JPS58198840A - 立体走査型電子顕微鏡の位置補正装置 - Google Patents

立体走査型電子顕微鏡の位置補正装置

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Publication number
JPS58198840A
JPS58198840A JP8141482A JP8141482A JPS58198840A JP S58198840 A JPS58198840 A JP S58198840A JP 8141482 A JP8141482 A JP 8141482A JP 8141482 A JP8141482 A JP 8141482A JP S58198840 A JPS58198840 A JP S58198840A
Authority
JP
Japan
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scanning
deflector
electron beam
signal
generator
Prior art date
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Pending
Application number
JP8141482A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuhiro Kuroda
勝広 黒田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP8141482A priority Critical patent/JPS58198840A/ja
Publication of JPS58198840A publication Critical patent/JPS58198840A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、立体走査型電子顕微鏡により像観察をした際
に生じる像の歪みを除去する装置に関するものである。
立体観4察時に生じた像の歪みを除去する装置は、従来
全くなかった。ここでは、実際に得られた像の歪みにつ
いて説明する。
試料の立体観察は、第1図に示すように、試料4に対し
てtl−:’tなる2個の傾きをもって電子線(それぞ
れ2.3)’i照射し、それぞれの傾き時に試料4上を
2次元走査5すればよい。この2個の傾きは、人間の目
の右、左眼に対応するものである。
第2図は、このとき得られる像の1例を示したものでa
)、b)、c)は電子線の傾きがそれぞれ−t、O,r
(軌道3,1.2に対応)に対応するものである。b)
は、t=0の時であるから像の歪みがほとんど観測され
ていないが、a)。
C)のように電子線が傾斜して入射した場合には歪みが
生じている。そこでもし、像の1点6の高でを正確に測
定しようとした場合、6aと60の位置の差が高ざの情
報を示しているのであるが、偏向器固有の偏向歪みがあ
ると正確に測定できない問題がある。本発明は、この偏
向歪みを除去し、6aと6Cの位置の差が高さのみの情
報によるものであるようにする手段を提供する。
本発明の目的は、像の立体観察時に生じる偏向器の偏向
歪みを除去する装置を提供することにある。
本発明は、偏向収差理論より考案したものである。偏向
器には、立体観察用に2方向に電子aを傾むける偏向器
と、像観察用の走査用偏向器とがめる。前者は試料面の
垂線に対して角度±1(1=t、+it、)だけ傾斜さ
せるもので、+1゜−1時に後者の偏向器により電子線
は走査(任意の走査点@ c = x + iyとする
)され像観察される。このときの偏向歪み量δC(δC
=δχ十jay)は、収差論よジ次式となる。
ここで、Kθ、kDはそれぞ糺走査用偏向器、立体観察
用の傾斜用偏向器単独での歪み収差係数であり、xDl
〜XD、は両者の偏向器の複合動作時に生じる歪み収差
係数である。本発明は、この偏向歪み量を“ゼロ”にな
るように補正する装置である。
実施例の説明に当って、(1)式をさらに説明する。
(1)式において、第1項は、走査用偏向器単独で生じ
る偏向歪みで、一般にこの量は他に比べて小さいゆえ無
視できる。第6項は、走査時には固定ゆえ定数となる。
−万、tは、+1と−tのみしか取らないゆえ、この性
質全考慮して(1)式を分解すると、偏向歪み量δc(
=δx+iδy)は次式ここで(x、y)は試料面走査
時の座標点でありa8.・・・・・・fアは歪み係数と
呼ばれるものである。
また−万、士の符号は、傾き+1の符号に一致している
。このような歪み量がある場合には、実際の走査信号(
X、Y)は、 とすればよいことは、容易に分かる。本発明は以上の原
理にもとづいてなされたものである。
以下、第3図の実施例に従がって説明する。物点9より
出た電子線は、レンズ6により試料面4上に細く絞られ
ている。この電子+wを偏向器7により軌道3とし、光
学軸1に対して−tだけ傾斜させる。この状態で、走査
用偏向器8により電子意は試料4上を2次元的に走査さ
れ像観察ができる。この後十tに傾斜させて同様のこと
を行ない、この動作全くシ返すことにより試料4の立体
観察視が可能となる。このような動作は、走査用偏向信
号発生器11とこれに同期した傾斜用信号発生器12と
の両者により電気的に制御される。従来、走査用偏向信
号発生器11は直接走査用偏向器8に接続されていたの
であるが、不発明では、この発生器11の信号を関数発
生器1(1通して偏向器8に接続されている。この関数
発生器10は、(2)式にもとづいた関数であυ、これ
により偏向器固有の偏向歪みは除去できるのである。こ
の関数発生器の符号乎は、傾斜用信号発生器12の符号
上に対応している。ここで、関数発生器10の係数a8
.・・・・・・+ ’Fは、図2に示すようなメツシュ
の標準試料を用いたりすれば、容易に求めることができ
る。一般には、実際の走査領域より大きく偏向走査して
行なえば、偏向歪みのみによる位置ずれが最も優勢とな
り、精度よく求められる。
本号式は、理想光学系に対して有効である。光学系が理
想系よυずれていた場合は、士tの傾きに対して独立の
係数(例えば+a、ではなく、”XI+a、に対してa
よ1+al11のように異なる係数)を用いれば、同様
の効果が得られる。
−万、電子光学系はここに示したものに限ることなく、
立体観察用の光学系であればよい。
不発明によれば、偏向器固有の偏向歪みが取り除けるの
で、試料面の高さ計測時に極めて精度の高い測定ができ
るという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は、立体観察時の電子線の傾きと試料面上の走査
との原理を示した図面である。 第2図は、得られる像を示した図面であり、al、b)
、c)は、第1図の入射電子軌道3,1゜2にそれぞれ
対応している。 第3図は、本発明の一実施例を示した基本構成図である
。 7・・・電子線の傾斜用偏向器、8・・・走査用偏向器
、10・・・関数発生器、11・・・走査用偏向信号発
生器、12・・・傾斜用信号発生器。 代理人 弁理士 薄田利幸 11 (7) 葛 1  日 第7図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、電子線発生源より発生させられた電子線を細く絞り
    試料面上に結像させる手段と、この電子線を特定の2方
    向に偏向する手段と、傾むけられた電子線全試料面上で
    2次元的に走査する手段と全具備した装置において、傾
    むけた2方向と走査信号とに対応して走査信号を変化さ
    せ、電子線の照射位置補正を行なうことを特徴とする立
    体走査型電子顕微鏡の位置補正装置。 2、電子線の2次元走査上xt yとしたとき、少なく
    ともx” * XY+ y2+ x+ Yのそれぞれに
    比例した責の和と定数値の和の補正信号により位置の補
    正ケ行なうことを特徴とする第1項記載の立体走査型電
    子顕微鏡の位置補正装置。
JP8141482A 1982-05-17 1982-05-17 立体走査型電子顕微鏡の位置補正装置 Pending JPS58198840A (ja)

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JPS58198840A true JPS58198840A (ja) 1983-11-18

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JP8141482A Pending JPS58198840A (ja) 1982-05-17 1982-05-17 立体走査型電子顕微鏡の位置補正装置

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01220348A (ja) * 1988-02-27 1989-09-04 Shimadzu Corp 傾斜試料面走査装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5548610B2 (ja) * 1973-05-18 1980-12-06

Patent Citations (1)

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JPS5548610B2 (ja) * 1973-05-18 1980-12-06

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