JPS58216719A - ガスから水素を除去する方法 - Google Patents

ガスから水素を除去する方法

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JPS58216719A
JPS58216719A JP58040521A JP4052183A JPS58216719A JP S58216719 A JPS58216719 A JP S58216719A JP 58040521 A JP58040521 A JP 58040521A JP 4052183 A JP4052183 A JP 4052183A JP S58216719 A JPS58216719 A JP S58216719A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は気体から水素の除去の方法、及び特に周辺温度
で湿性空気流から水素の除去の方法に関する。
空@流から水素の除去に対する従来の触媒法は触媒の使
用を含み、そこでは空気流と触媒床を比較的託い温度、
例えば100か5150℃に加熱しなければならない。
これは大きな流量の゛空気が含まれる場合には著しいエ
ネルギーの消耗、並びに余分のコスト、そして通常には
周辺温度で処理空気流を戻すために必要とするように、
必要な加熱器と流出空気を冷却するための装置の複雑さ
を含む。
;水素は多くの給源、例えば水素発生装置及び蓄電池充
電の操作から空気流中に発生する。閉じた大気空間では
、水素爆発又は火災の危険を打消すために、水素濃度を
下方爆発限界< L、E、L、 )以下、例えばり、E
、L、の50から60%に保つことが必須である。
本出願人は現在周辺温度で操作でき、従って処理空気流
の加熱と冷却に関連した操作と資本コストを軽減する空
気流から水素の除去のための方法を開発した。
従って、本発明はまた酸素を含む気体を周辺温度で0.
25から2.5重1係の白金及び0.25から25重量
係のパラジウムを含浸させた酸化スズとアルミナのキャ
リアを含む触媒と接触させることを含む前記の気体から
水素の除去のfこめの方法を供する。
本発明の方法は湿性空気、例えば20から100係の範
囲内の相対湿度を有する空気から水素の除去に特に適し
ている。
本発明の方法で処理する気体は周辺温度、例えば10か
660℃の範囲内、特に約20 ’0である。
この触媒キャリアは好ましくは1oから5o重i!′係
のアルミナ三水和物、更に好ましくは20重この触媒キ
ャリアにはまたo、25から2.5重量%の周期律表の
第1族の一つ又はそれ以上の他の金属を含浸させること
ができる。第1族金属の総葉は好ましくは約6憲童係を
越えるべきではない。
本発明では触媒は酸素の存在で水素の酸化が周辺温度ま
で進むことができる程十分に活性であり、従って処理空
気流の加熱と冷却に関連した操作と資本コストを軽減す
る。
本発明の方法の好適用途では、水素含有空気流を閉じた
空間から取出し、触媒を含む装置に通過させ、ここで水
素を水に酸化しそして次に水素を含まない空気を閉じた
空間に戻す。
本発明の方法をまた窒素のような他の気体から水素を除
去するために使用でき、そしてこの場合には少し過剰の
酸素を加える必要がある。更にまた本発明の方法を水素
の添加後に不活性気体から少量の酸素の除去のために使
用できる。
本発明に使用する触媒の調製のための好適方法の概観を
下記に示す。
市販の酸化スズ(メタスズ酸として知られる)を均質に
fで10〜50係のアルミナ三水和物(20%が好適レ
ベルである)と乾式混合する。
次に結果の粉末を必要な形状のペレットに圧縮する。
矢にこのペレットを1〜4時間120から250℃の範
囲内の温度で乾燥しそして最後に6時間450から55
0℃の範囲内の温度でか焼するが、500℃か好適であ
る。
仄に、好適な塩である水酸化テトラアミン第一白金[P
t(NH4) 4](OH) 2及び硝酸テトラアミン
パラジウム[Pa(NH3)4(NOa)2の水溶液を
使用してか焼したベースペレットに0.25から2.5
重量%の白金(Pt )及び0.25から2.5重量%
のパラジウム(Pd )を含浸させる。他のPt及びP
d可溶性塩を使用できる。イオン交換法又は回転蒸発技
術を使用してこのベースの上に金属溶液な含浸できる。
すべての金属塩がペース上に吸収されそして触媒ペレッ
トが表面上乾燥する時に、このペレットを2から5時間
空気中で100から180℃の範囲内の温度で乾燥しそ
して次に2から5時間650から500℃で空気中でか
焼した。
前記のように製造したか焼ベレットを200から450
℃の温度で2から5時間5チ水累、95係窒素v/vの
気流中で還元する。気体容積対触媒容槓比1’OO,:
1を使用する。この時間の末期に水素流を停止しそして
窒素中でこの触媒を40から100℃の温度に冷却する
にまかせる。冷却した時に、窒素中の1から10係の気
体混合物を触媒と接触させそして最初の接触で見られた
発熱がゼロに戻り低下するまで触媒上に流す。冷却した
時に、触媒は使用可能な状態である。
前記のよ’>fc製造したペレットに対する別法として
任意の寸法の押出物としてこの触媒を調製できるが、た
だし好適な寸、法は下記の方法により、直径2 vtw
、 X長さ1cIILの押出物である。(atからの混
和した均質粉末なドウが形成されるまで希硝酸で混練す
る。次にこのドウを押出して好適な寸法の押出物を生ず
る。結果の湿性押出物を乾燥し、か焼しそして白金及び
パラジウムを含浸させそしてペレットの製造に対して前
記と同じ方法で還元する。
本発明を更に図面の第1図に関して説明するが、これは
触媒を含有しかつこれに水素含有空気流を接触させるた
めの装置の一具体例を示す。水素を除去することが望ま
れる閉じた空間1がら空気送風機又はファン11によっ
て水素含有空気流を引出しそして容器3の中に入口管2
に沿って送る。
この容器は汚染した空気に存在しかつその蒸気が除去さ
れない場合には触媒の酸化活性の劣化を引起こす有機蒸
気の除去のために活性炭のプレフィルタ−床4又は類似
の材料を含む。処理されるべき空気流が触媒の性能に影
響する汚染物を含まないならばこのプレフィルタ−を含
むことが不必要であることは認められよう。
この空気流は容器3を通して床5の触媒部分の中に上方
へ送られる。この・触媒部分の長さ対直径比は床を越え
て圧力低下を最小にするために好ましくは最小にされる
が、触媒と空気/水素流の有効な接触を促進するために
十分な大きさのものでなければならない。実際には、約
1:1の長さ対直径の比が適切であることが判る。空気
流の空間速度(下記の通り定義する:触媒床の容積で割
った、時間当り触媒を通過した空気/水素の容積の数値
Nt、10.D 00カラ30,000 h−1(D範
囲内にあることが有効であると判明し、約20.000
・h−1が好適な数値である。この範囲の下端の空間速
度は空気流から水素の完全な除去の、ために使用され、
一方この範囲の上端に近い数値は水素の一部の除去が必
要である時の入選択される。
そこで実質上水素を含まない空気流は向流水入口8及び
出口9により冷却される任意の空気チラー7を介して出
口管6に容器3から送られる。この空気チラーは特定の
状況で必要であり例えば高い水素濃度、例えば1から2
容量係が入口空気中、に存在し、しかも水素が触媒床上
で酸化される時の発熱反応による結果の温度上昇は空気
が閉じた空間に戻される時には有害な場合である。次に
この処理した空気流を水素分析器10の感知要素の上に
送り、このため水素を除去するための装置の効能を監視
できる。アラームコンタクトをこの水素分析器に設け、
このためこのコンタクトはファン11を切断しそして処
理し゛た空気中の水素濃度が当面の限界以上に上昇する
場合には可聴警報を与える。同様に第二の水素分析器を
使用して入口空気中の水素濃度を測定して入口空気中の
水素濃度が下方爆発限界に達した場合に第一の分析器に
組込まれたものと同一の性能を発揮する。次にこの空気
流を送風機又はファン11を介して送る。
床を通して所望の空気流速及び床/管路圧力損失に関し
てこのファンを選択する。最後に空気流を出口管を通し
て送りそして戻りの個所が入口管2からできるだけ遠く
に位置することを確保して、閉じた空間に戻す。
本発明を更に下記の例に関して説明する。
旦」 251/分の流速で2%v/vの濃度の水素含有空気を
150α3の容積を有する触媒床の上に送った(空間速
度−10,000h−1)。床中に含まれる触媒は下記
の組成を有した: アルミナ A輸O,として   1360%V酸化スズ
  5n02として  84.5%L〜パラジウム  
pdとして    2.0係W/白   金  pt 
 として     0.5 % w/この空気を大気圧
に20℃の温度に保ち、そしてその相対湿度を50%に
調節した。実験を617゜時間の間続け、その時間の開
法を離れる空気流中の水素濃度を連続的に監視すると水
素を検出でき−なかった(検出限界0.01%V/V)
。出口空気の温度はこの時間中約150℃であった。
例2 501/分の流速で0.2%v/vの濃度で水素含有空
気を、150cIrL3の容積を有する例と同一の触媒
を含有する触媒床の上に通過させた(空間速度=20,
000 h−1)。この空気を大気圧で20℃の温度に
保ちそしてその相対湿度を50優に調節した。この実験
を102時間の間続け、その時間の間中気流中の水素濃
度を連続的に監視すると0.04から0.09 % v
/vの範囲内にあることが判明した。床を離れる空気の
温度はこの時間の間25℃であった。
【図面の簡単な説明】
第1図は触媒を含有しかつこれに水素含有空気を接触さ
せるための本発明の装置の一具体例を示す。 1・・・空間 2・・・入口管 3・・・容器 5・・
・床6・・・出口管 7・・・空気チラー 8・・・流
水人口9・・・流水出口 10・・・水素分析器 11
・・・ファン 代理人 浅 村   皓 外4名 図面の浄h(内容に変更なし) 手続補正書(方式) %式% 1、事件の表示 昭和58  年特許願第 40521    号3、補
正をする者 事件との関係 特イ出願人 4、代理人 56補止命令の日付 昭和58  年6月28日 6、補正により増加する発明の数

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 酸素をも含むガスから水素を除去する方法において、上
    記ガスを周囲温度で、酸化錫とアルミナとの担体に、0
    .25〜2.5重量係の白金と0.25〜2.5重量係
    のパラジウムとを含浸させた触媒と接触させることを特
    徴とする、ガスから水素を除去する方法。
JP58040521A 1982-03-12 1983-03-11 ガスから水素を除去する方法 Granted JPS58216719A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB8207233 1982-03-12
GB8207233 1982-03-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58216719A true JPS58216719A (ja) 1983-12-16
JPS6363017B2 JPS6363017B2 (ja) 1988-12-06

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ID=10528958

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58040521A Granted JPS58216719A (ja) 1982-03-12 1983-03-11 ガスから水素を除去する方法

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US (1) US4459270A (ja)
EP (1) EP0089183B1 (ja)
JP (1) JPS58216719A (ja)
AT (1) ATE28171T1 (ja)
DE (1) DE3372356D1 (ja)

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