JPS5823675B2 - semiconductor storage device - Google Patents

semiconductor storage device

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JPS5823675B2
JPS5823675B2 JP54167979A JP16797979A JPS5823675B2 JP S5823675 B2 JPS5823675 B2 JP S5823675B2 JP 54167979 A JP54167979 A JP 54167979A JP 16797979 A JP16797979 A JP 16797979A JP S5823675 B2 JPS5823675 B2 JP S5823675B2
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JP
Japan
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read
line
lines
data line
semiconductor memory
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JP54167979A
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JPS5690489A (en
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恒夫 真野
信明 家田
順一 井上
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C7/00Arrangements for writing information into, or reading information out from, a digital store

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  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は記憶容量が大きく且つ読出し動作速度の速い半
導体記憶装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor memory device with a large storage capacity and a fast read operation speed.

半導体記憶装置は益々大容量化が図られると共に、高速
性が要求されている。
Semiconductor memory devices are becoming increasingly larger in capacity and are required to be faster.

半導体記憶装置はマ) IJクス状に配置された記憶単
位をデータ線に接続し、デコーダ信号によって特定のデ
ータ線と入出力共通線との間に電流経路を形成すること
によって特定の記憶単位のアクセス(読出し/書込み)
を行っている。
Semiconductor storage devices connect memory units arranged in an IJ box shape to data lines, and form a current path between a specific data line and an input/output common line using a decoder signal, thereby controlling a specific memory unit. Access (read/write)
It is carried out.

読出し時についてみると、この電流経路の形成によって
、記憶単位の状態に応じて記憶単位のトランジスタ(例
えばMOSFET)でデータ線と入出力共通線の寄生容
量を充放電する形で入出力共通線の電位を変化させる。
During reading, by forming this current path, the parasitic capacitance of the data line and the input/output common line is charged and discharged by the transistor (for example, MOSFET) of the storage unit according to the state of the storage unit, and the input/output common line is Change the potential.

このために、大容量化に伴なって入出力共通線の寄生容
量が増大し、入出力共通線の電位変化が緩慢となり、高
速化をはばむ原因となっている。
For this reason, as the capacitance increases, the parasitic capacitance of the input/output common line increases, and the change in potential of the input/output common line slows down, which is a cause of hindering speed-up.

第1図はこの種の従来の半導体記憶装置を示す。FIG. 1 shows this type of conventional semiconductor memory device.

こ\で1はmXn個の記憶単位1′からなるメモリアレ
イ、2′はm個の記憶単位11が接続されているデータ
線、31はn個の記憶単位1′が接続されているワード
線、2及び3はデコーダ回路、γはデータ線2′と入出
力共通線5をデコーダ回路2から与えられるデコード信
号Aiによって選択的に接続するためのMOSFET、
4は書込制御回路、6は入出力共通線5の電圧変化を拡
大する増幅器、7は出力端子8に出力信号を与えるため
のバッファ、9は増幅器6を駆動するためのクロックψ
1を発生する回路である。
Here, 1 is a memory array consisting of mXn memory units 1', 2' is a data line to which m memory units 11 are connected, and 31 is a word line to which n memory units 1' are connected. , 2 and 3 are decoder circuits; γ is a MOSFET for selectively connecting the data line 2' and the input/output common line 5 by a decode signal Ai given from the decoder circuit 2;
4 is a write control circuit, 6 is an amplifier that magnifies the voltage change on the input/output common line 5, 7 is a buffer for giving an output signal to the output terminal 8, and 9 is a clock ψ for driving the amplifier 6.
This is a circuit that generates 1.

また第2図は記憶単位1′の一例で、10は電源に接続
される端子であり、11〜15はMOSFETである。
Further, FIG. 2 shows an example of the memory unit 1', in which 10 is a terminal connected to a power supply, and 11 to 15 are MOSFETs.

この装置において、記憶単位1′に対し情報の取り出し
を行う場合には、まず特定のワード線3′をデコーダ回
路3で駆動すると共に、特定のMO8FETγをデコー
ダ回路2から与えられるデコード信号Aiによって導通
状。
In this device, when retrieving information from a memory unit 1', first a specific word line 3' is driven by a decoder circuit 3, and a specific MO8FET γ is made conductive by a decode signal Ai given from a decoder circuit 2. condition.

態とする。state.

この状態になると、入出力共通線5の電位が、選択され
た記憶単位1′の状態に応じて変化する。
In this state, the potential of the input/output common line 5 changes depending on the state of the selected memory unit 1'.

この電位変化はMO8FETγ、15,13又は11に
よって入出力共通線5の寄生容量を充放電する形で起こ
る。
This potential change occurs in the form of charging and discharging the parasitic capacitance of the input/output common line 5 by the MO8FET γ, 15, 13, or 11.

ところで、従来のこの種装置では、大容量化に伴なって
入出力共通線5の寄生容量の増大が大きく、データ線の
寄生容量に加えてこの大きな寄生容量を記憶単位内の限
られた大きさのMOSFETで充放電させなげればなら
ない。
By the way, in conventional devices of this kind, as the capacity increases, the parasitic capacitance of the input/output common line 5 increases significantly, and this large parasitic capacitance is stored in a limited size within the storage unit in addition to the parasitic capacitance of the data line. The battery must be charged and discharged using the MOSFET.

即ち、読出しに当って入出力共通線5の電位。変化が緩
慢で、読出し動作を速くできないという欠点がある。
That is, the potential of the input/output common line 5 during reading. The disadvantage is that the change is slow and the read operation cannot be performed quickly.

あるいはこの点に鑑みて、入出力共通線5の電位変化を
増幅するための増幅器6及びその駆動クロックチ1発生
器9を設けなげればならないという欠点がある。
Alternatively, in view of this point, there is a drawback that an amplifier 6 and its driving clock generator 9 must be provided for amplifying the potential change of the input/output common line 5.

さらに増幅器6を設け。た場合においても、クロックψ
1の発生タイミングを速くして読出し動作を速くしよう
とすると、入出力共通線5の電位変化が増幅器6にとっ
て充分大きくない状態となり、誤動作を起こし易くなる
という欠点を持っている。
Furthermore, an amplifier 6 is provided. Even if the clock ψ
If an attempt is made to speed up the read operation by accelerating the timing of generation of 1, the potential change of the input/output common line 5 will not be large enough for the amplifier 6, resulting in a disadvantage that malfunctions are likely to occur.

本発明は上述した従来の欠点を解決すべくなされたもの
で、互いにその電位を異にする少なくとも2本の読出し
専用線を設け、選択された特定のデータ線の電位に応じ
て読出し専用線間に電流経路を形成して読出しを行なう
ことにより、特に読。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned conventional drawbacks, and includes providing at least two read-only lines whose potentials are different from each other, and depending on the potential of a selected specific data line, between the read-only lines. In particular, by forming a current path to perform reading.

出し動作に関して高速化が図れる半導体記憶装置を提供
することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can increase the speed of readout operations.

以下本発明を一実施例に従って詳細に説明する。The present invention will be explained in detail below according to one embodiment.

第3図は本発明の一実施例を示す。FIG. 3 shows an embodiment of the invention.

第3図において、4′は書込制御回路、5′は書込用共
通線、5″は書込制御線、16および17は読出し専用
線、20はデコーダ回路2からのデコード信号A1とデ
ータ線21の電位に応じて読出し専用線16および17
に接続されている2端子の間を導通あるいは非導通の2
状態とすることのできる読出し単位回路、19は電源に
接続する端子、18は読出し専用線の一方を充電するた
めのMOSFET、その他は第1図に記したものと同様
である。
In FIG. 3, 4' is a write control circuit, 5' is a common line for writing, 5'' is a write control line, 16 and 17 are read-only lines, and 20 is a decode signal A1 and data from the decoder circuit 2. Read-only lines 16 and 17 depending on the potential of line 21
conduction or non-conduction between two terminals connected to
The readout unit circuit which can be set to the state, 19 a terminal connected to a power supply, 18 a MOSFET for charging one of the read-only lines, and the rest are the same as those shown in FIG.

また第4図及び第5図は読出し単位回路20の2つの構
成例で、21〜24は読出し単位回路20を構成してい
るMOSFETである。
Further, FIGS. 4 and 5 show two configuration examples of the read unit circuit 20, and 21 to 24 are MOSFETs forming the read unit circuit 20.

読出し動作をさせるためには、まず書込み制御線5“を
低電圧にすることによってMO8FET2’を非導通状
態とし、書込用共通線5′とデータ線2′を切離す。
In order to perform a read operation, first, the write control line 5'' is set to a low voltage to make the MO8FET 2' non-conductive, thereby disconnecting the write common line 5' and the data line 2'.

次に特定のAi倍信号よって読出し単位回路20内のM
OSFET 21又は24を導通状態とする。
Next, M in the read unit circuit 20 is
OSFET 21 or 24 is brought into conduction.

この結果、データ線2′の電位状態に応じて読出し専用
線16〜17間に電流経路が形成されるかあるいは形成
されないという状態が生じる。
As a result, a current path is formed or not formed between the read-only lines 16 and 17 depending on the potential state of the data line 2'.

この電流経路は第4図の構成例では16−21−22−
17であり、第5図の構成例では16−23−17とな
る。
In the configuration example shown in FIG. 4, this current path is 16-21-22-
17, and in the configuration example shown in FIG. 5, it is 16-23-17.

専用線17は接地されているので、上記の2状態に応じ
てもし電流経路が16−17間に形成されなければ、読
出し専用線16の電位はMOSFET18によって充電
された高い電位を保ち、16−17間に電流経路が形成
されれば、読出し専用線16の電位は読出し単位回路2
0内のMOSFETの大きさとMOSFET 18の大
きさの比できまる低いレベルになる。
Since the dedicated line 17 is grounded, if a current path is not formed between 16 and 17 in accordance with the above two states, the potential of the read only line 16 will maintain the high potential charged by the MOSFET 18, and the potential of the read only line 16 will remain at the high potential charged by the MOSFET 18, If a current path is formed between 17 and 17, the potential of read-only line 16 will change to read unit circuit 2.
The level becomes as low as possible by the ratio of the size of MOSFET 0 and the size of MOSFET 18.

この読出し専用線16の電位変化をバッファ7を経て出
力端子8に取り出す。
This potential change of the read-only line 16 is taken out to the output terminal 8 via the buffer 7.

この実施例においては、読出し動作時にデータ線2′、
書込用共通線5′、および読出し専用線16゜17の相
互間に電源供給線を経由する以外の経路が形成されない
構成となっている。
In this embodiment, data lines 2',
The structure is such that no path other than the power supply line is formed between the write common line 5' and the read-only lines 16 and 17.

そのために記憶単位1′が読出しに当って充放電しなげ
ればならない対象はデータ線21だけとなり、その結果
、記憶単位1′によって速やかにデータ線2′の電位を
確定させることが可能となる。
Therefore, the only object that must be charged and discharged when the memory unit 1' is read is the data line 21, and as a result, the potential of the data line 2' can be quickly determined by the memory unit 1'. .

さらに読出し単位回路20によって1617間に電流経
路が形成された場合の放電対象は読出し専用線16だげ
となるため、寄生容量が小さくなって読出し専用線16
の電位は速やかに確定する。
Furthermore, when a current path is formed between 1617 by the read unit circuit 20, the discharge target is only the read-only line 16, so the parasitic capacitance is reduced and the read-only line 16
The potential of is quickly determined.

即ち、読出し動作を速くすることが可能であり、読出し
専用線16の電位変化も大きいので、出力用バッファ7
の前に増幅器を設置する必要もない。
That is, it is possible to speed up the read operation, and since the potential change of the read-only line 16 is large, the output buffer 7
There is no need to install an amplifier in front of the

なお第3図の実施例では、MOSFET 18を常時導
通状態、読出し専用線17を接地としたが、MOSFE
T 18によるゲートをクロックで制御して線16の低
レベルを完全に零とすると共に消費電力を小さくする方
法、読出し専用線17を必要時だけMOSFETを介し
て接地することでAiに対する゛確定時板外は低レベル
′”という制限の緩和等の変形は容易に考えられる。
In the embodiment shown in FIG. 3, the MOSFET 18 is always in a conductive state and the read-only line 17 is grounded.
A method of controlling the gate by T18 with a clock to completely reduce the low level of line 16 to zero and reducing power consumption.By grounding read-only line 17 through a MOSFET only when necessary, it is possible to It is easy to think of modifications such as relaxing the restriction that the outside of the board is at a low level.

次に本発明の他の実施例を第6図に示す。Next, another embodiment of the present invention is shown in FIG.

こ\ではデータ線を2分割し、各々の群に対して2本、
合計4本の読出し専用線16’、16“、17’、17
“を配置している。
In this case, divide the data line into two, and install two lines for each group.
Total of 4 read-only lines 16', 16", 17', 17
“is placed.

25は分割して取り出した信号をまとめるための統合回
路で例えばAND回路25′とNOT回路25″で構成
できる。
Reference numeral 25 denotes an integration circuit for combining the divided and extracted signals, which can be composed of, for example, an AND circuit 25' and a NOT circuit 25''.

26は統合回路25の制御信号Bを発生する回路、その
他は第1図及び第3図と同様である。
26 is a circuit that generates the control signal B for the integrated circuit 25, and the other parts are the same as those in FIGS. 1 and 3.

またこの実施例では第3図の4’、5’、2“、γl、
5“に相当する書込系の回路は省略している。
In addition, in this embodiment, 4', 5', 2'', γl,
The writing system circuit corresponding to 5" is omitted.

この実施例では上半分は読出し専用線16′。In this embodiment, the upper half is a read-only line 16'.

17′を使用して第3図の実施例で説明したのと同様の
動作をし、下半分では同じく1C517″′を使用して
いる。
17' to perform the same operation as described in the embodiment of FIG. 3, and the lower half also uses 1C517''.

しかもある読出し専用線例えば16′についてみると、
データを読出さなければならないデータ線の数が分割に
よって半減しているため読出し単位回路20の数が減少
し、従って読出し専用線16′の寄生容量が小さい。
Moreover, if we look at a certain read-only line, for example 16',
Since the number of data lines from which data must be read is halved by the division, the number of read unit circuits 20 is reduced, and the parasitic capacitance of the read-only line 16' is therefore reduced.

即ち第3図の実施例に比べてさらに速い読出し動作が可
能となる。
That is, a faster read operation is possible compared to the embodiment shown in FIG.

あるいは読出し動作を同じとすれば、データ線の数を倍
にすることが可能であり、記憶単位の総数を増加させて
大容量化することができる。
Alternatively, if the read operation is the same, the number of data lines can be doubled, and the total number of storage units can be increased to increase the capacity.

なお、第6図の例において、読出し専用線17′と17
“を共通とし、全体として3本の読出し専用線を用いた
構成とすることもできる。
In the example of FIG. 6, the read-only lines 17' and 17
It is also possible to use a configuration in which three read-only lines are used as a whole, with the line " being common.

さらに第6図の実施例の変形として、各々の群に属する
データ線を交互に配置して、群の間に読み出し速度差が
できないようにする構成、あるいは分割数を3以上とす
る構成が考えられる。
Furthermore, as a modification of the embodiment shown in FIG. 6, it is possible to arrange the data lines belonging to each group alternately so that there is no difference in read speed between the groups, or to make the number of divisions three or more. It will be done.

以上説明したように本発明によれば、記憶単位あるいは
読出し単位回路の充放電の対象となる部分の寄生容量を
小さくすることができるから、読出し速度を高速化する
ことができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to reduce the parasitic capacitance of the portion to be charged and discharged in the storage unit or readout unit circuit, so that the readout speed can be increased.

また大容量の記憶装置を実現できる。Furthermore, a large capacity storage device can be realized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の半導体記憶装置を示す図、第2図は記憶
単位の一例を示す図、第3図は本発明の一実施例を示す
図、第4図および第5図は第3図の読出し単位回路の例
をそれぞれ示す図、第6図は本発明の他の実施例を示す
図である。 1・・・・・・メモリアレイ、1′・・・・・・記憶単
位、2および3・・・・・・デコーダ回路、21・・・
・・・データ線、31・・・・・・ワード線、41・・
・・・・書込制御回路、5′・・・・・・書込用共通線
、5“・・・・・・書込制御線、7・・・・・・出力バ
ッファ、16.16’、16“、17,17’および1
γ′・・・・・・読出し専用線、20・・・・・・読出
し単位回路、25・・・・・・統合回路、26・・・・
・・制御信号発生回路。
FIG. 1 is a diagram showing a conventional semiconductor memory device, FIG. 2 is a diagram showing an example of a storage unit, FIG. 3 is a diagram showing an embodiment of the present invention, and FIGS. FIG. 6 is a diagram showing an example of a read unit circuit, respectively, and FIG. 6 is a diagram showing another embodiment of the present invention. 1...Memory array, 1'...Storage unit, 2 and 3...Decoder circuit, 21...
...Data line, 31...Word line, 41...
...Write control circuit, 5'...Write common line, 5"...Write control line, 7...Output buffer, 16.16' , 16", 17, 17' and 1
γ'...Read-only line, 20...Read unit circuit, 25...Integrated circuit, 26...
...Control signal generation circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 記憶単位をデータ線に接続し、デコード信号によっ
て特定のデータ線を選択して記憶単位のアクセスを行な
う半導体記憶装置において、少なくとも2本の読出し専
用線を設けて互いにその電位を異ならしめ、上記選択さ
れた特定のデータ線の電位に応じて、上記読出し専用線
間に電流経路を形成して読出しを行なうことを特徴とす
る半導体記憶装置。 2 上記電流経路の形成を、上記デコード信号とデータ
線の電位に応じて、上記読出し専用線間に上記データ線
に対応付けて設けた読出し単位回路にて行なうことを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶装置。 3 上記データ線と読出し専用線との間に電源供給線を
経由する線路以外の電流経路が形成されないようにする
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項又は第2項記載
の半導体記憶装置。 4 上記データ線を複数の群に分割し、各群に少なくと
も2本の読出し専用線を設けることを特徴とする特許請
求の範囲第1項、第2項又は第3項記載の半導体記憶装
置。 5 上記各群対応に設けられた読出し専用線の一部を共
通接続することを特徴とする特許請求の範囲第4項記載
の半導体記憶装置。 6 書込み時には上記データ線との間に電流経路が形成
される特許請求の範囲第1項、第2項、第3項、第4項
又は第5項記載の半導体記憶装置。
[Scope of Claims] 1. In a semiconductor memory device in which a memory unit is connected to a data line and a specific data line is selected by a decode signal to access the memory unit, at least two read-only lines are provided and the memory units are connected to each other. A semiconductor memory device characterized in that readout is performed by making the potentials different and forming a current path between the read-only lines according to the potential of the selected specific data line. 2. Claims characterized in that the formation of the current path is performed by a read unit circuit provided between the read-only lines in correspondence with the data lines, depending on the potential of the decode signal and the data line. 2. The semiconductor memory device according to item 1. 3. The semiconductor memory device according to claim 1 or 2, wherein no current path other than a line passing through a power supply line is formed between the data line and the read-only line. . 4. The semiconductor memory device according to claim 1, 2, or 3, wherein the data line is divided into a plurality of groups, and each group is provided with at least two read-only lines. 5. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein a part of the read-only lines provided for each of the groups is commonly connected. 6. The semiconductor memory device according to claim 1, 2, 3, 4, or 5, wherein a current path is formed between the data line and the data line during writing.
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