JPS58224796A - 印版材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 るレーザニ製版に有用な高感度の印版材料に関する０　
　　　　　　、・・ 従来のオフセント印刷用製版方法ｌこおいては、文字、
画像等をレイアウトし、写真法によって原画を構成して
フォトマスク等を作り、紫外線等で露光を行うことによ
って製版する感光性樹脂製版が広く用いられている０近
年は、製版速度のスピードアソブやコンピューターによ
る自動レイアウトに対応した製版技術として、写真法に
代って電送される情報、記憶装置に貯蔵された情報等を
直接レーサーの光信号に変換し、そのレーザー光によっ
て製版を行うレーサー製版技術に対する関心が高まって
いる。しかしながら、レーサー光の照射によって印刷部
、非印刷部のパターン化を行う際のレーザー光に対する
印版材料の感度は必すしも十分てはなく、製版速度の向
上及び低出力レーサーの使用を可能にする高感度の印版
材料の開発が要望されている。

本発明者等は、上記要望に答えるべく鋭意検討の結果・
上記のレーサー製版に付帯する欠点を大幅に改良した高
感度の印版材料を発明するに到った。

すなわち、本発明は６００〜１２００ｎｍ　の可視光線
又は近赤外線の波長領域に極大吸収を有する有機金属錯
体化合物である感光剤を溶解又は分散した樹脂層を有す
る印版材料である。

本発明に用いられる感光剤は、大別して５種類、すなわ
ち芳香族ジアミン金属錯体、脂肪属ジアミン金属錯体、
芳香族ジチオール金属錯体、脂肪属シチオール金属錯体
及びメルカプトフェノール金　一属錯体などを用いるこ
とができる。

芳香族ジアミン系金属錯体は、一般式（＋）（式中、Ｘ
は水素、アルキル基、置換アルキル基、ハロゲン基、二
１・口塞を、ｎは１〜４の整数を、Ｍはニッケル、コバ
ルト、パラジウム、白金を表わす）で示される化合物で
、そのうち特にビス（４−クロロー０−フェニレンジア
ミノ）ニッケル（吸収極大λｍａＸ　８００ｎｍ　、モ
ル比吸光係数ε６６６００　）及びヒス（４−メチルー
〇ーフエニレンジアミノ）ニッケル（λｍａｘ７９５ｎ
ｍ，ε５５１００）が合成が容易で、樹脂との相溶性が
すぐれているので好ましい。

脂肪族ノアミノ系金属錯体は、一般式（Ｉｔ）（式中、
Ｙは水素、アルキル基、フェニル基、シアン基を、Ｍは
ニッケル、コバルト、パラジウム、白金を表わす）で示
される化合物で、そのうち特にビス（ノイミノザクンノ
ニトリロ）白金（λｍａｘ６４０　ｎｍ、ε３２０００
）及びヒス（ジイミノサクンノニトリロ）ニッケル（λ
ｍａｘ７００ｎｍ、ε２３５００　）が合成が容易で、
樹脂との相溶性がすぐれて−１７するので好ましい。

芳香族ジチオール系金属錯体は、一般式ＧＩＤ（式中、
Ｚは水素、アルキル基、ハロゲン基を、ｎ　ハ１〜４の
整数を、Ｍはニッケル、コバルト、パラジウム、白金を
、ｍは刊又は−２の整数を、Ａはｍが刊のときは１価の
カチオンを、ｍが−２のときは２価のカチオンを表わす
）で示される化合物で、そのうち特にヒス（１−メチル
−３，４−ジチオフェルレート）ニッケル（■）テトラ
−ｎ−ブチルアンモニウム（）　ｍａｘ　８９０ｎｍ、
ε１６２７０）及びヒス（１，２，３，４−テトラクロ
ロ−５，６−シチオフエル−ト）ニッケル（Ｉｔ）テト
ラ−ｎ−ブチルアンモニウム（λｍ＋ａｘ　８８５ｎｍ
、ε１５７００）が合成が容易で、樹脂との相溶性がす
ぐれているので好ましい。

脂肪族ジチオール系金属錯体は、一般式■（式中・Ｅは
水素、アルキル基、フェニル基を、Ｍはニッケル、コバ
ルト、パラジウム、白金を表わす）で示される化合物で
、そのうち特にビス〔シス−１，２−ビス（Ｐ−メトキ
シフェニル）エチレン−１，２−ジチオレート〕ニッケ
ル（λｍａｘ９２０ｎｍ、ε３５０００）及びヒス（シ
ス−１，２−ヒスフェニルエチレン−１，２−ジチオレ
ート）白金（λｍａｘ８００ｎｍ、ε５１６０ｊ））が
合成が容易で、樹脂との相溶性がすぐれているので好ま
しい。

メルカプトフェノール系金属錯体は、一般式（■又は（
ロ） （式中、Ｇは水素、アルキル基、ハロケン基を、ＭＬｔ
ニッケル、コバルト、パラジウム、白金を、ｍは−１又
は−２の整数を、Ａはｍが−１のときは１価のカチオン
を、ｍが−２のときは２価のカチオンを表わす）で示さ
れる化合物で、そのうち特にヒス（１−メルカプｌ−−
２−ナフトレート）ニッケル（１）テトラ−ｎ−ブチル
アンモニウム（λｍａｘｌｌｏ。

ｎｍ、ε１２２９０）及びヒス（ｌ−メルカプト−２−
フェルレート）ニッケル（ＩＩ）テトラ−ｎ　−ブチル
アンモニウム（λｍａｘ　１１０２５ｎ、ε１２７００
　）が合成が容易で、樹脂との相溶性がすぐれているの
で好ましい。

上記の感光剤は、樹脂成分と溶媒の介在下又は樹脂を溶
融状態にして混合した後、基材に塗布して被膜にするか
又は押出法等によってフィルム状にして実用に供する。

感光剤と混合する樹脂成分は、フィルム又は被膜として
印刷工程において損傷を受けないものであれば特に限定
はなく、具体的には、例えばポリエチレン、ポリプロピ
レン、エチレン酢酸ビニル共重合体、エチレンプロピレ
ンジェンターポリマー、天然コム、ポリブテン、ＳＢＲ
、ＮＢＲ等のオレフィン系重合体、ポリメタクリル酸メ
チル、ポリスチレン、ＡＳ樹脂・ＡＢＳ樹脂・ポリ塩化
ビニル（資）脂、弗素樹脂等のビニル重合体、ポリエス
テル、ポリエーテル−１・、ポリアミ１−、ポリウレタ
ン、ポリエーテルサルフオン、ポリフェニレンザルファ
イト、エボキン樹脂、フェノキシ樹脂、シリコーン樹脂
等の縮合高分子樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプ
ロピレンクリコール等のポリエーテル樹脂、二ｌ・ロセ
ルロース、酢酸セルロース、セルロースアセテートフチ
レー１−、セルロースアセテートプロピオネート等の繊
維素誘導体樹脂のような熱可塑性樹脂等があり、更には
上記の樹脂にメラミンホルムアルテヒド樹脂、尿素ホル
ムアルデヒド樹脂、多価イノンア不−トオリコマー等の
架橋剤を添加した熱硬化性樹脂組成物であってもよく、
又紫外線によって架橋する液状のオリコマ−を前述した
感光剤と混合後露光して被膜を形成させた架橋樹脂であ
ってもよい。

本発明に使用する感光剤の、樹脂成分中における濃度は
、感光層の厚みや製版に□用いるレーザーの出力及び増
感剤自体の吸光係数によって適宜選択されるが、一般的
には０．５〜２０重量％である０本発明の印版材料は、
それぞれの極大吸収に近い発振波長のレーサー光を照射
することによって、照射部分に著しい発熱を起して樹脂
成分を分解又は溶融し、非照射部と照射部のパターン化
が行われ、そのパターンに対応した印刷インキの受容層
と非受容層が形成される。これｌこ使用するレーサーは
、７００〜９００ｎｍ　　の発振波長を有する各種半導
体レーザー、ヘリウム・ネオンレーザ−等の１００ｍＷ
　　以下の比較的低出力のレーザーが本発明の目的には
好ましいが、炭酸ガスレーサー、アルコンレーザー、Ｙ
ＡＧレーザ−、ルヒーレーザー等も使用され、又連続発
振、パルス発振いずれもが使用可能である。電気信号を
変換した上記のレーサー光は、通常光学レンズで１〜１
００μ程度のスボソトビームに絞りこまれて印版材料に
照射することによって極めて良質の印刷の可能な製版が
得られる。

本発明の高感度印版材料は、そうままでオフセット版や
グラビア版として用いられるほか、他の支持体となるシ
ートにレーザー光の照射部を転写した印刷版を製版とし
て用いることもできる。更に・得られた印刷版にメッキ
又は金属蒸着等を行って印版面の強化を行うことも可能
である。このように、本発明の印版材料は、電気信号を
直接レーサー光信号に変換して合理的に製版され、しか
もすぐれた印刷特性の発揮が可能である。

以下、実施例によって本発明を具体的に説明する０ 実施例１ ポリメタクリル酸メチルの２０％メチルエチルケトン溶
′ｔＬ５ｏｏｒにビス（４−メチル−〇−フェニレンジ
アミン）ニッケル（λｍａｘ　８００ｎｍ　）の感光剤
１０１を溶解し、厚み０．２間のアルミ板に塗布し、８
０℃で３０分間乾燥して厚み３０μの乾燥塗膜を有する
感光膜を形成した０これに・カリウム−アルミニウムー
砒素系半導体レーザー発振機（出力１０　ｍＷ　−発振
波長８３０ｎｍ　）　　を用い、網点として電気信号を
変換したレーザー光（ビーム径５μ）を照射して感光膜
の露光部を破壊し、次にトリフロロトリクロロエタン中
で超音波洗浄して乾燥した後、アルミニ・ツムの真空蒸
着を行って網点型のグラビア版を作成した。

このグラビア版を輪転機にとりつけてグラビア印刷を行
い。画線部、非画線部の境界の鮮明な、良好な印刷物を
得た〇 実施例２ ポリエチレンクリコール、トリレンジイソンア不一トか
らなる親水性ポリウレタンポリオールの３０％Ｉ）Ｍ　
Ｐ溶液３００２、トリメチロールプロパンのトリレンジ
イノンア不−１へ付加物である末端イソンア不−トブレ
ポリマーの７５％酢酸エチル溶７１１３．３ｇ及びヒス
（イミノサクシノニトリロ）白金（Ｊｍａｘ　６４０ｍ
ａ　）の感光剤５１を溶解混合して、これをポリイミド
樹脂を厚み５μ塗装した厚み０．２ｍｓのアルミ板に塗
布し、１００℃で３０分間乾燥して厚み５μの親水性の
感光膜を形成した。

この感光膜にヘリウム・ネオンレーザ−発振機（出力１
０ｍＷ、発振波長６３３ｎｍ）を用いて電気信号を変換
したレーザー光（ビーム径５０μ）を照射してその露光
部を破壊し、次にエタノール中て超音波洗浄して乾燥し
た後、オフセント版（平凹板）を作成した。

このオフセット版をオフセット輪転機にとりっけて浸し
水を用いてオフセット印刷を行い、未露光部が撥インキ
層、露光部がインキ受容層を構成する、画線部、非画線
部の境界の鮮明な、良好な印刷物を得た。

実施例３ スチレン、メタクリル酸フチル、メタクリル酸ヒドロキ
ンエチル、メタクリル酸の共重合体の５０％エチレンク
リコールモノエチルエーテル溶液ドブチル化メラミンホ
ルムアルテヒド樹脂の５０％キンレン・ツクノール溶液
５０２にヒス（１，２，３，４−テトラクロロ−５，６
−シチオフエル−ト）ニッケル（Ｉｔ）テトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウム（λｍａｘ８８５ｎｍ）の感光剤２１
を溶解し、これを厚み０．２ｍａのアルミ板に塗布し、
１５０℃で３０分間焼付けして乾燥塗膜厚み３０μの感
光膜を得た。

この感光膜を用いて実施例１と同様にして網点型のグラ
ビア版を作成した。このグラビア版を輪転機にとりつけ
てクラビア印刷を行い、画線部、非画線部の境界の鮮明
な、良好な印刷物を得た。

実施例４ 実施例１て用いたヒス（４−メチル−〇−フェニレンジ
アミン）ニッケルの代りにビス（シス−１，２ニビスフ
ェニルエチレン−Ｓ、２−ジチオレート）白金（λｍａ
ｘ８００ｎｍ）を同量用いる以外は、実施例１と全く同
様にして網点型のグラビア版を作成し、同様な印刷評価
を行ったところ、画線部、非画線部の境界の鮮明な、良
好な印刷物を得た。

実施例５ 実施例２て用いこヒス（イミノサクンノニトリロ）白金
の代りにヒス（１−メルカプト−２−ナフトレート）ニ
ッケル（Ｉｔ）テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム（λｍ
ａｘ、、　１１００ｍａ　）を同量用いると共に・レー
サー発振機としてＹＡＧレーザ−（出力１０　ｍＷ・発
振波長１０１０６０ｎを用いる以外は、実施例２と全く
同様にしてオフセット版（平凹板）を作成し、同様な印
刷評価を行ったところ、画線部、非画線部の境界の鮮明
な、良好な印刷物を得た。

特許出願人 三井東圧化学株式会社 代　　理　　人

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１１６００〜１２００ｎｍ　の可視光線又は近赤外線
   波長領域番こ極大吸収を有する有機金属錯体化合物であ
   る感光剤を略解又は分散した樹脂層を有することを特徴
   とする印版材料。 （２）前記感光剤が、一般式（１） （式中、Ｘは水素、アルキル基、置換アルキル基、ハロ
   ゲン基、ニトロ基を、ｎは１〜４の整数ヲ、Ｍはニッケ
   ル、コバルト、パラジウム、白金を表わす） で示される有機金属錯体である特許請求の範囲第１項記
   載の印版材料。 （３）前記感光剤が、一般式（ＩＩ） （式中、Ｙは水素、アルキル基、フェニル基、ンアノ基
   を、Ｍはニッケル、コバルト、パラジウム、白金を表わ
   す）で示される有機金属錯体である特許請求の範囲第１
   項記載の印版材料〇（４）　　前記感光剤か、一般式（
   ＩＩＩ）（式中、Ｚは水素、アルキル基、ハロゲン基を
   、ｎは１〜４の整数を、Ｍはニッケル、コバルト、パラ
   ジウム、白金を、ｍは−１又は−２の整数を、Ａはｍが
   −１のときは１価のカチオンを・ｍが−２のときは２価
   のカチオンを表わす）で示される有機金属錯体である特
   許請求の範囲第１項記載の印版材料。 （５）　　前記感光剤が、一般式■ （式中、Ｅは水素、アルキル基、フェニル基ヲ、Ｍはニ
   ッケル、コバルト、パラジウム、白金ヲ表わす）で示さ
   れる有機金属錯体である特許請求の範囲第１項記載の印
   版材料。 （６）前記感光剤が、一般式（Ｖ） （式中、Ｇは水素、アルキル基、ハロケン基を、Ｍは二
   ゛ノケル、コバルＦ　、）’：’ラジウム、白金を、丁 ｍは−１又は−２の整数を、Ａはｍが−１のときは１価
   のカチオンを、ｍが−２のときは２価のカチオンを表わ
   す）で示される有機金属錯体である特許請求の範囲第１
   頂記載の印版材料。 （カー　前記感光剤が、一般式（ＶＤ （式中、（１は水素、アルキル基、ハロゲン基を、Ｍｆ
   １ニッケル、コバ′ルト、パラジウム、白金を、ｍは−
   １又は−２の整数を、Ａはｍが−１のときは１価のカチ
   オンを、ｍが−２のときは２価のカチオンを表わす）で
   示される有機金属錯体である特許請求の範囲第１項記載
   の印版材料。