JPS58196501A - 光学的薄膜体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光学的薄膜体およびその製造方法ならひにかか
る光学的薄膜体を製造するための装置に関する。本発明
は捷だ、光学的薄膜体の光学的厚さおよび屈折率を正確
に測定する方法およびその測定のための装置に関する。

本発明による光学的薄膜体は実質的に一様な厚さを有す
る。明確に言えば、この光学的薄膜体は約（）５５〜１
０μｍの範囲内の公称厚さを有しうる。

これら薄膜体の両面は互いにほぼ平行である。その公称
厚ざの薄膜体間変化は約２％以下に限定されうるが、好
丑（７くは約１％以下となされつる。

どの薄膜体においても、その公称厚さの縁端量変化が約
２％以下に限定されうるが、好ましくは約ｌヂ以下とな
きれうる。

これら薄膜体は高い光透過性を有する。明確に言えば、
これら薄膜体は入射光の約８４〜９９％を透過し、波長
が約２６０〜１１０００ｎの範囲内の予め定められたま
たはそれ以上の波長を有する入射光を少なくとも約９６
％、９８％あるいは９９％丑でも透過しうる。さらに、
これら薄膜体は入射光の焦点を薄膜体の厚きの部分の一
以下の光学距離内でシフトするようになされうる。何故
ならば、これら薄膜体は高い光透過性を有するので、入
射光の約３％以下を吸収し、回折し、かつ分散せしめる
が、波長が約２６０〜１１０００ｎの範囲内の１またＣ
１それ以上の特定波長を有する入射光の約１チ以下を吸
収し、回折し、かつ分散せしめるようになされうる。

これら新規な薄膜体は多くの用途を有する。特に）４−
キン・エルマー（Ｐｅｒｋｉｎ　Ｅｌｍｅｒ　）　２０
０系プロジエクタのような投影機における十字線（ｒｅ
ｔｉｃｌｅ　）のための光学的透過性シールドとして有
用である。また、例えばこれら薄膜体をフォトマスク上
に配置すれば、そのフォトマスクを空気中に浮遊する微
粒子あるいは他の汚染体から保護する。これら薄膜体は
アドバンスト、セミコンダクタ、ゾロダクツ（Ａｄｖａ
ｎｃｅｄ　Ｓｅｍ１ｃｏｎｄｕｃｔｏｒＰｒｏｄｕｃｔ
ｓ　）から商品名ＢＢ−２．８５型広帯域フォトマスク
膜皮およびＬＲ−１型低反射性モノクロ膜皮として市販
される。

ＢＢ−２，８５型膜皮はニトロセルロースで形成され２
．８５μｍの厚さを有する。単一の腹皮サンゾルの厚さ
の変化は約０．０６μｍである。Ｂ１３−２．８５型膜
皮は、入射光の波長が約３５０〜４５０　　　　　　１
ｍｍの範囲内である場合、平均して入射光の波長が約３
５０〜４５０　ｎｍの範囲内である場合、全部で入射光
の約０．３％以下を吸収および分散し、入射光の焦点を
約１μｍ以下の光学距離内でシフトする。この脱皮は典
型的に７６．２ｍｍの外径と７２、４　ｍｍの内径を有
する。脱皮は、Ｑ、５１１ｍのフィルタを備えかつこの
脱皮から１０ＣｒｒＬ（４インチ）離れた位置に３　ｍ
ｍ　（０，１２５インチ）の吹出口を備えたホースから
の０．２８ｋｇ１ｃｒｌ　（４０ポンド／乎方インチ）
の空気圧に耐えうる。ＢＢ−２，８５型膜皮は、画圧水
鋏アーク燈を用いた１：ｌプロジェクション　アライナ
（ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ　ａｌｉｇｎｅｒ　）における
フォトマスクを微粒子から保護するンステムに特に有用
である。

ＬＲ−１型膜皮もまたニトロセルロースで形成され０．
７２３±０．０１μｍの厚さを有する。光の最低透過率
は４３６〜５４０　ｎｍの波長において約９８チであり
、約３６５　ｎｍの波長においては９６％である。これ
ら脱皮の入射光の反射は、典型的に４：３６〜５４６　
ｎｍの波長において約２チであり、：３６５μｍの波長
において約３％である。入射光が約４３６〜５４６　ｎ
ｍの波長を有する場合、全体で入射光の約０．２５％以
下が分散または吸収きれ、入射光が３６５　ｎｍの場合
は全体で約１％以下である。ＬＲ−１型膜皮は強靭であ
る。この脱皮は脱皮から少なくとも１Ｏｃｒｎ（４イン
チ）離れた位置に吹出口を有する３−Ｍの９０２Ｆ型エ
アガンからの０．２１〜／ｃ！（３０ポンド／平方イン
チ）の空気圧４Ｃｉｔえうる。ＬＲ−１型膜皮は入射光
の焦点を約１μｍ以下の光学距離内で７フトするので、
ＬＲ−１型膜皮はＧＣＡステッパ（５ｔｅｐｐｅｒ　）
のよりな１０：１ダイレクト、ウェーファ、ステツノや
（ｄｉｒｅｃｔ　ｗａｆｅｒ　５ｔｅｐｐｅｒ　）　に
特に有用である０本発明による薄膜体は、部分的光学ビ
ーム・スプリッタ（ｏｐｔｉｃａｌ　ｂｅａｍ　５ｐｌ
ｉｔｔｅｒ　）、モノクロ光学システムのための低反射
性光学窓、部分偏光器、音響振動フィルム、原子放射検
出器の高透過性窓、および輝いたクローム表面のような
これら薄膜体よりも高い屈折率を有する反射性基本上の
反射防止被膜として特に有用である。

これら薄膜体は、縁端支持されうる。また、フォトマス
ク、光学平面、鐘または他の剛直なあるい０」可撓性の
半面のような全面的または部分的支持体面で共［ス１１
支持σれうる。

これら薄膜体はすぐれた弾性と同質性とを有する。とり
わけ、これら薄膜体は、それらが特に機械的、熱的に安
定な枠体またに他の支持鉢土（・こ取付けられた場合、
圧縮された形の美大な量のデータを実質的に歪を伴わず
ＶＣ複写おまひ再現するのに用いられうる。かかる複写
をする場合、美大な量のデータを高度Ｉ／（圧縮された
形で担持する表ｍ＋−１得て光学的薄膜体を形成するだ
けでよい。本発明の薄膜体は、オリ２ナルから正確かつ
精密な複製データを形成してデータの複製および貯蔵の
ためのオリ２ナルとして用いつる。

１つの実施例において、表面の実例としての美大な量の
データを担持する表面上にこの光学的薄膜体を形成する
。かかるデータの浮き彫りに避れた表面−ＬＣζ光学的
薄膜体を形成することによって、浮き彫り面およびその
浮き彫りデータが全く同じに複製きれる。

本発明の光学的薄膜体の厚さおよび屈折率を正確に測定
する方法は、ｌまたはそれ以上の既知の入射角をもって
薄膜体に光を照射し、この薄膜体が入射光を実質的に反
射しないゼロ入射角と呼ばれる少なくとも１つの角度を
見出し、しかる後かかるｌまたはそれ以上のゼロ入射角
からこの薄膜体の厚さおよびまたは屈折率を計算するこ
とよりなる。

光＆１ヘリウム・イオンのような光源からのレーザ光と
なしうる。かかるレーデは約６３３　ｎｍの波長を有す
る平行光線ビームを発生する。特にゼロ入射角の検出が
肉眼以外によってなされる場合は、他の高輝度または低
輝度光源をも用いうる。例えば、フィルタをかけた水銀
アーク燈、フィルタをかけた白熱燈およびフィルタをか
けたキセノン燈である。

光源が、視覚で認めうる強度の反射光を生じるはと充分
な輝度を有する場合は、視覚によりゼロ入射角の検出が
なされる。例えばヘリウム・ネオンレーザ光は視覚で検
出可能な反射光を生じる。

さらに、ゼロ入射角の検出の正確性は入射角に依存し々
いため、ゼロ入射角の視覚による検出は高い信頼性を有
する。しかしながら、レーザ光または光輝度光以外の光
源が使用された場合、ゼロ入射角の検出は光増倍素子、
シリコンＰＩＮダイオ−１’、および他の光電検出素子
のような検出器が必要であろう。

本発明の方法は、単に光学的薄膜体の厚さおよび屈折率
を測定するためにのみではなく、光学的薄膜体の厚さを
監視するのにも用いられうる。例えば、光学的薄膜体の
厚きを規定された限度内に収めようとする場合、本発明
の方法によって規格に応じた監視をなしうる。そうする
ためには、薄膜体がゼロ入射角を生じる規定された限度
内での入射角葡決定しておき、しかる後その入射角が谷
薄膜体にとってゼロ入射角であるか否かを試験すればよ
い。

本発明の方法の一実施例においては、数種の異なる既知
の入射角をもって光学的薄膜体に平行レーザ尤ビームの
照射がなされる。光源を固定し、薄膜体を光ビームの径
路内で回動きせて入射角を変えるようにするのが好まし
い。薄膜体を回動させる手段に副尺のような装置を取付
けることにより、入射角を測定することができる。

測定作業を入射角ゼロで開始し、しかる後薄膜体が光を
反射しない１番目の角度を見出すまで薄膜体を回転きせ
て入射角を変えるのが望ましい。

ある目的のためには１以上のゼロ入射角を見出すことが
必要になりうる。そうするためには、２番目のゼロ入射
角を見出す丑で薄膜体を回転式せればよい。

少なくとも１つのゼロ入射角が見出されたならば、薄膜
体の厚さを下記の（１）式により計算する。

Ｎｔ　＝　ｋλ／４　　・・・・・・・・・・・・・・
・川（１）ここで、ｔは薄膜体の厚さ、λは入射光の波
長で、典型的にはｔと同一の単位であり、またｋは光の
四分の一波長全単位とする薄膜体の光学的厚さである。

Ｎは薄膜体の低減された屈折率と呼ばれる値で、下記の
（２）式から求められる。

Ｎ＝５［−巧７　・・・・・・・・・（２）ここで、Ｎ
は薄膜体の屈折率、■はゼロ入射角である。（１）式か
ら厚さｔ’に計算するためには、Ｎおよびｋを知らなけ
ればならない。

もし、薄膜体の屈折率が既知であって、ｋが未知である
場合は、その薄膜体の２つの連続したゼロ入射角■１お
よび■２を見出さなければならず、しかる後に厚さｒｔ
Ｊ　　を下記の（３）式から計算する。

（Ｎｌ　−Ｎ２　）　ｔ−λ／２　・・・・・・・・・
・・・（３）ここで、Ｎ１はＮ１−＼Ｆ＝６酵了ｔ）２
−から計算サレ、’！りＮ２ｎＮ２＝　　Ｎ’−（ｓｉ
ｎＩ２）’−カラ計算される。

また、薄膜体の屈折率Ｎが未知であって、ｋが既知であ
る場合は、薄膜体の２つの連続したゼロ入射角１１およ
び工２を見出さなければならず、しかる後に厚さｔが下
記の（４）式から計算される。

、Ｆ扁ＴＷπ；石７＝λ／２過璽■・・・（４）厚さｒ
ｔＪ　　が計算されれば、屈折率は（１）式から計算さ
れうる。ｔが既知であれば、ｋは（４）式から計算され
うる。

本発明の装置は、光ビームを光学的薄膜体に照射する手
段、薄膜体に対する光ビームの入射角を変える手段、お
よび入射角特にゼロ入射角を検出する手段を含む。

第１図は本発明の装置の一実施例を概略的に示す。第１
図において、ヘリウム・ネオンレーザビーム発生器１か
ら平行光線ビーム２が光学的薄膜体３に既知の入射角Ｉ
ｋもって照射される。回動可能な固定具４は薄膜体３を
光線ビーム２の径路内に保持しかつ薄膜体３をして複数
の入射角をとらしめるべく回動する。固定具４の近傍に
設けられたスクリーン５は、薄膜体３からの反射光を受
ける反射性の内表面６を備えている。内表面６上にマー
クされた副尺によって入射角が検出される。

本発明の方法および装置は、分光測光法および楕円測光
法のような従来の光学的フィルムの厚さの測定法に勝る
意義深い利益を提供する。分光測光法は、入射光の波長
を関数とする垂直入射光の　　　　　　　１透過または
反射の変化を測定するため、本発明の方法および装置よ
りはるかに高価な機器を必要とする。この透過または反
射の変化から、ある波長ｒ（おける厚さが正確に測定さ
れるが、分光測光法によっては屈折率の測定は不可能で
ある。楕円測光法もまた、本発明の装置より高価な装置
を必要とし、かつ光学的薄膜体が支持されていないため
に、その測定結果は信頼性に乏しい欠点がある。

本発明の方法および装置は、分光測光法よりもけるかに
安価で、また楕円測光法に比較しても安価であり、光学
的薄膜体の厚さおよび屈折率の正確な測定を簡易に、迅
速にかつ安価になしうる。

本発明の薄膜体の形成方法は、ポリマーと浴剤の混合物
をまず作成し、次にこの混合物から回転可能な支持表面
上で回転被膜形成法によりポリマーフィルムを形成する
のである。この支持表面は、特にその上に離型剤が配さ
れていないときには、薄膜体に対する共面支持体を構成
しうる。もし、薄膜体が離型剤の配された支持表面上に
形成された場合にｔま、薄膜体は他の支持手段に取付け
られうる。薄膜体を取付ける他の支持手段を用いること
により、薄膜体はそれが形成された支持表面上から除去
されうる。例えば、離型剤の配された回転ａＪ能な支持
表面上に薄膜体が形成された後に、閉リングまたは枠体
がこの薄膜体に接着されうる。

接着剤が乾燥した後に、薄膜体を接着により担持［〜た
リングまたは枠体が支持表面から分離されうる。あるい
は、エアジエツト、液体ジェットまたは他の分離手段に
よっても、薄膜体は支持表向上から除去されうる。次に
かかる薄膜体は独立したリング、枠体または他の支持体
に取付けられうる。

本発明の光学的薄膜体の形成方法の一実施例においてに
、ポリマーと溶剤の混合物を離型剤を配した回転可能な
支持表面上に分配し、しかる後その支持表向を所定の回
転速度に達するまで加速しながら回転せしめる。、一旦
所定の回転速度に達したならば、所望の厚さと直径とを
有する薄膜体が形成されるまでその支持表面の回転を継
続する。

典型的には、回転可能な支持表面の回転は、約３〜６０
秒間−の範囲内で約２０〜３０℃の温度において行なわ
れる。薄膜体の厚さおよび直径は、ポリマーと溶剤の粘
性と、薄膜体が形成される回転可能な支持表向の回転の
加速度および回転速度比と、最終回転速度とに一義的に
依存する。

薄膜体が形成されるのにつれて、溶剤はポリマーから離
脱し７、ポリマーは、特にその形成されつつある薄膜体
の周縁部において粘性が増大する。

同転する支持表向の外周縁に向って流動するポリマーと
溶剤の混合物は、回転中心からの距離に比例（７−Ｃ大
ぎい加速に遭遇する。ざらに、支持光［「１の回転速度
が増大するのにつれて、ポリマーにより大きい加速が加
えられる。回転する支持表■上にｒｌ、溶剤の蒸発の割
合を減少させるために、溶剤を充分に含んだ空気が導か
れる。薄膜体の厚さは上Ｓピ蒸発の割合、およびも（７
必安ならば、薄膜体の形成後に薄膜体に加えられる熱処
理の褌類および量によって制御されうる。

形成が完了した薄膜体を回転可能な支持表面上から除去
するため、および特に縁端が支持された薄膜体を得るた
め、枠体の表面に接着剤が施される。あるいは接着剤を
薄膜体自身に適当な形状のステンシル全通して施しても
よい。しかる後に、枠体と薄膜体とは互いに接着され、
接着剤は固化し、乾燥する。

適当な接着剤は、１部の５分間エポキシ樹脂、１部の５
分間エポキシ硬化剤、およびエポキシを希釈しかつその
ポットライフを公称３分から公称３０分に延長するため
の２部の３・Ｒンタノンの混合物よりなるうエポキシと
溶剤の混合物よりなる接着剤を枠体に施した後、溶剤は
急速に蒸発し、エポキシが硬化して薄膜体に接着する。

薄膜体の枠体に対する接着が完了した後、薄膜体は適当
な工具によって枠体の外周に沿って切断されうる。しか
る後に薄膜体を取付けた枠体は支持光■から分離されう
る。回転によって薄膜体に径方向の応力が加えられたた
め、また薄膜体の容積がその後の溶剤の蒸発により減少
ｔ７たため、薄膜体はぴんと張った状態にありかつ実質
的に一様な張力を有する。

本発明の光学的薄膜体は、アクリルやニトロセルロース
のようなｌまたはそれ以上のポリマーよりなるのが好ま
しい。本発明の一実施例においてば、アルコールのよう
な溶剤にニトロセルロースを溶か（１，た。かかる溶剤
としては、ケトンや１．２ダイメンキシエタンのような
ポリグリコールをも用いうる。本発明に用いられるポリ
マーと溶剤の混合物ハマたフェネテル、エレクトリック
（Ｇｅｎｅｒａｌ　Ｅｌｅｃｔｒｉｃ　）の５Ｆ−６９
型シリコーン液のような平均化剤を含有するのが好まし
いつ本発明に用いられるポリマーと溶剤の混合物は、約
５〜３０重量％のポリマー、約７０〜９５重量％の溶剤
、および約０．００１〜ｏ、ｏｔｘ量チの平均化剤から
なる。ポリマーに対する溶剤の比率か増大すると、かか
る混合物から形成される薄膜体の厚さは一般に減少する
。

本発明の方法における支持表面を被うための適当な離型
剤ｒ１、ノ１ント、ケミカル、カンノミ二（Ｈｕｎｔ　
Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏｍｐａｎｙ　）のスーｉＰ−ス
リノクス（５ｕｐｅｒｓｌｉｘ　）　Ｉを含む。このよ
うな離型剤は、回転、浸漬および塗布等の通常手段を用
いて回転可能な支持表面上に施される。ある棟の離型剤
は室温より高い温度で硬化する必要がある。

本発明の光学的薄膜体を形成するための装置は、ポリマ
ーと溶剤の混合物を回転可能な支持表面上に分配する手
段、支持表面を初速度から最終速度捷で増大する速度で
回転する手段、および薄膜体ケ支持表面上から縁端支持
された状態または共面支持された状態で除去する手段を
含む。以下その実施例について第２図を参照して説明す
る。

第２図において、容器１３内のポリマーと溶剤の混合物
は、ポンプ１５によってチェック弁１１ａおよびｌｌｂ
’ｅ通過せしめられる。モータ・歯車結脅体１４はポン
プ１５のピストンを駆動する。

ポリマーと溶剤の混合物はフィルタ１６および分配手段
１７全通って回転可能な支持表面１８上に分配される。

モータ２２は、初めは所定の速度で、次にそれより速い
第２の速度で、次に所望の薄膜体が形成される捷でその
第２の速度を維持するという態様をもって、チャック１
９および支持表面１８全回動する。はね除は兼風防手段
２０は、回転中に溶剤およびポリマーが椀状体２１外へ
飛散するのを最低限Ｖこ抑える。排出口２４は不用のポ
リマーおよび溶剤の排出手段を形成する。回転計２３は
その一方の１ｉｌｌｌにおいてモータ２２に連結きれ、
他方の側ｔｃおいて適当なサーが系２５に連結きれる。

ザーボ゛系２５は、支持表面１８の回転を始動し、かつ
その回転速朋を始動時より加速するが、その加速は１秒
間に約５０〜５００　ｒｐｍの範囲内で行なわれ、最終
回転速度は約５００〜２５０　Ｏｒｐｍの範囲内である
ことが好筐しい。

支持表面１８は円形、正方形筐たは長方形の剛直な捷た
Ｑ、Ｊ、幾分剛直な光学的に磨かれた表向となされうる
。１だ支持表面１８は、金属、ガラスで作成されるが、
金属薄層をガラス石英上Ｖこ形成したものも支持表面に
適する。支持表面の質はその上に形成される薄膜体の質
を決定する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の光学的薄膜体の測定に適用される装置
６の概略図、第２図は本発明の光学的薄膜体の形成に適
用される装置の概略図である。 図において、１はレーザビーム発生器、２は光線ビーム
、３は薄膜体、４は固定具、５はスクリーン、１３は容
器、１４はモータ・歯車結合体、１５はポンプ、１８は
支持表面、２２はモータ、２３け回転計、２５はサーボ
系をそれぞれ示す。 特許出願人　アドバンスト　セミコンダクタゾロダクッ 代理人弁理士　山元俊仁 手続補正書 特許庁長官　若杉和夫殿 Ｉ　事件の表示 昭和５７年　特　許　願第２１０６８９号２　発明の名
称　　光学的薄膜体 ３、　補正をする者 （事件との関係　　特許出願人 １１所 氏　名（名称）アドバンスト　セミコンダクタプロダク
ツ ４、代理人 氏　名　（６７８６）弁理士　山　元　倖　仁８、ＷＡ
正（Ｄ内容　　別紙のとおり（内容に変更なし）牡！！
！Ｉ（Ｑ　　Ｉ　（１／：ｒ＋０１特許庁長官若杉和夫
　殿 １、事件の表示 昭和５７重　特　許　Ｖ第２１０６８９号２、発明の名
称　光学的薄膜体 ３　補正をする者 事件との関係　特許出願人 ブロダクツ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　自己支持するのに十分な強度と、約０．５〜ＩＯ
   μｍの範囲内の厚ざを有し、その厚さの縁端量変化が約
   ２％以下であり、波長が約２６０〜１０００　ｎｍの範
   囲内の入射光の約８４〜９９チを、約１％以下の吸収お
   よび約１％以下の回折をもって、透過せしめうろことを
   特徴とする光学的薄膜体。 ２、　自己支持するのに十分な強度と、約０．５〜１０
   μｍの範囲内の厚さを有し、波長が約２６０〜１０００
   　ｎｍの範囲内の入射光の約８４〜９９チを、約１％以
   下の吸収および約１％以下の回折をもって、透過せしめ
   うろことを特徴とする光学的薄膜体。 ３、　自己支持するのに十分な強度と、約０．５〜１０
   μｍの範囲内の厚さを有し、入射光の約８４〜９９％の
   範囲内の少なくとも１つの予め定められた・ｅ−セント
   に相当する分を、約２６０〜１１０００ｎの範囲内の少
   なくとも１つの予め定められた波長において約１％以下
   の吸収および約１チ以下の回折をもって透過せしめうる
   ことを特徴とする光学的薄膜体。 ４、　自己支持するのに十分な強度と、約０．５〜１０
   μｍの範囲内の予め定められた厚さを有し、約２６０〜
   １０００　ｎｍ　の範囲内の予め定められた波長を有す
   る入射光を、少なくとも８４チである予め定められた・
   ぞ−セントだけ、透過ｉしめうることを特徴とする光学
   的薄膜体。 ５、　自己支持するのに十分な強度と、約０．５〜１０
   μｍの範囲内の予め定められた厚さを有し、約２６０〜
   １０００　ｎｍ　の範囲内の少なくとも１つの波長にお
   いて入射光の約９９％を透過せしめうろことを特徴とす
   る光学的薄膜体。 ６、　自己支持するのに十分な強度を有し、約２６０〜
   １０００　ｎｍの範囲内の波長を有する入射光の少なく
   とも約８４％を透過せしめうることを特徴とする光学的
   薄膜体。 ７、特許請求の範囲第１項〜第６項のうちのいずれかに
   記載された光学的薄膜体において、熱塑性ポリマーで形
   成された前記光学的薄膜体。 ８、特、ｆ！Ｉ−藷求の範囲第１〜６項のうちのいずれ
   かに記載された光学的薄膜体において、ニトロセルロー
   スで形成された前記光学的薄膜体。 ９、特許請求の範囲第１〜６項のうちのいずれかに記載
   された光学的薄膜体において、縁端支持きれた前記光学
   的薄膜体。 １０、特許請求の範囲第１〜６項のうちのいずれかに記
   載された光学的薄膜体において、共面基体上に担持され
   た前記光学的薄膜体。 １１、特許請求の範囲第１〜６項のうちのいずれかに記
   載された光学的薄膜体において、支持体上に担持された
   前記光学的薄膜体。。 １２、特許請求の範囲第１〜６項のうちのいずれかに記
   載された光学的薄膜体に幹いて、脱皮よりなる前記光学
   的薄膜体。 １３、特許請求の範囲第１〜６項のうちのいずれかに記
   載された光学的薄膜体において、ポリマーと溶剤の混合
   物を回転可能な支持表面上に分配し、前記光学的薄膜体
   を前記ポリマーで形成するのに十分な条件下で前記回転
   可能な支持表面を回転させることにより作成された前記
   光学的薄膜体。 １４、特許請求の範囲第１〜６項のうちのいずれかに記
   載された光学的薄膜体において、ポリマーと溶剤の混合
   物を回転可能な支持表面上に分配し、前記光学的薄膜体
   を前記ポリマーで形成するのに十分な条件下で前記回転
   可能な支持表面を回転させ、形成後の前記光学的薄膜体
   を前記回転可能な支持表面から除去することにより作成
   された前記光学的薄膜体。 １５、特許請求の範囲第１〜６項のいずれかに記載され
   た光学的薄膜体において、ポリマーと溶剤の混合物を回
   転可能な支持表面上に分配し、前記光学的薄膜体を前記
   ポリマーで形成するのに十分な条件下で前記回転可能な
   支持表面を回転させ、前記回転可能な支持表面上に形成
   された前記光学的薄膜体をそれの支持手段に接合せしめ
   られた状態で前記光学的薄膜体を前記回転可能な支持表
   面から除去することにより作成された前記光学的薄膜体
   。 １６、自己支持するのに十分な強度と、約０．５〜ｌ　
   Ｑ　ｌｔｍの範囲内の厚さを有し、その厚ざの縁端量変
   化が約１％以下であり、ポリマーと溶剤の混合物を回転
   可能な支持表面上に分配し、前記ポリマーで光学的薄膜
   体を形成するのに十分な条件下で前記同転可能な支持表
   面を回転させることにより作成された光学的薄膜体。 １７、特許請求の範囲第１６項記載の光学的薄膜体にお
   いて、ＭｊＪ記回転可能な支持表面上ＶＣ形成された光
   学的薄膜体をそれの支持手段に接着し、その支持手段に
   接合された状態で前記光学的薄膜体を前記回転可能な支
   持表面から除去することにより作成された前記光学的薄
   膜体。 １８、特許請求の範囲第１７項記献の光学的薄膜体にお
   いて、前記支持手段がその光学的薄膜体に対する縁端支
   持を与える前記光学的薄膜体。 １９、自己支持するのに十分な強度と、約０．５〜１０
   μｍの範囲内の厚さを有し、その厚さの縁端量変化が約
   ２％以ドであり、約２６０〜Ｎ）００ｎｍの範囲内の少
   なくとも１つの入射光波長において、入射光を約８４〜
   ９９％の範囲内で透過せしめうるようになされており、
   ポリマーと奸剤の混合物を回転＝ｒ能な支持表面上に分
   配し、前記ポリマーで光学的薄膜体を形成するのに十分
   な条件下で前記回転げ能な支持表面を回転はせることに
   より作成された光学的薄膜体。 ２、特許請求の範囲第１９項記載の光学的薄膜体におい
   て、埒らに前記回転可能な支持表面上に形成された光学
   的薄膜体をそれの支持手段に接合された状態で前記光学
   的薄膜体を前記回転可能な支持表面から除去することに
   より作成された前記光学的薄膜体。 ２、特許請求の範囲第２０項記載の光学的薄膜体におい
   て、前記支持手段がその光学的薄膜体に対する縁端支持
   を与えるようになされた前記光学的薄膜体。 ２２、自己支持するのに十分な強度と、約０．５〜１０
   μｍの範囲内の厚さを有し、その厚さの縁端量変化は約
   ２％以下であり、約２６０〜１０００ｎｔｎの範囲内に
   おける少なくとも１つの予め定められた１つの波長にお
   いて入射光を、約８４〜９９％の範囲内の予め定められ
   たツヤ−セントに相当する分だけ、透過せしめつるよう
   になされており、ポリマーと溶剤の混合物を回転可能な
   支持表面上に分装置〜、前記ポリマーで光学的薄膜体を
   形成するのに十分な条件下でＡｉＩ記回転可能な支持表
   面上に分配し、前記ポリマーで光学的薄膜体を形成する
   のに十分な条件下で前記回転可能な支持表面を回転する
   ことにより作成された光学的薄膜体。 ２、特許請求の範囲第２２項記載の光学的薄膜体におい
   て、ざらに前記回転可能な支持表面上に形成された光学
   的薄膜体をそれの支持手段ＫＷ着し、その支持手段に接
   合された状態で前記光学的薄膜体を前記回転可能な支持
   表面から除去することにより作成された前記光学的薄膜
   体。 ２、特許請求の範囲第２３項記載の光学的薄膜体におい
   て、前記支持手段がその光学的薄膜体に対する縁端支持
   を与えるようになされた前記光学的薄膜体。 ２５、自己支持するのに十分な強度と、約０，５〜ＩＯ
   μｍの範囲内の厚さを有Ｉ７、その厚さの縁端間厚さの
   変化が約２％以下である光学的薄膜体。 ２、特許請求の範囲第２５項ａピ載の光学的薄膜体ｔこ
   おいて、ポリマーと溶剤の混合物を回転可能な支持表面
   上に分配し、前記ポリマーで光学的薄膜体を形成するの
   に十分な条件下で前記回転可能な支持表向を回転させる
   ことにより作成きれた前記光学的薄膜体。 ２、特許請求の範囲第２６項記載の光学的薄膜体におい
   て、さらに前記回転可能な支持表面上の光学的薄膜体を
   それの支持手段に接着し、その支持手段に接合せしめら
   れた状態で、前記光学的薄膜体ｋｔＦＪ記回転可回転可
   能表面から除去することにより作成された前記光学的薄
   膜体。 ２、特許請求の範囲第２７項記載の光学的薄膜体におい
   て、前記支持手段がその光学的薄膜体に対　　　　　１
   する縁端支持を与えるようになされた前記光学的薄膜体
   。 ２９、自己支持するのに十分な強度と、約０．５〜１０
   μｍの範囲内の予め定められた厚さを有し。 ポリマーと溶剤の混合物を回転可能な支持表面上に分配
   し、前記、テリマーで光学的薄膜体を形成するのに十分
   な条件下で前記回転可能な支持表面を回転させることに
   より作成された光学的薄膜体。 ３０、特許請求の範囲第２９項記載の光学的薄膜体にお
   いて、さらに前記回転可能な支持表面上の光学的薄膜体
   をそれの支持手段に接着し、その支持手段に接着された
   状態で前記光学的薄膜体（ｒ−前記回転可能な支持表面
   から除去することにより作成された…１記光学的薄膜体
   。 ３１、特許請求の範囲第２９項記載の光学的薄膜体にお
   いて、前記支持手段がその光学的薄膜体に対する縁端支
   持を与えるようになされた前記光学的簿膜体。 ３２、自己支持するのに十分な強度と、約０．５〜１０
   μｍの範囲内の予め定められた厚さを有し、その厚さの
   縁端量変化が約２％以下であり、約２６０〜１０００　
   ｎｍ　の範囲内の少なくとも１つの予め定められた光波
   長において、入射光を約９６〜９９％の範囲内の少なく
   とも１つの予め定められた・や−セントに相当する分だ
   け透過せしめつるようになされた光学的薄膜体。 ３３、特許請求の範囲第３２項記載の光学的薄膜体にお
   いて、ポリマーと溶剤の混合物を回転可能な支持表面上
   に分配し、前記ポリマーで光学的薄膜体を形成するのに
   十分な条件下で前記回転可能な支持表面を回転させるこ
   とにより作成された前記光学的薄膜体。 ３４、特許請求の範囲第３２項記載の光学的薄膜体にお
   いて、さらに前記回転可能な支持表面上に形成された光
   学的薄膜体をそれの支持手段に接着し、その支持手段に
   接着された状態で前記光学的薄膜体を除去することによ
   り作成された前記光学的薄膜体。 ３５、特許請求の範囲第３４項記載の光学的薄膜体にお
   いて、前記支持手段が光学的薄膜体に対する縁端支持を
   与えるようになされた前記光学的薄膜体。 ３６、特ボＦ８肖求の範囲第１６．１７．　１９．２０
   ．２２．２３．２７．３０．３３および３４項のうちの
   いずれかに記載された光学的薄膜体において、前記回転
   口ｆ能な支持表面がその上に離型剤を有する前記光学的
   薄膜体。 ３７、光学的薄膜体に対して１またはそれ以上の既知の
   入射角をもって光を照射し７、前記光学的薄膜体が入射
   光を実質的に反射しない少なくとも１つのゼロ入射角を
   見出し、Ｎｔ＝にλ／４という式からＡｉ前記光学的薄
   膜体の厚さまたに前記光学的薄膜体の屈折率あるいはそ
   の両方を計算することよりなり、ただし前記式において
   、ｔはＡｊｌ記光常光学的薄膜体さ、λは入射光の波長
   、ｋけ光の四分の一波長を単位とする前記光学的薄膜体
   の光学的厚さ、ＮはＮ２（ｓｉｎＩ）２　という量の平
   方根に等しい値、Ｎは前記光学的薄膜体の屈折率、■は
   前記少なくとも１つのゼロ入射角で、あるとする、光学
   的薄膜体の厚きを測定する方法。 ３８、特許請求の範囲第３７項記載の方法において、前
   記光学的薄膜体に対する２つの連続したゼロ入射角を見
   出し、（Ｎｌ　−Ｎ２　）　ｔ−λ／２という式から前
   記光学的薄膜体の厚さｔを計算することをさらに含み、
   ただし前記式において、 Ｎ１＝（ｙζ己瓦〒「運であり、Ｎ２はｉ閣可百１ｙに
   等しく、Ｉ１は前記光学的薄膜体に対する第１のゼロ入
   射角の場合の入射角、Ｉ２は前記光学的薄膜体に対する
   第２のゼロ入射角の場合の入射角であるとする、前記方
   法。 ３９、特許請求の範囲第３７捷たは３８項記載の方法に
   おいて、前記光学的薄膜体に対する２つの連続したゼロ
   入射角を見出し、次の式、 １！（ｓｉｎ　Ｉ　１　）’−λ／２　π１ｎカラ厚さ
   ｔまたは光学的厚ａｋあるいはその両方を計算すること
   をさらに含み、ただし前記式において、１１およびＩ２
   はそれぞれ前記光学的薄膜体に対する第１および第２の
   連続したゼロ入射角であるとする、前記方法。 ４０．１またＵ−すれ以上の既知の入射角をもって、約
   （）、５〜１０μｍの範囲内の公称厚さを有する第１の
   光学的薄膜体に光を照射し、前記光学的薄膜体が入射芹
   、ｒ、−’Ｊｊ′ｊ−↓的に反射しないゼロ入射角と呼
   ばれる少なくとも１つの入射角を見出し、Ｎｌ二にλ／
   ４という工（、ただｔ、ｈ−５戸７７訂７「璽、Ｎは前
   、ｉ【１第１の光学的薄膜体の屈折率、ＩＪ前記少なく
   とも１つのセ・日入射角、ｔは前記第１の光学的薄膜体
   の１１）−さ、ｋ＆−１尤の四分の一波長を単位とする
   ｎｉｌ　ｉｆｆ：　７Ｙ、”／−内薄膜体の光学的厚き
   、λけ入射光の波長；　　（Ｎｌ−Ｎ２）ｔ＝λ／２　
   という式、ただしＮ１１ｔＮｒ７−７品］Ｉ　Ｉ　）２
   に’４　Ｌ　＜、Ｎ２　ｕ　Ｎ’　（ｓｉｎ　Ｉ　２）
   ”に等１．く、ＩＩおよびＩ２　はそれぞれ前記第１の
   光学的薄膜体に７１する２つの連続したゼロ入射角、ｔ
   （ｔｊ　＋３ｉｌ記光学的薄膜体の厚さ；およびｔ　５
   ’Ｉ　２　）２−（ｓｉｎ　Ｉ　２）２−λ／２１了　
   トｕ−）　’５式、ただしｔけｒｉｉｌ記光学光学膜体
   の厚さ、λは入射光の波長、ｋは光の四分の一波長を単
   位とする前＾［シ第１の光学的薄膜体の光学的厚きとし
   て、前記；３つの式のうちの少なくとも１つの式からお
   よび＋４ｉｌ記３つの式のうちの少なくとも１つからＡ
   ｉ■記光光学助膜体の厚さを計算し、前記ゼロ入射角の
   うちの少なくとも１つにおいて第２の光学的薄膜体６・
   Ｃ対して前記光を照射して、前記第２の光学的薄膜体が
   前記第１の光学的薄膜体と実質的に同じ厚さを有するか
   否かを決定する方法。 ４１、特許請求の範囲第３７または３８項記載の方法に
   おいて、前記光学的薄膜体が約０．５〜１０μｍの範囲
   内の厚さを有している前記方法。 ４２、特許請求の範囲第３９項記載の方法において、ｎ
   ｉｌ　Ｏｒ’、光学的薄膜体が約０．５〜１０μｍの範
   囲内の厚さを有している前記方法。 ４３、特許請求の範囲第１〜３項のうちのいずれかに記
   載された光学的薄膜体において、その表面上ｐｃ、大量
   の実質的に歪みのないデータを圧縮された形態で担持し
   ている前記光学的薄膜体。