JPS5821583A - コリメ−タ− - Google Patents
コリメ−タ−Info
- Publication number
- JPS5821583A JPS5821583A JP56121125A JP12112581A JPS5821583A JP S5821583 A JPS5821583 A JP S5821583A JP 56121125 A JP56121125 A JP 56121125A JP 12112581 A JP12112581 A JP 12112581A JP S5821583 A JPS5821583 A JP S5821583A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- collimator
- holes
- allowed
- detector
- diameter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 3
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
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- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子顕微鏡のアタッチメノシとして使用される
X線マイタロアナライザー(以下xMムという)の半導
体検出器の入射部に取シ付けられるコリメーターに関す
る。さらに、コリメーターの従来の働きである散乱線を
防止する能力を同上させる目的で、二つの孔を有するよ
うKしたのが。
X線マイタロアナライザー(以下xMムという)の半導
体検出器の入射部に取シ付けられるコリメーターに関す
る。さらに、コリメーターの従来の働きである散乱線を
防止する能力を同上させる目的で、二つの孔を有するよ
うKしたのが。
本発明の特徴である。
111図に従来のコリメーターの構成国を示す−4、サ
ンプル上のjllcK電子ビームが照射され。
ンプル上のjllcK電子ビームが照射され。
:Iリメータ−6の孔を通って半導体検出器hKX線及
び散1線が入射して論る。ここで、サンプル上のドーナ
ツ型の領域dからの散乱線は、コリメーター〇の内壁で
鏡面散乱して検出rjIbに入射している。
び散1線が入射して論る。ここで、サンプル上のドーナ
ツ型の領域dからの散乱線は、コリメーター〇の内壁で
鏡面散乱して検出rjIbに入射している。
この強−散乱線を検出mhK入射させないことは。
XMムのデーターのバッタグラy)″を小さくシ。
8/1iを上げることにつながる。
未発明は、上に述べtような強い散乱線を防止すること
を目的としt2つの孔を有するコリメーターに関するも
のである。
を目的としt2つの孔を有するコリメーターに関するも
のである。
第2図に本発明によるコリメーター−の構成国を示す、
領域dからの強−散乱線は検出器&に入射せず、途中の
コリメーターによ〕纏断されている。途中のコリメータ
ーは1図中のlとfの関みの領域にあればその効果を発
揮する。コリメーターにあ社る孔の径は1分析点Cと検
出器すを結ぶ線が線断されない大きさが望ましい、従り
て検出器hK近^方にコリメーターを設ければ、孔の径
は大きくなプ1分析点GK近い方に設ければ孔の径は小
さくてよ−。グラファイト材を使用して。
領域dからの強−散乱線は検出器&に入射せず、途中の
コリメーターによ〕纏断されている。途中のコリメータ
ーは1図中のlとfの関みの領域にあればその効果を発
揮する。コリメーターにあ社る孔の径は1分析点Cと検
出器すを結ぶ線が線断されない大きさが望ましい、従り
て検出器hK近^方にコリメーターを設ければ、孔の径
は大きくなプ1分析点GK近い方に設ければ孔の径は小
さくてよ−。グラファイト材を使用して。
本発明によるコリメーターを作製し、その効果を実験し
た。X線の分析領−1,0〜20&mV において8/
’Mはほぼ5倍向上した。
た。X線の分析領−1,0〜20&mV において8/
’Mはほぼ5倍向上した。
以上述べた15に、二つの孔を有するコリメーターの使
用K J: l) 8/Mを改善し、 XMAの検出線
i及びNWの向上が計れる。
用K J: l) 8/Mを改善し、 XMAの検出線
i及びNWの向上が計れる。
第1図は従来のコリメーターの構J図
α・・ツリメーター
b・・半導体検出器
C・・電子ビームが照射されている測定点d・・試料面
上で、−3リメーターの内面で鏡面反射して検出器に入
射してしまう領 域 謳2図は本発明のコリメーターの構鷹図−・・本発明に
するコリメーター /、gas Ce hを結ぶ線と散乱線の交叉する点に
・・新しく般社るコリメーターの有効な設電範囲を示す
e 以 上
上で、−3リメーターの内面で鏡面反射して検出器に入
射してしまう領 域 謳2図は本発明のコリメーターの構鷹図−・・本発明に
するコリメーター /、gas Ce hを結ぶ線と散乱線の交叉する点に
・・新しく般社るコリメーターの有効な設電範囲を示す
e 以 上
Claims (1)
- X線マイタロアナライザーで使用される半導体検出器の
入口に使用され、前部と後部に二つの孔を有することを
特徴とすゐコリメーター。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56121125A JPS5821583A (ja) | 1981-07-31 | 1981-07-31 | コリメ−タ− |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56121125A JPS5821583A (ja) | 1981-07-31 | 1981-07-31 | コリメ−タ− |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5821583A true JPS5821583A (ja) | 1983-02-08 |
Family
ID=14803496
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56121125A Pending JPS5821583A (ja) | 1981-07-31 | 1981-07-31 | コリメ−タ− |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5821583A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002097826A1 (en) * | 2001-06-01 | 2002-12-05 | Panalytical B.V. | X-ray optical system |
-
1981
- 1981-07-31 JP JP56121125A patent/JPS5821583A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2002097826A1 (en) * | 2001-06-01 | 2002-12-05 | Panalytical B.V. | X-ray optical system |
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