JPS581960A - イオン注入室装置 - Google Patents
イオン注入室装置Info
- Publication number
- JPS581960A JPS581960A JP57083317A JP8331782A JPS581960A JP S581960 A JPS581960 A JP S581960A JP 57083317 A JP57083317 A JP 57083317A JP 8331782 A JP8331782 A JP 8331782A JP S581960 A JPS581960 A JP S581960A
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- disk
- ion implantation
- chamber
- carriage
- ion
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
- H01J37/3171—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation for ion implantation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はイオン注入Ｎｆｌ装置に関する。
従来、傭数枚のウニ八を着脱自在に取付けたディスクを
、イオン注入口を備え九真空のイオン注入窩内で回転さ
せ、敵性入口を介して導入されるイオンビームによ１１
ウニ＾にイオン注入処理を行なう式の装置は知られるが
該ディスクは蚊柱入室を介して内外に伸びる回転軸によ
り一転されるｔ一般とするもので、該ディスクを腋−転
軸に取付けするに際し該注入量に大気を導入して大暑（
−暑、その取付ＩＩＮび真１１に排気するを要し比稜的
ディスクの取付交換に時間が掛る不都合がｉ＝゛かかる
不都合を解消する手段として腋注入寵を常時真空とする
と共にこれに大気圧す真空圧とに変動自在Ｏ胃ツタ璽を
グー）パルプを介して連設し、両璽閤に今ヤリツーそＯ
＊ＳＣよ）ディ×りを往復移励畜せることが考えられる
がζＯ場合該注入寵内を汚損する仁とな（皺ディスタｉ
取扱い操作団来るものであることが好盲し−。
、イオン注入口を備え九真空のイオン注入窩内で回転さ
せ、敵性入口を介して導入されるイオンビームによ１１
ウニ＾にイオン注入処理を行なう式の装置は知られるが
該ディスクは蚊柱入室を介して内外に伸びる回転軸によ
り一転されるｔ一般とするもので、該ディスクを腋−転
軸に取付けするに際し該注入量に大気を導入して大暑（
−暑、その取付ＩＩＮび真１１に排気するを要し比稜的
ディスクの取付交換に時間が掛る不都合がｉ＝゛かかる
不都合を解消する手段として腋注入寵を常時真空とする
と共にこれに大気圧す真空圧とに変動自在Ｏ胃ツタ璽を
グー）パルプを介して連設し、両璽閤に今ヤリツーそＯ
＊ＳＣよ）ディ×りを往復移励畜せることが考えられる
がζＯ場合該注入寵内を汚損する仁とな（皺ディスタｉ
取扱い操作団来るものであることが好盲し−。
本員＠はこれに遺□し九イオン注入寵装置を提供するこ
とをその目的としえもので、複数枚のウニ＾を着脱自在
に取付は大ディスタを、イオン注入口を備え九真−のイ
オン注入璽内で一転畜せ、該注入口を介して導入される
イオンビームによ）誼つニへにイオン注入口理を行なう
式Ｏ％ＯＫ１にて、該イオン注入口内に移動自在Ｏ書■
寵を設け、諌書簡意内に該ディスタの回転装置を収容し
て威る＝ 本発明の１例を別紙図ｍＫ’）龜説明する。
とをその目的としえもので、複数枚のウニ＾を着脱自在
に取付は大ディスタを、イオン注入口を備え九真−のイ
オン注入璽内で一転畜せ、該注入口を介して導入される
イオンビームによ）誼つニへにイオン注入口理を行なう
式Ｏ％ＯＫ１にて、該イオン注入口内に移動自在Ｏ書■
寵を設け、諌書簡意内に該ディスタの回転装置を収容し
て威る＝ 本発明の１例を別紙図ｍＫ’）龜説明する。
１１１１図はイオン注入装置の截断平面図１特すも必で
、（１）は比較的扁平で嘗時真ＩＩ状態にあるイオン注
入ｉ［、（２）は鉄性入口（ｌ訃内にイオンビー＾を導
入するイオン注入口、（３）は複数枚のウェハ（４）が
取付けられて回転するディスクを示し、皺ディスタ（３
）は例えば籐２１１１１Ｃ１ｌＥられるように円盤形に
構成され、各ウェハ（４）は該ディスク（３）の周縁附
近に開口形成した複歇儒Ｏ円孔（６）Ｋ幇応させて止め
異（６）によ）着脱自在に取付けされる。
、（１）は比較的扁平で嘗時真ＩＩ状態にあるイオン注
入ｉ［、（２）は鉄性入口（ｌ訃内にイオンビー＾を導
入するイオン注入口、（３）は複数枚のウェハ（４）が
取付けられて回転するディスクを示し、皺ディスタ（３
）は例えば籐２１１１１Ｃ１ｌＥられるように円盤形に
構成され、各ウェハ（４）は該ディスク（３）の周縁附
近に開口形成した複歇儒Ｏ円孔（６）Ｋ幇応させて止め
異（６）によ）着脱自在に取付けされる。
を九（７）は該イオン注入室（１１０１偶に連設した大
気圧と真空圧とに変動自在ＯＲツタ富、（ａ）＆ｌｉ誼
注入富…と該讐ツタＩＣフ）とを連這する長手開口（９
）を密閉すぺ〈設けえ開閉自在のゲートバルブ、１舖は
骸ディスク（３１をＳ執して該注入室（１３と諌田ツク
富（］）との間を諌開ｑ（９）を介して往復移動する枠
形のキャリッジを警し、皺キャリッジ舖が真空化され九
讐ツタＩ！ （７）内にあると自はその１個に設けた伸
縮自在のチャック装置ＩＩが予め骸ロツタ１１ （７）
内に用意され大ディスク（３）を把んで鋏中ヤリツジ＋
１０へ塔駿し、鋏キャリッジＱｌは該ディスク（３）の
ウェハ（４）にイオン注入を行なうべくイオン注入室（
１）へと移動する。該キャリッジ儀・が該注入ＩＩ １
１１ Ｋ入ると腋ゲーＦバルブ（８）が閉じられ、該ロ
ック室（７）は一旦大気圧に戻され九のち七のＩＩ！部
の扉α通が開かれて新丸なウニ＾（４１を取付は丸状の
ディスク（３）が該田ツタ室（７） ＯＪＩｌｍｌ Ｋ
用意されると共に該注入！ （１） Ｋ於ては次のよう
なディスク駆動装置■によ）自動的に該キャリッジａθ
からディスク（３）を取外し、これＫａ転と左右動を与
えて該ディスク（３１の各ウニ＾（４３０金画に均等な
イオン注入ＩＪ＆環を施す。
気圧と真空圧とに変動自在ＯＲツタ富、（ａ）＆ｌｉ誼
注入富…と該讐ツタＩＣフ）とを連這する長手開口（９
）を密閉すぺ〈設けえ開閉自在のゲートバルブ、１舖は
骸ディスク（３１をＳ執して該注入室（１３と諌田ツク
富（］）との間を諌開ｑ（９）を介して往復移動する枠
形のキャリッジを警し、皺キャリッジ舖が真空化され九
讐ツタＩ！ （７）内にあると自はその１個に設けた伸
縮自在のチャック装置ＩＩが予め骸ロツタ１１ （７）
内に用意され大ディスク（３）を把んで鋏中ヤリツジ＋
１０へ塔駿し、鋏キャリッジＱｌは該ディスク（３）の
ウェハ（４）にイオン注入を行なうべくイオン注入室（
１）へと移動する。該キャリッジ儀・が該注入ＩＩ １
１１ Ｋ入ると腋ゲーＦバルブ（８）が閉じられ、該ロ
ック室（７）は一旦大気圧に戻され九のち七のＩＩ！部
の扉α通が開かれて新丸なウニ＾（４１を取付は丸状の
ディスク（３）が該田ツタ室（７） ＯＪＩｌｍｌ Ｋ
用意されると共に該注入！ （１） Ｋ於ては次のよう
なディスク駆動装置■によ）自動的に該キャリッジａθ
からディスク（３）を取外し、これＫａ転と左右動を与
えて該ディスク（３１の各ウニ＾（４３０金画に均等な
イオン注入ＩＪ＆環を施す。
該ディスク駆動装置ａｌは咳イオン注入１１（１）を拡
大して形成したＩＩ（１＆）内を自在に移動する独立し
九ｍｍ＊龜４を備え、該富ａ４内に該ディスク（３）を
−転させる電動機１１５と、該室ａ４を介して伸びると
共にその先端ｓＷｃ該ディスク（３）と着脱自在に係着
する係着装置（２）を備え九出役自在の回転軸ａ１とか
らなる該ディスク（３）の回転装置（１７０を収容し、
腋書間ｉｉｕのａｍを＃Ｉ易図及び第４図示のように！
（１Ｋ）に敷設し九レール（ＩＨ・上に摺動自在に支承
すると共に一癩部ＯＷＮス甑■を介してＩＩ（ｌａ）を
内外に伸びる螺杵ａＩＫ螺゛合亨せて構成°され１．、
＃螺杵−が該１１（１荀の外側の電動機３υによｐ正逆
転されると該密閉室（１４が該レールαＩ（ｌ碍に沿っ
て左右に移動されるようにし九、かくて該ＩＦ Ｍ ｌ
！ ａｍはイオン注入口Ｑｊに対しては気密状態となり
、回転装置（１７０から生じ勝ちの塵芥は該注入ｍ１（
１）内へと飛散することがなくなるもの！、図示のもの
では該密ＩＩ ＩＩ ａｍ内を該螺杵−を覆う套管（２
）及びべ―−ズ儲との閏の気密路ｏ４を介してイオン注
入１１（１）外へ連らなるようにし良。
大して形成したＩＩ（１＆）内を自在に移動する独立し
九ｍｍ＊龜４を備え、該富ａ４内に該ディスク（３）を
−転させる電動機１１５と、該室ａ４を介して伸びると
共にその先端ｓＷｃ該ディスク（３）と着脱自在に係着
する係着装置（２）を備え九出役自在の回転軸ａ１とか
らなる該ディスク（３）の回転装置（１７０を収容し、
腋書間ｉｉｕのａｍを＃Ｉ易図及び第４図示のように！
（１Ｋ）に敷設し九レール（ＩＨ・上に摺動自在に支承
すると共に一癩部ＯＷＮス甑■を介してＩＩ（ｌａ）を
内外に伸びる螺杵ａＩＫ螺゛合亨せて構成°され１．、
＃螺杵−が該１１（１荀の外側の電動機３υによｐ正逆
転されると該密閉室（１４が該レールαＩ（ｌ碍に沿っ
て左右に移動されるようにし九、かくて該ＩＦ Ｍ ｌ
！ ａｍはイオン注入口Ｑｊに対しては気密状態となり
、回転装置（１７０から生じ勝ちの塵芥は該注入ｍ１（
１）内へと飛散することがなくなるもの！、図示のもの
では該密ＩＩ ＩＩ ａｍ内を該螺杵−を覆う套管（２
）及びべ―−ズ儲との閏の気密路ｏ４を介してイオン注
入１１（１）外へ連らなるようにし良。
該回転軸重は＃Ｉ５図に明示するように骸密閉１１ｉ
（１４１を介して注入室口ＩＫｇＩａ＄すると共に該密
閉室ａ４内の電動機四により回転される１ｊｌＳ筒体（
至）件、その内部七迩）後方の鰐スシンｒｌａに作用す
る水その他の圧力流体によ如出没作動が与えられるロッ
ド（財）とを備え、該〒ラド（財）の先１１１１に該デ
ィスク（３）の中心孔（至）内に進入して拡開すること
により＊ディスク（３）を係着把持する係着装置舖會取
付けし友、ま九該係着装置舖はｌｌジッド＠Ｏ先燗Ｏ歓
射状に拡がつ九腕杆■と、これに支軸−を中心として揺
動自在の爪片偽力と、該ロッド−の先端に設けられ且つ
線回転篩体（２）の後方のロニタリジ）璽イン）（至）
を介しての圧力流体によ〕出没作動して前記爪片ｅＯＫ
揺動作動を与える把持操作ピストン（至）とを備え、該
把持操作ピストン（至）がその前方のばね（財）によ〕
〕該−ツド■に引自込まれると該爪片・珍が拡ＩＩｉ該
ディスタ（３）がその中心孔（２）内ＫＭて係着把持さ
れる。
（１４１を介して注入室口ＩＫｇＩａ＄すると共に該密
閉室ａ４内の電動機四により回転される１ｊｌＳ筒体（
至）件、その内部七迩）後方の鰐スシンｒｌａに作用す
る水その他の圧力流体によ如出没作動が与えられるロッ
ド（財）とを備え、該〒ラド（財）の先１１１１に該デ
ィスク（３）の中心孔（至）内に進入して拡開すること
により＊ディスク（３）を係着把持する係着装置舖會取
付けし友、ま九該係着装置舖はｌｌジッド＠Ｏ先燗Ｏ歓
射状に拡がつ九腕杆■と、これに支軸−を中心として揺
動自在の爪片偽力と、該ロッド−の先端に設けられ且つ
線回転篩体（２）の後方のロニタリジ）璽イン）（至）
を介しての圧力流体によ〕出没作動して前記爪片ｅＯＫ
揺動作動を与える把持操作ピストン（至）とを備え、該
把持操作ピストン（至）がその前方のばね（財）によ〕
〕該−ツド■に引自込まれると該爪片・珍が拡ＩＩｉ該
ディスタ（３）がその中心孔（２）内ＫＭて係着把持さ
れる。
該係着装置ａｅによシ係着把持され九ディスク（３）は
該璽ツド（２）の没入で第５図実線示のイオン注入位置
ＫＭＩＩ、−転筒体（至）及びこれと共Ｋｉｎ転する―
ラド＠によ〕回転されるが、との場会該ディスク（３）
の背ｍが該−転筒体＠Ｏ先端の一体１１に影成し九環林
の突起（至）と係合してバックアップされるようＫＬ、
該ディスク（３）の回転中に生じ勝ちな１ｉｉｌ一方向
Ｏ１２動を防止するようにし良、ＩＦイオン注入位置Ｋ
Ｍては、該ディスク（３）は電動機鱈によシ回転されそ
の複数枚のウニ八（４）を順次イオンビームＯ前方に至
もしめると共に密閉室ａ４の左右動により冬ウェハ（４
）の全面にイオンを注入するが、その注入が終ると該ジ
ッド■はその前方ド待機するキャリッジ（１（１方向へ
と突出して該ディスク（３）を塔載させ、しかるのち係
着装置αｅを一旦解除して後退勤し、該キャリッジａＧ
がゲートパルプ（８）を介してロック室（７）Ｋ＊Ｄ、
新九なウニ八（４）を取付けたディスク（３）を塔載し
て再び鋏係着装置ａＳＯｍ方に来ると該装置儂・は再度
突出してディスク（３）を把み、第５図示のイオン注入
位置へと復帰させる。この場合のリッド（２）及び係着
装置１・の出没作動は、その後方のｐ−タリジ曹インド
＠を介して接続される第６ＷＪに例示する如き流体圧作
動装置−によシ行なわれるもので、該装置（財）はロッ
ド罰を出没作動させる丸めの低圧系回路−と係着装置ａ
・を作動させる丸めの高圧系回路（２）とを備も前記し
たようにイオン注入鋤珊を終えてディスク（３）をそ０
＃方のキャリッジ・（ＩＫ塔載させる場合には低ｆｆＬ
ｊｉ＆−路ｇａの各開閉弁−一９−を夫々開弁すると共
にその方向−關弁−を位置（４Ｉａ）に切換えてジッド
（２）を前進させ、皺ディスク（３）がキャリッジ（ｌ
＠に達すると該制御弁−を中立位跋（０１）ＫＩＪ換え
ると同時に高圧系回路＠Ｏ方向制御弁−を位置（４４ｍ
）に切換え、該リッド（財）の前方ｏ＊−ｖｃ増圧装置
−によって加圧された高圧流体を作用させると共に後方
のｍｗｏ流体が絞９−を介して排出されるようＫし、皺
前方のｌ［−に把持操作ピストン（至）をばね（ＨＫ抗
して作動させる高圧を発生させ、かくて該操作ピストン
（至）ＯＩＩ進作動によれば爪片Ｇ■が内方に縮小して
ディスク（３）の中心孔（至）から■れる係着装置ｎの
解除作動を行なって該キャリッジａ・へのディスク（３
）の塔載作動が終了するようにした。
該璽ツド（２）の没入で第５図実線示のイオン注入位置
ＫＭＩＩ、−転筒体（至）及びこれと共Ｋｉｎ転する―
ラド＠によ〕回転されるが、との場会該ディスク（３）
の背ｍが該−転筒体＠Ｏ先端の一体１１に影成し九環林
の突起（至）と係合してバックアップされるようＫＬ、
該ディスク（３）の回転中に生じ勝ちな１ｉｉｌ一方向
Ｏ１２動を防止するようにし良、ＩＦイオン注入位置Ｋ
Ｍては、該ディスク（３）は電動機鱈によシ回転されそ
の複数枚のウニ八（４）を順次イオンビームＯ前方に至
もしめると共に密閉室ａ４の左右動により冬ウェハ（４
）の全面にイオンを注入するが、その注入が終ると該ジ
ッド■はその前方ド待機するキャリッジ（１（１方向へ
と突出して該ディスク（３）を塔載させ、しかるのち係
着装置αｅを一旦解除して後退勤し、該キャリッジａＧ
がゲートパルプ（８）を介してロック室（７）Ｋ＊Ｄ、
新九なウニ八（４）を取付けたディスク（３）を塔載し
て再び鋏係着装置ａＳＯｍ方に来ると該装置儂・は再度
突出してディスク（３）を把み、第５図示のイオン注入
位置へと復帰させる。この場合のリッド（２）及び係着
装置１・の出没作動は、その後方のｐ−タリジ曹インド
＠を介して接続される第６ＷＪに例示する如き流体圧作
動装置−によシ行なわれるもので、該装置（財）はロッ
ド罰を出没作動させる丸めの低圧系回路−と係着装置ａ
・を作動させる丸めの高圧系回路（２）とを備も前記し
たようにイオン注入鋤珊を終えてディスク（３）をそ０
＃方のキャリッジ・（ＩＫ塔載させる場合には低ｆｆＬ
ｊｉ＆−路ｇａの各開閉弁−一９−を夫々開弁すると共
にその方向−關弁−を位置（４Ｉａ）に切換えてジッド
（２）を前進させ、皺ディスク（３）がキャリッジ（ｌ
＠に達すると該制御弁−を中立位跋（０１）ＫＩＪ換え
ると同時に高圧系回路＠Ｏ方向制御弁−を位置（４４ｍ
）に切換え、該リッド（財）の前方ｏ＊−ｖｃ増圧装置
−によって加圧された高圧流体を作用させると共に後方
のｍｗｏ流体が絞９−を介して排出されるようＫし、皺
前方のｌ［−に把持操作ピストン（至）をばね（ＨＫ抗
して作動させる高圧を発生させ、かくて該操作ピストン
（至）ＯＩＩ進作動によれば爪片Ｇ■が内方に縮小して
ディスク（３）の中心孔（至）から■れる係着装置ｎの
解除作動を行なって該キャリッジａ・へのディスク（３
）の塔載作動が終了するようにした。
崗、鋏今ヤリツジ鵠には畿述するディスク保持装置が設
けられ、こ、れＫよって該ディスク（３）が該牛ヤリツ
ジ翰に確保される。
けられ、こ、れＫよって該ディスク（３）が該牛ヤリツ
ジ翰に確保される。
さらに該流体圧作動装置（２）の高圧系の方向制御弁−
をその１１位置（４４ｍ）とすれば前配絞）−によＪ）
Ｉ！−からの流体の排出が絞られると共に増圧装置−に
よＩＩＥｎＫ高圧流体が供給され続けるので係着装置（
Ｌｅは把持操作ピストン（至）がばねｏ４に抗して突出
し九係着装置舖の解除状■を維持した壕を後退１する。
をその１１位置（４４ｍ）とすれば前配絞）−によＪ）
Ｉ！−からの流体の排出が絞られると共に増圧装置−に
よＩＩＥｎＫ高圧流体が供給され続けるので係着装置（
Ｌｅは把持操作ピストン（至）がばねｏ４に抗して突出
し九係着装置舖の解除状■を維持した壕を後退１する。
さらに該キャリッジａ・が前記胃ツタ富（７）へと戻シ
新九なウニ八（４）を取付は九ディスク（３）を塔載し
て再びディスク駆動装置■の前方に来九ときは、該流体
圧作動装置（財）の方向制御弁（財）を位置（４４ｂ）
１１ｃ切換えすれｄ係着＊蒙ｆＡ＠はこれを解除状態と
したまま該ディスク（３）の中心孔（２）へと進入し、
そこて該制御弁−を位置（４４ｏ）とすると共に低正系
の制御弁−を位ｔ（４８＠）Ｋ切換えれば富−が排圧さ
れ、これに伴４って寵−の圧力も低下するので把持操作
ピストン−がばね＠４により押され、かくて爪片＠Ｉ）
がディスク（３）を把持すべくそ０中心孔（至）内Ｋｍ
）て拡開し、同時ＫＩＨａＫ供給される低圧の圧力流体
によ）該係着装置−は第５ＷＪ示のイオン注入位ｆＫデ
ィスク食うかんで戻る。そして該ディスク（３）は電動
機ＬｉＫよる係着装置−の回転と密閉Ｗ１ａ４による左
右動とが与えられ該ディスク（３）上の複数枚のウニ八
（４）に勾−亀イオン注入蝙厘が施される。
新九なウニ八（４）を取付は九ディスク（３）を塔載し
て再びディスク駆動装置■の前方に来九ときは、該流体
圧作動装置（財）の方向制御弁（財）を位置（４４ｂ）
１１ｃ切換えすれｄ係着＊蒙ｆＡ＠はこれを解除状態と
したまま該ディスク（３）の中心孔（２）へと進入し、
そこて該制御弁−を位置（４４ｏ）とすると共に低正系
の制御弁−を位ｔ（４８＠）Ｋ切換えれば富−が排圧さ
れ、これに伴４って寵−の圧力も低下するので把持操作
ピストン−がばね＠４により押され、かくて爪片＠Ｉ）
がディスク（３）を把持すべくそ０中心孔（至）内Ｋｍ
）て拡開し、同時ＫＩＨａＫ供給される低圧の圧力流体
によ）該係着装置−は第５ＷＪ示のイオン注入位ｆＫデ
ィスク食うかんで戻る。そして該ディスク（３）は電動
機ＬｉＫよる係着装置−の回転と密閉Ｗ１ａ４による左
右動とが与えられ該ディスク（３）上の複数枚のウニ八
（４）に勾−亀イオン注入蝙厘が施される。
鎖中ヤリツジａ＠性例えば馬２図示のように上下に車輪
−を備え九略方形固棒状のフレーム−にて構成されるが
、これに円板状のディスク（３）を安定に塔載するため
に第７図示の如く該７レームーのｉ！１ｌｌＫ該ディス
ク（３；の端縁を支える支片■と、ばね６１１で弾発さ
れて突出し該ディスク（３）の両面を支える先端２叉状
のローラーとから成るディスク保持装置を設けるように
し九、これをさもＫＩＦ述すれと該ローラーはその背Ｉ
ＩＫ接続し九ワイヤーがキャリッジα・の左右に設は九
レバー軸＠によ〕引かれるとはね軸に抗して没入する奄
ので、かくて該キャリッジ翰のｌＩＩ後から伺えば前記
係着装置αｅによ〕鋏ディスク（３１を＠職し或は取外
せるようにし九、さらに腋し／（−１１４−は腋キャリ
ッジαＱがイオン注入型（１）或はロック室（７）のデ
ィスタ着脱位置に停止１九とき各基（１）（７）の軸方
から出没するシリンダー＠によシ押圧されて作動するも
ので、この際該キャリッジ＜１０は各室（１）（７）内
に設けえ出没自在の一ツクビン＠＠によシネ動ＫＩＮ定
される。６ηは該キャリッジａ・の１＠に設けたラック
を示し、これにタイ電ングベルート（至）そＯＡＫよシ
互に同期回転された冬１！（１１（７）内の歯車−が咬
合すると該キャリッジ帥は各室ｉｌ＋ （７） Ｋ夫々
設けられ九し−ルーーに沿って車輪−によ）走行する。
−を備え九略方形固棒状のフレーム−にて構成されるが
、これに円板状のディスク（３）を安定に塔載するため
に第７図示の如く該７レームーのｉ！１ｌｌＫ該ディス
ク（３；の端縁を支える支片■と、ばね６１１で弾発さ
れて突出し該ディスク（３）の両面を支える先端２叉状
のローラーとから成るディスク保持装置を設けるように
し九、これをさもＫＩＦ述すれと該ローラーはその背Ｉ
ＩＫ接続し九ワイヤーがキャリッジα・の左右に設は九
レバー軸＠によ〕引かれるとはね軸に抗して没入する奄
ので、かくて該キャリッジ翰のｌＩＩ後から伺えば前記
係着装置αｅによ〕鋏ディスク（３１を＠職し或は取外
せるようにし九、さらに腋し／（−１１４−は腋キャリ
ッジαＱがイオン注入型（１）或はロック室（７）のデ
ィスタ着脱位置に停止１九とき各基（１）（７）の軸方
から出没するシリンダー＠によシ押圧されて作動するも
ので、この際該キャリッジ＜１０は各室（１）（７）内
に設けえ出没自在の一ツクビン＠＠によシネ動ＫＩＮ定
される。６ηは該キャリッジａ・の１＠に設けたラック
を示し、これにタイ電ングベルート（至）そＯＡＫよシ
互に同期回転された冬１！（１１（７）内の歯車−が咬
合すると該キャリッジ帥は各室ｉｌ＋ （７） Ｋ夫々
設けられ九し−ルーーに沿って車輪−によ）走行する。
次にその作動を説明するに１真空のイオン注入１（１）
内にゲートバルブａ■を介して四ツ？１Ｅ（７）からキ
ャリッジａ・によりディスク（３）が運び込まれると、
該ゲートバルブ（１０が閉じ、ディスクの回転装置（１
７ｍ）の回転軸ａ力が伸長してその先端の係着装置舖が
ディスク（３）の中心孔（２）内にその爪片６υを縮め
て進入する。続いて該爪片ｅｌｌが該中心孔（至）内に
於て開きディスク（３）を把むと共にキャリッジ（１（
１のディスク保持＊＊が解歓されると該回転軸ａ’ｎｈ
ディスク（３）を把んでイオン注入位置Ｋｔで没入し、
そこで密Ｍ ＩＩ １４内の電動機Ｉによる回転と螺杵
（２）で移動する密閉室６４による左右動とが与えられ
、該ディスタロ）の各ウニ八（４）には密ＩＩ ｌ［＠
４により塵芥の発生が防止されているので清浄１に雰囲
気に於てイオン注入処理が□処される。
内にゲートバルブａ■を介して四ツ？１Ｅ（７）からキ
ャリッジａ・によりディスク（３）が運び込まれると、
該ゲートバルブ（１０が閉じ、ディスクの回転装置（１
７ｍ）の回転軸ａ力が伸長してその先端の係着装置舖が
ディスク（３）の中心孔（２）内にその爪片６υを縮め
て進入する。続いて該爪片ｅｌｌが該中心孔（至）内に
於て開きディスク（３）を把むと共にキャリッジ（１（
１のディスク保持＊＊が解歓されると該回転軸ａ’ｎｈ
ディスク（３）を把んでイオン注入位置Ｋｔで没入し、
そこで密Ｍ ＩＩ １４内の電動機Ｉによる回転と螺杵
（２）で移動する密閉室６４による左右動とが与えられ
、該ディスタロ）の各ウニ八（４）には密ＩＩ ｌ［＠
４により塵芥の発生が防止されているので清浄１に雰囲
気に於てイオン注入処理が□処される。
このように本発明によるときはイオン注入室内に移動自
在の密ＷＩｉ室を設け、その内部にディスクの回転装置
を収容するようにしたのでイオン注入室内への回転装置
からの塵芥の飛散を防止出来、不純物の混入のｔｋ１７
％イオン注入処理を行なえ、ディスクの取扱操作も迅速
に行なえる等の効果がある。
在の密ＷＩｉ室を設け、その内部にディスクの回転装置
を収容するようにしたのでイオン注入室内への回転装置
からの塵芥の飛散を防止出来、不純物の混入のｔｋ１７
％イオン注入処理を行なえ、ディスクの取扱操作も迅速
に行なえる等の効果がある。
第１ＷＪは本発明装置の１例の裁断平面図、第２ＷＪは
そＯ論断正面図、第５図は第１図のｍ−圧作動輪電の線
図、第゛７図はキャリッジの一部拡大截断傭画閣、籐６
図は第２図の■−■線部分の拡大断面図である。 （１）・・・イオン注入室 （２）・・・イオン
注入口１３＋・・・ディスク ４４）・・・ウ
エ ハ（１４１・・・密ｗ１１ｉ１ａη・・・−転装
置特許田麺人 日本真空技ＩＩ株式会社 代 理 人 北 村 欣 −ｆ；′さ
一部 外２名
そＯ論断正面図、第５図は第１図のｍ−圧作動輪電の線
図、第゛７図はキャリッジの一部拡大截断傭画閣、籐６
図は第２図の■−■線部分の拡大断面図である。 （１）・・・イオン注入室 （２）・・・イオン
注入口１３＋・・・ディスク ４４）・・・ウ
エ ハ（１４１・・・密ｗ１１ｉ１ａη・・・−転装
置特許田麺人 日本真空技ＩＩ株式会社 代 理 人 北 村 欣 −ｆ；′さ
一部 外２名
Claims (1)
- ＋ａ数枚のウニ八を着脱自在に取付けえディスクを、イ
オン注入口を備え九真空Ｏイオン注入富内で回転嘔せ、
該注入口を介Ｌ”ｌ（導入されるイオンビー＾に上り該
ウニ八にイオン注入処理を行なう式のものに於て、皺イ
オン注入富内に移動自在の密ｖ１１！を設け、該密ｌＩ
！璽内に該ディスクの回転１置を収容して成るイオン注
入装鎗。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57083317A JPS581960A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | イオン注入室装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57083317A JPS581960A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | イオン注入室装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2221481A Division JPS57136755A (en) | 1981-02-19 | 1981-02-19 | Disc operating device for ion implanting device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS581960A true JPS581960A (ja) | 1983-01-07 |
Family
ID=13799042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57083317A Pending JPS581960A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | イオン注入室装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS581960A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS615898A (ja) * | 1984-06-19 | 1986-01-11 | 東京電力株式会社 | ヒ−トポンプ式衣類乾燥機 |
| JPS61146299A (ja) * | 1984-12-20 | 1986-07-03 | 東京電力株式会社 | 衣類の乾燥終了時の検出方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55104057A (en) * | 1979-02-02 | 1980-08-09 | Hitachi Ltd | Ion implantation device |
-
1982
- 1982-05-19 JP JP57083317A patent/JPS581960A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55104057A (en) * | 1979-02-02 | 1980-08-09 | Hitachi Ltd | Ion implantation device |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS615898A (ja) * | 1984-06-19 | 1986-01-11 | 東京電力株式会社 | ヒ−トポンプ式衣類乾燥機 |
| JPS61146299A (ja) * | 1984-12-20 | 1986-07-03 | 東京電力株式会社 | 衣類の乾燥終了時の検出方法 |
| JPH0371160B2 (ja) * | 1984-12-20 | 1991-11-12 | Tokyo Denryoku Kk |
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