JPS58223639A - 光フアイバ端面への反射防止膜形成方法 - Google Patents

光フアイバ端面への反射防止膜形成方法

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JPS58223639A
JPS58223639A JP57106381A JP10638182A JPS58223639A JP S58223639 A JPS58223639 A JP S58223639A JP 57106381 A JP57106381 A JP 57106381A JP 10638182 A JP10638182 A JP 10638182A JP S58223639 A JPS58223639 A JP S58223639A
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JP
Japan
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optical
fiber
optical fiber
antireflection film
tips
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JP57106381A
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JPH0250065B2 (ja
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Hiroki Nakajima
啓幾 中島
Eiji Mishiro
三代 英治
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (a)  発明の技術分野 本発明は光コネクタに収容する光フアイバ端面への反射
防止Hへの形成方法に関′する。
fb)  技術の背景 光通信は光ファイバを伝送路とし、レーザ光などを用い
て通信を行うものである。こXで光ファイバにけ^純度
の二酸化硅素(siot)を主成分とする石英系ファイ
バ、多成分のガラスからなる多成分系ファイバおよび合
成樹脂からなるグラスチック系ファイバなどがある。然
し光通信に使用される光ファイバは低損失なことが必要
条件であシ、この点から石英系ファイバが主として用い
られ、現在は波長1.2〜1.3 pm領域において0
5〔d J3 /km :]程度の低損失のものまで実
現されている。
さて、光通信路における光ファイバの接続は光コネクタ
を用いて行われるが、光ファイバと空気との屈折率が異
るために界面における反射が避けられずそれによる損失
を生じていた。
(C)  従来技術と問題点 第1図は元コネクタの断面構造を示すものであって(A
lは装着後の状態また03)は光ファイバの外観を示し
ている。
ここで光ファイバの場合光をファイバ内に閉じ込めるた
めにレーザ光が伝播する中心のコア部分の屈折率を周囲
のクラッド部より大きく形成されている。例えは石英系
光ファイバの場合コア部分の屈折率は1.46、クラッ
ド部分は1.45程度であリ、また大きさについて言え
ば線径が1mmのファイバの鳴合、コア部分の直径は約
50μm1またクラッド部分の直径は約125μmであ
り、これを合成樹脂例λ−ばナイロンにより被覆し保繰
することによってファイバケーブルが構成されている。
ζ\で光フアイバ相互を接続するには第1図(I3)に
示すよう罠プラスチック被覆1を部分的に除いて光ファ
イバ2を露出させた1対の光ケーブル3.3′をそれぞ
れフェルールに固定し研磨盤を使用してフェルールの端
面と光ファイバ2の端面とが同一面と々るように研磨す
る。研磨が終った光ファイバは第1図囚に示すようにフ
ェルール44′に固定された才まの状態でアダプタ5に
収容後カップリングナツトC6′を用いてアダプタ5に
嵌着することで光ファイバ22′の接続が行われていた
。然し乍らこの場合、光ファイバ22′の接続は完全に
行われているわけではなく数10!inの間隙の存在は
腫けられず、光ファイバと空気との屈折率が異るため反
射を生じ1ケ所につき約4%の反射損失を生じている。
また反射光が存在するとこれがレーザ光源にまで戻る結
果としてレーザ発振の不安定性を招いている。それでこ
れを防ぐ方法として光ファイバの端面に反射防止膜を設
けれはよいことは判っていたが、光フアイバケーブルの
長さが充分に長いためにこの端面のみ弁動に反射防止膜
を設ける方法は見当らなかった。
(d)  発明の目的 本発明は光フアイバケーブルの端面に酸化物系の多層構
成の反射防止膜を形成する方法を提供することを目的と
する。
tel  発明の構成 本発明の目的は端面を研磨した複数個の光フアイバケー
ブルを縦に分割したゴム弾性をもつ円筒状のファイバホ
ルダに挟着した状態でスパッタ装置に装着し、次にこの
光ファイバの先端部を陽極基板に予め設けである複数個
のファイバ孔よシ突出せしめた状態でスパッタ処理を施
すことによって多層膜からなる反射防止膜を光ファイバ
の先端部に設ける反射防止膜形成方法により達成される
(f)  発明の実施例 本発明は酸化物系のr*iを層状に形成することによシ
使用波長領域に互って反射防止を行うものであって、薄
膜の拐料としては5iO1(屈折率1.45 )、二酸
化チタンTi1l(屈折率2.3)、酸化アルミAAI
O+(屈折率1.65)などがあり、これを層状に形成
して反射防止膜とする。
この組合せKついて例を挙げれば、5iot−AAOs
−TiO2−5lotからなる組合わせ、或はA&へ−
Ti01−8iO1の組合せなどがよい。
本発明はこれらの酸化物をスパッタ方法によシ形成する
ものであるがこの場合に適当な膜厚は次式で与えられる
乙・±・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・(1)   n ここでλ・・・・・・レーザ光の波長 ル・・・・・・酸化物の屈折率 以下薄膜形成法について説明する。
第2図は本発明に係るスパッタ装置の構成図また第3図
は光ファイバをセットする陽極の構成を示すものである
第2図のスタッパ装置は陽極7およびファイバホルダの
装着口8を除いては通常のスパッタ装置す と変らない。すなわちスパッタ〃べき酸化物よりなるタ
ーゲット9は陰極10上にセットされていると共に内側
を水冷されてお勺高圧it源11の負極側に接続されて
おシまた陽極7は電源11の正極側に接続されている。
またIII源より絶縁されて存在する排気鐘12は図示
してない排気系により排気口13よシ排気されると共に
ニードルパルプ14を通してアルゴン(At)或は酸素
(Oりなどが供給され、一定の真空度の下でスパッタが
行われるようになっている。なおスパッタ効率を高める
ためにバイアスコイル15が設けられている。
以上のようなスパッタ装置において複数個の光ケーブル
3は第1図(131に示すように先端部のプラスチック
被覆1を除き先端部を研磨した状態のものを排気鐘のフ
ァイバホルダの装着口8を通して装置内に導き陽極板1
6設けである多数のケーブルセット孔17に挿入する。
こ\でケーブルセット孔17は光ケーブル3が嵌合する
大きさに作られている。こ\で陽極板16に設けられて
いるケ−ブルセノ1孔17の先端のファイバ孔18は光
ファイバ2の径に合わせ段差をもって設けられているの
で九ファイバ2は陽極16の下面より僅かに突出する状
態に保持される。なお陽極板16の内部は水冷されてお
り、スパッタの際の発熱により、ケーブルのプラスチッ
ク被覆1が軟化溶着しないようになっている。
さて必要数の光ケーブル3を陽極板16に挿着した後は
縦に2分割された円筒状のゴム弾性をも゛つ拐科例えば
シリコン樹脂よりなるファイバホルダに光ケーブル3を
挟着しファイバホルダの装着口8に装着することによシ
気密を保持することができる。
このようにして光ケーブル3の一部のみを装置内に入れ
以後通常のスパッタを行うことにより5los 、’I
”lOt 、 A^0.などの酸化物を光ファイバ2の
断面に析出させ、反射防止膜を作ることができる。
(gl  発明の効果 本発明の実施により光ファイバの端面に対し反射防止膜
の形成が可能となりこれにより光コネクタ接続における
反射損失を無くすることが可j泪となった。
【図面の簡単な説明】
第1図囚は光コネクタの断面図で同図(13)は光ケー
ブルの斜視図、第2図は本発明を突流するに必要なスパ
ッタ装置の構成図、また第3図はこの陽極板の構造で(
イ)は正面図、03)l−4断面図である。 図において、1けプラスチック被覆、22’(ri光フ
ァイバ33′は光ケーブル、7は陽極、8t↓フアイバ
ホルダの挿入口、16は陽極板、17はケーブルセット
孔、18はファイバ孔。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 端面を研磨しまた複数個の光フアイバケーブルを縦鈍分
    割したゴム弾性をもつ円筒状のファイバホルダに挟着し
    た状態でスパッタ装置に装着し、次に該光ファイバの先
    端部を陽極基板に予め設けであるF l’& flZI
    のファイバ孔より突出せしめた状態でスパッタ処理を施
    すことによって多属腋からなる反射時+L、膜を尤ファ
    イバの先端部に設けることを%徴とする光フアイバ端面
    への反射防止膜形成方法。
JP57106381A 1982-06-21 1982-06-21 光フアイバ端面への反射防止膜形成方法 Granted JPS58223639A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57106381A JPS58223639A (ja) 1982-06-21 1982-06-21 光フアイバ端面への反射防止膜形成方法

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JP57106381A JPS58223639A (ja) 1982-06-21 1982-06-21 光フアイバ端面への反射防止膜形成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58223639A true JPS58223639A (ja) 1983-12-26
JPH0250065B2 JPH0250065B2 (ja) 1990-11-01

Family

ID=14432127

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JP57106381A Granted JPS58223639A (ja) 1982-06-21 1982-06-21 光フアイバ端面への反射防止膜形成方法

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JP (1) JPS58223639A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2576302A1 (fr) * 1985-01-22 1986-07-25 Avx Corp Procede d'application de revetements conducteurs sur des corps ceramiques
JPH01118807A (ja) * 1987-11-02 1989-05-11 Hitachi Ltd チタン酸化物薄膜の製造方法
EP0473140A2 (en) * 1990-08-29 1992-03-04 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method of forming thin film on fiber end surface
WO2004061502A1 (en) * 2002-12-19 2004-07-22 3M Innovative Properties Company Optical fiber mount for vapor deposition equipment

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EP0473140A2 (en) * 1990-08-29 1992-03-04 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Method of forming thin film on fiber end surface
WO2004061502A1 (en) * 2002-12-19 2004-07-22 3M Innovative Properties Company Optical fiber mount for vapor deposition equipment

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JPH0250065B2 (ja) 1990-11-01

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