JPS58194886A - ナフチリジン誘導体及びその製法 - Google Patents
ナフチリジン誘導体及びその製法Info
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- JPS58194886A JPS58194886A JP57077794A JP7779482A JPS58194886A JP S58194886 A JPS58194886 A JP S58194886A JP 57077794 A JP57077794 A JP 57077794A JP 7779482 A JP7779482 A JP 7779482A JP S58194886 A JPS58194886 A JP S58194886A
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- C07D471/02—Heterocyclic compounds containing nitrogen atoms as the only ring hetero atoms in the condensed system, at least one ring being a six-membered ring with one nitrogen atom, not provided for by groups C07D451/00 - C07D463/00 in which the condensed system contains two hetero rings
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-
- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
- A61P29/00—Non-central analgesic, antipyretic or antiinflammatory agents, e.g. antirheumatic agents; Non-steroidal antiinflammatory drugs [NSAID]
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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- A61P3/00—Drugs for disorders of the metabolism
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
な有する、鎮痛抗炎症作用及び抗過酸化脂質作用を示す
医薬品として有用な新規ナフチリジン誘導体、その薬理
学的に許容される酸性□加塩及びその製法に関するもの
である。
医薬品として有用な新規ナフチリジン誘導体、その薬理
学的に許容される酸性□加塩及びその製法に関するもの
である。
上記式中、R1は水素原子、アルキル基またはアシル基
を示し、 R2は低級アルキル基を示し;R3は水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、水酸基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ピリジルオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アミノ基または一置換もしく
は二置換アミノ基を示す。
を示し、 R2は低級アルキル基を示し;R3は水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、水酸基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ピリジルオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アミノ基または一置換もしく
は二置換アミノ基を示す。
一般式(1)において、好適にはRは水素原子、メチル
、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−−エチル
、イソブチル、ペンチル、ヘキシルのような炭素数1〜
6個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、あ
るいはアセチル、プロピオニル、ブチリルのような炭素
数1〜4個の脂肪族アシル基、あるいは芳香環に弗素、
塩素、臭素のようなハロゲン原子、メチル、エチル、プ
ロピルのような低級アルキル基もしくはメトキシ、エト
キシ、プロポキシのような低級アルコキシ基な置換基と
して有してもよいベンゾイル、ナフトイルのような芳香
族アシル基、モL < バーyエニルアセチル、2−フ
ェニルプロピオニルのような芳香脂肪族アシル基 u2
はメチル、エチル、プロピルのような低級アルキル基を
示I−R3は水素原子、メチル、エチル、プロピルのよ
うな低級アルキル基、水酸基、メトキシ、エトキシ、n
−プロポキシ、インプロポキシのような低級アルコキシ
基、芳香環に弗素、塩素、臭素のようなハロゲン原子、
トリフルオロメチル基、メチル、エチル、プロピルのよ
うな低級アルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ
のような低級アルコキシ基、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、ジイソプロピルアミノのような低級ジアルキル
アミノ基、カルボキシル基、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニルのような低級アルコキシカルボニル基、
メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル
、2−メトキシカルボニルエチルのような低級アルコキ
7力ルポニルアルキル基を置換基として有し−Cもよい
フェノキシ基、フェニルチオ基もしくはピリジルオキシ
基、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピルのよ
うな低級アルキルチオ基、アミ7基、−置換アミノ基−
NHR’(式中 14はメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピルのような低級アルキル基、芳香環にメチル、
エチルのような低級アルキル基、メトキシ、エトキシの
ような低級アルコキシ基、水酸基、弗素、塩素、臭素の
ようなハロゲン原子を置換基として有してもよいフェニ
ル基もしくはピリジル基を示す。)、二置換アミノ基−
NR”R’(式中、R5およびR6は同一または異なる
メチル、エチル、プロピルのようなアルキル基、隣接す
る窒素原子と一緒になって形成する1−ピロリジニル、
ピペリジノ、モルホリ/、1−ピペラジニルなどの環状
アミノ基、1−ピペラジニル基の4位にメチル、エチル
のような低級アルキル基、アセチル、プロピオニルなど
の脂肪族アシル基、ベンゾイル、パラクロルベンゾイル
、オルソメトキシベンゾイルなどの芳香族アシル基、ベ
ンジル、フェナシル、バラアミノベンジル、オルソメト
キシフェナシルのようなアラルキル基を有する1−ピペ
ラジニル基を示す。)を示す。
、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−−エチル
、イソブチル、ペンチル、ヘキシルのような炭素数1〜
6個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキル基、あ
るいはアセチル、プロピオニル、ブチリルのような炭素
数1〜4個の脂肪族アシル基、あるいは芳香環に弗素、
塩素、臭素のようなハロゲン原子、メチル、エチル、プ
ロピルのような低級アルキル基もしくはメトキシ、エト
キシ、プロポキシのような低級アルコキシ基な置換基と
して有してもよいベンゾイル、ナフトイルのような芳香
族アシル基、モL < バーyエニルアセチル、2−フ
ェニルプロピオニルのような芳香脂肪族アシル基 u2
はメチル、エチル、プロピルのような低級アルキル基を
示I−R3は水素原子、メチル、エチル、プロピルのよ
うな低級アルキル基、水酸基、メトキシ、エトキシ、n
−プロポキシ、インプロポキシのような低級アルコキシ
基、芳香環に弗素、塩素、臭素のようなハロゲン原子、
トリフルオロメチル基、メチル、エチル、プロピルのよ
うな低級アルキル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ
のような低級アルコキシ基、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、ジイソプロピルアミノのような低級ジアルキル
アミノ基、カルボキシル基、メトキシカルボニル、エト
キシカルボニルのような低級アルコキシカルボニル基、
メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメチル
、2−メトキシカルボニルエチルのような低級アルコキ
7力ルポニルアルキル基を置換基として有し−Cもよい
フェノキシ基、フェニルチオ基もしくはピリジルオキシ
基、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピルのよ
うな低級アルキルチオ基、アミ7基、−置換アミノ基−
NHR’(式中 14はメチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピルのような低級アルキル基、芳香環にメチル、
エチルのような低級アルキル基、メトキシ、エトキシの
ような低級アルコキシ基、水酸基、弗素、塩素、臭素の
ようなハロゲン原子を置換基として有してもよいフェニ
ル基もしくはピリジル基を示す。)、二置換アミノ基−
NR”R’(式中、R5およびR6は同一または異なる
メチル、エチル、プロピルのようなアルキル基、隣接す
る窒素原子と一緒になって形成する1−ピロリジニル、
ピペリジノ、モルホリ/、1−ピペラジニルなどの環状
アミノ基、1−ピペラジニル基の4位にメチル、エチル
のような低級アルキル基、アセチル、プロピオニルなど
の脂肪族アシル基、ベンゾイル、パラクロルベンゾイル
、オルソメトキシベンゾイルなどの芳香族アシル基、ベ
ンジル、フェナシル、バラアミノベンジル、オルソメト
キシフェナシルのようなアラルキル基を有する1−ピペ
ラジニル基を示す。)を示す。
本発明によって得られる前記一般式(1)を有する化合
物を表1に例示する。
物を表1に例示する。
(12)
本発明による新規化合物は以下に示す方法によって合成
することができる。
することができる。
製法fil
(式中 R2およびR3は前述したものと同意義を表わ
す。)を有するナフチリジン誘導体は一般式 (式中、R3は前述したものと同意義を表わす。)を有
する化合物と 一般式 %式%(3) (式中、R2は前述したものと同意義を表わす、)を有
する化合物と反応させることにより得られる。
す。)を有するナフチリジン誘導体は一般式 (式中、R3は前述したものと同意義を表わす。)を有
する化合物と 一般式 %式%(3) (式中、R2は前述したものと同意義を表わす、)を有
する化合物と反応させることにより得られる。
この方法を実施するにあたって、化合物(3)を溶媒と
して触媒量の酸、酸としては、塩酸、硫酸などの鉱酸、
p−トルエンスルホン酸のような有機酸、あるいは触媒
針のヨードを用いて行なわれる。反応温度は通常0℃な
いし150 ℃付近で行われる。反応時間は使用する化
合物によって異なるが、通常1ないし50時間である。
して触媒量の酸、酸としては、塩酸、硫酸などの鉱酸、
p−トルエンスルホン酸のような有機酸、あるいは触媒
針のヨードを用いて行なわれる。反応温度は通常0℃な
いし150 ℃付近で行われる。反応時間は使用する化
合物によって異なるが、通常1ないし50時間である。
反応終了後反応混合物を常法に従って処理し、前記一般
式(1)を有する化合物を得ろ、更に必要ならばカラム
クロマトグラフィー、蒸留あるいは再結晶などによって
精製することができる。
式(1)を有する化合物を得ろ、更に必要ならばカラム
クロマトグラフィー、蒸留あるいは再結晶などによって
精製することができる。
こ\に得られた化合物(1)は塩酸塩のような酸付加塩
に導くことができる。
に導くことができる。
製法(2)
(式中、Raは低級アルキル基、アシル基ヲ示し、R2
およびR3は前述したものと同意義を表わす。)を有す
るナフチリジン誘導体は 一般式 C式中 R2およびR5は前述したものと同意義を表わ
す)を有する化合物と RλX(5) (式中、Raは前述したものと同意義を示し、Xはハロ
ゲン原子、アシルオキシ基を表わす。)を有する化合物
を反応させて得られる。
およびR3は前述したものと同意義を表わす。)を有す
るナフチリジン誘導体は 一般式 C式中 R2およびR5は前述したものと同意義を表わ
す)を有する化合物と RλX(5) (式中、Raは前述したものと同意義を示し、Xはハロ
ゲン原子、アシルオキシ基を表わす。)を有する化合物
を反応させて得られる。
この方法を実施するにあたって、溶媒としてメチレンク
ロリド、クロロホルム、四塩化炭素環ノハロゲン化炭化
水素:メタノール、エタノール、t−ブタノールのよう
なアルコール;アセトニトリル、ジメチルホルムアミド
などが用いられる。
ロリド、クロロホルム、四塩化炭素環ノハロゲン化炭化
水素:メタノール、エタノール、t−ブタノールのよう
なアルコール;アセトニトリル、ジメチルホルムアミド
などが用いられる。
反応に使用される塩基としては水素化リチウム、水素化
ナトリウムなどのアルカリ金属水素化物、n−ブチルリ
チウム、5ea−ブチルリチウムなどのアルキルリチウ
ム化合物;ナトリウムエトキサイド、ナトリウムエトキ
サイド、カリウム−t−ブトキサイドなどのアルコキサ
イド;トリエチルアミン、トリブチルアミンなど第三級
アミン;ピリジン、ピコリンなどの異頃環塩基、等を用
いて10°乃至150 ℃付近で行う。
ナトリウムなどのアルカリ金属水素化物、n−ブチルリ
チウム、5ea−ブチルリチウムなどのアルキルリチウ
ム化合物;ナトリウムエトキサイド、ナトリウムエトキ
サイド、カリウム−t−ブトキサイドなどのアルコキサ
イド;トリエチルアミン、トリブチルアミンなど第三級
アミン;ピリジン、ピコリンなどの異頃環塩基、等を用
いて10°乃至150 ℃付近で行う。
反応時間は反応温度などにょシ異なるが通常1〜20時
間である。
間である。
反応終了後、反応混合物を常法に従って処理し前記一般
式(1)を有する化合物を得る。更に必要ならばカラム
クロマトグラフィー、再結晶マたけ蒸留によシ精製する
ことができる。
式(1)を有する化合物を得る。更に必要ならばカラム
クロマトグラフィー、再結晶マたけ蒸留によシ精製する
ことができる。
製法(3)
一般式
(式中、R3は前述したものと同意義を表わす)
′□を有する化合物【2)と 一般式 (式中 R2は前述したものと同意義を表わす)を有す
る化合物(7)を反応させると 一般式 (式中 R2およびR5は前述したものと同意義を表わ
す)を有する化合物(4)が得られる。
′□を有する化合物【2)と 一般式 (式中 R2は前述したものと同意義を表わす)を有す
る化合物(7)を反応させると 一般式 (式中 R2およびR5は前述したものと同意義を表わ
す)を有する化合物(4)が得られる。
この反応は堪酸、硫酸などの鉱酸;トルエンスルホン酸
のような有機酸?触媒として用い、無溶媒もしくはエー
テル、テトラヒドロフラン、などのエーテル類;メチレ
ンクロリド、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素を用
いて行う。
のような有機酸?触媒として用い、無溶媒もしくはエー
テル、テトラヒドロフラン、などのエーテル類;メチレ
ンクロリド、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素を用
いて行う。
反応温度は0℃から150℃。反応時間は2時間から6
0時間である。この反応液を常法に従つて処理し、必要
に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶もしくは蒸
留により精製できる。
0時間である。この反応液を常法に従つて処理し、必要
に応じてカラムクロマトグラフィー、再結晶もしくは蒸
留により精製できる。
製法(4)
一般式
(式中 R3は前述したものと同意義を表わす)を有す
る化合物(2)と 一般式 (式中、R2は前述し7たものと同意義な表わす)を有
する化合物(8)を反応させると 一般式 (式中 R’2およびR5は前述したものと同意義を表
わす。)を有する化合物(4)が得られる。
る化合物(2)と 一般式 (式中、R2は前述し7たものと同意義な表わす)を有
する化合物(8)を反応させると 一般式 (式中 R’2およびR5は前述したものと同意義を表
わす。)を有する化合物(4)が得られる。
この反応は、塩酸、硫酸などの鉱酸;トルエンスルホン
酸のような有機酸を触媒として用い、無溶媒もしくは、
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;
n−ヘキサン、n−ヘプタン、などの炭化水素:エーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類
;メチレンクロライド、クロロホルムなどの/10ゲン
化炭化水素;アセトニトリル、ジメチルホルムアミドな
どを溶媒として用いることができる。反応温度は0℃か
ら150℃。反応時間は2時間から60時間である。反
応液を常法に従って処理し、必要に応じてカラムクロマ
トグラフィー、蒸留もしくは再結晶により梢夷すること
により化合物(4)が得られる。
酸のような有機酸を触媒として用い、無溶媒もしくは、
ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素;
n−ヘキサン、n−ヘプタン、などの炭化水素:エーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類
;メチレンクロライド、クロロホルムなどの/10ゲン
化炭化水素;アセトニトリル、ジメチルホルムアミドな
どを溶媒として用いることができる。反応温度は0℃か
ら150℃。反応時間は2時間から60時間である。反
応液を常法に従って処理し、必要に応じてカラムクロマ
トグラフィー、蒸留もしくは再結晶により梢夷すること
により化合物(4)が得られる。
以−ヒのような製法により合成される一般式+11を有
するナフチリジン誘導体は、その製法によシ遊離、塩基
あるいは薬理学的に許容される塩として得られるが、遊
離塩基からこれらの塩へ、これらの塩から遊離塩基への
変換は通常の方法によっておこなうことができる。
するナフチリジン誘導体は、その製法によシ遊離、塩基
あるいは薬理学的に許容される塩として得られるが、遊
離塩基からこれらの塩へ、これらの塩から遊離塩基への
変換は通常の方法によっておこなうことができる。
薬理学的に許容される酸付加塩とは塩基性化合物の毒性
を実質的に増大しない塩を意味し、塩酸、リン酸、硫酸
、硝酸のような鉱酸の塩、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸
、乳酸、マレイン酸等の有機酸の塩を包含する。
を実質的に増大しない塩を意味し、塩酸、リン酸、硫酸
、硝酸のような鉱酸の塩、酒石酸、クエン酸、リンゴ酸
、乳酸、マレイン酸等の有機酸の塩を包含する。
本発明の前記一般式(1)を有するナフチリジン誘導体
は薬理試験によシ、すぐれた鎮痛抗炎症作用な示すこと
が明らかとなった。次にそれらの鎮痛抗炎症作用の結果
を例示する。
は薬理試験によシ、すぐれた鎮痛抗炎症作用な示すこと
が明らかとなった。次にそれらの鎮痛抗炎症作用の結果
を例示する。
(19)
なj?薬理試験は次の方法によって行った。
抗炎症作用
ウィスター(Wiθter)系ラットを用いてカラゲニ
ン浮腫法によシ試験した。[O,A、Winter 、
Fi、A。
ン浮腫法によシ試験した。[O,A、Winter 、
Fi、A。
R15ley、G、W、Nuss :J、Pharma
col、に+xp、 Therap・。
col、に+xp、 Therap・。
1413B!I C1963) )
鎮痛作用
ウィスター(Wistθr)系ラットを用いてランダル
セリット法により試験した。[L、O,Randall
。
セリット法により試験した。[L、O,Randall
。
(20)
J、、r+5elittO; Aroh、int、P
harmacodyn 111409 (1957
))。
harmacodyn 111409 (1957
))。
上記の薬理試験の結果からも明らかなように前記一般式
(1)を有する化合物は鎮痛抗炎症剤として有用である
。その投与形態としてはたとえば、錠剤、カプセル剤、
顆粒剤、散剤などによる経口投与をあげることができる
。その使用量は症状、年令、体重等によシことなるが、
通常は成人に対して一日約50m9から2000■であ
り、−回または数回に分けて投与することができる。
(1)を有する化合物は鎮痛抗炎症剤として有用である
。その投与形態としてはたとえば、錠剤、カプセル剤、
顆粒剤、散剤などによる経口投与をあげることができる
。その使用量は症状、年令、体重等によシことなるが、
通常は成人に対して一日約50m9から2000■であ
り、−回または数回に分けて投与することができる。
次に実施例をあげて本発明をさらに具体的に説明する。
実施例−1
5−アミノ−2−メトキシピリジン50りにアセトン1
00alを加え、更にエーテルに塩酸ガスを飽和した溶
液5n1ノを加えて8時間加熱還流する。冷後過剰のア
セトンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(9:1)の
溶出部より目的の化合物が得られる。これを蒸留して、
沸点108〜b 得友。
00alを加え、更にエーテルに塩酸ガスを飽和した溶
液5n1ノを加えて8時間加熱還流する。冷後過剰のア
セトンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(9:1)の
溶出部より目的の化合物が得られる。これを蒸留して、
沸点108〜b 得友。
元素分析値 011H16N20 として計算値0,
68.72.H,8,39,N、14.57実測値0,
68.73.H,8,33,N、’14.49実施例−
2 5−アミノ−2−クロロピリジン17.3tにアセトン
10m1及びヨード0.52加え、13時間加熱還流す
る。今後アセトンを留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(
9:1)の溶出部より得られる目的化合物をエーテル−
n−ヘキサンから再結晶すると、融点75〜76℃を有
する結晶が2.5f得られた。
68.72.H,8,39,N、14.57実測値0,
68.73.H,8,33,N、’14.49実施例−
2 5−アミノ−2−クロロピリジン17.3tにアセトン
10m1及びヨード0.52加え、13時間加熱還流す
る。今後アセトンを留去し、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(
9:1)の溶出部より得られる目的化合物をエーテル−
n−ヘキサンから再結晶すると、融点75〜76℃を有
する結晶が2.5f得られた。
元素分析値 011H1!1N2Ct として計算値
0,63.30.H,6,27,N、13.42゜Ol
、16.98 実測値C!、63.40.H,6,30,N、13.2
9゜01.16.77 実施例3〜25は実施例1の方法で同様に合成した。
0,63.30.H,6,27,N、13.42゜Ol
、16.98 実測値C!、63.40.H,6,30,N、13.2
9゜01.16.77 実施例3〜25は実施例1の方法で同様に合成した。
実施例−26
2、2,4−)ジメチル−6−メトキシ−1,2−ジヒ
ドロ−1,5−ナフチリジン6、29 ’fジメチルホ
ルムアミド40m1に溶解後、水素化ナトリウム1,5
vを加えて30分間攪拌する。そこにジメチルホルムア
ミドに溶解させたヨウ化メチル8fを滴下し、室温で4
8時間績拌する。氷水にあけ酢酸エチルで抽出、溶媒を
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(9:1)の溶出部よ
り目的の化合物が得られた。これを蒸留して、沸点13
0〜135℃105朋Hfの油状物質4.21を得た。
ドロ−1,5−ナフチリジン6、29 ’fジメチルホ
ルムアミド40m1に溶解後、水素化ナトリウム1,5
vを加えて30分間攪拌する。そこにジメチルホルムア
ミドに溶解させたヨウ化メチル8fを滴下し、室温で4
8時間績拌する。氷水にあけ酢酸エチルで抽出、溶媒を
留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに
付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(9:1)の溶出部よ
り目的の化合物が得られた。これを蒸留して、沸点13
0〜135℃105朋Hfの油状物質4.21を得た。
元素分析値 C13H18N20 として計算値0,
71.52.H,8,31,N、12.83実測値0,
7149.H,8,37,N、12.74実施例−27 5−アミノ−2−ブトキンピリジン28tにアセトン5
0m、lを加え、更にエーテルに塩酸ガスを飽和した溶
液1 mlを加えて27時間加熱還流する。冷浸過剰の
アセトンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに例し、ベンゼンの溶出部より2.2.4−
)ジメチル−6−ブトキン−1,2−ジヒドロ−1,5
−ナフチリジンが1824られる。この内の2.5 f
にアセトン3Q〃+(!、ヨウ化メチル271を加えて
、10時間加熱還流する。今後アセト・ンを留去して、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、n
−ヘキサン−酢酸エチル(9:1)の溶出部よシ油状の
目的化合物0.85 fが得られた。
71.52.H,8,31,N、12.83実測値0,
7149.H,8,37,N、12.74実施例−27 5−アミノ−2−ブトキンピリジン28tにアセトン5
0m、lを加え、更にエーテルに塩酸ガスを飽和した溶
液1 mlを加えて27時間加熱還流する。冷浸過剰の
アセトンを留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーに例し、ベンゼンの溶出部より2.2.4−
)ジメチル−6−ブトキン−1,2−ジヒドロ−1,5
−ナフチリジンが1824られる。この内の2.5 f
にアセトン3Q〃+(!、ヨウ化メチル271を加えて
、10時間加熱還流する。今後アセト・ンを留去して、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、n
−ヘキサン−酢酸エチル(9:1)の溶出部よシ油状の
目的化合物0.85 fが得られた。
元素分析値 C16H24N20 として計算値0,
73.80.H,9,29,14,10,76実測値0
,73.44jH,9,33,N、10.34実施例−
28 2、2,4−)ジメチル−6−メトΦシー1,2−ジヒ
ドLl −1,5−ナフチリジン3vをジメチルホルム
アミド15m1に溶解後、水素化ナトリウム0.8rY
加えて30分間攪拌する。そこにジメチルホルムアミド
に溶解させたp−クロロペンヅイルクロライド5.62
を滴下し、10時間60℃加熱をする。氷水にあけ酢酸
エチルで抽出、鋳Wを留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、ベンセンの溶出部より得ら
れる目的化合物をエチルエーテルから再結晶すると、融
点79〜82℃を有する結晶が202得られた。
73.80.H,9,29,14,10,76実測値0
,73.44jH,9,33,N、10.34実施例−
28 2、2,4−)ジメチル−6−メトΦシー1,2−ジヒ
ドLl −1,5−ナフチリジン3vをジメチルホルム
アミド15m1に溶解後、水素化ナトリウム0.8rY
加えて30分間攪拌する。そこにジメチルホルムアミド
に溶解させたp−クロロペンヅイルクロライド5.62
を滴下し、10時間60℃加熱をする。氷水にあけ酢酸
エチルで抽出、鋳Wを留去し、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーに付し、ベンセンの溶出部より得ら
れる目的化合物をエチルエーテルから再結晶すると、融
点79〜82℃を有する結晶が202得られた。
元素分析値 C1,Hl、N202Ct として計算
′1直 0,66.56.H,5,58,N、8.17
゜C’!、、10.34 実測値0,8Ei、71 :JT、5.53.N、8.
19jOt、 1040 ゛ 実施例−29 2、2,4−)リフチル−6−メトギン−1,2−ジヒ
ドロ−1,5−ナフチリジン37をジメチルポルムアミ
ド20meに溶解後、水素化ナトリウム0.8 ? Y
加えて30分間攪拌する。そこにジメチルホルムアミド
にC容解させたO−フルオロベンゾイルクロライド5.
Oyを滴下し、10時間60℃に加熱をする。氷水にあ
け酢酸エチルで抽出、溶媒を留去し、残mを7リカゲル
カラムクロマトグラフイーに付し、n−へ#す>−酢酸
エチル(a:t)の溶出部より得られる目的化合物をエ
ーテル−n−ヘキサンから再結晶すると、融点102〜
104℃を有する結晶が1.52得られた。
′1直 0,66.56.H,5,58,N、8.17
゜C’!、、10.34 実測値0,8Ei、71 :JT、5.53.N、8.
19jOt、 1040 ゛ 実施例−29 2、2,4−)リフチル−6−メトギン−1,2−ジヒ
ドロ−1,5−ナフチリジン37をジメチルポルムアミ
ド20meに溶解後、水素化ナトリウム0.8 ? Y
加えて30分間攪拌する。そこにジメチルホルムアミド
にC容解させたO−フルオロベンゾイルクロライド5.
Oyを滴下し、10時間60℃に加熱をする。氷水にあ
け酢酸エチルで抽出、溶媒を留去し、残mを7リカゲル
カラムクロマトグラフイーに付し、n−へ#す>−酢酸
エチル(a:t)の溶出部より得られる目的化合物をエ
ーテル−n−ヘキサンから再結晶すると、融点102〜
104℃を有する結晶が1.52得られた。
元素分7折値 C19H1,N202F と[7て計
算値0,69.92.H,5,+1[l、N、Fl、5
B。
算値0,69.92.H,5,+1[l、N、Fl、5
B。
F、5.82
実測値0,89.94.H,5,80,N、8.60゜
F 、 5.60 実施例−30 2、2,4−)リフチル−6−メトキシ−1,2−ジヒ
ドロ−1,5−ナフチリジン31に無水酢酸5vを加え
て、3時間加熱速流する。冷拶1、酢酸エチルで抽出、
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(9+1)の溶
出部よシ得られる目的化合物をエーテルから凋結晶する
と、融点61〜63℃を有する結晶が2,6v得られた
O 元素分析値 C14H18N202 として計算値0
,68.27.H,7,37,Njll、37実測値0
.6B、37.H,7,30,N、IL48実施例−3
1 乙 5−アミノ−2−モルホリノピリジン47りにアセトン
35rIL11及びヨード0.12を加え、15時間加
熱還流する。冷浸過剰のアセトンを留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン
−酢酸エチル(8:2)の溶出部よシ融点137〜14
1℃を有する2、 2.4− )ジメチル−6−モルホ
リノ−1,2−ジヒドロ−1,5−カッチリジンが2.
42得られた。これに、無水酢酸20m1を加えて、3
時間加熱還流する。今後、酢酸エチルで抽出、溶媒を留
去し、エーテルから再結晶すると、融点108〜110
℃を有する目的化合物が2.8?得られた。
F 、 5.60 実施例−30 2、2,4−)リフチル−6−メトキシ−1,2−ジヒ
ドロ−1,5−ナフチリジン31に無水酢酸5vを加え
て、3時間加熱速流する。冷拶1、酢酸エチルで抽出、
溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(9+1)の溶
出部よシ得られる目的化合物をエーテルから凋結晶する
と、融点61〜63℃を有する結晶が2,6v得られた
O 元素分析値 C14H18N202 として計算値0
,68.27.H,7,37,Njll、37実測値0
.6B、37.H,7,30,N、IL48実施例−3
1 乙 5−アミノ−2−モルホリノピリジン47りにアセトン
35rIL11及びヨード0.12を加え、15時間加
熱還流する。冷浸過剰のアセトンを留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン
−酢酸エチル(8:2)の溶出部よシ融点137〜14
1℃を有する2、 2.4− )ジメチル−6−モルホ
リノ−1,2−ジヒドロ−1,5−カッチリジンが2.
42得られた。これに、無水酢酸20m1を加えて、3
時間加熱還流する。今後、酢酸エチルで抽出、溶媒を留
去し、エーテルから再結晶すると、融点108〜110
℃を有する目的化合物が2.8?得られた。
元素分析値 C17H23N302 として計算値0
,67.75.H,7,69,N、13.94実測値0
.67.85.H,?、89.N、13.91実施例−
32 5−アミノ−2−メトキシピリジン25g′にメチルエ
チルケトン30Fを加え、更にエーテルに塩酸ガスを飽
和した溶液1 mlを加えて20時間加熱還流する。冷
浸過剰のメチルエチルケトンを留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢
酸エチル(9:1)の溶出部より目的の化合物が得られ
た。これを蒸留して、沸点125〜130℃/nmHf
の油状物質5.2 rを得た。
,67.75.H,7,69,N、13.94実測値0
.67.85.H,?、89.N、13.91実施例−
32 5−アミノ−2−メトキシピリジン25g′にメチルエ
チルケトン30Fを加え、更にエーテルに塩酸ガスを飽
和した溶液1 mlを加えて20時間加熱還流する。冷
浸過剰のメチルエチルケトンを留去し、残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢
酸エチル(9:1)の溶出部より目的の化合物が得られ
た。これを蒸留して、沸点125〜130℃/nmHf
の油状物質5.2 rを得た。
元素分析値C14H2oN20 として計算値0,7
2.3B、H,8,68,N、12.06実測値0,7
2.00.H,186,N、11.73実施例−33 5−アミノ−2−メトキシピリジン2.48 fにメシ
チルオキサイド1.96f、濃塩酸1滴を加え、2日間
放置する。放置後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ベンゼン−n−ヘキサン(9:1)の溶出部
より、目的化合物が2.51得られ九。
2.3B、H,8,68,N、12.06実測値0,7
2.00.H,186,N、11.73実施例−33 5−アミノ−2−メトキシピリジン2.48 fにメシ
チルオキサイド1.96f、濃塩酸1滴を加え、2日間
放置する。放置後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーに付し、ベンゼン−n−ヘキサン(9:1)の溶出部
より、目的化合物が2.51得られ九。
元素分析値 Cl2H16N20として計算値0,70
.56.H,7,90,N、13.72実測値0,70
.4B、)(j7.71.N、13.80実施例−34 5−アミノ−2−メトキシピリジン248vにジアセト
ンアルコール2.40v1濃塩酸1滴を入れて4日間放
置する。放置後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、ベンゼンの溶出部よ)、油状の目的化合物が2
.1を得られた。
.56.H,7,90,N、13.72実測値0,70
.4B、)(j7.71.N、13.80実施例−34 5−アミノ−2−メトキシピリジン248vにジアセト
ンアルコール2.40v1濃塩酸1滴を入れて4日間放
置する。放置後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
に付し、ベンゼンの溶出部よ)、油状の目的化合物が2
.1を得られた。
元素分析値 Cl2H16N20 として計算値0,
70.56.H,7,90,N、13.72実測値0,
70.77、H,7,79,N、13.61特許出願人
三共株式会社 代理人 弁理士樫出庄治 手続補正書(自発) 昭和58年5月2日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 昭和57年特許願第77794 号 2、発明の名称 ナフチリジン誘導体及びその製法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒103東京都中央区日本橋本町3丁目1番地の
6名称 (185)三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 4、代理人 居所 〒140東京部品川区広町1丁目2番58号三共
株式会社内 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄7、補
正の内容 別紙の通り 1、 明細書束15頁2行目の 「 R′ 2 同第1T頁下から2行目の 「反応温度は0℃から150℃。」を 「反応温度は0℃から150℃であり、」と訂正する。
70.56.H,7,90,N、13.72実測値0,
70.77、H,7,79,N、13.61特許出願人
三共株式会社 代理人 弁理士樫出庄治 手続補正書(自発) 昭和58年5月2日 特許庁長官 若 杉 和 夫 殿 昭和57年特許願第77794 号 2、発明の名称 ナフチリジン誘導体及びその製法 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 〒103東京都中央区日本橋本町3丁目1番地の
6名称 (185)三共株式会社 代表者 取締役社長 河村喜典 4、代理人 居所 〒140東京部品川区広町1丁目2番58号三共
株式会社内 6、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄7、補
正の内容 別紙の通り 1、 明細書束15頁2行目の 「 R′ 2 同第1T頁下から2行目の 「反応温度は0℃から150℃。」を 「反応温度は0℃から150℃であり、」と訂正する。
3 同第19貞10行目の
「反応温度は0℃から150℃。」を
「反応温度は0℃から150℃であり、」と訂正する。
−
4、同第21頁下から7行目および下から2行目の
「ウィスター(Wister)系ラット」を「ウィスタ
ー(Wist、ar)系ラット」と訂正する。
ー(Wist、ar)系ラット」と訂正する。
5、 同第23頁6乃至8行目の
[元素分析値 C41H16N20 として計算値a
、sa、r2.H,a、ss、Nj1tsy実測値0,
68.73.H,8,33,N、14.49Jを[元素
分析値 C42H16N20 として計算値0,70
.56.H,7,!10.N、13.72実測値0,7
0.32.H,8,12,N、13.67Jと訂正する
。
、sa、r2.H,a、ss、Nj1tsy実測値0,
68.73.H,8,33,N、14.49Jを[元素
分析値 C42H16N20 として計算値0,70
.56.H,7,!10.N、13.72実測値0,7
0.32.H,8,12,N、13.67Jと訂正する
。
6、同第24頁5行目の
「実施例3〜25は」を
「実施例3〜25及び35〜45は」と訂正する。
7、 同第24頁8乃至9行目の
℃
「mp又はbp℃又は/l□、」を
「m9℃又はbp ℃/nmHf Jと訂正する。
8 同第26頁5行目の語句の後に下記の語句を挿入す
る。
る。
9 同第8頁4乃至5行目の
「イソプロポキシのような低級アルコキシ基、」を
「イソノロ−キシ、n−ブトキシ、]−へキシルオキシ
、]−オクチルオキシのような低級アルコキシ基、」と
訂正する。
、]−オクチルオキシのような低級アルコキシ基、」と
訂正する。
10、同第22頁5乃至111行目
「その投与形態としてはたとえば、・・・・・・・・・
・・・・・・・・・−回または数回に分けて投与するこ
とができる。」を 「その投与形態としては例えば錠剤、カプセル剤、散剤
、シロップ剤などによる経口投与または坐剤による経腸
投与、あるいは軟膏剤、クリーム剤などによる局所投与
等をあげることができる。その使用量は症状、年令、体
重等によって異なるが、通常は経口投与の場合には成人
に対して1日約509乃至20001719であり、1
回tたは数回に分けて投与することができる。」と訂正
する。
・・・・・・・・・−回または数回に分けて投与するこ
とができる。」を 「その投与形態としては例えば錠剤、カプセル剤、散剤
、シロップ剤などによる経口投与または坐剤による経腸
投与、あるいは軟膏剤、クリーム剤などによる局所投与
等をあげることができる。その使用量は症状、年令、体
重等によって異なるが、通常は経口投与の場合には成人
に対して1日約509乃至20001719であり、1
回tたは数回に分けて投与することができる。」と訂正
する。
11、同第32頁下から5行目の
「沸点125〜b
[沸点125〜130℃70.3關Hg Jと訂正する
。
。
以上
Claims (5)
- (1) 一般式 (式中、Rは水素原子、低級アルキル基またはアシル基
を示し;R2は低級アルキル基を示し;R3は水素原子
、ハロゲン原子、低級アルキル基、水酸基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、ピリジルオキシ基、アルキルチ
オ基、アリールチオ基、アミ7基または一置換もしくは
二置換アミ/基を示す。)を有するナフチリジン誘導体
(1)及びその薬理学的に許容される酸付加塩。 - (2)一般式 (式中 R5は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ピリジ
ルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ
基または一置換もしくは二置換アミノ基を示す。)を有
する化合物を一般式 %式%(3) (式中、R2は凹縁アルキル基を示す。)を有する化合
物と反応させること乞特徴とする一般式 (式中、RおよびR3は11j1述したものと同意義を
表わす。)を有するツーフチリジン誘導体及び薬理学的
に許容される酸付加塩の製法。 - (3) 一般式 R2 (式中 R2は低級アルキル基を示し、 R5は水素原
子、ハロゲン原子、低級アルキル基、水酸基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基、ピリジルオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アミノ基または一置換もしく
は二置換アミン基を示す。)を有する化合物と 一般式 %式%(5) C式中、酎が低級アルキル基の場合、Xはハロゲン原子
を示し、Rλがアシル基の場合、XId、 ハロゲン原
子もしくはアシルオキシ基を示す。)を有する化合物と
反応させることを特徴とする。 (式中、R’ 、 R2およびR3は前述したものと同
意義を表わす。)を有するナフチリジン誘導体及びその
薬理学的に許容される酸付加塩の製法。 - (4)一般式 (式中 R5は水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル
基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ピリジ
ルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ
基または一置換もしくは二置換アミ/基を示す。)を有
する化合物と一般式 (式中 R2は低級アルキル基を示す。)を有する化合
物を反応させることを特徴とする。 、′1一
般式 (式中 R2およびR3は前述したものと同意義を表わ
す)を有するナフチリジン誘導体及びその薬理学的に許
容される酸付加塩の製法。 - (5)一般式 (式中 ’FC5は水素原子、ハロゲン原子、低級アル
キル基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ピ
リジルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ア
ミノ基または一置換もしくは二置換アミノ基を示す。)
を有する化合物と一般式 (式中 R2は低級アルキル基を示す。)を有する化合
物を反応させることを特徴とするゆ一般式 (式中、R2およびR3は前述したものと同意義を表わ
す。)を有するナフチリジン誘導体及びその薬理学的に
許容される酸付加塩の製法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57077794A JPS58194886A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | ナフチリジン誘導体及びその製法 |
EP83302632A EP0094245A2 (en) | 1982-05-10 | 1983-05-10 | Dihydronaphthyridine derivatives, their preparation and compositions containing them |
ES522262A ES522262A0 (es) | 1982-05-10 | 1983-05-10 | Un procedimiento para la preparacion de nuevos derivados de dihidronaftiridina. |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57077794A JPS58194886A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | ナフチリジン誘導体及びその製法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58194886A true JPS58194886A (ja) | 1983-11-12 |
Family
ID=13643893
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57077794A Pending JPS58194886A (ja) | 1982-05-10 | 1982-05-10 | ナフチリジン誘導体及びその製法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0094245A2 (ja) |
JP (1) | JPS58194886A (ja) |
ES (1) | ES522262A0 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4694083A (en) * | 1985-01-28 | 1987-09-15 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | Certain carbamate ester derivatives forming salts with pyridinium or picolinium cations which are useful as intermediates |
US4812564A (en) * | 1985-01-28 | 1989-03-14 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | Process for preparing 4,4-dialkyl-2-azetidinones utilizing a pyridine (or substituted pyridine) sulfur trioxide complex |
JP2018526514A (ja) * | 2015-09-02 | 2018-09-13 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 潤滑剤組成物 |
-
1982
- 1982-05-10 JP JP57077794A patent/JPS58194886A/ja active Pending
-
1983
- 1983-05-10 EP EP83302632A patent/EP0094245A2/en not_active Withdrawn
- 1983-05-10 ES ES522262A patent/ES522262A0/es active Granted
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4694083A (en) * | 1985-01-28 | 1987-09-15 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | Certain carbamate ester derivatives forming salts with pyridinium or picolinium cations which are useful as intermediates |
US4812564A (en) * | 1985-01-28 | 1989-03-14 | E. R. Squibb & Sons, Inc. | Process for preparing 4,4-dialkyl-2-azetidinones utilizing a pyridine (or substituted pyridine) sulfur trioxide complex |
JP2018526514A (ja) * | 2015-09-02 | 2018-09-13 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | 潤滑剤組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES8504188A1 (es) | 1984-08-16 |
ES522262A0 (es) | 1984-08-16 |
EP0094245A2 (en) | 1983-11-16 |
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