ−１，２，４−トリ
アゾール−３−イル〕−２−オキソー酢酸エチルエステ
ル１０．Ｏｆ （３０，０ミＩＪモル）およびテトラヒ
ドロピラニルオキシアミン５．３０ｆの溶液を室温で２
時間か舞まぜ、そしてさら（二６０”Ｃで２時間かきま
ぜる。反応混合物を真空下で濃縮する。シリカゲル上（
クロロホルム、徐徐Ｃニメタノールを増加させる）残さ
のクロマトクラフィーを行えば、Ｒｆ値０−４０ （シ
リカゲル、クロロホルム／メタノール９：１）の順の化
合物か得られる。ＮＭＲスペクトル（６０ＭＨ，、ＣＬ
）Ｃ１５） ：１．４６（ｔ）、３．７０ （ｇ）、４
．７０ （ｑ）、５．ｓ Ｏ（８） ｐ ｐ ｒｎ＋二
特性シグナル。 （ｃ） ２− （５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカル
ボニルアミノ）−１−メチル−１）１−１．２．４−
）リアゾール−３−イルツー２−テトラヒドロピラニル
オキシイミノ酢酸エチルエステル２−（５−アミノ−１
−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル）−２−テトラヒドロピラニルオキシイミノ酢酸エチ
ルエステル４．３Ｏｆ（１４，６ミリモル）、とＢＯＣ
無水物８．３Ｏｆと４−（Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミ
ノ）−ピリジン０．４０ｆとの懸濁液を室温で３．５時
間かきまぜ、酢酸エチルで希釈し、塩化す） ＩＪウム
水溶液で抽出し、硫（マグネシウム上で乾撮し、そして
真空下で濃縮する。Ｒｆ ｊｌＩ Ｏ，８５（シリカゲ
ル、クロロホルム／メタノール９５：５）の題の化合物
が得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレンン： １７
９０．１７３５．１６００ｃ＋＋＋ に特性吸収帯
。 （ｄ） ２− （５−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−
１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾール−３−
イル）−２−テトラヒドロピラニルオキシイミノ酢酸 出発物情として水４５婬と９５−エタノール１１０−と
の中の２− ［５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボ
ニルアミノ）−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４＝トリ
アゾール−３−イルツー２−テトラヒドロピラニルオキ
シイミノ酢酸エチルエステル）３．３０ｆ（１６，７ミ
リモル）および水酸化カリウム５．４３ ｆを使って、
例２（ｅ）と同様の方法を行えば、Ｒ８値０．４０（シ
リカゲル、５ｅｃ−ブタノール／氷酢酸／水６７ ：
１０ ： ２３）の題の化合物が得られる。ＩＲスペク
トル（又ショール） ： ３５００．１７４０：ｘ’−
’に特性吸収帯。 （ｅ）７β−［２−（５−ｔ−フトキシ力ルホニルアミ
ノー１−メチル−１）１−１．２．４−− ）すｒンー
ル−３−イル）−２−テトラヒドロピラニルオキシイミ
ノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルホン酸２−（５−ｔ−ブトキシカルボニル
アミノ−１−メチル−１）ｉ−１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル）−２−テトラヒドロピラニルオキシイミ
ノ酢酸２．７０ Ｆ （７，３２ミリモル）およびＮ−
メチルモルホリン０．９７＋ｎｎを一５°ＣでＶｉｌｓ
ｍｅｙｅｒ試薬（塩化オキサリル０．７３鱈と塩化メチ
レン２７ ｍＱ中のＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド０．
６５ｍ（１，とから調製）のかきまぜた懸濁液に加える
。混合物をＯ′Ｃで３０４間かきまぜ、次に一１０°Ｃ
に冷却する（溶液１）。一方、塩化メチレン４（Ｌｙ６
中の７β−アミノ−３−アセトキシメチル−３−セフェ
ム−４−カルボン酸２．４３ Ｆ （８，９１ミリモル
）とＮ、０−ビス−（トリメチルシリル）−アセトアミ
ド８．１ｍＧとＮ−メチルモルホリン１．５４４との混
合物を室温で３０分間かきま−ぎ、ｖコに一１０″Ｃに
冷却する（溶液２）。溶液１お・よび浴液２を合わせる
。混合物をＯ’Ｃで３時間θλきまぜ、Ｊｋ、９下で濃
★６し、酢酸エチルで希釈し、そして水とｐＨ８，０の
リン鍍塩緩衝液と水性塩酸と塩化ナトリウム水浴液とで
４Ｍ的に抽出し、硫官マグネシウム上で乾囃し、そして
真空下で濃縮する。Ｒｆ値０．６０ （シリカゲル、８
ｅｅ−ブタノール／氷酢酸／水６７ ： １０ 二２３
）の題の化合物を含む残さが得られる。ＩＲスペクトル
（又ショール）： ３３５０．１７４０．１６２０．ｚ
に特性吸収帯。 例 ９ Ｃ＆）７β−［２−（５−アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４
−トリアゾール−３−イル）−２−２−メトキシイミノ
アセトアミノ〕−３−アセトキシメチ八−３−セフェム
−４−カルボン酸 出発物質として増化メチレン２−とフニソール０．６３
−ｒＱ、とトリフルオロ酢酸８．６宥（）とのｑ】の７
β−（２−（５−ｔ−ブトキシプノル７ズニルアミノ−
１Ｈ−１，２，４−）リアゾール−３−１ル）−Ｚ−Ｚ
−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルホン市ジフェニルメチルエ
ステル０．８５ｆ （１，２ミリモル）Ｉｔつて例１
（ａ）と１′５１様の方法を竹えば、ｇｆ値０浦０（Ｕ
ＰＣ，２プレー１・、水／アセトニトリル６：１）の題
の化合物がイ神られる。Ｉｌ（スペクト／Ｌ（タジョー
ル） ： ３３００．１７６５．１６００、！（１４５
σ−′（１特性吸収帯。 出発物質は以下のよう（二して製造で専る。 （ｂ） ２− （５−アミノ−１−ｔ−ブトキシカルボ
ニルーＩ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）
−装置エチルエステル 出発物質としてアセトニトリル３７０鹸中の３−シアノ
イミノ−３−エトキシプロピオン酸エチルエステル７４
．Ｏｆ （４０１，７ミリモル）およびｔ−ブトキシカ
ルボニルヒドラジン１０７．３ Ｆを使って例１ （ａ
ａ）と同様の方法を行えば、Ｒｆ［ｔ ０．６０ （シ
リカゲル、酢酸エチル）で、融点１１７〜１１８°Ｃの
題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレフ
） ： １７３５．１６２５ｃｌＩＬ−’ （ｎ特性
吸収帯。 （ｃ） ２− Ｃ５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカル
ボニルアミノ）−ｔ−ｔ−ブトキシカルボニル−１）１
−１．２．４−トリアゾール−３−イル）−酢酸エチル
エステル 出発物質として２−（５−アミノ−１−ｔ−ブトキシカ
ルボニル−１ｆ（−１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル）−酢酸エチルエステル１７．７０ ｆ （６５，５
ミリモル）、ＢＯＣ無水物２８．６ ｆおよび４−（Ｎ
、Ｎ−ジメチルアミノ）−ピリジン６５０ ｌｌｖを使
って例８（ｃ）と同様の方法を行えば、Ｒｆ値０．６５
（シリカゲル、トルエン／酢酸エチル１：１）の題の化
合物が得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレン） ：
１８００ 、 １７６０．１７３５（Ｘ’に特性吸収
帯。 （ｄ） ２− Ｃ５−（、Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカ
ルボニルアミノ）−１−ｔ−ブトキシカルボニル−１１
４−１，２，４−トリアゾール−３−イル〕−２−オキ
ソ酢酸エチルエステル 出発物質としてジオキサン１９０・マ必中の２−〔５−
（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−１−
ｔ−ブトキシカルボニル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリア
ゾール−３−イルツー酢酸エチルエステル２２、Ｏｆ
（４４，４ミリモル）および二鎖化セレン１３．８ｆを
使って例２（Ｃ）と同様の方法を行えば、Ｒｆ値０．２
５（シリカゲル、トルエン／酢酸エチル４：１）の題の
化合物が得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレン）
： １７６５．１７３５．１７１５ｃｍ＋’ｌ二特性吸
収帯。 （ｅ） ２− （５−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−
１−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｉ Ｈ−１，２，４−ト
リアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチ
ルエステル 出発物質として９５チエタノール２６５ｕ必中の２−（
５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−
１−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｉ Ｈ，−１，２゜４−
トリアゾール−３−イル〕−２−オキノ酢酸エチルエス
テル２６．４ ｆ （５４，５ミリモル）、メトキシア
ミン場酸塩６．９０ｆおよびピリジン６．５ｙ９’Ｙ使
って例２ （ｄ）と同様の方法乞行えば、Ｒｆｆ＃Ｌ０
．４５ （シリカゲル、トルエン／酢酸エチルｌ：１）
の題の化合物が侍られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレ
ン） ： １７３５．１０５０ＣＩＬ”−’に％注吸収
帝。 （ｆ） ２− （５−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−
１ｆ（−１，２，４−トリアゾール−３−イル〕−２−
メトキシイミノ酢酸 出発物質として水１１ ｆｌ、と９５％エタノール２４
ｍαとの中の２−（５−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
−１−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｉ Ｈ−１，２，４−
トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エ
チルエステル１．２Ｏｆ （２，９０ミリモル）および
水酸化カリウム１．２５ ｆを使つＣＡ２（ｅ）と同様
の方法を行えば、Ｒｆ愉０．２０ （シリカゲル、８ｅ
ｅ−ブタノール／氷酢酸／水６７ ： １０ ： ２３
）の題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（又ショー
ル） ： ３３１５．１７１０．１０５０ｆｆｉ−’に
特性吸収帯。 （ｇ）７β−（２−（５−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ−１１，１−１，２，４−トリアゾール−３−イル）
−２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセト
キシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニル
メチルエステル 出発物質として塩化メチレン１４ｄ中の２−（５−ｔ−
ブトキシカルボニルアミノ−１）１−１．２．４−トリ
アゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢粱（１，
８０６ｆ （２，８２ミリモルンおよび７β−アミノ−
３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸
ジフェニルメチルエステル１．２Ｏｆ（２，７３ミリモ
ル）を１史って例３（ｂ）とｌｈ＋様の方法を行えば、
Ｒｆ値帆６５（シリカゲル、クロロホルム／メタノール
／氷酢１％、８５：１２：３）の題の化合物が得られる
。ＩＲスペクトル（塩化メチレン）： １７６５．１７
３５ｃｍ−’≦二特性吸収帯。 例 １０ ７β−［２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−） Ｉ７７ゾールー３−（ル）−２−Ｚ−メトキ
シイミノアセトアミノ〕−３−セフェム−４−カルボン
酸のナトリウム塩 出発物質として２−（５−アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ
−１，２，４−）リアゾール−３−イル）−２−メドキ
シイミノ酢酸２．９ｆ （１０，０ミリモル）および７
β−アミノ−３−セフェム−４−カルボン酸１．０５Ｆ
を使ってｆｔ４２（＆）と同様の方法を行えば、Ｒｆ＠
０．３０ （ＵＰＣ，、プレート、水／アセトニトリ
ル９５：５）の題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル
（又ショール） ： ３３００．１７５５．１６００．
１０４５１−′に特性吸収帯・ 例 １１ ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−）リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイ
ミノアセトアミノ〕−３−セフェム−４−カルボン酸ビ
バロイルオキシメチルエステルヨードメチルビパレート
１．１２−をσＣでＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド２５
ｄ中のナトリウム７β−（２−（５−アミノ−１−メチ
ル−Ｉ Ｋ −１，２，４−トリアゾール−３−イル）
−２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−セフェ
ム−４−カルホキシレー） ２．Ｏｆ （４，９６ミリ
モル）の混合物中に加え、この混合物をこの温度で６０
分間かきまぜ、次にｐＨ７，０のリン酸塩緩衛液１４〇
−中盛二注加し、−ｔ−して酢酸エチル／アセトン４：
１で抽出するＯ有機抽出液を塩化す） ＩＪウム水浴液
で洗い、恢酸マグネシウム上で乾燥し、そして真空Ｆで
濃縮する。残さをジエチルエーテルですりつぶすと、Ｒ
ｆ値０．７５ （シリカゲル、５ｉｅｃ−ブタノール／
氷酢酸／水６７ ： １０ ： ２３ ）の題の化合物
が得られる。１にスペクトル（又ショール） ： ３３
００．１７６５．１７３５．１０５０ｃＩＩＬ−’＋：
特性吸収ｉ。 例 １２ ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−）リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイ
ミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３−セフ
ェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル Ｎ、０−ビス−（トリメチルシリル）−アセトアミド１
．０ｍ９を塩化メチレン５ｍＱ中の７β−〔２−（５−
アミノ−１）１−１．２．４−トリアゾール−３−イル
）−２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセ
トキシメチル−３−セフェム−４−カルボ／酸ジフェニ
ルメチルエステル１．Ｏｆ（１，４１ミリモル）の混合
物中に加え、混合物を室温で６０分間かきまぜ、次にＯ
″Ｃに冷却し、そしてヨウ化メチル０．２５−を加える
。混合物を５°Ｃで４時間かきまぜ、そして酢酸エチル
と水とで希釈する。有機相を除去し、塩化す） ＩＪウ
ム水溶液で洗い、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして
真空下で濃縮する。シリカゲル上、クロロホルム／メタ
ノールを除徐に増加を使って残さをクロマトグラフィー
にかけると、Ｒｆ頃０．６５ （シリカゲル、クロロホ
ルム／メタノール／氷酢酸８５ ： １２ ： ３ ）
の題の化合物が得られる。 例 １３ （ａ）７β−（２−（５−アミノ−１−カルボキシメチ
ル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−
２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキ
シ゛メチルー３−セフェム−４−カルボン酸のジナトリ
ウム塩 トリフルオロ酢酸１５４を＋ｌ化メチレン４清Ｑ中の７
β−［２−（５−アミノ−１−ｔ−ブトキシカルボニル
メチル−１１−１−１，２，４−トリアゾール−３−イ
ル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ］−３−ア
セトキシメチル−３−セフェム−４−カルポン＃１．５
Ｆ （２，７１ミリモル）の混合物に加え、この混合物
を６０分間か＾まぜ、久にジエチルエーテル／ヘキサン
１ 二２２００ ｖｇ中にかきまぜながら入れる。沈殿
をろ過（二より竿離し、メタノール中に溶解し、そして
メタノール性ナトリウム２−エチルヘキサノエート浴液
（約３Ｎ）でｐｌ＋７．０に１斃する。ジエチルエーテ
ルのｆＩ≦加後、得られた沈設を吸引ろ過し、そしてク
ロマトグラフィー（ＵＰＣ，２シリカゲル、水）にかけ
６ｏＲｆＩＩ［０，６０（ＵＰＣ，２プレート、水／ア
セトニトリル９：１）の題の化合物が得ら才しる。ＩＲ
スペクトル（又ショール） ： ３４３０ 、１７６５
．１６２０．１０１０４５Ｃ’に特性吸収帯。 出発物質は以十のようにして製造する。 （ｂ） ２− （５−Ｎ−ホルミルアミノ−１−ｔ−ブ
トキシカルボニルメチル−１ｉ（−１，２，４−）リア
ソール−３−イル）−酢（ｎエチルエステル２−（５−
Ｎ−ホルミルアミノ−１１４−１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル）−６１Ｍエチルエステル１２．Ｏｆ （
６０ミリモル）ノ溶液をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
１０−中の水素化ナトリウム３．１８ｆの懸濁液中（ニ
ガ１・え、混合物を４０°Ｃ″′ｒ：２時間加熱し、久
（：０°０に冷却し、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド１
２ｍ１中のブロモ酢飯ｔ−ブチルエステル１１補の浴液
を添カロし、混会′吻を室温に加熱しそしてこの温度で
４時間かきまぜる。混合物を真空下で濃縮し、酢酸エチ
ルで希釈し、水と希ｊ４Ｈと塩化ナトリウム水浴液とで
連続的（−洗い、４ＪＭ＃マグネシウム上で乾燥し、そ
して真ｌ下で８ｍする０＠生ａ″ＪＩＡをジエチルエー
テルですりつぶすと、Ｒｆｆｔｆｆｉ帆６５（シリカゲ
ル、クロロホルム／メタノール９：１）の鴎の化合物が
得られる。ＩＲスペクトル（４化メチレン） ： ３４
００．１７４５．１７１０ 、１１５７ ｃｍ−’ ＋
−％性吸収帯。 （ｃ）２−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−１−ｔ−ブトキ
シ力ルホニルメチル−１）１−１．２．４− ）リアゾ
ール−３−イル）−２−オキソ酢酸エチルエステル 出発物質としてジオキサン５０７必中の２−（５−Ｎ−
ホルミルアミノ−１−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−
ＩＨ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−ｆ６’
酸エチルエステル３．１２９（１０ミｌＪモルおよび二
酸化セレン３．Ｏ２を使って例２（Ｃ）と同様の方法を
行えば、Ｒｆ値０．８０ （シリカゲル、クロロホルム
／メタノール／氷酢酸８５：１２：３）の題の化合物が
得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレン） ： ３３
８０．１７３５．１７００．１１４５イ１に特性吸収帯
。 （ｄ）２−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−１−ｔ−ブトキ
シカルボニルメチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾー
ル′−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチルエス
テル 出発物質として９５％エタノール２０ｍ９中の２−（５
−Ｎ−ホルミルアミノ−１−ｔ−ブトキシカルボニルメ
チル−１ｔ（−１，２，４−トリアゾール−３−イル）
−２−オキン酢散エチルエステル１．４７ｆ（４，５ミ
リモル）とメトキシアミン塩酸塩０．５２とピリジン０
．５５＋ｄとを使って例２（ｄ）と同様の方法な行えば
、Ｅｆ値０．７０ （シリカゲル、クロロホルム／メタ
ノール９：１）の題の化合物が得られる。 スペクトル
（塩化メチレン） ： ３４００．１７３５．１７００
．１０５５ ｃｍ−’ ｃ特性吸収帯。 （ｅ） ２− （５−アミノ−１−ｔ−ブトキシカルボ
ニルメチル−１）ｉ−１，２，４−）リアゾール−３−
イル）〜２−メトキシイミノ酢歌 出発向ｐとして水１６Ｍａと９５チエタノール４０ｙＡ
との中の２−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−１−ｔ−ブト
キシカルボニルメチル−１１４−１，２，４−トリアゾ
ール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチルエス
テル２．１３ｆ （６，０ミリモル）および水酸化カリ
ウム１．９７ｆを使って例２（ｅ）と同様の方法を行え
ば、Ｒｆ＊ ｏ、２０ （シリカゲル、ｓｅｅ −ブタ
ノール／氷酢＃に／水６７ ： １０ ： ２３ ）の
題の１ヒ会物が得られる。ＩＲスペクトル（タジョール
）： ３４００ 、 １７３５ 、 １１４５
、 １（１４０ｍ−’ （二 特ゼ（ψ！ 耳叉帯
〇（ｆ）７β−［２−（５−アミノ−１−ｔ−ブトキ
シカルボニルメチル−ＩＨ−１，２，４−トリアゾール
−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕
−３−アセトキシメチル−３〜セフェム−４−カルボン
所 出発物′薩として塩化メチレン４０ｍ１中の２−（５−
アミノ−１−ｔ−ブトキシカルボニルメチル−１）Ｉ
−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２＝メトキ
シイミノ酢ｄｌ １．ｓ７ ｔ （６，２５ミリモル）
および７β−アミノ−３−アセトキシメチル−３−セ７
エム−４−カルボン（４１１，６２ｆ （６，０ミリモ
ル）を便って例２（ａ）と同様の方法を行えば、Ｒ［ｆ
ｍｚｏ、５５（シリカゲル、ａｅｃ−ブタノール／水酊
煉／水６７ ： １０ ： ２３）の題の化合物が祷ら
れる。ＩＲスペクトル（又ショール） ： １７６５．
１１４５．１０４シ１１（−％性吸収帯。 例 １４ （ａ） ７１− （２−（５−アミノ−１−メチル−１
１−１−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−
ヒドロキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチ
ル−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム塩 出発’［として順化メチレン１．４−ｔｇとアニソール
０ 、５５ ）Ｑ、とトリフルオロ酢酸７．２．＝１７
．との中の７β−［２−（５−ｔ−ブトキシカルボニル
アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミノ］
−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボン
酸ジフェニルメチルエステル０．７０５ ｆ （１，０
ミリモル）を使って例１ （ａ）と同様の方法を行えば
、Ｒｆ値０．６５ （ＵＰＣ，２プレート、水／アセト
ニトリル９：１）で、例８（ａ）に与えたＩＲテータと
回じデータを持つ題の化合物が得られる。 出発物置は以下のようにして製造できる。 （ｂ）２〜（５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニ
ルアミノ）−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリア
ゾール−３−イル〕−２−オキノ酢酸エチルエステル 出発物置としてジオキサ７１５０ ｍＯ，中の２−〔５
−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−１
−メチル−１）１−１．２．４− ）リアゾール−３−
イル〕−昨ｆ疲エチルエステル１１．５２ ｆ （３ｔ
）０ミリモル）および二酸化セレン８．３Ｏｆを便って
：”ｌ ２Ｃｃ）と同様の方法を行えば、ル（＋ｐ ０
．５５ ！シリカゲル、クロロホルム、′メタノール）
のｌ＠の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチ
レン）：１８０５．１７３５．１７１５Ｌ：１ｎ’ｌ二
特性吸収帯。 （ｃ） ２− （ラーｔ−グトキシ力ルポニルアミノー
ｌ−メチル−１＋（−１，２，４−トリアゾール−３−
イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸エチルエステル 出発１句尚として９５チエタノール４００ ＱＱ中の２
−（５−（Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ
）−１−メチル−１）１−１．２．４−トリアゾール−
３−（ル〕−２−：ｉｒｅソ、Ｓ１１エチルエステル３
９．８ｆ （１００ミリモル）、ヒドロキシルアミン塩
酸塩１３．９ｆおよびピリジン１７．７補を使ってｉ？
ｌ１２（ｄ）と同様の方法を行えば、Ｒ，ｊｌｉ ０．
２５ （シリカゲル、クロロホルム／メタノール９５：
５）の肩の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（塩化メ
チレン）：３５４０．１７４０信−１に特性吸収帯。 （ｄ） ２− （５−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−
１−メチル−１）１−１．２．４− トリアゾール−３
−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸 ２Ｎ水酸化ナトリウム溶液２５．ｓｚｇをメタノール２
００ ｍ（！、中の２−（５−ｔ−ブトキシカルボニル
アミノ−１−メチル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル）−２−ヒドロキシイミノ酢蹟エチルエス
テル７．１ ｆ （１７０６１７モル）の溶液中に加え
、この混合物を６σＣで３．５時間かきまぜる。反応混
合物をＡ−空下で濃縮し、水で希釈し、４Ｎ４咳で１）
１１８．５１ユ、１４整し、ぞして酢酸エチルで抽出す
る。 水性相を次に２Ｎ塩酸でｐＨ３，０に調整し、酢酸エチ
ルで抽出し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして真空
下で濃縮する。残さなジエチルエーテルですりつぶすと
、Ｒｆｌｌ ０．２０ （シリカゲル、８ｅＣ−ブＪ
／−に／氷ｅ酸／水６７ ： １０ ン−２３＞ｃｏ題
の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（Ｘショール）：
３４００ 、 １７３５ ｃｔＬ−’ ｔ：、
峙ｅ級、ａｉ 。 （ｅ）７β−（２−（ｓ−ｔ−ブトキシカルボニルアミ
ノ− ール−３−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミノ
〕−３−アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボ
ン庸ジフェニルメチルエステル 出発物質として塩化メチレン２５ｗ６中の２−（５−ｔ
−ブトキシカルボニルアミノ−１−メチル−１ ）１
− １．２．４ − ）リアゾール−３−イル）−２−
ヒドロキシイミノ酸１．１＃ １．３４ｆ （ ５．０
ミリモル）および７β−アミノ−３−セフェム−４−カ
ルボン酸ジフェニルメチルエステル２．２Ｏｆ （ ５
．０ ６１７モル）を１更ってｉ／Ｉ１３（ｂ）と同様
の方法を行えば、Ｒ。 ［０．６５（シリカゲル、クロロホルム／メタノール／
氷酢酸８５ ： １２ ： ３ ）の題の化合物が得ら
れる。 ＩＲスペクトル（塩化メチレン） ： ３４００、１７
６５、１７３５ｃＷＬ−’Ｃ特性Ｍ収帯。 題の化合物はまた、以下のよう（ニしても製造できる。 叱硝酸ナトリウム７６Ｉｖを５〜１０’Ｃで氷酢酸５、
５罰中の７β−（２−（５−ｔ−プトキシ力ルホニルア
ミノー１ーメチル−１１１ − １．２．４−トリアゾ
ール−３−イル）−アセトアミノクー３−アセトキフメ
チル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
エステル帆７１ ’ｆ （ １．０ミリモル）のｌＰ．
、１ｍ加え、混合物をこの温度で３０分間かきまぜ、酢
酸エチルで重訳し、水と炭酸水素ナトリウノ、水だ准と
塩化ナトリウム水苗准とで連続的に洗う。枦１削マグネ
シウム上で乾燥を有った抜、真空下で尋旬する。残さは
Ｒ４ １ｍ Ｕ．ｂ５ （シリカゲル、クロロホルム／
メタノール／氷酢酸８５ ： １２ ： ３ ）の私の
化合物から成る。 例 １５ ７β−［２−（５−アミノ−１−メチル−１）１− １
．２．４−トリアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキ
シイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３−
セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル ジエチルエーテル中すジアソメタンの冷溶液（ＯＣ）？
メタノール２θτら中り７β−（２−（５−ｔ−ブトキ
シカルボニルアミノ−１−メチル−１ ）１ − １．
２．４−−）リアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミノ〕−３−γーヒトヤシメチルー３ー
セフェム−４−カルボ／，４ ； フェニルノチルエス
テル０．４６１ ９ （ １．（１５ ミＩＪ七ル）の
ｆｇ液に反応が終了する王で瀕加し、そしてＯ〜５゛（
：で４５分間かきまセを行う。又応混合向とｆｇ ２
Ｆ’で１４し、そして堝さをシリカゲルグレート十、ク
ロロホルム／メタノール（９：１）な１史うクロマトグ
ラフィーＣ二より１製゛する。Ｈｆｆｉ［ ｆｌ．ｆｉ
５ （シリカゲル、クロロホルム／メタノール／メ′、
σ，酢８５：１２：：’ｌ）の題の化合物が得らＪＬる
。ＩＲスペクトル（塩化メチレフ ） ： ｊ３＋ＪＯ
、 １７６３、１ ７ ４ ［）、１０４３Ｃｒｌ
Ｌ−’ｌ二特性吸収帝。ζ． ｌ／Ｊ 王Ｌｌ− ｊラ
フ’． Ｈ＋１１ １ ２（１）生成蜀とＩｈ」−であ
る。 １ダＪ １６ （ａ）７β−［２−Ｃ５−アごノーｌ′Ａ− ｔ，２．
４−トリア７１−ルー“３−イル）−２−Ｚ−メトキシ
イミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン戚、ナトリウム塩 埴化メチレン１０Ｘ４中の五塩化リン０．５８５ｆと２
−（５−アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾール−
３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸０．４６３ ｆ
（２−５ミ’）モル）との混合＃を一１０’ｃで３０分
間かきまぜる（溶液１）。一方、７Ｉ−アミノ−３−ア
セトキシメチル−３−セフェム−４−７フルボン酸Ｏ，
５４４ｆ （２，０ミリモル）とトリメチルシリルアセ
トアミド４．２９と聰化メチレン１０ 耐−との混合物
な室温で１５分間かきまぜ、次に一１０°Ｃ１−冷却す
る（浴准２）。醪檜１および沼ぺ２？３υせる。 混合物をＯ″Ｇで３時間かきまぜ、区に飽オロ炭酸水減
ナトリウム溶液中シニ江別する。水ｅｉｌをδ去し、水
性塩酸で＋；４４．５にｈ崗督し、そしてクロマトグラ
フィー（ＸＡｉ） −２樹１旨、水）を行う。生成物を
含ｔｒｕｉ分を＃禰し、メタノールに＠解し、そしてメ
タノール性ナトリウム２−エチルヘキサノエート溶液（
約３Ｎ）で−１１７．Ｑ ｌ二調整する。ジエチルエー
テルの添加後、得られた洗穀を吸引ろ過し、そしてクロ
マトグラフィー（ＵＰＣ，２プレート、水／アセトニト
リル６：ｌ）を行う。ＲｆイｌＩＯ，６０（ＵＰＣｔ
ｚプレート、水／アセトニトリル６：１）の題の化合物
が得られるｃ例９参照）。 出発物質は以下のようにして製造できる。 （ｂ） ２− （５−アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−ト
リアゾール−３−イル）−酢酸エチルエステル出発物質
としてアセ゛トニトリル８８−中の３−シアノイミノ−
３−エトキシプロピオン鹸エチルエステル４８．５Ｆ
（０，２６３モル）およｄ９５チヒドラジン１０ｄを使
って例１ （ａｍ）と同様に行えば、ｋＬｆ値０．２５
（シリカゲル、クロロホルム／メタノール９５：５）
で、融点１５１〜１５３’Ｃの題の化合物が得られる。 ＩＲスペクトル（又ショール） ： ３３５０．１７３
５．１６５５ｃｍ−’Ｃ４Ｉ性１１収”Ｊ。 （ｃ）２−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−１）１−１．２
゜４−トリアゾール−３−イル）−酢酸エチルエステル 無水酢酸２５＋ＩｉＶ、をぎ１１１１３０ ｄ中に滴加
し、このｍ赦を４０°Ｃで３０分間かきまぜ、室ｍＣユ
冷却し、そして５−アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリ
アゾール−３−イルー酢酸エチルエステル１０．８Ｆ
（６３，５５ξリモル）の添加後、この混合物を室温で
４時間かきまぜる。反応混合物を真空下で？１１ｍし、
残さをジエチルエーテルですりつぶす。Ｒｆ＠ ０．６
５シリカゲル、クロロホルム／メタノール／氷酢酸８５
：１２：３）で、融点２０８〜２１０°Ｃの題の化合物
が得られる。ｉＲスペクトル（又ショール） ： ３２
９０．１７３２．１６８５．１５９５ｃＩＩＬ−’に特
性吸収帯。 （ｄ）２−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−１）１−１．２
゜４−トリアゾール−３−イル）−２−オキソ酢酸エチ
ルエステル 出発物質としてジオキサン４３５−中の２−（５−Ｎ−
ホルミルアミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾール−
３−イル）−酢酸エチルエステル８．７０ ｆ（４３，
９ミリモル）および二酸化セレン１２．２ ｆを使って
例２ｃｃ）と同様の方法を行えば、埒値０．４５（シリ
カゲル、クロロホルム／メタノール／氷酢酸８５ ：
１２ ： ３ ）の題の化合物が得られる。Ｈレベクト
ル（又ジＥ’−／’ ） ： ３２５０．１７３５．１
７１０ 。 １６７５．１６００ｃｍ ’ ｃ特性吸収帯。 （ｅ）２−（５−Ｎ−ホルｉ ／ｌ／アミノーＩ Ｈ−
１，２゜４−トリアゾール−３−イル）−２−メトキシ
イミノ酢酸エチルエステル 出発物鍜として９５チエタノール２００＝ｒｊ＆中の２
−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−１）１−１．２．４−）
リアゾール−３−イル）−２−オキソ酢酸エチルエステ
ル１２．Ｏｆ （５６，５６ミリモル）、メトキシアミ
ン塩酸塩６．Ｏｆおよびピリジン６．５４を使って例２
（ｄ）と同様の方法を行えば、Ｒｆ（Ｉ育０．４５ （
シリカゲル、クロロホルム／メタノール９：ｌ）で融点
１８４〜１８７ ’Ｃの題の化合物が得られる。ｎｔス
ペクトル（又ショール） ： ３３００．１７３５、ｌ
０４５Ｇｘに特性吸収帯。 （ｆ） ２−（５−アミノ−１ｉ−１−トリアゾール−
３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸 ２−（５−Ｎ−ホルミルアミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−
トリアゾール−３゛−イル）−２−メトキシイミノ酢酸
エチルエステル４．６Ｆ （１９，０ミリモル）と水性
塩＃！４９−との混合物を１００℃で１時間かきまぜ、
冷却し、そしてクロロホルムで抽出する。水相抽出液を
ａ＠し、残さをメタノールに溶解し、プロピレンオキシ
ドを添加し、そして混合物を０°Ｃで１時間かきまぜる
。沈殿を吸引ろ過し１．ジエチルエーテルで洗い、そし
て乾燥する。Ｒｆ［１０，１５（シリカゲル、５ｅＣ−
ブタノール／氷酢酸／水６７： １０ ： ２３ ）の
題の化合物が得られる。ＩＥＬスペクトル（又ショール
） ： ３３００ 、 １６８５．１０４θｃＩｌ−′
に特性吸収帯。 例 １７ （ａ）７β−（２−（５−アミノ−１−メチルスルホニ
ル−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−
２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ）−３−アセトキ
シメチル−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム
塩 出発物質として塩化メチレン２．５ｗＱ中の７β−Ｃ２
−（５−アミノ−１−メチルスルホニル−ＩＭ −１，
２，４−トリアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシ
イミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３−セ
フェム−４−カルボン酸ジフェニルメチルエステル１．
Ｏｆ （１，５ミリモル）とアニソール帆７３ＩＣとト
リフルオロ酢酸１０ｙρとを使って例３（ａ）と同様の
方法を行えば、Ｒｆ値０．３５ （ＵＰＣ，、プレート
、水／アセトニトリル６：１）の題の化合物が得られる
。■Ｒスペクトル（又ジョーｋ） ３３５０．１７６
５．１６４０．１１６０ｃｍ−’に＝１Ｆ吸収帯・ 出＃１吻員は以下のよう１ニして装造できる。 （ｂ） ２− （５−アミノ−１−メチルスルホニル−
Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾール−３−イル）−２−
メトキシイミノ酢酸エチルエステル Ｎ、０−ビス−（トリメチルシリル）−アセトアミド３
１Ｑ、を塩化メチレン１５ ａｎ中の２−（５−Ｎ−ホ
ルミルアミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３
−イル）−２−メトキシイミノ酢飯エチルエステル〔例
１６’ （ｅ） ） ２．４０？ （１０，０ミリモル
）の浴ｇ（−加え、混合物を室温で３０分間かきまぜ、
次に一１０’Ｃ４：冷却し、そしてメタンスルホニルク
ロリド０．２４４を添加する。混合列をＯＣで４時間か
きまぜ、久（：室温で１６時間かきまぜ、それから酢酸
エチルで希釈し、炭酸水素ナトリウム水浴液と水と塩化
ナトリウム水溶液とで連続的に洗い、硫酸マグネシウム
上で乾燥し、そして真空下で濃縮する。残さのクロマト
グラフィー（シリカゲル、クロロホルム、メタノールを
除徐に増加）を行つと、ｍｆ＋１０．６０ （シリカゲ
ル、クロロホルム／メタノール９：１）の題の化合物が
得られる。ＩＲスペクトル（塩化メチレン） ： １７
３５．１１５５．１０４５ＧＩＩＬ”−’６二特性吸収
帯〇 （ｃ） ２− （５−アミノ−１−メチルスルホニル−
Ｉ Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−
メトキシイミノ酢酸 出発物質として水性塩酸２４−中の２−（５−アミノ−
１−メチルスルホニル−１−ｋｌ −１，２，４−）リ
アゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸エチル
エステル３．０３ ｆ （１０，３７ミ’Ｊモル）ヲ使
って例１６ （ｆ）と同様の方法を行えば、ａｆ＊ｏ、
ｚ。 （５ｅｅ−ブタノール／氷酢酸／水６７ ： １０ ：
２３ ）の魂の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（
又ショール） ： ３３３０ 、１１６０．１０４５ｃ
ｍ−’にａＳ吸収帯。 （ｄ）７β−［２−（５−アミノ−１−メチルスルホニ
ル−１１４−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−
２−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキ
シメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメ
チルエステル 出発物質として塩化メチレン２０ｍ１中の２−（５−ア
ミノ−１−メチルスルホニル−１ｔ（−１，２，４−ト
リアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢酸１．
０５Ｆ （４，０ミリモルンおよび７β−アミノ−３−
アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ジフ
ェニルメチルエステル１．７６９ （４，０ミリモル）
を使って列３（ｂ）と同様の方法を行えｋｉ 、Ｒｆｆ
ｌＯ−５０（シリカゲル、クロロホルム／メタノール／
氷０赦８５ ： １２ ： ３ ）の馳の化合物が得ら
れる。ＩＲスペクトル（又ショール） ： １７６５．
１１５５．１０４５ｃＩＬ’ Ｃ−％性吸収帯。 例 １８ （ａ）７β−（２−（５−アミノ−１−フェニル−１）
１−１．２．４−トリアゾール−３−イル）−２−２−
メトキシイミノアセトアミノ〕−３−セフエムー４−カ
ルボン曖のナトリウム場出発物質として２−（５−アミ
ノ−１−７エ二ルーＩＨ−トリアゾール−３−イル）−
２−メトキシイミノ＃［酸１．０４ｆ （４，０ミリモ
ル）および７Ｉ−アミノ−３−セフェム−４−カルボン
酸ｏ、４２ｆを使って例２（ａ）と同様の方法を行えば
、Ｋｔ（ＩＩｏ、５０ （ＵＰＣ，、プレート、水／ア
セトニトリル６：ｌ）の趙の化合物が得られる。ＩＲス
ペクトル（又ショール） ： ３３００．１７６５．１
６２０ 、１０４５ｃｍ１−’に特性吸収帯。 出発物質は以下のようＣ二して製造できる＠（ｂ） ２
− （５−アミノ−１−フェニル−１ｉ（−１゜２．４
− ）リアゾール−３−イル）−酢酸エチルエステル 出発物・疼としてアセトニトリル４ｏ−中の３−シアノ
イミノ−３−エトキシグロビオン酸エチルエステル２０
ｆ （１０８ミリモル）およびフェニルヒドラジン１５
．３ ｆを使って例１ （ａｍ）と同様の方法を行えば
、Ｒｆ１直ｔ）、８０ （シリカゲル、クロロホルム／
メタノール／氷酢ｆｆ８５：１２：３）で、融点９２〜
９３′Ｃの題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（塩
化メチレン） ： ３４６０．１７４０ 、１６２０ｍ
−’に特性吸収帯。 （ｃ） ２− （５−Ｎ、Ｎ−ジーｔ−プトキシカルポ
ニルアξ）−１−フェニル−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リ
アゾール−３−イル）−酢酸エチルエステルおよび２−
（５−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−フェニ
ル−１）１−１．２．４− トリアゾール−３−イル）
−酢酸エチルエステル出発物質として２−（５−アミノ
−１−フェニル−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リアゾール−
３−イル）−酢酸エチルエステル１０ ｆ （４０，６
ミＩＪモル）、ＢＯＣ無水物２６．６ｆおよびＮ、Ｎ−
ジメチルアミノピリジン０．４２を使って例８（ｃ）と
同様の方法を行えば、Ｒ，飴０．７０ （シリカゲル、
トルエン／酢酸エチル１：１）で、ＩＲスペクトル（塩
化メチレン）： １８１０．１７３５ｃｍ−’にｌｌｌ
？ｌｌ状帯を持つ２−（５−Ｎ、Ｎ−ジ−ｔ−ブトキシ
カルボニルアミノ−１−フェニル−１１１−１，２，４
−）リアゾール−３−イル）−酢酸エチルエステル、お
よびＲ，値０．４０（シリカゲル、トルエン／酢酸エチ
ル１：１）で、ＩＲ２ベクトル（塩化メチンｙ ） ：
３４００．１７３５ｃＩｌ−’ＣユＷ性液吸収帯持つ
２− （５−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−
フェニル−１）１−１．２．４−トリアン−ルー３−イ
ル）−酢酸エチルエステルが得られる。 （ｄ） ２− （５−Ｎ −ｔ−ブトキシカルボニルア
ミノ−１−フェニル−ＩＨ−１，２，４−）リアゾール
−３−イル）−２−オキソ酢酸エチルエステル 出発８質としてジオキサン２９〇−中の２−（５−Ｎ−
ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−フェニル−１）１
−１．２．４− ）リアゾール−３−イル）−酢酸エチ
ルエステル１５．３ ｆ （４３，８ミリモル）および
二酸化セレン１２．９ｆを使って例２（Ｃ）と同様の方
法を行えば、Ｒｆ値０．２０ （シリカゲル、トルエン
／酢酸エチル１：１）の鴫の化合物が得られる。ＩＲス
ペクトル（塩化メチレン） ： １７４０．１７０５ｃ
Ｉｒ’ｃ特性１＆４Ｓｌ。 （ｅ） ２− （５−アミノ−１−フェニル−Ｉ Ｈ−
１ｔ２．４− ）リアゾール−３−イル）−２−メトキ
シイミノ酢酸エチルエステル 出発物質として９５チエタノール９０！ｌ中の２−（５
−Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニルアミノ−１−フェニル−
１）１−１．２．４− ）リアゾール−３−イル）−２
−オキソ酢酸エチルエステル８．７５ ｆ（２４，２５
ミリモル）、メトキシアミンｔｉｉｉ酸珈２．５５ｆお
よびピリジン２．７−を使って例２（ｄ）と同様の方法
を行えば、Ｒ４１１０，７５（シリカゲル、クロロホル
ム／メタノール／氷酢酸８５：１２：３）の題の化合物
が得られる。ＩＲスペクトル（４化メチレン） ： ３
４００．１７３５．１０５０；’ｍｌ−’に特性吸収帯
。 （ｆ） ２− （５−アミノ−１−フェニル−１）１−
１゜２．４− ）リアゾール−３−イル）−２−メトキ
シイミノ酢酸 出発物質として水３５闘と９５多エタノール８５耐との
中の２−（５−アミノ−１−フェニル−ＩＨ−１，２，
４−トリアゾール−３−イル）−２−メトキシイミノ酢
酸エチルエステル４．Ｏｆ （１３，８３ミリモル）お
よび水酸化カリウム４．５ｔを使って例２（ｅ）と同様
の方法を行えば、Ｒｆ値０．２５ （シリカゲル、１ｅ
ｅ−ブタノール／氷酢酸／水６７ ： １０：２３）の
題の化合物が得られる。ＩＲスペクトル（ヌジ：１−
＃ ） ： ３５００．３３３０ 、 １６００ 、
１０３５ｃｓｔ−’に特性吸収帯。 例 １９ 例１〜１８と同様の方法で、適尚な出発物質を使って以
下の化合物が製造できる。 ７β−［２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−トリアゾール−３−４ル） −２−Ｚ −メトキ
シイミノアセトアミノ）−３−（１−カルボキシメチル
−テトラゾール−５−イルチオメチル）−３−セフェム
−４−カルボン酸のジナトリウＡ４、ＩｆＬ （父ジＥ
ｌ −ル） ： ３４００ 、１７７０ 、１６０５．
１０４５ｃｍ 。 ７Ｉ／−（２−（５−アミノ−１ｉ（−１，２，４−ト
リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノ）−
３−（１−メチルナト２ゾールー５−イルチオメチル）
−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム塩、ＩＲ
（又ジョー ル） ： ３３７０ 、１７７０ｃＩＩＬ
−’。 ７／’−［２−（５−アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−）
リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセ
トアミノ）−３−（１〜カルボキンメチルテトラゾール
−５−イルチオメチルクー３−セフェム−４−カルボン
酸のジナトリウム塩、ｌ１ｌ（又ショール） ： １７
７０ 、１６１０ｗ−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１ｆ（−１，２，４−）リ
アゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセト
アミノ）−３−（４−力ルバモイルビリジニオメテル）
−３−セフェム−４−カルボキシレート、ＩＲ（又ショ
ール） ： ３４００ 、 １７６５ 、１６２０゜１
０４５ｃＩＩＬ。 ７β−（２−（５−アミノ−１）（−１，２，４−トリ
アゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセト
アミノ〕−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウム
塩、ＩＲ（又ショール） ： ３３５０．１７６５．１
６６０ 、１６０５ＣＩＬ−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１）１−１．
２．４−トリアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシイ
ミノアセトアミノ］−３−（１−メチルテトラゾール−
５−イルチオメチル）−３−セフェ五−４−カルボン酸
のナトリウム塩、ＩＲ（又ショール） ： ３４００．
１７６５ｚ−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−）リアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシイミ
ノアセトアミノ）−３−（１−カルボキシメチルテトラ
ゾール−５−イルチオメチル）−３−セフェム−４−カ
ルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（又ショール） ：
３４００ 、１７６５．１６１０ ｄ−’。 ７β−［２−（５−アミノ−１−メチル−１）１−１．
２．４− ）リアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシ
イミノアセトアミノ）−３−（’４−カルバモイルピリ
ジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキシレート
、ＩＲ（又ショール） ： ３４２５．１７７０ｃ＊
。 ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−トリアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシイミ
ノアセトアミノ〕−３−セフェム−４−カルボン酸のナ
トリウム塩、ＩＲ（又ショール）：４７７０、１６５５
ｃｔＬ−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−１，２
，４−トリアシーｔｂ−３−イｈ）−２−Ｚ−（２−カ
ルボキシ−２−プロポキシイミノ）−アセトアミノ）−
３−＜４−カルバモイルピリジニオメチル）−３−セフ
ェム−４−カルボキンレートのナトリウム塩、ＩＢ （
ヌジョール）：３３００゜１７６５．１６２０ｍ−’。 ７１１−（２−（５−アミノ−ＩＨ−１，２，４−）リ
アゾール−３−イＡ）−２−Ｚ−メトキシイミノアセト
アミノ）−３−（４−ヒドロキシメチルピリジニオメチ
ル）−３−セフェム−４−カルボキシレート、ＩＲ（ヌ
ジ−ｉ −ル） ： ３４００ 、１７６５．１１０４
０ｔｌｌ１’ ０ ７β−（２−（５−アミノ−Ｉ Ｈ−１，２，４−）リ
アゾール−３−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノアセト
アミノ〕−３−セフェム−４−カルボン敵ピバロイルオ
キシメチルエステル、Ｉｆｔ（５？、ショール） ：
１７６５．１７３５ｃｍ−’。 ４β−（２−（５−アミノ−１）１−１．２．４− ）
リアゾール−３−イル）−２−Ｚ−（２−カルボキシ−
２−プロピルイミノ）−アセトアミノコ−３−ピリジニ
オメチル−４−カルボキシレートのナトリウム編、ＩＲ
（又ショール） ： １７６５．１６２０儒−１゜ ７β−（２−（５−アミノ−１１−１−１，２，４−ト
リアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシイミノアセト
アミノ）−３−（１−メチルテトラゾール−５−イルチ
オメチル）−３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウ
ムｉ、ＩＲ（″Ｊ、ショール）：３３３０．１７６５１
ＪＩ−’。 ７β−（２−（５−アＺノー１１−１−１．２．４−ト
リアシー ルー３−イル）−２−ヒドロキシイミノアセ
トアミノ）−３−（１−カルボキシメチルテトラソール
−５−イルチオメチル）−３−セフェム−４−カルボン
酸の芽ナトリウムｆｆｌ、ＩＮ（メジョール） ： ３
３００ 、 １７６５．１２２０ｃｍ−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１−メチルスルホニル−１
１４−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−Ｚ
−メトキシイミノアセトアミノ）−３−（１−メチルテ
トラゾール−５−イルチオメチル）−３−セフェム−４
−カルボン酸のナトリウム塩、ＩＲ（又ジョーｋ ）
： ３３３０ 、１７６５．１１６０ｃｙ−’。 ７β−［２−（６−アミノ−１−メチルスルホニル−１
ｄ−１，２，４−トリアゾール−３−イＡ）−２−２−
メトキシイはノアセトアミノＪ−３−（４−カルバモイ
ルピリジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキシ
レート、ＩＲ（ヌジョール）： １７６５．１６２０
・スー１゜ ７β−（２−（５−アミノ−１−メチルスルホニル−１
ｋ（−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−２
−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−（ｌ−カルボキ
シメチルテトラゾール−５−イルチオメチル）−３−モ
ノエム−４−カルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（又シ
ョール） ： １７６５．１６２０ 、 １０４５ ｃ
ｙｉ−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１−メチルスルボニル−Ｉ
Ｈ−１，２，４−）リアゾール−ｊ−イル）−２−ヒ
ドロキシイミノアセトアミノ）−３−（ｌ−カルボキシ
メチルテトラゾ−５−イルチオメチル）−３−セフェム
−４−カルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（又ショール
） ： ３３５０．１７６７．１６２５ｍ ’。 ７β−［２−（５−アミノ−１−フェニル−１）１−１
．２．４− トリ７ゾールー ３− イル） −２−Ｚ
−メトキシイミノアセトアミノ）−３−（４−カルバモ
イルピリジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキ
シレート、ＩＲ（又ショール） ：１７６５．１０５０
Ｃ１ｌ！−’。 ７β−（２−（５−アミノ−１−フェニル−ＩＭ −１
，２，４−）リアゾール−３−イル） −２−Ｚ−メト
キシイミノアセトアミノ）−３−（１−メチルテトラゾ
ール−５−イルチオメチル）−３−セフェム−４−カル
ボン酸のナトリウム塩−Ｖ−１ＩＲ（又ジ”−ル） ：
１７６５．１６１５．１０４５ｃｍ−’。 ７／−（２−（５−アきノー１−フェニル−１１１−１
，２，４−）リアゾール−３−イｋ ） −２−Ｚ−メ
トキシイミノアセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−
３−セフェム−４−カルボン酸のナトリウＡｍ、ＩＲ（
５１シ＊−ル） ： ３３３０ 、 １７６５ｃｓｃ−
’。 ７Ｉｌ−（’２−（５−アミノ−１−フェニル−１）１
−１．２．４− ）リアゾール−３−イル）−２−ヒド
ロキシイミノアセトアミノ）−２−（１−カルボキシメ
チルテトラゾール−５−イルチオメチル）−３−セフェ
ム−４−カルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（又ショー
ル） ： ３３３５．１７６０ 、１６２０ｃＷＬ−’
。 ７β−（２−（５’−アミノ−１−カルボキシメチル−
１）１−１．２．４−トリアゾール−３−イル）−２−
２−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−（１−メチル
テトラゾール−５−イルチオメチル）−３−セフェム−
４−カルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（又ショール）
： ３３５０．１７６５ ｃｙｉ−’。 ７＃−［２−（５−アミノ−１−カルボキシメチル−１
）１−１．２．４− トリアゾール−３−イル）−２−
２−メトキシイミノアセトアミノ〕−３−（１−カルボ
キシメチルテトラゾール−５−イルチオメチル）−３−
セフェム−４−カルボン酸のトリナトリウム塩、ＩＲ（
又ショール） ： ３３００．１７６５０ｍ１ 。 ７β−（２−（５−アミノ−１−カルボキシメチル−Ｉ
Ｈ−１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２−２
−メトキシイミノアセトアミノ）−３−（４−ヒドロキ
シメチルピリジニオメチル）−３−セフェム−４−カル
ボキシレートのナトリウム塩、ＩＲ（Ｘショール） ：
３３５０５１７６５．１０５０イ１゜７β−（２−（
５−アミノ−１−カルボキシメチル−Ｉ Ｈ−１，２，
４−トリアゾール−３−イル）−２−ヒドロキシイミノ
アセトアミノ〕−３−アセトキシメチル−３−セフェム
−４−カルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（又ショール
３ ： １７６５．１７３５ｍ 。 ７１Ｉ−（２−（５−アミノ−１−カルボキシメチル−
１ｔｌ −１，２，４−トリアゾール−３−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセドアきノ）−３−（ｌ−メチル
テトラゾール−５−イルチオメチル）−３−セフェム−
４−カルボン酸のジナトリウム塩、ＩＲ（Ｘショール）
： １７６５．１６２０ａｌＬ−’ 。 ７／−（２−（５−アミノ−１−アセチル−１）１−１
．２．４− ）リアゾール−３−イル）−２−ヒドロキ
シイミノアセトアミノ〕−３−アセトキクメチル−３−
セフェム−４−１フルポン酸のナトリウム塩、ＩＲ（又
ショール） ： １７６５．１７３５．１６３０ｃＩＬ
。 例 ２０ 活性成分例えば７β−［２−（５−アミノ−１−メチル
−１）１−１．２．４−トリアン−ルー３−イル）−２
−Ｚ−メトキシイミノアセトアミノ］−２−（４−カル
バモイルピリジ、ニオメチル）−３−セフェム−４−カ
ルホキシレー） ０．５ ｆを各各含有するアンプルま
たは渠びんは、列えば以下のよう堪ユして調製できる。 組 成（アンプルまたは桑びん１個当たり）活性性分
０．５ｆ マンニトール ０．０５ｆ活性成分および
マンニトールの殺菌水溶液を無明条件の下、５−のアン
グルまたは５！ＩＯの薬びん１；充てんし、そしてこれ
らを常閉して試験する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １１１式 〔本式において、ｎは０または１を表わし、Ｒ１は水素
原子、エーテル化またはエステル化されたヒドロオキシ
ル基、エーテル化されたメルカプト基・ホル２ル基また
は基−ＯＨ，−Ｒ，（式中Ｒ，Ｉ！は水素原子、官能的
に変性されているかまたはされてｘないカルボキシル基
、まえはアシルオキシ基、ヒドロキシル基、ヘテロ環チ
オ基またはアンモニオ基を表わす）を表わし、Ｒ３は保
護されているかま九はされていなしカルボキシル基を表
わし、Ｈ４は水素原子ま九は低級アルコキシル基を表わ
し、与は基−ＯＨ，−、−Ｇ（日）−または−〇（＝Ｎ
−０−ｆ（ｓ）−（式中Ｒａｔ’ｉ水素原子、ｒｔｍさ
れているかま九は［１１侠されていない低級アルキル基
またはシクロアルキル基、シクロアルケニル基、低級ア
ルケニル基、もしくはＩＪ −４遺されているかまたは
されていないカルバモイル基を表わす）を表わし、Ｈ６
は１：素原子、ｔｌを換されているかまたは１１懺され
ていない炭化水素基、有機スルホニル基、またはアシル
基を表わし、Ａｍは＋１換されているかまたは置換され
ていないアミノ基を表わす〕 で表わされる７β−アミノトリアゾリルアセトアミノ−
６−セフェム−４−カルボン酸化合物、および造塩性基
を有するか＼る化合物の塩。 （２）式（１）においてｎは０または１を表わし、Ｒ１
は水素原子、低級アルコキシル基、フェニル−低級アル
コキシル基、ハロゲン原子、低級アルカノイルオキシ基
、低級アルカンスルホニルオキシ基、アレーンスルホニ
ルオΦシ基、またはヘテｐ環−チオ基（九ソしそのへテ
ロ環基はチアシアシリ、ル基、オキサジアゾリル基、ト
リアゾリル基ま九はテトラゾリル基であって、その各々
は環炭素原子を介してチオ基に結合しており、ジー低級
−アルキルアミノ基か、カルボキシル基かまたはスルホ
基かを置換基として含有するかまたは含有しない低級ア
ルキル基によって置換されているかまたは置換されてい
ないものとする）を表わすか、またはＲ１は４−０Ｈａ
−Ｒａ Ｃ式中Ｒ２は水素原子、ヒドロキシル基、カル
ボキシル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルカ
ノイルオギシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−低級アル
キルカルバモイルオキシ基、ヘテロ環−チオ基（たソし
そのへテロ環基はポ炭素原子を介してチオ基に結合し、
１−４個の墳窒素原子を有し、さらに酸素および硫黄原
子から成る群から選ばれる別の環へテロ原子を有するか
または有しないモノ複ｌＡ環式基を表わすものとする）
例えばトリアゾリルチオ基、テトラゾリルチオ基、チア
ゾリルチオ基、チアトリアゾリルチオ基、チアジアゾリ
ルチオ基、オキサゾリルチオ基、オキサジアゾリルチオ
基、ピリダジニルチオ／ｋ ｓ ピリミジニルチオ基ま
たはトリアジニルチオ基を表わし、こ＼で複素環は部分
的に飽和されているかまたは飽和されておらず、そし−
で（またハ）低級アルキル基か、カルボキシル基、スル
ホ基、ジー低級アルキルアミノ基、低級アルカノイルア
ミノ基、ヒドロキシル基またはハロゲン原子によってｔ
ｔ’Ａされた低級アルキル基か、シクロアルキル基か、
フェニル基か、ベンジル基か、カルボキシル基か、カル
バモイル基か、またはＮ−低級アルキルカルバモイル裾
かによってＩｔ侯されているかまたは置換されていない
ものとするか、またはＲ２はアン七ニオ梧、例えばトリ
低級アルキルアンモニオ基、またはピラゾリオ基、トリ
アゾリル基、ピリジニオ基、ピリミジニオ基、ピリダシ
ニオ基、チアシリニオ基またはキノリニオ基であってそ
の各々は低級アルキル基、ヒドロ中シー低級アルギル基
、カルボキシ−低級アルキル基、スルホ−低級アルキル
基、カルボキシル基、カルバモイル５．Ｎ−低級アルキ
ルカルバモイル基、ハロゲン原子、スルホ基、低級アル
カノイル基、ヒドロキシル基またはシアノ基によって置
換すれているかｆｔｍさｎていないものを表わし、Ｒ３
はカルボキシル基ま九は生理学的に開裂しうる形にエス
テル化されたカルボキシル基を表わＬ／％ ’４は水素
原子または低級アルコキシル基を犬わし、Ａは基−０）
！２−、−Ｕ（却）−または−〇（：Ｎ−０−Ｒ５）−
（式中においてＲ８は水素原子、低級アルキル基、シク
ロアルキル基、フェニル基か低級アルコキシル基かカル
ボキシル基かアミノ基かジ低級アルキルアミノ基かによ
ってｌ１１換され九低級アルキル基またはシクロアルキ
ル基、シクロアルケニル基、低級アルケニル基、カルバ
モイル基、またはＮ−低級アルキルカルバモイル基を表
わす）を表わし、Ｒ６は水素原子、低級アルギル基、ヒ
ドロキシル基か低級アルコキシル基かカルボキシル基か
低級アルコキシカルボニル縞かアミノ基か低級アルキル
アミノ基かジ低級アルギルアミノ基かカルバモイル基か
ハロゲン原子かスルホ基か低級アルギルチオ基かシアノ
基かまたはアミンスルフィニル基かによってｍｓされた
低級アルキル基、低級アルケニル基、シクロアルキル基
、シクロアルケニル基、フェニル基、フェニル低級アル
キル基、ｍｅアルキルスルホニル基、それぞれ低級アル
キル基かハロゲン原子かによって置換されているかまた
はｒｊｈｆＡされＣいないフェニルスルホニル基または
フェニル低級プルキルスルホニル基、低級アルカノイル
基、低級アルコキシカルボニル基、カルノ（モイル基、
またはＮ−低級アルキルカルノ（モイル基を衣わし、Ａ
ｍはアミノ、４またはジー低級アルキルアミノ−低級ア
ルキリデンアミノ基を表わす、１１１項（１）に記載の
化合物および造塩性基を有するか＼る化合物の塩、特に
４学的に許容しうる塩。 （３）式（１）においてｎは０−２九は１を表わし、Ｈ
ｌは水淵原子、低級アルコキシル峡例えばメトキシル基
、フェニル−低級アルコキシル、！Ｉｉｉ ｙＩＪ工ば
ベンジルオキシ基、ハロゲン原子例えば塩素原子、ヘテ
ロ壌−チオ基であって七のへテロ環基はチアジアゾリル
基例えば１，３．４−チアジアゾル−２−イル基、また
はオキサジアゾリルチオ基ば１゜６．４−オキサジアゾ
ル−２−イル基を表わし、その谷々は墳炭素原子全介し
てチオ基に結合されており、低級アルキル基例えばメチ
ル基によって置換されているかまたは置換されていない
ものとするものを表わすか、またはｌ（ｌは基−０Ｈ２
−Ｒ２（式中Ｒ２は水素原子、低級アルカノイルオキシ
基例えばアセトキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−低
級アルキルカルバモイルオキシ基例えばＮ−メチルカル
バモイルオキシ基、低級アルキル基例えばメチル基か、
カルボキシ−低級アルキル基例えばカルボキシメチル基
または２−カルボキシエチル基カ、スルホ低級アルキル
基例、ｔ ハスルホメテル基または２−スルホエチル基
か、ジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基例えば２−
ジメチルアミンエチル基か、または低級アルカノイルア
ミノ基例えばアセトアミノ基かによって置換されている
かまたは置換されていないテトラゾルー５−イルチオ基
、低級アルキル基例えばメチル基か、カルボキシ−低級
アルキル基例えばカルボキシエチル基または２−カルボ
キシエチル基かによって置換されているかまたは「ＩＩ
ｔ換されていない１，３゜４−テアジアゾル−２−イル
チオ基、低級アルキル基例えばメチル基によって＋ｔ
ＱＡされているかまたは置換されていない１．３．４−
オキサジアゾル−２−イルチオ基、低級アルキル基例え
ばメチル基かカルボキシ低級アルキル基例えばカルボキ
シメチル基かによって１萌されているかまたは置換され
ていない１，２．４−）リアゾル−６−イルチオ基、ヒ
ドロキシル基によって置換されているかまたはｆｉｌｆ
換されていないピリダジン−６−イルチオ基、またはヒ
ドロキシル基によって置換されているかまたは置換され
ていないビリミビンー２−イルチオ基を表わすか、もし
くはＲ２はトリ低級アルキルアンモニオ基、例えばトリ
メチル−またはトリエチル−アンモニオ基、低級アルキ
ル基例えばメチル基によってＮ−置換された１、２゜６
−ドリアゾリオ基、低級アルキル４ＮＪえばメチル基か
カルボキシ低級アルキル基例えばカルボキシメチル基か
によってＮ−１ｔ侯されたピラゾリオ基、または低級ア
ルキル基丙えばメチル基か、カルボキシル基か、カルバ
モイル基か、ヒドロキシ低級アルキル基例えばヒドロキ
シメチル壱が、カルボキシ低級アルキル基例えばカルボ
キシメチル基または２−カルボキシエチル基か、スルホ
低級アルキル基例えばスルホメチル基か、ハロゲン原子
例えば臭素原子または塩素原子か、またはヒドロキシル
基かによって１ｉ挾されているかまたは置換されていな
いピリジニオ基を表わし、Ｒ５はカルボキシル基または
生理学的に開裂しうる形にエステル化されたカルボキシ
ル基１例えば低級アルカノイルオキシメトキシカルボニ
ル基、例えばピ／＜Ｏイルオキシ−またはアセトキシ−
メトキシカルボニル基、２−フタリジルオキシカルボニ
ル基、または低級アルコキシカルボニルオキシメトキシ
カルホニル基、例えばエトキシカルボニルオキシメトキ
シカルボニル基を表わし、Ｒ４は水素原子を表わすか、
またはＡが一〇Ｈ２−基であるときは好ましくはメトキ
シル基を表わし、Ａは基−０Ｈ２−１−ｏ（ゴ）−また
は−〇（−一〇−ド５）−（式中Ｒδは水素原子、低級
アルキル基例えばメチル基、フェニル低級アルキル基例
えばベンジル基、カルボキシ低級アルキル基例えば２−
カルボギン−２−プロピル礪、カルボキシシクロアルキ
ル基例えば１−カルボキシ−１−シクロプロピル本、カ
ルバモイル五Ｎ−低級アル午ルカルバモイル基列えばＮ
−メチルカルバモイル基、または低級アルケニル基例え
ばアリル基を表わす）を表わし、こ＼で梧−０（＝：Ｎ
−０−Ｆｌ、）−は好ましくはシン（または２）配；ｄ
Ｋあシ、−Ａ−は１，２．４−）リアゾール環の６−位
に結合しているものとし、Ｒ６は水素１以子、低級アル
キル基例えばメチル基、カルボキシ低級アルキル基例え
ばカルボキシメチル基または２−カルボキシエチル基、
ジ低級アルキルアミノ−低級アルキル基例えばジメチル
アミンエチル基、低級アルコΦ７カルボニルｉ１３’Ｑ
えばメトキシ−またはエトキシ−カルボニル塙、カルバ
モイル基、低級アルケニル基例えばアリル基、フェニル
基、フェニル−低級アルキル基ｒｌえばベンジルｇｔた
はジフェニルメチル基、または低級アルキルスルホニル
基列えばメチルスにホニル基を表わし、そしてＡｍ ｒ
１１アミノ基を表わす、＋３σ項（１）に記載の化合柳
２よび遺ｊ性基を有する゛か＼る化合物の壇、時に薬学
的に許容し得る塩。 （４） 式（１）に＆イてｎはｏｔ−、ａわし、Ｒ１
は水素原子、低級アルコキシル基例えばメトキシル基、
または基−０Ｈ２−Ｒ２（式中１（２は低級アルカノイ
ルオキシ基例えばアセトキシ基、１−位において低ｅ７
＃キル基例えばメチル基か、カルボキシ−低級アルキル
基例えばカルボキシメチル基または２−カルボキシエチ
ル基か、スルホ−低級アルキル基例えばスルホメチル基
または２−スルホエチル基か、またはジ低級アルキルア
ミノ−低級アルキル基例えば２−ジメチルアミノエチル
基かによって１ｉ換された１Ｈ−テトラゾルー５−イル
チオ叡２−位において低級アルキル基例えばメチル基か
カルボ争シー低級アルキル基例えばカルボキシメチル基
かによって置換された１、３．４−チアジアゾル−５−
イルチオ基、２−低級アルキルピラゾリオ基例えば２−
メチルビラゾリオ基、６−低級アルキル−１−（１，２
１３−トリアゾリオ）基例えば３−メチル−１−（１，
２，３−トリアゾリオ）基、カルボキシピリジニオ基圀
］工ば３−または４−カルボキシピリジニオ函、カルバ
モイルピリジニオ基例えば３−ｆ＆は４−カルバモイル
ピリジニオ基、ヒドロキシ−ｔｈｉアルキルピリジニオ
基、例えば４−ヒドロΦシーメチルピリジニオ基、カル
ボキシ−低級アルキルピリジニオ糸列えば６−カルボキ
ンメチルピリジニオ裾、マタはハロピリジニオ基例えば
６−または４−ブロモピリジニオ基を表わす）を表わし
、Ｒ３はカルボキシルｋまたは低級アルカノイルオキシ
メトキシカルボニル基例えばピパロイルオキシメト午ジ
カルボニル基、または低級アルコキシカルボニルオキシ
メトキシカルボニル基例えばエトキシカルボニルオキシ
メト’Ｐジカルボニル基を表わし、Ｆ（４は水素原子を
表わすかまたは好塘しくけＡが一０Ｈ２−基であるとき
はメトキシル基を表わし、Ａは基−０Ｈ２−または−Ｃ
（ヨー０−Ｆ’３）−（式中Ｈ５は水素原子、低級アル
キル基例えばメチル基、カルボキシ−低級アルキル基例
えば２−カルボキシ−２−プロピル基、カルバモイル基
またはＮ−低級アルキルカルバモイル基例えばＮ−メチ
ルカルバモイル基を欄わし、こ＼で基−０（＝ｊＪ−０
−Ｈ５）はシン（または王）配置にあり、−Ａｍは１，
２．４ トリアゾール環の６−位に結合しているもの
とし、Ｈ６は水素原子、低級アルキル基例えばメチル基
、カルボキシ低級アルキル基例えばカルボキシメチル基
ま九は２−カルボキシエチル基、ジ低級アルキルアミノ
−低級アルキル基例えば２−ジメチルアミノエチル基、
またはフェニル−低級アルキル基例えばベンジル基また
はジフェニルメチル基を表わし、そしてＡｍはアミノ基
を表わす、前項（１）に記載の化合物および造塩性基を
有するか〜る化合物の塩、荷に薬学的に許容し得る塩。 （５）７β−［２−（５−アミノ−１−メチル−ＩＨ−
１＊２ｔ４−）リアゾル−６−イル）゛２−２−メトキ
シイミノアセトアミノ）−！１−（４−ヒドロキシメチ
ルピリジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボキシ
ラードである。前ａｉｈｌ＞に記載の化合物２よびその
薬学的に許容し得る壇・（６）７β−（２−（５−アミ
ノ−１−カルボキシメチル−ＩＨ−１１２１４−トリア
ゾル−６−イル） −２−Ｚ−メトキシイミノアセトア
ミノ〕−６−アセトキシメチル−６−セフェム−４−カ
ルボン酸である、前項（１）に記載の化合グばよびその
薬学的に許ｄし得る塩。 １７）７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１）’
−１＋ ２ ＋ ４− トリアゾル−６−イル）−２
−２−メトキシイミノアセトアミノ〕−６−セフェム−
４−カルボン酸ピパロイルオキシメチルエステルである
、前項（１）に記載の化合物およびその薬学的に許容し
得る塩。 、８）７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１Ｈ−
１＊ ２ ｔ ４−トリアゾル−６−イル）−アセトア
ミノ〕−３−アセトキシメチル−６−セフェム−４−カ
ルボン酸である、前項（１）に記載の化合物およびその
薬学的に許容し得る塩。 （９）７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１１（
−１ｔ２，４−トリアゾル−６−イル）−２−２−メト
キシイミノアセトアミノ〕−６−アセトキシメチル−６
−セフェム−４−カルボン酸である、前項＋Ｉｌに記載
の化合づおよびその薬学的に許容し得る塩。 Ｑ（１７β−［２−（５−アミノ−１−メチル−１Ｈ−
１１２，４−トリアゾル−６−イル）−２−２−メトキ
シイミノアセトアミノ）−３−（１−メチルテトラゾル
ー５−イルチオメチル）−６゜セフェム−４−カルボン
酸である、前項（１）に記載の化合物およびその薬学的
に許容し得る塩。 ＱＤ ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１）
１−１ｔ２，４−トリアゾル−３−イル）−２−３−メ
トキシイミノアセトアミノ）−３−（４−カルバモイル
ピリジニオメチル）−３−セフェム−４−カルボ午シラ
ートである、前項（１）に記載の化合冊およびその薬学
的に許容し得る塩。 Ｇ３７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１Ｈ−１
ｔ２ｔ４−）リアゾル−６−イル）−２−２−メトキシ
イミノアセトアミノ〕−６−セフェムー４−カルボン嘴
でろる、前項（１）に記載の化合物およびその薬学的に
許容し得る塩。 ｕ７β−（２−（５−アミノ−１−メチル−１Ｈ−１，
２，４−トリアゾル−６−イル）−２−ヒドロキシ１ミ
ノアセトアミノ〕−６−アセトキシメチル−６−セフェ
ム−４−カルボ／はである、ｒ＜ｔ１項（１）に記載の
化合冊２よびその薬学的に許容し得る瓜。 Ｏ尋 ７β−（２−（５−アミノ−１’ −１１２１４
−トリアゾル−６−イル）−２−Ｚ−メトキシイミノア
セトアミノ〕−６−アセトキシメチル−６−セフェム−
４−カルボン酸である、前項（１）に記載の化合物およ
びその４字的に許容し得る塩。 （旧 前項（１）に記載の式（１）で表わされる化合物
または造塩性基を有するか＼る化合冊の薬学的に許容し
得る塩を含有する４′ｆ−的製剤。 ａｏ 前項（１）に記載の式（Ｄで衣わされる化合物
または造塩性基を有するか＼る化合物の薬学的に許容し
得る塩を人体またはｄ器体の細菌感染の治療に使用する
方法。 （Ｊ７）ａ）式 （本式においてｎ％ｌ（ｌ、Ｒ３およびＲ４は恢に式■
において示す意味を有し、７β−アミノ基はアシル化反
応し得る基によって置換されているかまたハｌｔ換され
ておらず、場合にょシ存在する官＾ヒ基は、保傾されて
いてもよいものとする）で貞わされる化合物をアシル化
剤と反応させてアシル化して式 （本式においてＡ％Ｒ６、およびＡｍは後に式１におい
て示す意味を有し、存在する官能基は保護されているか
またはされていないものとする）で表わされるカルボン
酸のアシル基を導入するが、まｒ１７） たは ｂ）後述の式（１）で欄わされ式中に２いてＲ工は式−
０Ｈ２−Ｒ２（式中Ｒ２はアンモニオ壜またはへテロシ
クリルチオ基を表わす）で表わされる基を表わす化合切
の製造のために、式 （本式において”％’３％”４、Ａ、Ｈ６５，−よびＡ
ｍｒｉ後述の式（１）において示す意味を甘し、Ｈ１２
は求核性反応によって置換することができる基を表わし
場合により存在する官能基は保護された形にあってもよ
いものとする） で表わされる化合物を弐Ｈ２−Ｈで表わされるメルカプ
タンまたは第三級アミンと反応させるか、または Ｃ）咬述の式（Ｉ）で表わされ式中においてＨ４は低級
アルコキシル基を表わす化合勿の製造のために、式 Ｒ３ （本式において、ｎｓ Ｊｓ’３、Ａ、Ｉ（、およびＡ
ｍは後述の式（１）において示す意味をイしその官能基
は好ましくは保ＦＩ！ｉＡされているものとする）で表
わされる化合物の７ａ−位に低級アルコキシル基を導入
するか、または ｄ）式 （本式においてｎ、Ｅｔｌ、ｌ（３、Ｈ４、Ａ、Ｆｌ、
およびＡｍは後述の式（１）において示す意味を有し式
中の場合により存在するぎ吐糸は保護され丸形にめりて
もよいものとする） で表わされる２−セフェム化合づを異性化して対応する
６−セフェム化合切を生成させるか、または ｅ）式（１）で表わされ式中入は−ａ −Ｕ（＝Ｎ−０
−［（５）−を表わす化合物のｍ遺のために、式 （本式においてｎ、Ｒ１，Ｈ３、Ｈ４、ｔ’６ ’ｅよ
びＡｍは後述の式（１）において示す意味を有し、式中
の場合によシ存在する官能基は保護された形にあっても
よいものとする） で威わされる化合物を弐Ｈ２Ｎ−０−Ｈδで表わされる
ヒドロキシルアミンと反応させるか、またはｆ）式（１
）で表わされ式中Ａは基−Ｃ（ヨー０−Ｒ，）−を表わ
し、こ＼でＦｆｓＶｉｔｉｔ線されているかまたは１侠
されていない低級アルキル基またはシクロアルキル基、
シクロアルケニル基、低級フルケニル基または、Ｎ−置
換されているかまたはＮ−置換されていないカルバモイ
ル基を表わす化合切の製造のために、式 （本式においてｎｓ Ｒ１ｓ ’３ ｓ ’４ 、Ｒ６
およびＡｍは後述の式（１）において示す意味を有し、
式中の場合により存在する官能基は保護された形にあっ
てもよいものとする） で表わされる化合物を基Ｒ５を導入する剤によって処理
するか、または ｇ）式（１）で表わされ式中Ａは基−０（＝＝Ｎ−０−
Ｅ１５）を表わしこ＼でＲ５は水素原子を表わす化合物
の製造のために、式 （本式においてｎｓ ’１ 、’３ 、’４ ｓ６−よ
びＡｍは△ 後述の式Ｉにおいて示す、−味を有し、式中の場合によ
り存在する官能基は保護された形にあってもよいものと
する） で表わされる化合物をニトロソ化削によって処理するか
、または ｈ）式（１）で表わされ式中Ｒ３は保護されたカルボキ
シル基を表わす化合物の製１青のために、式（本式にお
いてｎ、Ｒ１、［（４、Ａ、Ｅ（６−６−よびＡｍは後
述の式（１）において示す１依＃、を有し、式中の場合
によシ存在する官１目基は保−された形にあってもよい
ものとする） で猥わされる化合物において４−カルボキシル基を転化
してｔＭｍされたカルボキシル基にするか、または り 式（１）で表わされ式中Ａは基−０Ｈ２−を表わし
Ａｍはアミノ基を表わす化合物の製造のために、式 （４一式においてＲ〒はエーテル化されたヒドロキシル
基を表わし、ｎ、Ｒ１、Ｒ３およびＨ４は後述の式（１
）において示す意味を有し１式中の基＋（１および（ま
たは） Ｏｓ中に４会によシ存在する官能基は保護され
た形にあってもよいものとする）でべわされる化合物を
式１（、−ＭＨ−ＭＨ２（ＸＩ）で表わされるヒドラジ
ンと反応させるか、またはｊ）式（１）で表わされ式中
８６は置！Ａ嘔れているかまたはｒｔ遺さｎてぃない炭
化水素基、イ礪スルホニル基、またはアシル基を衣ノ２
す化合榎の調造のために、式 （本式にひいてｎ ｓ Ｒ１、’ ３ 、’ ！、Ａお
よびＡｍは後述の式（Ｉ）において示す、琢味を汗し、
式中の官ｆＩ目基はもし必要ならば保護された形にある
ものとする） で表わされる化合物に）＆Ｈｅ’に導入し、そして、必
要ならば、本発明によって得られる式（夏）で操わされ
る化合物を式（１）で表わされる別の化合物に転化し、
そして（または）、必要ならば、本発明によって得られ
る式（Ｉ）で表わされ式中ｎ Ｆｉ、０を表わす化合物
を式（Ｉ）で表わされ式中ｎは１を民わす化合物に転化
するか、または式（１）で表わされ式中ｎは１を表わす
化合物を式（りで表わされ式中ｎは０を表わす化合物に
転化し、そして（２４） （または）式（１）で表わされる化合物において、保護
された形で存在する官能基を遊離の官能基に転化し、そ
して（ｔたは）生成した塩を式（Ｉ）で辰わされる遊離
の化合物または別の塩に転化し、そして（ｉたは）生成
した式（１）で責わされる造塩性基を有する遊離の化合
物を塩に転化し、そして（または）生成し九式（１）で
表わされる化合物の異性体混合吻を個々の異性体に分離
することを特徴とする、式（１） 〔本式においてｎは０または１を表わし、Ｉ（１は水素
原子、エーテル化またはエステル化されたヒドロキシル
基、エーテル化されたメルカプト秀、ホルミル基または
基−０Ｈ２−Ｒ２−（式中Ｒ２は水素原子、′ぼ能的に
変性されているかまたは変性されていないカルボキシル
基、またはアシルオキシ基、ヒドロキシル基、ヘテロ環
−チオ基またはアンモニオ基を表わす）を表わし、Ｈ３
は１呆護σれているかまたはされていないカルボキシル
基を表わし、Ｒ４は水素原子または低級アルコキシル基
を表わし、Ａは基−ＯＨ，−、−〇（式）−または−〇
（：Ｎ−０−Ｒ，）−（式中Ｒ５は水素原子、置換され
ているかまたは１１ｔ！、！れていない低級アルキル基
またはシクロアル中ル基、シクロアルケニル基、低級ア
ルケニル専またはに一置換されているかまたはされてい
ないカルバモイル基を表わす）を表わし、Ｒ６は水素原
子、置換されているかまたは１ｄ、換されていない炭化
水素基、有機スルホニル届、またはアシル基を表わし、
セしてＡｍＦｉ置換されているか箇たはｖｔ１１ｉ！さ
れていないアミノ基を表わす〕で表わされる化合物、お
よび造塩性壱を有するか＼る化合物の塩の製造方法。 ４１１９式 〔本式ｒこおいて八に基−〇ｋｌ、−、−東−０）また
は−東一一〇−Ｒｓ）−（式中１（５は水素原子、１侯
され 。 ているかまたｒｉｌ１１換されていない低級アルキル基
またはシクロアル午ル基、低級アルケニル基ま九ｒｉＭ
−置挨されているかまたはされＣいないカルバモイル基
を表わす）を表わし、ｆ（、は水素原子、１侯されてい
るかまたは＃Ｌ慎されていない炭化水素基、有機スルホ
ニル基、ま九はアシル−吉を衣わし、Ａｍ（ｉ！を遺さ
れているかまたＦｉ置満されていないアミノ基を表わす
〕 で表わされる化合資、およびアシル化反応に適するその
反応仕官−−導体〔たソし５−アミノ−１ｔ２ｔ４−ト
リアゾル−３−イル酢酸は除く。］０嗜 ａ）侵透の式
（璽）で安わされ式中Ａは基−０Ｈ２−を表わしｋｍは
アきノ屑を表わす化合力の襄雀の丸めに、式 ％式％（） （本式においてＨ８は水素原子、シアノ基または保−さ
れたカルボキシル赫を表わし、２はエーテ・ｖ化された
ヒドロキ／ル基を表わす）でべわさｎる化合資を、式）
１．−ＮＨ−ＮＨ２で六わされ式中１（６は式（璽）に
おいて示す意味を有する化合、勿と反応させ、生成した
式 （本式において８８は水素原子またはシアン、★を戎わ
す） で尺わされる化合物において水素原子またはシアノ基を
カルボキシル基で！を換するか、またはｂ）式（Ｉ［）
で表わされ、式中Ａｉよ基−ａ（＝ｏ）−を表わす化合
物の製造のために、式 （本式においてＲ６（は式（−）において示す鉱化を有
し、Ａｎｄ１ｆ４されたアミ７基を表わし、カルボキシ
ル基は保護された杉にあ、るかまたはないものとする） ｔつＱ） で表わされる化合物を酸化剤で処理するか、または ’ｃ） 式（１）で衣わサレ＆ 中Ａ ｄ 基−０Ｃ
＝ＮＯＨ）−ヲ弄わす化合物の襄雀のために、式 （本式においてＲ６は式（璽）において示す火；未を有
し、Ａｆｆｌは［１１侠されたアミノ基を戎わし、カル
ボキシル基は保護された杉にあるかまたはないものとす
る）で表、わされる化合物をニトロソ化剤によって処理
するか、または ｄ）式（１）で表わされ水中Ａｍはアミノ基を表わしＡ
は基−○Ｈ２−を表わし、たソし５−アミノ−１，２，
４−）リアゾル−６−イル酢醒を除く化合物の製造のた
めに、式 （本式においてＨ６は式（厘）にかいて示す、ｔ＋米を
イする） で表わされる化合資、またも・よそのｒＭ ’ｘマロン
改と反応きせるか、またＥよ ｅ）式（１）で表わされ式中Ａ ？ｉ ４−０（：Ｎ０
Ｒ１Ｓ）−を表わしこ＼でｆ（、は式（１）において示
す帳味を有する化合物の：＃遺のために、式 （本式において、Ｒ６およびＡｍは式雷において示す意
味を有し、カルボキシル基は１°φ護された形にあるか
またはないものとする） で表わされる化合物を式Ｈ２Ｎ−０ＲＰＩで欠わされる
とドロキシルアミンと反応させ、必要ならば、本発明に
よって得られる式（曹）で賢わされるｆヒ合物において
ｔ’４４されたアミノ基Ａｍをパｌ櫃のアミノ基、また
ぐま別の保護されたアミノ基Ａｍに法化するか、ｔたは
遊離のアきノ基Ａｍを１喧戻されたアミノ鱗Ａｍに転化
し、そして（またｒｉ）保護さｔしたカルボ中−シル基
を遊離のカルボキシル基に、またはその反応性官１１１
！−導体に転化し、そして（または入必要ならば、本発
明によって得られる式（璽）で表わされる化合物におい
て基Ｒ６を別の基Ｈ６に転化し、そして（または）生成
した式（璽）で衣わされる異性体化合物の混合吻を個々
の異性体に分離することを特徴とする、式 〔本式においてＡは基−０Ｈ２、−０（−ｏ）−または
−ａ（−一〇−Ｒａ）−（こ＼で８６は水素原子、１を
侯されているかまたは１関されていない低級アルキル基
ま之はシクロアルキル基、シクロアルケニル基、低級ア
ルケニル基またはＮ−ｄ挨されているかまたはされてい
ないカルバモイル基をべゎす）を表わし、Ｈ６は水素原
子、！＃を侠されているかま九はＶＩＬ換されていない
炭化水素基、有機スルホニル基、またはアシル基を表ゎ
じ一１Ａｍｒｉ置侯されているかまたはｉ＋１侠さ１１
ていないアミノ基を表わす〕で衣わされる化合物、およ
びアシル化に４するその反応性官舵酵導体の展は方法□
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH4668/812 | 1981-07-16 | ||
| CH466881 | 1981-07-16 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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- 1982-07-16 JP JP57123070A patent/JPS5823697A/ja active Pending
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