JPS6333240B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPS6333240B2
JPS6333240B2 JP57029937A JP2993782A JPS6333240B2 JP S6333240 B2 JPS6333240 B2 JP S6333240B2 JP 57029937 A JP57029937 A JP 57029937A JP 2993782 A JP2993782 A JP 2993782A JP S6333240 B2 JPS6333240 B2 JP S6333240B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory
block
sense amplifier
memory cells
blocks
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP57029937A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS58147885A (en
Inventor
Kazunori Oochi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP57029937A priority Critical patent/JPS58147885A/en
Publication of JPS58147885A publication Critical patent/JPS58147885A/en
Publication of JPS6333240B2 publication Critical patent/JPS6333240B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4094Bit-line management or control circuits

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体記憶装置に係り、特に1個のト
ランジスタと1個のキヤパシタとによつて構成さ
れるメモリセルを有するダイナミツク型記憶装置
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a dynamic memory device having a memory cell constituted by one transistor and one capacitor.

近年における集積回路技術の著しい進歩によ
り、大規模、大容量のLSI(大規模集積回路)が
開発され、ダイナミツクRAM(ランダムアクセ
スメモリ)の分野では64kビツトのものが量産さ
れ、256kビツトのものの開発が進められている。
With the remarkable progress in integrated circuit technology in recent years, large-scale, large-capacity LSIs (Large-Scale Integrated Circuits) have been developed, and in the field of dynamic RAM (random access memory), 64k bits are being mass produced, and 256k bits are being developed. is in progress.

ダイナミツクRAMは、その構成素子の微細化
による大容量化による発展の中で低電源電圧化が
図られ、4kおよび16kビツトRAMの大多数が+
12V、±5Vの高電源で動作したのに対し、16kビ
ツトRAMの一部と64kビツトRAMでは+5Vの
単一の低電源で動作するよう改良された。このよ
うな単一電源化に伴ない、従来チツプ外部より半
導体基板電圧(4k、16kビツトRAMでは−5V)
を供給していたが、チツプ上に基板電圧発生装置
を設けることによつて、このような外部からの電
圧供給を不要とした。この基板電圧はp−n接合
容量の軽減、各種リーク電流の減少、トランジス
タの閾値電圧の制御に有効である。
Dynamic RAM has been developed to have a larger capacity due to miniaturization of its constituent elements, and as a result, the power supply voltage has been lowered, and the majority of 4k and 16k bit RAMs are +
While it operated on a high power supply of 12V, ±5V, some 16k-bit RAM and 64k-bit RAM were improved to operate on a single low power supply of +5V. With such a single power supply, the semiconductor substrate voltage (-5V for 4k and 16k bit RAM) has traditionally been applied from outside the chip.
However, by providing a substrate voltage generator on the chip, such an external voltage supply is no longer necessary. This substrate voltage is effective in reducing the pn junction capacitance, reducing various leakage currents, and controlling the threshold voltage of the transistor.

ところで、このチツプ上に設けられた基板電圧
発生装置は、電源として充分に低いインピーダン
スを持たせることはその構成上困難である。この
ため各種ノイズの影響を受けやすい。その一例が
64kビツトRAMの場合、通常256本あるいは512
本のビツト線が一時に充放電する際に、ビツト線
と基板との間の静電容量結合により基板電圧が大
きくゆれることである。この基板電位のゆれの振
幅は、64kビツトRAMではビツト線の充放電の
振幅5Vに対し1V程度あるのが一般的である。こ
の基板電位のゆれはチツプ上、特に一般的に高イ
ンピーダンスの状態になつている回路の動作に悪
影響を及ぼす。
By the way, it is difficult to provide the substrate voltage generator provided on this chip with a sufficiently low impedance as a power source due to its structure. Therefore, it is susceptible to various noises. One example is
For 64k bit RAM, typically 256 or 512
When a real bit line charges and discharges at the same time, the substrate voltage fluctuates greatly due to capacitance coupling between the bit line and the substrate. In a 64k bit RAM, the amplitude of this substrate potential fluctuation is generally about 1V for a 5V bit line charge/discharge amplitude. This fluctuation in substrate potential has an adverse effect on the operation of the chip, especially the circuits that are generally in a high impedance state.

このようなゆれの幅を小さく押えるために、従
来は不純物拡散層によつて構成されていたビツト
線配線をアルミニウムあるいは多結晶シリコンに
置き換えることにより、ビツト線と基板との間の
静電結合容量を減少させたり、あるいは基板と接
地電位との間に平滑キヤパシタを配置する等の改
良がなされている。
In order to suppress the width of such fluctuations, the capacitive coupling capacitance between the bit line and the substrate can be reduced by replacing the bit line wiring, which was conventionally constructed with an impurity diffusion layer, with aluminum or polycrystalline silicon. Improvements have been made such as reducing the amount of noise, or placing a smoothing capacitor between the substrate and ground potential.

ここで第1図は、マトリクス状に配設された複
数個のメモリセル1とセンスアンプ2群とをたと
えば第1、第2ブロツク3,4に分割した従来の
ダイナミツクRAMを示している。このようなブ
ロツク分割はS/N比、動作速度の向上またはリ
フレツシユ回路の減少を目的として行なわれ、セ
ンスアンプ付勢クロツクφSEは共通に配線され、
両ブロツク3,4内のすべてのセンスアンプ2が
動作してビツト線BLの充放電が行なわれる。す
なわち、第1ブロツク3のワード線WL1に接続
されたメモリセル1がアクセスされる時には、こ
のワード線WL1と等価な関係にある第2ブロツ
ク4内のワード線WL2も付勢され、このワード
線WL2に接続されたすべてのメモリセル1はリ
フレツシユされる。なお、このダイナミツク
RAMは第2図に示すようなタイミングのプリチ
ヤージクロツクφP、センスアンプ付勢クロツク
φSE、メモリ選択用のワード線WL信号等によつ
てメモリセル1及びセンスアンプ2が動作する。
したがつて、このメモリでは、ビツト線BLの充
放電により基板の電位にゆれが生ずることは前述
した通りである。
Here, FIG. 1 shows a conventional dynamic RAM in which a plurality of memory cells 1 and two groups of sense amplifiers arranged in a matrix are divided into first and second blocks 3 and 4, for example. Such block division is performed for the purpose of improving the S/N ratio, operating speed, or reducing the number of refresh circuits, and the sense amplifier activation clock φSE is wired in common.
All sense amplifiers 2 in both blocks 3 and 4 operate to charge and discharge the bit line BL. That is, when the memory cell 1 connected to the word line WL1 of the first block 3 is accessed, the word line WL2 of the second block 4, which has an equivalent relationship with this word line WL1, is also activated, and this word line All memory cells 1 connected to WL2 are refreshed. In addition, this dynamic
In the RAM, memory cells 1 and sense amplifiers 2 are operated by a precharge clock φ P , a sense amplifier energizing clock φ SE , a word line WL signal for memory selection, etc. with timings as shown in FIG.
Therefore, as described above, in this memory, the potential of the substrate fluctuates due to charging and discharging of the bit line BL.

また、第3図に示すようなダイナミツクRAM
が考えられている。このメモリも第1図と同様に
2つのブロツクに分割しているが、センスアンプ
付勢クロツクをそれぞれブロツクに対応して
φSE1,φSE2と独立して設け、1メモリサイクル中
にいずれか一方のみが付勢されるようになつてい
る。例えば、いま第1ブロツク3内のワード線
WL1に接続されたいずれか1個のメモリセル1
がアクセスされた時を考える。この時はワード線
WL1が付勢され、その後センスアンプ付勢クロ
ツクφSE1が付勢され、メモリセル1の読み出しあ
るいは書き込みが行なわれる。一方、ワード線
WL1に対応する第2ブロツク4内のワード線
WL2およびクロツクφSE2は、第4図のタイムチ
ヤートの点線で示すように付勢されず、この第2
ブロツク4内の回路は動作せず、ビツト線BLは
フローテイング状態となつている。
In addition, dynamic RAM as shown in Figure 3
is being considered. This memory is also divided into two blocks as in Fig. 1, but sense amplifier energizing clocks are provided independently as φSE1 and φSE2 corresponding to each block, so that either one of them can be activated during one memory cycle. It is now energized. For example, the word line in the first block 3
Any one memory cell 1 connected to WL1
Consider when is accessed. At this time, the word line
WL1 is activated, then sense amplifier activation clock φSE1 is activated, and reading or writing of memory cell 1 is performed. On the other hand, the word line
Word line in second block 4 corresponding to WL1
WL2 and clock φ SE2 are not energized as shown by the dotted line in the time chart of FIG.
The circuit in block 4 does not operate, and the bit line BL is in a floating state.

上記第3図のメモリにおいては、主に消費電力
および瞬時消費電力を軽減することを目的として
おり、1メモリサイクル内で充放電されるビツト
線BLの数が第1図に比べて1/2となるために大幅
に電力が軽減される。また、基板電位のゆれも約
1/2に軽減されることになる。しかし、第3図に
示すように、予充電時(プリチヤージサイクル)
にビツト線BL、センスアンプ2を予充電するプ
リチヤージクロツクφPは、第1、第2ブロツク
3,4とも共通に配線されているために、能動時
には第2ブロツク4のビツト線は全て高インピー
ダンスの浮遊状態に放置されることになる。この
ようなことから従来のダイナミツクRAMは基板
電位のゆれが依然として生じ、信頼性の点で少し
難点がある。
In the memory shown in Figure 3 above, the main purpose is to reduce power consumption and instantaneous power consumption, and the number of bit lines BL that are charged and discharged within one memory cycle is halved compared to that in Figure 1. As a result, power consumption is significantly reduced. Further, fluctuations in substrate potential are also reduced to about 1/2. However, as shown in Figure 3, during precharging (precharge cycle)
Since the precharge clock φP , which precharges the bit line BL and the sense amplifier 2, is wired in common with the first and second blocks 3 and 4, when it is active, all the bit lines of the second block 4 are connected. It will be left in a high impedance floating state. For this reason, conventional dynamic RAM still suffers from fluctuations in substrate potential, which poses some drawbacks in terms of reliability.

本発明は上記の事情に鑑みてなされたもので、
メモリセル及びセンスアンプ群をブロツク分割し
て配置し、1メモリサイクルにおいてアクセスさ
れるメモリセルを含まないブロツク内のビツト線
およびセンスアンプを充電する予充電(プリチヤ
ージ)回路をRAMの能動時も遮断することなく
動作させ、これにより充電されるビツト線と基板
との間の容量を平滑コンデンサとして機能させる
ことによつて、消費電力を増加させることなく、
簡単な回路にて基板電圧の変動を小さく押えるこ
とができ、信頼性のあるダイナミツク型記憶装置
を提供することを目的とする。
The present invention was made in view of the above circumstances, and
The memory cells and sense amplifiers are divided into blocks and arranged, and the precharge circuit that charges the bit lines and sense amplifiers in blocks that do not include memory cells that are accessed in one memory cycle is cut off even when the RAM is active. The capacitance between the bit line charged by this and the board functions as a smoothing capacitor, thereby reducing power consumption without increasing power consumption.
It is an object of the present invention to provide a reliable dynamic memory device that can suppress fluctuations in substrate voltage to a small level with a simple circuit.

以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明
する。第5図に示すダイナミツクRAMにおいて
も前述同様に1個のトランジスタQと1個のキヤ
パシタCとで構成され、マトリクス状に複数個配
設されたメモリセル1、センスアンプ2群は第
1、第2ブロツク3,4に分割配置されている。
また、これらのメモリセル1には、メモリセル選
択のためのワード線WL及びデータの読み出し書
き込みのためのビツト線BLが共通に接続されて
いる。さらに、第1のブロツク3内のセンスアン
プ2には、第1センスアンプ付勢クロツクφSE1
よびセンスアンプ2を予充電するための第1プリ
チヤージクロツクφP1とが供給され、第2ブロツ
ク4内のセンスアンプ2には、第2センスアンプ
付勢クロツクφSE2およびセンスアンプ2を予充電
するための第2プリチヤージクロツクφP2とが供
給されている。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. The dynamic RAM shown in FIG. 5 is also composed of one transistor Q and one capacitor C as described above, and a plurality of memory cells 1 and two groups of sense amplifiers are arranged in a matrix. It is divided into two blocks 3 and 4.
Further, a word line WL for selecting a memory cell and a bit line BL for reading and writing data are commonly connected to these memory cells 1. Further, the sense amplifier 2 in the first block 3 is supplied with a first sense amplifier energizing clock φ SE1 and a first precharge clock φ P1 for precharging the sense amplifier 2. A second sense amplifier energizing clock φSE2 and a second precharge clock φP2 for precharging the sense amplifier 2 are supplied to the sense amplifier 2 in the sense amplifier 4.

今、第1ブロツク3において、第6図に示すよ
うにプリチヤージクロツクφP1による予充電後に
ワード線WL1に接続されるメモリセル1の1つ
がアクセスされたとすると、ワード線WL1およ
び第1センスアンプ付勢クロツクφSE1が第6図に
実線で示すように付勢され、このとき第2ブロツ
ク4内のワード線WL2および第2センスアンプ
付勢クロツクφSE2は第6図に点線で示すように付
勢されない。また、この場合に、アクセスされる
メモリセル1を含む第1のブロツク3の第1プリ
チヤージクロツクφP1は第6図に実線で示すよう
に能動時に接地電位に低下されるが、アクセスさ
れるメモリセルを含まない第2ブロツク4の第2
プリチヤージクロツクφP2は能動時も第6図に点
線で示すように高電位に保たれる。ここで、この
プリチヤージクロツクφP1,φP2の高電位は、セン
スアンプ2を挾んで対になつて配置されたビツト
線BL間の電位をプリチヤージサイクルにおいて
高速にかつ殆んど等電位に予充電するために電源
Vcc以上の電圧値に設定するものとする。従つて、
第2ブロツク4内の全てのビツト線BLは、セン
スアンプ2のトランジスタQ21,Q22,Q23,Q24
等を介して能動時にも電源Vccに接続されている。
これにより、第2ブロツク4内のビツト線BLそ
のもの全てが基板と電源Vccとの間の平滑コンデ
ンサとして働らき、第1ブロツク3内のビツト線
BLの充放電により生ずる基板電位のゆれ(変動)
を押えるように作用する。
Now, in the first block 3, if one of the memory cells 1 connected to the word line WL1 is accessed after being precharged by the precharge clock φP1 as shown in FIG. The amplifier energizing clock φ SE1 is energized as shown by the solid line in FIG. 6, and at this time, the word line WL2 in the second block 4 and the second sense amplifier energizing clock φ SE2 are activated as shown by the dotted line in FIG. is not biased. In addition, in this case, the first precharge clock φ P1 of the first block 3 including the memory cell 1 to be accessed is lowered to the ground potential when it is active, as shown by the solid line in FIG. The second block 4 does not contain any memory cells.
Even when the precharge clock φP2 is active, it is kept at a high potential as shown by the dotted line in FIG. Here, the high potential of the precharge clocks φ P1 and φ P2 increases the potential between the bit lines BL arranged in a pair with the sense amplifier 2 in between at high speed and almost equally during the precharge cycle. Power supply to precharge to potential
The voltage value shall be set to Vcc or higher. Therefore,
All the bit lines BL in the second block 4 are connected to the transistors Q 21 , Q 22 , Q 23 , Q 24 of the sense amplifier 2.
When active, it is also connected to the power supply V cc via etc.
As a result, all the bit lines BL in the second block 4 function as smoothing capacitors between the board and the power supply Vcc , and the bit lines BL in the first block 3
Fluctuations (fluctuations) in substrate potential caused by charging and discharging BL
It acts to suppress the

したがつて、上記実施例によれば、従来のメモ
リに比べてさらに基板電位の変動を小さく押える
ことができる。さらに、従来のプリチヤージクロ
ツクφPを発生する回路に、第3図のワード線WL
1,WL2のいずれかを選択し付勢するアドレス
信号の1つを組み合わせることで2種のプリチヤ
ージクロツクφP1,φP2の選択回路を容易に実現で
き、特に回路を複雑にすることも、消費電力を増
加させることもない。
Therefore, according to the embodiment described above, fluctuations in substrate potential can be suppressed to a smaller level than in conventional memories. Furthermore, the word line WL shown in Fig. 3 is added to the circuit that generates the conventional precharge clock φP .
By selecting one of 1 and WL2 and combining one of the energizing address signals, a selection circuit for two types of precharge clocks φ P1 and φ P2 can be easily realized, and the circuit can be particularly complicated. , without increasing power consumption.

なお、上記実施例では、メモリセル1およびセ
ンスアンプ2群を2個のブロツクに分割配置して
いるが、これはその他複数個のブロツクに分割し
ても良い。この場合にも前述同様、ブロツクに対
応したプリチヤージクロツクを発生する回路を設
ければ良い。
In the above embodiment, the memory cell 1 and the sense amplifier 2 group are divided into two blocks, but they may be divided into a plurality of other blocks. In this case, as described above, a circuit for generating a precharge clock corresponding to the block may be provided.

以上説明したように本発明によれば、メモリセ
ル及びセンスアンプ群をブロツク分割して配置
し、1メモリサイクルにおいてアクセスされるメ
モリセルを含まないブロツク内のビツト線および
センスアンプを充電するプリチヤージ回路を
RAMの能動時も遮断することなく動作させ、こ
れにより充電されるビツト線と基板との間の容量
を平滑コンデンサとして機能させるようにしてい
るので、消費電力を増加させることなく、簡単な
回路にて基板電位の変動を小さく押えることがで
き、信頼性のあるダイナミツク型記憶装置を提供
できる。
As explained above, according to the present invention, memory cells and sense amplifier groups are divided into blocks and arranged, and a precharge circuit charges bit lines and sense amplifiers in blocks that do not include memory cells accessed in one memory cycle. of
The RAM operates without interruption even when it is active, and the capacitance between the charged bit line and the board functions as a smoothing capacitor, making it possible to simplify the circuit without increasing power consumption. Therefore, fluctuations in substrate potential can be suppressed to a small level, and a reliable dynamic memory device can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図乃至第4図は従来のダイナミツクRAM
の構成図とそのタイムチヤート、第5図は本発明
の一実施例に係るダイナミツクRAMの要部構成
図、第6図は第5図のダイナミツクRAMの動作
を説明するためのタイムチヤートである。 1……メモリセル、2……センスアンプ、3…
…第1ブロツク、4……第2ブロツク、WL……
ワード線、BL……ビツト線、Vcc……電源、φP1
φP2……プリチヤージクロツク、φSE1,φSE2……セ
ンスアンプ付勢クロツク、Q11〜Q14,Q21〜Q24
……トランジスタ。
Figures 1 to 4 show conventional dynamic RAM
FIG. 5 is a block diagram of a main part of a dynamic RAM according to an embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a time chart for explaining the operation of the dynamic RAM shown in FIG. 1...Memory cell, 2...Sense amplifier, 3...
...1st block, 4...2nd block, WL...
Word line, BL...Bit line, Vcc ...Power supply, φP1 ,
φP2 ...Precharge clock, φSE1 , φSE2 ...Sense amplifier activation clock, Q11 to Q14 , Q21 to Q24
...Transistor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 1個のトランジスタと1個のキヤパシタとか
らなるメモリセルを複数個マトリクス状に半導体
基板上に配設したダイナミツク型記憶装置におい
て、 前記複数個のメモリセルとこのメモリセルに接
続される複数のワード線、ビツト線、センスアン
プ群とを複数個のブロツクに分割し、 記憶装置能動時には1メモリサイクル中にアク
セスされるメモリセルを含まないブロツク内のセ
ンスアンプ及びビツト線は付勢されず予充電時に
は上記ブロツク内のビツト線及びセンスアンプを
予充電するプリチヤージクロツクは電源電圧以上
の高電圧に保つことを特徴とするダイナミツク型
記憶装置。
[Scope of Claims] 1. A dynamic memory device in which a plurality of memory cells each consisting of one transistor and one capacitor are arranged in a matrix on a semiconductor substrate, comprising: the plurality of memory cells and the memory cell; The multiple word lines, bit lines, and sense amplifiers connected to the memory are divided into multiple blocks, and when the storage device is active, the sense amplifiers and bit lines in the blocks that do not include memory cells that are accessed during one memory cycle are divided into multiple blocks. A dynamic storage device characterized in that the precharge clock for precharging the bit line and sense amplifier in the block is kept at a high voltage higher than the power supply voltage during precharging without being energized.
JP57029937A 1982-02-26 1982-02-26 Dynamic type storage device Granted JPS58147885A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57029937A JPS58147885A (en) 1982-02-26 1982-02-26 Dynamic type storage device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57029937A JPS58147885A (en) 1982-02-26 1982-02-26 Dynamic type storage device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58147885A JPS58147885A (en) 1983-09-02
JPS6333240B2 true JPS6333240B2 (en) 1988-07-04

Family

ID=12289899

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57029937A Granted JPS58147885A (en) 1982-02-26 1982-02-26 Dynamic type storage device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58147885A (en)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2544382B2 (en) * 1987-04-24 1996-10-16 株式会社日立製作所 Dynamic RAM
JPH0261893A (en) * 1988-08-25 1990-03-01 Toshiba Corp Dynamic semiconductor memory
US4975879A (en) * 1989-07-17 1990-12-04 Advanced Micro Devices, Inc. Biasing scheme for FIFO memories
JPH07107799B2 (en) * 1992-11-04 1995-11-15 日本電気株式会社 Semiconductor memory device
JPH07176188A (en) * 1994-10-21 1995-07-14 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory

Also Published As

Publication number Publication date
JPS58147885A (en) 1983-09-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR900008936B1 (en) Cmos dynamic ram
US4636981A (en) Semiconductor memory device having a voltage push-up circuit
US6404670B2 (en) Multiple ports memory-cell structure
KR100299750B1 (en) Semiconductor storage device
US5255235A (en) Dynamic random access memory with dummy word lines connected to bit line potential adjusting capacitors
US5402378A (en) Circuit for generating a clock signal to separate bit lines in a semiconductor memory device
US5966340A (en) Semiconductor memory device having hierarchical word line structure
US5590080A (en) Dynamic random access memory with variable sense-amplifier drive capacity
Furuyama et al. An experimental 2-bit/cell storage DRAM for macrocell or memory-on-logic application
US4982367A (en) Dynamic random access memory with well-balanced read-out voltage on bit line pair and operating method therefor
JPH08153856A (en) Semiconductor storage device
US5428577A (en) Semiconductor storage device having word-line voltage booster circuit with decoder and charger
EP0502398B1 (en) Dynamic random access memory device with bit lines partially shared between sense amplifier circuits
JPS6085492A (en) Dynamic memory device
US5666306A (en) Multiplication of storage capacitance in memory cells by using the Miller effect
US6091646A (en) Method and apparatus for coupling data from a memory device using a single ended read data path
US5926410A (en) Memory array architecture and method for dynamic cell plate sensing
EP0195631A2 (en) Semiconductor memory
US4380055A (en) Static RAM memory cell
US5710738A (en) Low power dynamic random access memory
US6483139B1 (en) Semiconductor memory device formed on semiconductor substrate
JPS6333240B2 (en)
US4308594A (en) MOS Memory cell
US5761112A (en) Charge storage for sensing operations in a DRAM
US5995410A (en) Multiplication of storage capacitance in memory cells by using the Miller effect