JPS58186532A - 放電による鏡面加工用電極 - Google Patents
放電による鏡面加工用電極Info
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- JPS58186532A JPS58186532A JP7102282A JP7102282A JPS58186532A JP S58186532 A JPS58186532 A JP S58186532A JP 7102282 A JP7102282 A JP 7102282A JP 7102282 A JP7102282 A JP 7102282A JP S58186532 A JPS58186532 A JP S58186532A
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- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/04—Electrodes specially adapted therefor or their manufacture
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明に二次元形状の自由曲面を含む金型等の７７１
１工面に枚重加工を用いて鏡面加工を施す鏡面加工用電
極に関するものである。
１工面に枚重加工を用いて鏡面加工を施す鏡面加工用電
極に関するものである。
近時、金型加工の無人化の研究が行われているが、金型
表面の鏡面仕上に関しては主として回転砥石車を使用す
るものが多く、例えば二次元形状の加工にけ砥石形状１
寸法による制約が多くある。
表面の鏡面仕上に関しては主として回転砥石車を使用す
るものが多く、例えば二次元形状の加工にけ砥石形状１
寸法による制約が多くある。
そこで放電、加工を用いて鏡面加工を行うことが試みら
れるようになりつつある。
れるようになりつつある。
ところで、これまでの放ｉａ’７ＪＩ工技術による鏡面
加工においては、１０ｄ程度以下の小面積でのみ可能で
あり、これにも例乗ば１０ｄで２０〜８０時間もの長時
間を要するのが常態で、加工面積が実用的な金型の広い
面積（例えば１００〜ｔｏｏｏｉ ）になるといくら時
間をかけて加工しても鏡面（０，４μｍＲｍａｘ以下）
を得ることが困難となる場伏である。
加工においては、１０ｄ程度以下の小面積でのみ可能で
あり、これにも例乗ば１０ｄで２０〜８０時間もの長時
間を要するのが常態で、加工面積が実用的な金型の広い
面積（例えば１００〜ｔｏｏｏｉ ）になるといくら時
間をかけて加工しても鏡面（０，４μｍＲｍａｘ以下）
を得ることが困難となる場伏である。
第１図は通常の放！（資）工装置の一例を示すもので、
この図において（１）は放電加工用電ｆ＠〒、被用下物
（２）と加工間隙を介して相対向して白灯油のような絶
縁性加工媒体の中に浸漬されている。（ＢＡ）。
この図において（１）は放電加工用電ｆ＠〒、被用下物
（２）と加工間隙を介して相対向して白灯油のような絶
縁性加工媒体の中に浸漬されている。（ＢＡ）。
（８Ｂ）・−・（８Ｎ）は、加工間隙に流れる放電電流
を断続して方形波パルスを発生させる複数個のトランジ
スタで、互いに並列に接続されている。このトランジス
タ群に放ｉｔ冒流が小さい場合［Ｈその個数は少なくて
よく、例えば１個のトランジスタでもよい。（４Ａ）、
（４Ｂ）・・・（４Ｎ） ａ ｌ−フンジスタのコレク
タ電流を定格内におさえると共に、電流をバランスさせ
るための抵抗、（５Ａ）、（５Ｂ＞・・・（５Ｎ）は各
トランジスタのベース電流を制限するペース抵抗。
を断続して方形波パルスを発生させる複数個のトランジ
スタで、互いに並列に接続されている。このトランジス
タ群に放ｉｔ冒流が小さい場合［Ｈその個数は少なくて
よく、例えば１個のトランジスタでもよい。（４Ａ）、
（４Ｂ）・・・（４Ｎ） ａ ｌ−フンジスタのコレク
タ電流を定格内におさえると共に、電流をバランスさせ
るための抵抗、（５Ａ）、（５Ｂ＞・・・（５Ｎ）は各
トランジスタのベース電流を制限するペース抵抗。
（６）はパルス発生回路からなる時間計数回路で、無安
定マルチバイブレータ、ｍ安定マルチバイブレータ、フ
リップフロップ回路等で構成されている。
定マルチバイブレータ、ｍ安定マルチバイブレータ、フ
リップフロップ回路等で構成されている。
（７）ハ増幅器で、Ｆ記時間計数回路（６）で発生させ
たハＡ／スヲ増幅し、上記トランジスタ（８Ａ）、 （
８Ｂ１・・・（３Ｎ）に与えるものである。なおＦ、Ｏ
ｉｊ加工電源を示している。
たハＡ／スヲ増幅し、上記トランジスタ（８Ａ）、 （
８Ｂ１・・・（３Ｎ）に与えるものである。なおＦ、Ｏ
ｉｊ加工電源を示している。
第２図のａ、ｂに第１図に示す装置によって加Ｉｎｉ［
＋に印加される電圧及び電流波形を示す図〒。
＋に印加される電圧及び電流波形を示す図〒。
図中τｐＦｉ電圧パルス幅、τ、け休止幅、τＮは無負
＃電圧印加時間、τＮは放電持続時間、（８）は無負Ｍ
１１１’ＥＥＥ、（９）に放［１［ＥｆＥ、 Ｑ（Ｉｔ
−を放［［ｉ、 Ｉｐは放′［ｌｒｔ流ピーク値、工Ｒ
は平均加工電流を夫々示している。
＃電圧印加時間、τＮは放電持続時間、（８）は無負Ｍ
１１１’ＥＥＥ、（９）に放［１［ＥｆＥ、 Ｑ（Ｉｔ
−を放［［ｉ、 Ｉｐは放′［ｌｒｔ流ピーク値、工Ｒ
は平均加工電流を夫々示している。
ここで加工仕上面は、放電電流ピーク値工ｐと。
放電持続時間τ１を小さくすればする程次第に精細にな
って行くが、放電電流ピーク値Ｉｐと放電持続時間τ□
をどんなに小さくしても加工面が鏡面とならない限界が
存在する。
って行くが、放電電流ピーク値Ｉｐと放電持続時間τ□
をどんなに小さくしても加工面が鏡面とならない限界が
存在する。
そこで本発明者達は、この限界の存在する理由について
種々の９ｉ！睦と考察から次の事項に起因することを見
出した。
種々の９ｉ！睦と考察から次の事項に起因することを見
出した。
即ち、第１の理由は、第８図妊）Ｋ等価的に示すように
、加工間ＦＪｉＫは加工１１源ＥＯや機械装置（図示せ
ず）が本来もっている浮遊静電容量ＣＯが存在するため
に、前記放電電ピーク値工ｐと放電持続時間τ１．即ち
投入電力を小さくしても前記浮遊静電容ｔＣＯに電荷が
蓄積され、この蓄積された電荷が放電するため、ｆ＄８
図（ｔ））に示すコンデンサ放電の大電流によって加工
面が荒されるためである。これを具体的数値をもうて更
に説明すれば、今、紋電富圧Ｅｄ（Ｖ）、極間アーク電
圧（放電時の極間電圧）Ｃｇ関、回路のインダクタンス
Ｌ（μＢ）、加工間隙に作用する前記静電容量Ｃ。
、加工間ＦＪｉＫは加工１１源ＥＯや機械装置（図示せ
ず）が本来もっている浮遊静電容量ＣＯが存在するため
に、前記放電電ピーク値工ｐと放電持続時間τ１．即ち
投入電力を小さくしても前記浮遊静電容ｔＣＯに電荷が
蓄積され、この蓄積された電荷が放電するため、ｆ＄８
図（ｔ））に示すコンデンサ放電の大電流によって加工
面が荒されるためである。これを具体的数値をもうて更
に説明すれば、今、紋電富圧Ｅｄ（Ｖ）、極間アーク電
圧（放電時の極間電圧）Ｃｇ関、回路のインダクタンス
Ｌ（μＢ）、加工間隙に作用する前記静電容量Ｃ。
（μＦ）とすれば、コンデンサ放電ピーク電流工ｐ工ｐ
〜（Ｅｄ−Ｃｇ）／ＪＬ不 曲・・・・曲（１）で表わ
され、又、放電持続時間τＮは、τＮ岬πＪＴａ−・・
・・・・曲用・・（２）で表わされる。
〜（Ｅｄ−Ｃｇ）／ＪＬ不 曲・・・・曲（１）で表わ
され、又、放電持続時間τＮは、τＮ岬πＪＴａ−・・
・・・・曲用・・（２）で表わされる。
ここで１通常放電電圧Ｅｄは加工Ｗ源で定まり８０〜１
００Ｍ、極間アーク電圧ｅｇは電極と被加工物の材料の
組合せで定まり、銅対ステンレススｆ ｌ’（Ｄ場合
ｎ２ＯＮ１程度１回路のインダクタンスＬｉ通常０．２
（μＢ）程度であるから、前記静電容量Ｃｏを０．０１
（μＢ）桿崖として本前記（１）式及び（２）式から
、Ｉｐ勺２９（８）、τ”−＝；０．１４（□８）が算
出され机そしてこの程度の仕、Ｆ、面粗さは、８〜４ａ
ｒｎ計訊Ｘ となり、鏡面にはほど遠い粗さである。
００Ｍ、極間アーク電圧ｅｇは電極と被加工物の材料の
組合せで定まり、銅対ステンレススｆ ｌ’（Ｄ場合
ｎ２ＯＮ１程度１回路のインダクタンスＬｉ通常０．２
（μＢ）程度であるから、前記静電容量Ｃｏを０．０１
（μＢ）桿崖として本前記（１）式及び（２）式から
、Ｉｐ勺２９（８）、τ”−＝；０．１４（□８）が算
出され机そしてこの程度の仕、Ｆ、面粗さは、８〜４ａ
ｒｎ計訊Ｘ となり、鏡面にはほど遠い粗さである。
なお、加工′Ｉ［源ト：ｏや機械装置が本来本っている
浮遊静を容ｔＣｏとしてに前記の０．０１ （μＢ）程
度は存在するものである。
浮遊静を容ｔＣｏとしてに前記の０．０１ （μＢ）程
度は存在するものである。
又、第２の理由は、＠４図に示すように、電極（１）と
被加工物（２）との対向面積による静電容量Ｃｓが被加
工物（２）の加工に前記第１の理由において説明した浮
遊靜ｗ８量Ｃｏ ｖｃ重畳して作用することである。
被加工物（２）との対向面積による静電容量Ｃｓが被加
工物（２）の加工に前記第１の理由において説明した浮
遊靜ｗ８量Ｃｏ ｖｃ重畳して作用することである。
即ち、第４図において電極（１）と被加工物（２）の対
向面接金Ｓｄ、対向面間距離をｄａＩＩ−加工媒体□Ｂ
の誘電率をεとすれば、電極（１）と被加工物（２）と
の対向面積による静電容量ｃ８は周知のように。
向面接金Ｓｄ、対向面間距離をｄａＩＩ−加工媒体□Ｂ
の誘電率をεとすれば、電極（１）と被加工物（２）と
の対向面積による静電容量ｃ８は周知のように。
で表わさね、これにより被加工物（２）の加工面が影響
をうけることである。
をうけることである。
以上のように浮遊静電容ｊｉＯｏと電極（１）と被加工
物（２）との対向面積にょる靜を容量Ｃｓが重畳して作
用するため、加工面積が実用的な金型の広い面積になる
と、放電電流ピーク値工ｐと放電持続時間τ１をいくら
小さくしても加工面Ｋｖｌｔ面が得られないことが判明
した。
物（２）との対向面積にょる靜を容量Ｃｓが重畳して作
用するため、加工面積が実用的な金型の広い面積になる
と、放電電流ピーク値工ｐと放電持続時間τ１をいくら
小さくしても加工面Ｋｖｌｔ面が得られないことが判明
した。
この発明１−Ｊ）、記実験結果及びその考察がら、前記
事２の清白に基づちなされたもので、加工面積が実用的
な金型の広め面積であっても鏡面が得られる鏡面加工用
電極を提供することを目的とする。
事２の清白に基づちなされたもので、加工面積が実用的
な金型の広め面積であっても鏡面が得られる鏡面加工用
電極を提供することを目的とする。
以下、この発明の一実施例について図面と共に詳説する
。即ち、第５図はこの発明による電極を使用した放電、
ｍ工装置の概略構成図で１図において団は加工槽、（財
）は加工槽…内に設置される電気基 的絶縁よ、υは上記基台６ｐトに載置される被加工物１
Ｍは破加下物輸と加工媒体−を介して対向する電極、（
至）は上記型も−υと被加工物−間に加工エネルギーを
供給する加工電源で、この加工電源（至）は高周波パル
ス電源とこの高周波パルス電源からの高周波パルス（例
えば２Ｍ）（ｚ程度）を整流する整流装置を包含する。
。即ち、第５図はこの発明による電極を使用した放電、
ｍ工装置の概略構成図で１図において団は加工槽、（財
）は加工槽…内に設置される電気基 的絶縁よ、υは上記基台６ｐトに載置される被加工物１
Ｍは破加下物輸と加工媒体−を介して対向する電極、（
至）は上記型も−υと被加工物−間に加工エネルギーを
供給する加工電源で、この加工電源（至）は高周波パル
ス電源とこの高周波パルス電源からの高周波パルス（例
えば２Ｍ）（ｚ程度）を整流する整流装置を包含する。
■に上記Ｗ導輪に後述するように、主輸送りに加えて揺
１ｌＩ７Ｉ運動を与える電極送り装置である。
１ｌＩ７Ｉ運動を与える電極送り装置である。
又、上記電極＆１け次のようＫｍ成されている。
即ち、（Ｆ＋７ａ） 〜（５７ｎ） ｆ！−辺１０６程
度の銅またにグラファイトの角棒、六角棒、丸棒等のｗ
ｆＭ素材、（５８ａ） −ｎ５８ｎ−＋ １ ｉｊ上
記市欅素材（５７ａ）−（５７ｎ）間を互いにＷ慨的に
絶縁する絶縁体、（５９ａ）〜（ｆｉ９ｎ）は上記電極
素材（５７ａ）〜（５７ｎ ）に一端が夫Ａ接続され、
他端が集電板−に接続大ねる電流制限体。
度の銅またにグラファイトの角棒、六角棒、丸棒等のｗ
ｆＭ素材、（５８ａ） −ｎ５８ｎ−＋ １ ｉｊ上
記市欅素材（５７ａ）−（５７ｎ）間を互いにＷ慨的に
絶縁する絶縁体、（５９ａ）〜（ｆｉ９ｎ）は上記電極
素材（５７ａ）〜（５７ｎ ）に一端が夫Ａ接続され、
他端が集電板−に接続大ねる電流制限体。
例えば抵抗体、Ｉυは上記Ｗ棒素材（５７ａ ）〜（５
７ゎ）を結束するホルダー、シは電極素材（５７ａ）〜
（５７ｎ１間の隙間を示している。なお、上記電極素材
（５７ａ１〜（５７ｎ ）が金属の場合には盛り金や溶
接あるいけメッキ法により絶縁体（５８ａ）〜（５８ｎ
−＋）を介して電極素材（Ｆｔ７ａ ）〜（５７ｎ ）
を接着してもよ＜、１極素材（５７ａ）〜（５７ｎ）が
グラファイトの場合には上記同様絶縁体（ＦｉＳａ３〜
（Ｆ、８ｎ＋−１）を介して電極素材（５７ａ）〜（５
７ｎ ）を導電性接着４１などで接着して一体化しても
よい。
７ゎ）を結束するホルダー、シは電極素材（５７ａ）〜
（５７ｎ１間の隙間を示している。なお、上記電極素材
（５７ａ１〜（５７ｎ ）が金属の場合には盛り金や溶
接あるいけメッキ法により絶縁体（５８ａ）〜（５８ｎ
−＋）を介して電極素材（Ｆｔ７ａ ）〜（５７ｎ ）
を接着してもよ＜、１極素材（５７ａ）〜（５７ｎ）が
グラファイトの場合には上記同様絶縁体（ＦｉＳａ３〜
（Ｆ、８ｎ＋−１）を介して電極素材（５７ａ）〜（５
７ｎ ）を導電性接着４１などで接着して一体化しても
よい。
次に、ここで前記電流制限体（５９ａ）〜（５９ｎ）の
作用について説明する。
作用について説明する。
この電流制限体（５９ａ）〜（５９ｎ） ｉｊ後述する
ように１例えば電極素材（５７ａ）と被１１工物輪間に
放電が発生［７た場合、前述のように他のＷ＊素材（Ｆ
、Ｔｏ）〜（５７ｎ１と被加工物υ間の夫々に形成され
る静電？１ｔｅＳ ［＠積さネ、り重荷が、上記１極素
材（５７ａ、）と被（資）Ｔ物６の間の放電に合流する
のを阻止することと、１μ工Ｗｒｍ（至）からの電流を
限流して電極素材（５７ａ）の放電箇所に加工１ｉｓｔ
６からの電流が集中するのを防止する。換言すれば、各
Ｗ棒素材（５７ａ３〜（５７ｎ ）への最大電流を制限
する作用を成している。
ように１例えば電極素材（５７ａ）と被１１工物輪間に
放電が発生［７た場合、前述のように他のＷ＊素材（Ｆ
、Ｔｏ）〜（５７ｎ１と被加工物υ間の夫々に形成され
る静電？１ｔｅＳ ［＠積さネ、り重荷が、上記１極素
材（５７ａ、）と被（資）Ｔ物６の間の放電に合流する
のを阻止することと、１μ工Ｗｒｍ（至）からの電流を
限流して電極素材（５７ａ）の放電箇所に加工１ｉｓｔ
６からの電流が集中するのを防止する。換言すれば、各
Ｗ棒素材（５７ａ３〜（５７ｎ ）への最大電流を制限
する作用を成している。
以−トが装置の概略構成≠であるが２次に加工方法を詳
説する。即ち、第６図は加工方法を説明するための斜視
図であって、この図のＺ軸方向−＼の主輸送りに加えて
、多数の電極素材を束ねて構成する１ｆ極構造に基因し
て生ずる加工面における残留芯及び加工側面の残留条痕
を取り除くため、電極１の偏心運動と揺動運動とを行わ
せて加工するのであるが、先ず２軸方向への主軸送妙に
ついて説明する。
説する。即ち、第６図は加工方法を説明するための斜視
図であって、この図のＺ軸方向−＼の主輸送りに加えて
、多数の電極素材を束ねて構成する１ｆ極構造に基因し
て生ずる加工面における残留芯及び加工側面の残留条痕
を取り除くため、電極１の偏心運動と揺動運動とを行わ
せて加工するのであるが、先ず２軸方向への主軸送妙に
ついて説明する。
放電に電極素材（５７ａ）〜（５７ｎ ）と被加工物１
間で発生するわけであるが、短絡あるいは７−りが頻発
しない範囲で、電極口の送りが最大になるようにサーボ
する。即ち、第７図に示す放ｉｌｒ電圧波形を検出する
ことにより、正常状態、短絡状態。
間で発生するわけであるが、短絡あるいは７−りが頻発
しない範囲で、電極口の送りが最大になるようにサーボ
する。即ち、第７図に示す放ｉｌｒ電圧波形を検出する
ことにより、正常状態、短絡状態。
アーク状態を判別し、短絡あるいはアーク放電が所定時
間内（例えば１秒間）に発生する数を計数【７．この計
数値と基準値を比較して短絡あるいはアーク放電の頻度
が多ければ送り速度を小さく制御し、少なければ送り速
度を大角〈制御する。尤も１通常行われている加工間隙
の平均電圧を楡出し、これを基準電圧に等しくするよう
に電極輪の送りを制御する方式を採用してもよい。
間内（例えば１秒間）に発生する数を計数【７．この計
数値と基準値を比較して短絡あるいはアーク放電の頻度
が多ければ送り速度を小さく制御し、少なければ送り速
度を大角〈制御する。尤も１通常行われている加工間隙
の平均電圧を楡出し、これを基準電圧に等しくするよう
に電極輪の送りを制御する方式を採用してもよい。
次に、Ｗ棲υの偏心運動と揺動運動とについて説明する
。
。
即ち、鴫は基準点０を中心とする偏心運動で。
この運動けＷ導輪に回転を与えるものではなくＸ軸、Ｙ
軸に関する方向は変わらない、１１及び−けＸ軸支びＹ
軸における揺動運動で、この運動はＸ−２軸及びＹ−Ｚ
軸に関して円弧を含んで往復運動をするよう制御するも
のである。
軸に関する方向は変わらない、１１及び−けＸ軸支びＹ
軸における揺動運動で、この運動はＸ−２軸及びＹ−Ｚ
軸に関して円弧を含んで往復運動をするよう制御するも
のである。
一般に１１工底而における残留芯及び加工側面における
電極素材（５７ａ）〜（５７ｎ）の側面による残留条痕
は少なくともＷ棒素材（５７ａ ）〜（５７ｎ ）の直
径に等しい偏心量の上記偏・Ｄ運動−によって取除くこ
とができる。しかしながら第６図に示すように、側面に
傾斜をもつ電極ωによって被加工物−を形成する場合に
は電極素材（５７ａ）〜（５７ｎ）の段差による残留条
痕に１ｈ心運動１だけでは取除くことがで弯ず、１極Ｑ
てヒ記揺拘運動輪及び−を与えろことが必要である。な
お載接の側面を本っＷ極の場合には上記揺動運動１及び
＠ｒｆＸ−Ｚ軸、 Ｙ −Ｚ軸のみではなくその山間本
含め全周にわたって細分化して行われるのがよい。実用
上は円周を８等分又は１６１ｉ分して揺動運動を行ｆ、
ば円滑な面となる。
電極素材（５７ａ）〜（５７ｎ）の側面による残留条痕
は少なくともＷ棒素材（５７ａ ）〜（５７ｎ ）の直
径に等しい偏心量の上記偏・Ｄ運動−によって取除くこ
とができる。しかしながら第６図に示すように、側面に
傾斜をもつ電極ωによって被加工物−を形成する場合に
は電極素材（５７ａ）〜（５７ｎ）の段差による残留条
痕に１ｈ心運動１だけでは取除くことがで弯ず、１極Ｑ
てヒ記揺拘運動輪及び−を与えろことが必要である。な
お載接の側面を本っＷ極の場合には上記揺動運動１及び
＠ｒｆＸ−Ｚ軸、 Ｙ −Ｚ軸のみではなくその山間本
含め全周にわたって細分化して行われるのがよい。実用
上は円周を８等分又は１６１ｉ分して揺動運動を行ｆ、
ば円滑な面となる。
次ＶＣｗ極簡（で用いる電極素材及び偏心量、揺動量と
仕り面あらさとの関係について説明する。
仕り面あらさとの関係について説明する。
偏心運動についてに通常、棒やパイプなどの直径に相当
する寸法の偏心量とすわば、Ｍ留芯は全て取除くことが
で告る１２、側面の残留条痕も＃１ぼ直線あるいは所望
する曲＃１に近似式せることができる。従−て１４Ｉ心
量を車代〈１．ようとすわば棒やパイプなどの径の小へ
いものを使用した方がよいことになる。
する寸法の偏心量とすわば、Ｍ留芯は全て取除くことが
で告る１２、側面の残留条痕も＃１ぼ直線あるいは所望
する曲＃１に近似式せることができる。従−て１４Ｉ心
量を車代〈１．ようとすわば棒やパイプなどの径の小へ
いものを使用した方がよいことになる。
又、揺動運動については１通電棒やパイプなどの径と側
面の傾斜によって定まる段差とできまる。
面の傾斜によって定まる段差とできまる。
第８図ｉｔｖ極の揺動運動によって形成される仕上面の
側断面形什を示す本ので、Ｒは上記電極６１の揺動運動
１の揺動半径、６σＷ樺累材（５７ａ ）〜（ｆｉ７ｒ
ｌ ’）の直径、ｈは！極側面の段差の高さ、Ｓは上記
１極素材（５７ａ ）〜（５７ｎ ）の直径ｄと段差の
高さｈとによって。
側断面形什を示す本ので、Ｒは上記電極６１の揺動運動
１の揺動半径、６σＷ樺累材（５７ａ ）〜（ｆｉ７ｒ
ｌ ’）の直径、ｈは！極側面の段差の高さ、Ｓは上記
１極素材（５７ａ ）〜（５７ｎ ）の直径ｄと段差の
高さｈとによって。
Ｓ ＝ 、ｆｄ’＋’ｎ’ ・・・・・・・・・
−（４）で与えられる段差ピッチである。今％第９図に
示すように加工面の最大あらさＨＩＴｌａＸ ｌｄ段差
ピフチＳが揺動半径Ｒの２倍より大金い場合、即ちとな
り、ＩＥ１０図に示すように段差ピッチＳが揺動半径Ｒ
の２倍より小さい場合、即ち Ｓ＜２Ｈの場合には Ｈ′ｒｒＢ、Ｘ舛ｄ ・・・・・
・・・・（６）となる。従−て、仕上面あらさＨｒｒｆ
ＬＸ ｉｊ上記（４）（５）（６）式かられかるように
、電極素材（５７ａ ）〜（５７ｎ）の直径ｄが小さい
稈１段差の高さｈが車代い程。
−（４）で与えられる段差ピッチである。今％第９図に
示すように加工面の最大あらさＨＩＴｌａＸ ｌｄ段差
ピフチＳが揺動半径Ｒの２倍より大金い場合、即ちとな
り、ＩＥ１０図に示すように段差ピッチＳが揺動半径Ｒ
の２倍より小さい場合、即ち Ｓ＜２Ｈの場合には Ｈ′ｒｒＢ、Ｘ舛ｄ ・・・・・
・・・・（６）となる。従−て、仕上面あらさＨｒｒｆ
ＬＸ ｉｊ上記（４）（５）（６）式かられかるように
、電極素材（５７ａ ）〜（５７ｎ）の直径ｄが小さい
稈１段差の高さｈが車代い程。
又、揺動半径Ｒが大会い程良好な仕上面を得ることがで
奉る。
奉る。
発明者達の実検結果によれば、断面積０．５１の棒状ｉ
ｔ電極素材使用して、１０００ｃ４の加工面を加工する
のに２０００本程度（隙間ばに相当する分のＷ隊素材に
少なくなる）の重合体としてＷ＊−を構成して加工した
場合、加工Ｎ’に条件に本よるが１〜９時間で積面が得
らｈることが判明してｈる。
ｔ電極素材使用して、１０００ｃ４の加工面を加工する
のに２０００本程度（隙間ばに相当する分のＷ隊素材に
少なくなる）の重合体としてＷ＊−を構成して加工した
場合、加工Ｎ’に条件に本よるが１〜９時間で積面が得
らｈることが判明してｈる。
又、第１１図はこの発明の他の実施例を示すもので、加
１［源ωの一方の極と電極素材（ＦｔＴａ）〜（５７ｎ
）間に、トランジスタ（６５’ｌ）〜（６５ｎ）と抵抗
体（５９ａ）〜（ｈ９ｎ）の直列体を接続した本の〒、
これによれば例えばｍ’ｉ素子（５７ａ）と被加工物−
間で放電が全学した場合、他の電極素子（Ｆｔ７ｈ １
〜（ｆｉ７ｎ）と被加工物６η間の夫々で形成される静
電容量Ｃｓに蓄積される電荷が、前記ｆ輌素子（ＦｔＴ
ａ）と被加工物−の放％′に全く関与しなくなり、−頴
良好なｍ面加工が可能となる。
１［源ωの一方の極と電極素材（ＦｔＴａ）〜（５７ｎ
）間に、トランジスタ（６５’ｌ）〜（６５ｎ）と抵抗
体（５９ａ）〜（ｈ９ｎ）の直列体を接続した本の〒、
これによれば例えばｍ’ｉ素子（５７ａ）と被加工物−
間で放電が全学した場合、他の電極素子（Ｆｔ７ｈ １
〜（ｆｉ７ｎ）と被加工物６η間の夫々で形成される静
電容量Ｃｓに蓄積される電荷が、前記ｆ輌素子（ＦｔＴ
ａ）と被加工物−の放％′に全く関与しなくなり、−頴
良好なｍ面加工が可能となる。
なお−ｋＫＦ ＋−ランジスタ（６Ｆｔａ） 〜（６５
１１） ｆｌ タイメートＫ１１ｔ換ズてもよ〈、その
他の一方向導涌素子であっても同等の効果が得られる。
１１） ｆｌ タイメートＫ１１ｔ換ズてもよ〈、その
他の一方向導涌素子であっても同等の効果が得られる。
父、第１２図はこの発明による電極の更に他の実施例を
示すもので、第５図に示す抵抗体（５９ａ）〜（５９ｎ
）に代わるものとしてカーボンブロック輪にＸ軸方向
あるいはＹ軸方向から均等形伏の溝部ｇを形成し、この
溝部べで囲まれた部分Ｋｗ電極素材５７ａ）〜（ｆｉ７
ｎ）を接着したもので、上記溝部ｇで囲塘れた８（（分
が前記抵抗体（５９ａ）〜（５９ｎ ）として作用する
ものである。
示すもので、第５図に示す抵抗体（５９ａ）〜（５９ｎ
）に代わるものとしてカーボンブロック輪にＸ軸方向
あるいはＹ軸方向から均等形伏の溝部ｇを形成し、この
溝部べで囲まれた部分Ｋｗ電極素材５７ａ）〜（ｆｉ７
ｎ）を接着したもので、上記溝部ｇで囲塘れた８（（分
が前記抵抗体（５９ａ）〜（５９ｎ ）として作用する
ものである。
なお、１１２図においてはカーボンブロック−とｔＷ素
材（５７ａ）〜（５Ｔｎ）’ｋ ｌ’ＪＩＨＩＨｃ ｆ
ｌｊＪ作り、、 両者を接着した。ものについて図示説
明したが、溝部ｇの形成さえ正確に行えるのであれば、
＊言すれば溝部ｇで囲まれた部分の抵抗値さえ保証出来
れば。
材（５７ａ）〜（５Ｔｎ）’ｋ ｌ’ＪＩＨＩＨｃ ｆ
ｌｊＪ作り、、 両者を接着した。ものについて図示説
明したが、溝部ｇの形成さえ正確に行えるのであれば、
＊言すれば溝部ｇで囲まれた部分の抵抗値さえ保証出来
れば。
両者を同一素材で構成してもよいことば当然である。な
お、この場合の素材としてに本来かなりの°Ｍ気低抵抗
金持ながら、放’ｌ加工のｖｌ極となり得る材料（例え
ばグラファイト、ニレ痔ロフトなど）が好適である。
お、この場合の素材としてに本来かなりの°Ｍ気低抵抗
金持ながら、放’ｌ加工のｖｌ極となり得る材料（例え
ばグラファイト、ニレ痔ロフトなど）が好適である。
以上この発明によれば、従来技術では不可能とされてい
た加工面積が実用的な広さにおいて放電による鏡面加工
を可能とし、その加工時間本短縮で尊る′ｄＩ極を提供
で専て、放電ｒよる金型の鏡面加工の実用化に大会く寄
与するものである。
た加工面積が実用的な広さにおいて放電による鏡面加工
を可能とし、その加工時間本短縮で尊る′ｄＩ極を提供
で専て、放電ｒよる金型の鏡面加工の実用化に大会く寄
与するものである。
第１図りゴー酸の紋！ｔｎ工装置を示す構成図、第２図
ば＠１図の装置による放電電波形及び放電電流波形を示
す図、第３図は放電加工装置に存在する浮遊靜ｖｔ、谷
量を説明する等価図及びその放電電圧、放市市流波形図
、＄４図にＷ棲と破切下物の対向間隙に存在する静電容
量を謄明する図、第５図にこの発明に、よる！極を使用
した接置の概略構成−、＠６図はこの発明によるＷ極で
の１ｐ王方法の一実施例を説明するための図、第７図灯
電極送りを説明するための放電電流波形図、＠８図けｗ
ｌＶｊｉの揺ｍ蓮動によ−て加工される仕上面の鯛断面
図、第９図ｒａ第８図における段差ピッチが揺動半径の
２倍より大きい場合の説明図、第１０図に第８図におけ
る段差ピッチが揺動半径の２倍より小さい場合の説明図
、第１１図はこの発明の他の実施例を示す図、第１２図
けこの発明の足に他の実施例を示す図である。 図に督いて、 （１）Ｋｌはｗｔ等、（２）輪は被加工
物、６ｐはＷλ的絶縁基台、 （ｆｉｎａ）〜（５８ｎ
）は絶縁体。 （５７ａ ） 〜（５７ｎ） Ｉｔｌ’ｌｊｔ＊素材、
（Ｒ９ａ） 〜（ｆｉ９ｎ）は電流制限体、−げ集電
板、６１）はホルダー、（６胆）〜（６５ｒＹ） Ｖｉ
）ランジスタである。 なお１図巾同−符号は同−又は相当部分を示している。 代理人 葛 野 信 − 第１図 第２図 第３図 ７ 第６図 ２ 第８図 第” ” ？ｆｉ １０１１第１頁の続
き ■出 願 人 手利尚武 名古屋市天白区天白町島田黒石 ３８３７番地の３
ば＠１図の装置による放電電波形及び放電電流波形を示
す図、第３図は放電加工装置に存在する浮遊靜ｖｔ、谷
量を説明する等価図及びその放電電圧、放市市流波形図
、＄４図にＷ棲と破切下物の対向間隙に存在する静電容
量を謄明する図、第５図にこの発明に、よる！極を使用
した接置の概略構成−、＠６図はこの発明によるＷ極で
の１ｐ王方法の一実施例を説明するための図、第７図灯
電極送りを説明するための放電電流波形図、＠８図けｗ
ｌＶｊｉの揺ｍ蓮動によ−て加工される仕上面の鯛断面
図、第９図ｒａ第８図における段差ピッチが揺動半径の
２倍より大きい場合の説明図、第１０図に第８図におけ
る段差ピッチが揺動半径の２倍より小さい場合の説明図
、第１１図はこの発明の他の実施例を示す図、第１２図
けこの発明の足に他の実施例を示す図である。 図に督いて、 （１）Ｋｌはｗｔ等、（２）輪は被加工
物、６ｐはＷλ的絶縁基台、 （ｆｉｎａ）〜（５８ｎ
）は絶縁体。 （５７ａ ） 〜（５７ｎ） Ｉｔｌ’ｌｊｔ＊素材、
（Ｒ９ａ） 〜（ｆｉ９ｎ）は電流制限体、−げ集電
板、６１）はホルダー、（６胆）〜（６５ｒＹ） Ｖｉ
）ランジスタである。 なお１図巾同−符号は同−又は相当部分を示している。 代理人 葛 野 信 − 第１図 第２図 第３図 ７ 第６図 ２ 第８図 第” ” ？ｆｉ １０１１第１頁の続
き ■出 願 人 手利尚武 名古屋市天白区天白町島田黒石 ３８３７番地の３
Claims (3)
- （１）多数のｗ啄素材と、この多数の電極素材を互いに
絶縁する手段と、上記多数の電極素材を上記絶縁手段と
共に結束する手段と、上記電極素材の夫々に直列的に接
続横殴される電流制限体と、上記電流制限体を介して上
記ｗ極素材と接続される集電体を具備する放電による鏡
面加工用Ｎ極。 - （２）電流制限体は抵抗体であることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の放電による鏡面加工用ＷＩＬ極
。 - （３） ！流制限体は抵抗体と一方向導通素子の直列
体であることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の
放電による鏡面加工用１を極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7102282A JPS58186532A (ja) | 1982-04-27 | 1982-04-27 | 放電による鏡面加工用電極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7102282A JPS58186532A (ja) | 1982-04-27 | 1982-04-27 | 放電による鏡面加工用電極 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58186532A true JPS58186532A (ja) | 1983-10-31 |
| JPH0346245B2 JPH0346245B2 (ja) | 1991-07-15 |
Family
ID=13448476
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7102282A Granted JPS58186532A (ja) | 1982-04-27 | 1982-04-27 | 放電による鏡面加工用電極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58186532A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4937415A (en) * | 1988-01-27 | 1990-06-26 | Hycor Biomedical, Inc. | Examination slide grid system |
| US5837957A (en) * | 1996-02-27 | 1998-11-17 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electric discharge machining apparatus |
| EP1163967A2 (en) * | 2000-06-12 | 2001-12-19 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electrical discharge machining apparatus |
| WO2003072286A1 (en) * | 2002-02-20 | 2003-09-04 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Micro-electro-discharge machining utilizing semiconductor electrodes |
| US6624377B2 (en) * | 2001-06-01 | 2003-09-23 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Micro-electro-discharge machining method and apparatus |
| CN102151922A (zh) * | 2010-12-30 | 2011-08-17 | 上海交通大学 | 集束成形电极型面快速制备装置及其制备方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54139193A (en) * | 1978-04-20 | 1979-10-29 | Mitsubishi Electric Corp | Electro-processing control method |
| JPS5715632A (en) * | 1980-06-26 | 1982-01-27 | Inoue Japax Res Inc | Electric discharge machining method |
-
1982
- 1982-04-27 JP JP7102282A patent/JPS58186532A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54139193A (en) * | 1978-04-20 | 1979-10-29 | Mitsubishi Electric Corp | Electro-processing control method |
| JPS5715632A (en) * | 1980-06-26 | 1982-01-27 | Inoue Japax Res Inc | Electric discharge machining method |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4937415A (en) * | 1988-01-27 | 1990-06-26 | Hycor Biomedical, Inc. | Examination slide grid system |
| US5837957A (en) * | 1996-02-27 | 1998-11-17 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electric discharge machining apparatus |
| CN1096326C (zh) * | 1996-02-27 | 2002-12-18 | 三菱电机株式会社 | 放电加工装置 |
| EP1163967A2 (en) * | 2000-06-12 | 2001-12-19 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electrical discharge machining apparatus |
| US6621033B2 (en) | 2000-06-12 | 2003-09-16 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electrical discharge machining apparatus |
| EP1163967A3 (en) * | 2000-06-12 | 2004-01-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Electrical discharge machining apparatus |
| US6624377B2 (en) * | 2001-06-01 | 2003-09-23 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Micro-electro-discharge machining method and apparatus |
| WO2003072286A1 (en) * | 2002-02-20 | 2003-09-04 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Micro-electro-discharge machining utilizing semiconductor electrodes |
| CN102151922A (zh) * | 2010-12-30 | 2011-08-17 | 上海交通大学 | 集束成形电极型面快速制备装置及其制备方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0346245B2 (ja) | 1991-07-15 |
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