JPS58199546A - 半導体冷却装置 - Google Patents
半導体冷却装置Info
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- JPS58199546A JPS58199546A JP57081433A JP8143382A JPS58199546A JP S58199546 A JPS58199546 A JP S58199546A JP 57081433 A JP57081433 A JP 57081433A JP 8143382 A JP8143382 A JP 8143382A JP S58199546 A JPS58199546 A JP S58199546A
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- JP
- Japan
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- semiconductor chip
- container
- projection
- chip
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/373—Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
- H01L23/3736—Metallic materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/27—Manufacturing methods
- H01L2224/274—Manufacturing methods by blanket deposition of the material of the layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73253—Bump and layer connectors
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、半導体の冷却装置に糸シ、特に、配線基板上
の多数の半導体チップの冷却に好適な冷却装置に関する
。
の多数の半導体チップの冷却に好適な冷却装置に関する
。
電線基板に多数搭載した半導体チップを冷却するため、
種々の冷却装置が提案されている。その1例として、第
1図に示したように、ハンダ1を熱伝達媒体として用い
たもの知られている。しかしながら、この装置ではハン
ダ1−?2次冷却体4と半導体チップ2の熱膨張率の差
によシ、熱ストレスが加わシ、信頼性の点で問題があっ
た。
種々の冷却装置が提案されている。その1例として、第
1図に示したように、ハンダ1を熱伝達媒体として用い
たもの知られている。しかしながら、この装置ではハン
ダ1−?2次冷却体4と半導体チップ2の熱膨張率の差
によシ、熱ストレスが加わシ、信頼性の点で問題があっ
た。
本発明の目的は、熱抵抗が小さく、シかも保守性及び信
頼性の秀れた半導体冷却装置を提供することにある。
頼性の秀れた半導体冷却装置を提供することにある。
上記の目的を達成するため、本発明は、低熱抵抗化のた
めに熱伝達物質として液体金属を用い、さらに該液体金
属と半導体チップの間に、箱状の容器を設けることによ
り、信頼性の低下の要因となる、上記熱伝達物質と半導
体チップ間の熱ストレスを避け、腐食を防止したことを
特徴とする。
めに熱伝達物質として液体金属を用い、さらに該液体金
属と半導体チップの間に、箱状の容器を設けることによ
り、信頼性の低下の要因となる、上記熱伝達物質と半導
体チップ間の熱ストレスを避け、腐食を防止したことを
特徴とする。
本発明によれば、半導体チップにストレスを加えること
のない冷却装置を容易に実現することができる。
のない冷却装置を容易に実現することができる。
以下、本発明の実施例を図面を参照して説明する。第2
図は、電線基板3上に搭載された半導体チップ2を冷却
する、本発明の実施例装置を示す断面図である。本発明
の冷却装置は、冷却水の流れる通路5および突起8を持
つ2次冷却体4と、該突起8より径の大きい容器7と、
該容器7内に収容された液体金属6から構成される。2
次冷却体4は、熱伝導率の良い金属、例えば銅で作られ
てお如、突起8は、角柱あるいは円柱状であり、その表
面は、液体金属に腐食されないよう、例えばC1等でコ
ーティングしである。液体金属6め材質としては、He
、G、−?、I−G−、I−b+等の低融点の金属2
合金が適しており、半導体チップ2が発熱している使用
状態で、液体相となる金属9合金であればよい。容器7
は、熱伝導度の良い金属あるいは、SiCからなシ、半
導体チップと接する面は、精度良く平面に加工する。容
器7は、半導体チップ2と、A−SL、 A ffペー
スト等で固定しても良い。
図は、電線基板3上に搭載された半導体チップ2を冷却
する、本発明の実施例装置を示す断面図である。本発明
の冷却装置は、冷却水の流れる通路5および突起8を持
つ2次冷却体4と、該突起8より径の大きい容器7と、
該容器7内に収容された液体金属6から構成される。2
次冷却体4は、熱伝導率の良い金属、例えば銅で作られ
てお如、突起8は、角柱あるいは円柱状であり、その表
面は、液体金属に腐食されないよう、例えばC1等でコ
ーティングしである。液体金属6め材質としては、He
、G、−?、I−G−、I−b+等の低融点の金属2
合金が適しており、半導体チップ2が発熱している使用
状態で、液体相となる金属9合金であればよい。容器7
は、熱伝導度の良い金属あるいは、SiCからなシ、半
導体チップと接する面は、精度良く平面に加工する。容
器7は、半導体チップ2と、A−SL、 A ffペー
スト等で固定しても良い。
本実施例によれば、次のような効果がある。
(1)配線基板3のそり、うねりによる半導体チップ2
の高さの変化ヤ、2次冷却体4と配線基板3の熱膨張率
の差による半導体チップ2にかかるストレスを、液体金
属6によシ吸収し、安定した信頼性の高い低熱抵抗Ω熱
的接触が得られる。
の高さの変化ヤ、2次冷却体4と配線基板3の熱膨張率
の差による半導体チップ2にかかるストレスを、液体金
属6によシ吸収し、安定した信頼性の高い低熱抵抗Ω熱
的接触が得られる。
(2)2次冷却体4の突起8と容器7とが液体金属6を
介して熱的に接続されるので、装置に横ゆれが加わって
も、良好な熱的接触が得られる。
介して熱的に接続されるので、装置に横ゆれが加わって
も、良好な熱的接触が得られる。
(3)2次冷却体4は、容易に取りはずすことができる
ので、半導体チップ2のテスト、補修が容易である。
ので、半導体チップ2のテスト、補修が容易である。
(4) 突起8の径を半導体チップ2と同程度にする
ことによ)、半導体チップ内で温度バラツキを均一化で
きる。
ことによ)、半導体チップ内で温度バラツキを均一化で
きる。
本発明において、液体金属にI−、B+を用いる場合に
は、第3図に示すように、2次冷却体4の通路5内にヒ
ーター9を設けると共に、容器7と半導体チップ2は固
定しないのが好ましい。これにより、1.BIが固化し
た時の収縮のストレスを避け、また、使用時には、ヒー
ター9・で加熱してI−B+を液化し、容器7と半導体
チップ2の良好な熱的接触が得られる。
は、第3図に示すように、2次冷却体4の通路5内にヒ
ーター9を設けると共に、容器7と半導体チップ2は固
定しないのが好ましい。これにより、1.BIが固化し
た時の収縮のストレスを避け、また、使用時には、ヒー
ター9・で加熱してI−B+を液化し、容器7と半導体
チップ2の良好な熱的接触が得られる。
第1図は、従来の冷却装置を示す断面図、第211
図、第3図は本発明の実施例を示す断面図である。
2・・・半導体チップ、3・・・配線基板、4・・・2
次冷却体、5・・・冷却水通路、6・・・液体金属、7
・・・容器、8・・・2次冷却体の突起、9・・・ヒー
ター。 代理人 弁理士 薄田利幸 (5) 第 1 口 ¥52I21 第 3 図
次冷却体、5・・・冷却水通路、6・・・液体金属、7
・・・容器、8・・・2次冷却体の突起、9・・・ヒー
ター。 代理人 弁理士 薄田利幸 (5) 第 1 口 ¥52I21 第 3 図
Claims (1)
- 1、液体金属を用いて、半導体チップをその背面よシ冷
却する半導体冷却装置において、上記液体金属を収容し
、上記半導体チップの背面に接して設けられた容器と、
上記液体金属に接触する突起を有する2次冷却体とを具
備することを特徴とする半導体冷却装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57081433A JPS58199546A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 半導体冷却装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57081433A JPS58199546A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 半導体冷却装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58199546A true JPS58199546A (ja) | 1983-11-19 |
Family
ID=13746247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57081433A Pending JPS58199546A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 半導体冷却装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58199546A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63102345A (ja) * | 1986-10-20 | 1988-05-07 | Fujitsu Ltd | 半導体装置の冷却方法 |
JPH01289275A (ja) * | 1988-05-17 | 1989-11-21 | Fujitsu Ltd | 集積回路の冷却装置 |
JPH02100349A (ja) * | 1988-10-06 | 1990-04-12 | Nec Corp | Lsiケースの冷却構造 |
WO1995031005A1 (en) * | 1994-05-10 | 1995-11-16 | Unisys Corporation | Integrated circuit package having a liquid metal - aluminum/copper joint |
WO2003010815A2 (en) * | 2001-07-24 | 2003-02-06 | Unisys Corporation | Method of fabricating an alloy film on a face of a heat exchanger for an integrated circuit |
WO2004075291A1 (ja) * | 2003-02-24 | 2004-09-02 | Fujitsu Limited | 電子部品と放熱部材および、それらを使用した半導体装置の製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4933750A (ja) * | 1972-07-31 | 1974-03-28 | ||
JPS51102170A (ja) * | 1975-03-07 | 1976-09-09 | Ando Shokufu Goshigaisha | |
JPS54164723U (ja) * | 1978-05-09 | 1979-11-19 | ||
JPS5777348A (en) * | 1980-10-30 | 1982-05-14 | Hiroji Hosokawa | Base material for heat molding and heat molding method |
-
1982
- 1982-05-17 JP JP57081433A patent/JPS58199546A/ja active Pending
Patent Citations (4)
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CN100383959C (zh) * | 2003-02-24 | 2008-04-23 | 富士通株式会社 | 电子部件以及制造使用该部件的半导体器件的方法 |
US7911795B2 (en) | 2003-02-24 | 2011-03-22 | Fujitsu Limited | Electronic device including electronic component, heat dissipating member and alloy layer |
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