JPS58200571A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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Publication number
JPS58200571A
JPS58200571A JP57084229A JP8422982A JPS58200571A JP S58200571 A JPS58200571 A JP S58200571A JP 57084229 A JP57084229 A JP 57084229A JP 8422982 A JP8422982 A JP 8422982A JP S58200571 A JPS58200571 A JP S58200571A
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JP
Japan
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output
memory cell
input
memory
signal
Prior art date
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Application number
JP57084229A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideyoshi Shimura
志村 秀吉
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

PURPOSE:To largely improve the yield of semiconductor memory with less regions of redundant memory by a method wherein transfer gates are provided between a column switch and a sense-up, and the signals which specify input- output blocks are inputted into the gates. CONSTITUTION:When a defective memory cell exists at the main memory region 40, the level of the signal 54 is 1, then only the redundant memory cell 50 is selected, and thus the information is passed through the forth transfer gates 62 and 64 of the input-output block wherein bit lines 51 and 51', the data lines 55 and 55' of the column switch 52, and the defective memory exist, then inputted into the sense-up 46 and transferred to an output buffer. Since the signal 54 of 1 level is inputted into a NAND circuit 57, the NAND circuit 57 turns at 0 level and thus the second and forth transfer gates 62 and 64 turn into the state of selection, when specifying signals 56 are all 1 (when selecting the input-output block wherein the defective memory cell exists).

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は不良メモリーセルの存在する主メモリー領域を
冗長メモリー領域と交換することにより半導体メモリー
の歩留りを向上することの出来る半導体装置に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor device that can improve the yield of semiconductor memories by replacing a main memory area in which defective memory cells exist with a redundant memory area.

半導体メモリーが社会において広く使用されるためには
、半導体メモリーを安価に社会に提供する必要がある。
In order for semiconductor memory to be widely used in society, it is necessary to provide semiconductor memory to society at low cost.

そのためには、半導体メーカーとして歩留りの高い半導
体メモリーを実現することが重要である。
To this end, it is important for semiconductor manufacturers to realize semiconductor memories with high yields.

半導体メモリーの製造に関して言えば、半導体メモリー
の容量の小さい時期においては半導体メモリーのチップ
内に冗長メモリー領域を有する構成を採用しなくとも、
比較的高い歩留りで完全良品な半導体メモリーを得るこ
とが可能であった。
Regarding the manufacturing of semiconductor memory, when the capacity of semiconductor memory was small, there was no need to adopt a configuration with a redundant memory area within the semiconductor memory chip.
It was possible to obtain perfectly good semiconductor memory with a relatively high yield.

しかし、超LSI技術の急速な進歩に伴なって、半導体
メモリー容量が64にピッ)、25eKビツトと増加し
てくると、半導体メモリーのチップ内に冗長メモリー領
域を有する回路構成にしなければ、高い歩留りで完全良
品な半導体メモリーを得ることは益々困難になって来て
いる。
However, with the rapid progress of VLSI technology, the capacity of semiconductor memory has increased from 64 bits to 25eK bits. It is becoming more and more difficult to obtain semiconductor memories that are completely good in terms of yield.

従来の半導体メモリーの一例として、第1図にスタチッ
ク・ランダム・アクセスメモリー(SRAM)の構成を
示す。第1図において、1は主メモリーセル、2はロウ
アドレス、3はロウデコーダー、4はコラムアドレス、
6はコラムデコーダー、6は入出力回路、7は入出力制
御信号、8は入出力制御回路、9は入出力端子である。
As an example of a conventional semiconductor memory, FIG. 1 shows the configuration of a static random access memory (SRAM). In Figure 1, 1 is the main memory cell, 2 is the row address, 3 is the row decoder, 4 is the column address,
6 is a column decoder, 6 is an input/output circuit, 7 is an input/output control signal, 8 is an input/output control circuit, and 9 is an input/output terminal.

スタチックRAMにおいて、外部から与えられるロウア
ドレス2、コラムアドレス4の信号を各々ロウデコーダ
ー3とコラムデコーダー5でデコー1しそれぞれX方向
、Y方向を選択し、主メモリーセル1より特定の1個の
メモリーセルを選択している。こうして選択されたメモ
リーセルの情報は入出力回路61(送られ増幅され、入
出力端子9を通して出力される。
In static RAM, externally applied row address 2 and column address 4 signals are decoded by row decoder 3 and column decoder 5, respectively, to select the X direction and Y direction, and select a specific one from main memory cell 1. A memory cell is selected. The information of the memory cell selected in this way is sent to the input/output circuit 61, amplified, and outputted through the input/output terminal 9.

半導体メモリーにおいて、ロウデコーダー3とコラムデ
コーダー6で選択されたメモリーセルの情報が入出力回
路6のセンスアンプに入るまでの経過を第2図を用いて
以下に説明する。第2図において、1oは主メモリ、i
ニセル領域、1σは1個のメモリーセル11 、11’
はビットライン、12はコラムスイッチ、13はワード
ライン、14はコラムデコーダーからの出力信号、15
 、16’はデーターライン、16はセンスアンプ、1
7.17’は出力バッ7アーへの出力線を示す。
In a semiconductor memory, the process by which information of a memory cell selected by the row decoder 3 and column decoder 6 enters the sense amplifier of the input/output circuit 6 will be described below with reference to FIG. In Figure 2, 1o is the main memory, i
Nicell region, 1σ is one memory cell 11, 11'
is a bit line, 12 is a column switch, 13 is a word line, 14 is an output signal from a column decoder, 15
, 16' is a data line, 16 is a sense amplifier, 1
7.17' indicates the output line to the output buffer 7.

以下ニ、メモリーセル1o′カラ出力ハノフアーへの信
号経路を説明する0 ワードライン13、コラムデコーダーからの出力14に
より主メモリーセル領域10から特定の1個のメモリー
セル10’を選択すると、メモリーセル10’の情報は
ビットライン11 、11’に出力され、コラムスイッ
チ12のトランスファゲートを通り、データーライン1
6 、15’を経て、センスアンプ16に入る。メモリ
ーセル10′の情報D1Dばこのセンスアンプ16によ
り増幅されて、17゜17′を通って出力バッファーへ
と転送される。
Below, the signal path to the memory cell 1o' color output Hanofer will be explained. The information on 10' is output to bit lines 11 and 11', passes through the transfer gate of column switch 12, and is transferred to data line 1.
6 and 15', and enters the sense amplifier 16. The information D1D of the memory cell 10' is amplified by the sense amplifier 16 and transferred to the output buffer through 17.degree. 17'.

以上、従来の半導体メモリーにおいて、冗長メモリー領
域は設けられておらず、主メモリー領域1oの中に1ビ
ツトでも不良メモリーセルが存在すると、その半導体メ
モリーは不良品とみなされる。このように主メモリー領
域10だけで、完全良品な半導体メモリーを得ようとす
る構成であると、今後半導体メモリー容量が64にビッ
ト、266にビットと大容量になると歩留りは上がらず
、半導体メモリーを安価に社会に提供することは益々困
難になる。
As described above, in the conventional semiconductor memory, a redundant memory area is not provided, and if even one bit of defective memory cell exists in the main memory area 1o, the semiconductor memory is considered to be a defective product. If the configuration is such that a perfectly good semiconductor memory is obtained using only the main memory area 10, as the semiconductor memory capacity increases to 64 bits and 266 bits in the future, the yield will not increase and the semiconductor memory will be Providing products to society at low prices is becoming increasingly difficult.

本発明は上記欠点にかんがみなされたもので、本発明は
冗長メモリー領域を半導体メモリーに設け、歩留向上を
図り、安価な半導体メモリーの製造価格を提供すること
を目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks, and an object of the present invention is to provide a semiconductor memory with a redundant memory area, improve the yield, and provide a low manufacturing cost of the semiconductor memory.

以下、図面を用いて本発明の詳細な説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in detail using the drawings.

第3図に本発明の一実施例はかかる冗長メモ+7−領域
を有する半導体メモリーの構成を示す。第3図において
、31は主メモリー領域、22はロウアドレス、23は
ロウデコーダー、24はコラムアドレス、26はコラム
デコーダー、26は入出力回路、27は入出力制御信号
、28は入出力制御回路、29は入出力端子、3oは冗
長メモリー領域、31は不良メモリーセルの存在する主
メモリー領域に相当するアドレス入力信号が入力された
時のみ出力信号を発生させる一致回路、32は一致回路
31からの出力をデコードする予備デコーダー、33は
予備入出力回路を示す。
FIG. 3 shows the configuration of a semiconductor memory according to an embodiment of the present invention having such a redundant memory +7- area. In FIG. 3, 31 is a main memory area, 22 is a row address, 23 is a row decoder, 24 is a column address, 26 is a column decoder, 26 is an input/output circuit, 27 is an input/output control signal, and 28 is an input/output control circuit. , 29 are input/output terminals, 3o is a redundant memory area, 31 is a matching circuit that generates an output signal only when an address input signal corresponding to the main memory area where the defective memory cell exists is input, and 32 is from the matching circuit 31. 33 indicates a preliminary input/output circuit.

まず、半導体メモリーは、主メモリー領域21を選択す
るように設計されている。半導体メモリーをLSIテス
ターでテストし、不良メモリーが存在しても冗長メモリ
ー領域30により救済可能かを判定し、もし、冗長メモ
リー領域30をもって不良救済可能であるなら、その不
良メモリーセルの存在する人出カプロツクとコラムアド
レス番地を一致回路31の中に存在する不揮発性メモリ
ー(ヒーーズPOM等)に固定化する。こうすることに
より、主メモリー領域21の内、不良メモリーセルの存
在するコラムアドレス信号が入力された時に1−F、−
数回路31によって予備デコーダー32の出力信号のみ
をアクティブにするような信号が出力され、冗長メモリ
ー領域30のメモリーセルが選択される。ここで選択さ
れた信号は入出力回路33を径て、入出力端子29へ出
力される0 次に、第3図に示す冗長メモリー領域を有する半導体メ
モリーにおいて、ロウデコーダー23とコラムデコーダ
ー26、予備デコーダー32で選択されたメモリーセル
21.30の情報が入出力回路26.33のセンスアン
プに入るまでの経過を第4図を用いて詳細に説明する。
First, the semiconductor memory is designed to select the main memory area 21. Test the semiconductor memory with an LSI tester to determine whether even if a defective memory exists, it can be repaired using the redundant memory area 30. If the defect can be repaired using the redundant memory area 30, the person with the defective memory cell The output block and column address are fixed in a nonvolatile memory (such as Heath POM) existing in the matching circuit 31. By doing this, when a column address signal in which a defective memory cell exists in the main memory area 21 is input, 1-F, -
A signal that activates only the output signal of the preliminary decoder 32 is outputted by the multiplication circuit 31, and a memory cell in the redundant memory area 30 is selected. The signal selected here is outputted to the input/output terminal 29 via the input/output circuit 33.Next, in the semiconductor memory having the redundant memory area shown in FIG. The process by which the information of the memory cell 21.30 selected by the decoder 32 enters the sense amplifier of the input/output circuit 26.33 will be explained in detail with reference to FIG.

第4図において、4oは1人出力ブロックの主メモリー
セル領域、40′は1個の主メモリーセル、41.41
’は主メモリー領域のビットライン、42は主メモリー
セル領域のコラムスイッチ、43はワードライン、44
は主メモリー領域のコラムデコーダーからの出力信号、
45.45’は主メモリー領域のデーターライン、46
はセンスアンプ、47.47’は出力バッファーへの出
力線、5oは冗長メモリーセル領域、50’は1個の冗
長メモリーセル、51.61’は冗長メモリー領域のビ
ットライン、52は冗長メモリー領域のコラムスイッチ
、54は不良メモリーセルが存在するコラムアドレス番
地が入力された時には、主メモリー領域4oを選択せず
、冗長メモリー領域5oを選択するように予iデコーダ
ーでデコードされた信号、55.55’は冗長メモリー
領域のデータラインであり、このデーターライン65゜
65′は各入出カプロツクのセンスアンプに入力されて
いる。又66は不良メモリーセルの存在する入出カブロ
ックを指定する信号、57は多大力NAND回路、68
はインバーター、60は1人出力回路ブロックの入出力
回路の1部、51,62,63゜64は各々第1.第2
.第3.第4のトランスファーゲートである。
In FIG. 4, 4o is the main memory cell area of one output block, 40' is one main memory cell, 41.41
' is a bit line in the main memory area, 42 is a column switch in the main memory cell area, 43 is a word line, 44
is the output signal from the column decoder in the main memory area,
45. 45' is the data line of the main memory area, 46
is the sense amplifier, 47.47' is the output line to the output buffer, 5o is the redundant memory cell area, 50' is one redundant memory cell, 51.61' is the bit line of the redundant memory area, 52 is the redundant memory area The column switch 54 is a signal pre-decoded by the i-decoder so as to select the redundant memory area 5o instead of the main memory area 4o when a column address in which a defective memory cell exists is input, 55. Reference numeral 55' denotes a data line for the redundant memory area, and this data line 65.degree. 65' is input to the sense amplifier of each input/output coupler. Further, 66 is a signal specifying an input/output block in which a defective memory cell exists, 57 is a large power NAND circuit, and 68
is an inverter, 60 is a part of the input/output circuit of the single output circuit block, and 51, 62, 63°64 are the first . Second
.. Third. This is the fourth transfer gate.

但し、以下の説明においてはバイト構成のスタチックR
AMで、冗長メモリー領域50としては、1コラムのみ
を有しているものとする。
However, in the following explanation, the static R of the byte configuration
In AM, it is assumed that the redundant memory area 50 has only one column.

まず、主メモリーセル領域に不良メモリーセルの存在し
ない時には、信号54のレベルは“0”であり、コラム
デコーダーからの出力信号44のうち1つが選択されて
いる。この時、主メモIJ−セル領域4o内の1つのメ
モリーセル40′が選択され、この情報がビットライン
41.41’に出力され、コラムスイッチ42のトラン
スファーゲート、データーライン4.5. 、45’、
第1 、第3のトランファーゲート61.63を径で、
センスアンプ46に入力され、ここで増幅されて、出力
バッ7アーへ転送される。この時第2又は第4のトラン
ファゲー)62.64は閉じている。
First, when there is no defective memory cell in the main memory cell area, the level of the signal 54 is "0", and one of the output signals 44 from the column decoder is selected. At this time, one memory cell 40' in the main memory IJ-cell area 4o is selected, this information is output to the bit line 41.41', the transfer gate of the column switch 42, the data line 4.5. ,45',
The diameter of the first and third transfer gates 61 and 63 is
The signal is input to the sense amplifier 46, where it is amplified and transferred to the output buffer 7. At this time, the second or fourth transfer game (62, 64) is closed.

次に、主メモリー領域40に不良メモリーセルの存在す
る時には、信号640レベルは“1”であり、この時、
−゛コラムデコーダーからの出力信号44は全て“0”
になるよう制御されており(後述する)、冗長メモリー
セル5oのみ選択されるようになっている。冗長メモリ
ーセル50の情報はビットライン51.51’に出力さ
れ、コラムスイッチ52のトランスファゲートのデータ
ライン55.55’をへ、不良メモリーセルの存在する
入出カプロツクの第4のトランスファーゲート62゜6
4を径て、センスアンプ46に入力され、ここで、増幅
されて出力バッファーへ転送される。すなわち、″11
ルベル信号54がNAND回路57に人力されるので、
指定信号56が全て”1”のとき(不良メモリーセルの
存在する入出カブロックを選択するとき)、NAND回
路57は”0”レベルとなり第2.第4のトランスファ
ーゲート時、第1.第3のトランスファゲート61.6
3は閉じている、但し、バイト構成の半導体メモリーで
あるので、第1〜第4のトランスファゲート61〜64
は入出カブロックに相当する数、つまり8組存在し、第
2.第4のトランスファゲート62.64が開き、第1
.第3のトランスファゲート61.63が閉じているの
はその8組の内1組だけであり、この1組はB。、B1
.B2の信号により特定されており、信号56のB。、
B1.B2は不揮発性メモリー(ヒーーズROM等)に
固定している。残りの7組のものに関しては、第1.第
3のトランスファーゲート61,63が開き、第2、第
4のトランスフアーゲー)62.64が閉じている。
Next, when there is a defective memory cell in the main memory area 40, the signal 640 level is "1", and at this time,
−゛The output signal 44 from the column decoder is all “0”
(described later), and only the redundant memory cell 5o is selected. The information of the redundant memory cell 50 is output to the bit line 51.51', to the data line 55.55' of the transfer gate of the column switch 52, and to the fourth transfer gate 62.6 of the input/output coupler where the defective memory cell exists.
4, the signal is input to the sense amplifier 46, where it is amplified and transferred to the output buffer. That is, ``11
Since the level signal 54 is input manually to the NAND circuit 57,
When the designation signals 56 are all "1" (when selecting an input/output block in which a defective memory cell exists), the NAND circuit 57 becomes "0" level and the second. At the time of the fourth transfer gate, the first. Third transfer gate 61.6
3 is closed; however, since this is a byte-configured semiconductor memory, the first to fourth transfer gates 61 to 64 are closed.
There are a number corresponding to input and output blocks, that is, 8 sets, and the second . The fourth transfer gate 62,64 opens and the first
.. Only one of the eight sets of third transfer gates 61 and 63 is closed, and this one set is B. ,B1
.. It is specified by the signal B2, and B of the signal 56. ,
B1. B2 is fixed in a non-volatile memory (Head's ROM, etc.). Regarding the remaining 7 sets, 1st. The third transfer gates 61 and 63 are open, and the second and fourth transfer gates 62 and 64 are closed.

次に一致回路の一実施例を示すと第5図のようになる。Next, one embodiment of the matching circuit is shown in FIG.

第5図において、70はコラムアドレス信号、71は不
良メモリーセルの存在する主メモリー領域に相当する固
定化されたコラムアドレスいる。72はEx−NOR回
路、73は主メモリー領域に不良メモリーセルの存在し
ない時には”0”レベル、主メモリー領域に不良メモリ
ーの存在する時には”1”レベルを書き込めるような不
揮発性メモリーを有する端子、74は多大力NAND。
In FIG. 5, 70 is a column address signal, and 71 is a fixed column address corresponding to the main memory area where the defective memory cell exists. 72 is an Ex-NOR circuit; 73 is a terminal having a nonvolatile memory capable of writing a "0" level when there is no defective memory cell in the main memory area and a "1" level when there is a defective memory cell in the main memory area; 74 is a large power NAND.

75はインバータ、76は出力を示す。75 is an inverter, and 76 is an output.

まず、主メモリー領域21に不良メモリーセルが存在す
る時、端子73に接続される不揮発性メモリーに“1”
レベルを固定化し、不揮発性メモリーに不良メモリーセ
ルの存在するコラムアドレス情報71を固定化する。こ
うすることにより、コラムアドレス信号7oとして、不
良メモリーセルの存在するコラムアドレスの時のみ、出
カフ6のレベルは”1”レベルになる。この信号76を
第4図の信号54として用いる。この信号76の反転し
た信号を主メモリー領域のコラムデコーダー2sK入力
して、出力検力44がすべて”0”となる様(てゲート
構成する。こうすることにより、不良メモリーセルの存
在するコラムアドレス番地r相当するコラムアドレス信
号が入力された時に、冗長メモリーセル50を選択し、
それ以外の時は、主メモリーセル4oを選択することが
できる。
First, when a defective memory cell exists in the main memory area 21, the nonvolatile memory connected to the terminal 73 is set to "1".
The level is fixed, and the column address information 71 in which the defective memory cell exists is fixed in the nonvolatile memory. By doing this, the level of the output cuff 6 becomes the "1" level only when the column address signal 7o corresponds to a column address where a defective memory cell exists. This signal 76 is used as signal 54 in FIG. The inverted signal of this signal 76 is input to the column decoder 2sK in the main memory area, and the gate is configured so that the output detection force 44 is all "0". By doing this, the column address where the defective memory cell exists When a column address signal corresponding to address r is input, a redundant memory cell 50 is selected,
At other times, main memory cell 4o can be selected.

以上の説明には、主メモリー領域の8つの人出カブロッ
クの1つにおいて不良メモリーセルが存在する場合につ
いて述べたが、2つの相異なる入出カプロツクにおいて
不良メモリーセルが存在する時((は、前記構成の一致
回路を2つにし、冗長メモリーセル等も2組にすること
により、この不良を救済することができるのは言うまで
もない0以上に説明したように、本発明によれば主メモ
リー領域に不良メモリーセルが存在しても、その働きを
冗長メモリーセルに代替させ1、シかも、″、コラムス
イッチとセンスアンプとの間にトランスファーゲートを
設け、このゲートに入出カプロツクを特定する信号を入
力することにより、少ない冗長メモリー領域をもって、
半導体メモリーの歩留りを大幅に向上す仝ので工業的価
値が高い0
In the above explanation, the case where a defective memory cell exists in one of the eight output blocks of the main memory area has been described, but when the defective memory cell exists in two different input/output blocks (( It goes without saying that this defect can be relieved by having two matching circuits having the above configuration and two sets of redundant memory cells, etc. As explained above, according to the present invention, the main memory area Even if there is a defective memory cell in the memory cell, its function can be replaced by a redundant memory cell. 1. A transfer gate is provided between the column switch and the sense amplifier, and a signal identifying the input/output coupler is sent to this gate. By inputting, with less redundant memory area,
It has high industrial value because it significantly improves the yield of semiconductor memory.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、従来の半導体メモリーの構成図、第2図は従
来の半導体メモリー要部回路図、第3図は本発明の一実
施例に係る半導体メモリーの構成を示す図1、第4図は
第3図に示す半導体メモリーの要部回路図、第6図は一
致回路の一実施例を示す回路図である。 300ψ拳・・冗長メモリー領域、31e・0・・−L
一致回路、32・・・・・・予備デコーダ、60・・・
・・・冗長メモリーセル、64・・・・・・一致回路か
らの出力信号、56・・・・・・不良メモリーセルの存
在する人出カブロックを特定化する不揮°発性メモリー
からの信号、61.62,83.64−・・・−第1.
第2゜第3#第4のトランスファーゲート、72・・・
・Φ・Ex−NOR回路。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第2図 1θ 出カバ11.フ。 第3図 第5図 7θ r−^−)
FIG. 1 is a configuration diagram of a conventional semiconductor memory, FIG. 2 is a circuit diagram of a main part of a conventional semiconductor memory, and FIG. 3 is a configuration diagram of a semiconductor memory according to an embodiment of the present invention. is a circuit diagram of a main part of the semiconductor memory shown in FIG. 3, and FIG. 6 is a circuit diagram showing an embodiment of a matching circuit. 300ψ fist...redundant memory area, 31e...-L
Matching circuit, 32... Spare decoder, 60...
. . . redundant memory cell, 64 . . . output signal from matching circuit, 56 . Signal, 61.62, 83.64--1.
2nd゜3rd #4th transfer gate, 72...
・Φ・Ex-NOR circuit. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and 1 other person No. 1
Figure 2 1θ Exit cover 11. centre. Figure 3 Figure 5 7θ r-^-)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 主メモリーと、冗長メモリーと、前記主メモリーに接続
されたコラムスイッチと、前記冗長メモリーに接続され
た予備コラムスイッチと、前記コラムスイッチ、前記予
備コラムスイッチにそれぞれ接続された第1.第2のト
ランスファーゲートと、前記第1.第2のトランスファ
ーゲートの出力を増巾するセンスアンプとを備え、前記
主メモリーの中に不良メモリーセルが存在しない時は前
記第1のトランスファーゲートを導通させ、前記主メモ
リーの中に不良メモ゛リーセルが存在する時は前記第2
のトランスファーゲートを導通させることを特徴とする
半導体記憶装置。
A main memory, a redundant memory, a column switch connected to the main memory, a spare column switch connected to the redundant memory, and a first column switch connected to the column switch and the spare column switch, respectively. a second transfer gate; and the first transfer gate. and a sense amplifier for amplifying the output of the second transfer gate, the first transfer gate is made conductive when there is no defective memory cell in the main memory, and the sense amplifier amplifies the output of the second transfer gate. When Liesel exists, the second
A semiconductor memory device characterized in that a transfer gate of is made conductive.
JP57084229A 1982-05-18 1982-05-18 Semiconductor memory device Pending JPS58200571A (en)

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JP57084229A JPS58200571A (en) 1982-05-18 1982-05-18 Semiconductor memory device

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02146184A (en) * 1988-11-28 1990-06-05 Nec Corp Semiconductor memory
JPH06111598A (en) * 1992-09-29 1994-04-22 Nec Corp Semiconductor memory circuit
JP2011029242A (en) * 2009-07-21 2011-02-10 Fujitsu Ltd Semiconductor memory device
US10392136B2 (en) 2017-09-18 2019-08-27 Raytheon Company Offload adjustment for satellite image diversity

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