JPS58175233A - カラ−受像管の「けい」光体モザイク等焼付け方法 - Google Patents
カラ−受像管の「けい」光体モザイク等焼付け方法Info
- Publication number
- JPS58175233A JPS58175233A JP5598982A JP5598982A JPS58175233A JP S58175233 A JPS58175233 A JP S58175233A JP 5598982 A JP5598982 A JP 5598982A JP 5598982 A JP5598982 A JP 5598982A JP S58175233 A JPS58175233 A JP S58175233A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phosphor
- mosaic
- shadow mask
- phosphor mosaic
- picture tube
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/20—Manufacture of screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored; Applying coatings to the vessel
- H01J9/22—Applying luminescent coatings
- H01J9/227—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines
- H01J9/2271—Applying luminescent coatings with luminescent material discontinuously arranged, e.g. in dots or lines by photographic processes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の技術分野
この発明は色ずれの少ない安定なカラー受働管を作成し
得る、カラー受働管における螢光体モザイク等焼付は方
法に関するものである。
得る、カラー受働管における螢光体モザイク等焼付は方
法に関するものである。
発明の技術的背景とｌｌｌｌｉｌｉ点
第１＠Ｉは従来から用いられているカラー受像管螢光体
モザイク焼付は装置を示す概略図であり、図中（１）は
本体フレーム、（２）は光源であるランプへクス（３）
の中で発生した紫外線の発散点、（ｌ・は螢光体モザイ
クを焼付けようとするパネルであり、内面には感光側と
調合せられた螢光体スラリー４１）が塗布されている。
モザイク焼付は装置を示す概略図であり、図中（１）は
本体フレーム、（２）は光源であるランプへクス（３）
の中で発生した紫外線の発散点、（ｌ・は螢光体モザイ
クを焼付けようとするパネルであり、内面には感光側と
調合せられた螢光体スラリー４１）が塗布されている。
ｒｉｚはシャドウマスクと呼ばれる一般に多数の微小孔
が規則正しく穿設された金属板で＾す、これはフレーム
ミコ及びいくつかの部品からなる保持機構６４によって
パネル員の内面（二固定されている。パネルａ嗜は位置
ぎめ用つめ（４）によって焼付は装置の本体フレーム（
１）即ち光源（２）に対して所定の位置に設定せられる
ようになっている。
が規則正しく穿設された金属板で＾す、これはフレーム
ミコ及びいくつかの部品からなる保持機構６４によって
パネル員の内面（二固定されている。パネルａ嗜は位置
ぎめ用つめ（４）によって焼付は装置の本体フレーム（
１）即ち光源（２）に対して所定の位置に設定せられる
ようになっている。
光源Ｃ２）から発した紫外線はシャドウマスク（Ｉｚに
穿設された多数の微小孔を通りぬけて螢光体スラリー０
１）に達し、光の照射された部分に反応を起させ、螢光
体モザイクの潜僧を形成する。これに過当な処理を加え
ることにより螢光体モザイクをパネル（ＩＧの内面に形
成する事が出来る。（５）は焼付は用紫外線の通路に配
置した補正レシズと呼ばれる光線屈折装置であり、これ
は上檻二述ぺた方法によってパネルαｅの内面に形成さ
れる螢光体モザイクの位置を後述の理由によって調整す
るためζ：用いるものである。
穿設された多数の微小孔を通りぬけて螢光体スラリー０
１）に達し、光の照射された部分に反応を起させ、螢光
体モザイクの潜僧を形成する。これに過当な処理を加え
ることにより螢光体モザイクをパネル（ＩＧの内面に形
成する事が出来る。（５）は焼付は用紫外線の通路に配
置した補正レシズと呼ばれる光線屈折装置であり、これ
は上檻二述ぺた方法によってパネルαｅの内面に形成さ
れる螢光体モザイクの位置を後述の理由によって調整す
るためζ：用いるものである。
一般にパネル舖の内面には電子ビームの射突によって原
色１：発光する３種の螢光体モザイクが規則正しく形成
される。そのために３Ｍの螢光体スラリーを別々に用い
て都合３回の螢光体モザイク形成工程を経るのが普通で
ある。螢光体モザイクの形成されたパネルα・はその時
用いたシャドウマスクｆｉ３、フレームａｊおよびこれ
らの保持機構Ｉ等とともりカラー受働管に組立てられる
。このカラー受働管の動作について８２図で説明する。
色１：発光する３種の螢光体モザイクが規則正しく形成
される。そのために３Ｍの螢光体スラリーを別々に用い
て都合３回の螢光体モザイク形成工程を経るのが普通で
ある。螢光体モザイクの形成されたパネルα・はその時
用いたシャドウマスクｆｉ３、フレームａｊおよびこれ
らの保持機構Ｉ等とともりカラー受働管に組立てられる
。このカラー受働管の動作について８２図で説明する。
パネルａ・の内向には螢光体モザイク（ｌ１ｍ）が形成
されている。これは実際には前記のように３種の螢光体
モザイクの集金から成っているが説明を簡単にするため
ここでは１１１類の螢光体のモザイクだけを選んで−い
である。αりはパネルαｌとともに受像管の真空容器を
形成するファンネルと呼ばれる部分である。ａｅは電子
銃でありファンネル（１５１の端部の細くなつ℃いる部
分に固定されている。一般にこの゛峨子銃翰は前記螢光
体モザイクが３種の螢光体モザイクの集合から成つ℃い
るのに対応し″ｃ３本装置されるのが普通であるがここ
では説明を簡単にするために１本のみ−いである。鰭は
偏向璽−りと呼ばれる電子ビーム走査用磁界発生装置で
ある。
されている。これは実際には前記のように３種の螢光体
モザイクの集金から成っているが説明を簡単にするため
ここでは１１１類の螢光体のモザイクだけを選んで−い
である。αりはパネルαｌとともに受像管の真空容器を
形成するファンネルと呼ばれる部分である。ａｅは電子
銃でありファンネル（１５１の端部の細くなつ℃いる部
分に固定されている。一般にこの゛峨子銃翰は前記螢光
体モザイクが３種の螢光体モザイクの集合から成つ℃い
るのに対応し″ｃ３本装置されるのが普通であるがここ
では説明を簡単にするために１本のみ−いである。鰭は
偏向璽−りと呼ばれる電子ビーム走査用磁界発生装置で
ある。
この受像管を動作させると電子銃ａｅから電子ビーム０
８が射出しこれが偏向ヨークｆｉηで発生された磁界に
よって曲げられる。偏向ヨークａガの磁界は電子ビーム
舖がシャドウマスク１１ｍの内面をほぼまんべんなく走
査するように時間とともにたえず変化している。従って
電子銃舖から射出される電子ビームの大部分はシャドウ
マスクα２に射突するが、その一部が微小孔を通過して
螢光体モザイク（ｌ１ｍ）に射突しこれを発光させる。
８が射出しこれが偏向ヨークｆｉηで発生された磁界に
よって曲げられる。偏向ヨークａガの磁界は電子ビーム
舖がシャドウマスク１１ｍの内面をほぼまんべんなく走
査するように時間とともにたえず変化している。従って
電子銃舖から射出される電子ビームの大部分はシャドウ
マスクα２に射突するが、その一部が微小孔を通過して
螢光体モザイク（ｌ１ｍ）に射突しこれを発光させる。
このようなカラー受像管が滴定な動作を行うためには電
子ビームのうちシャドウマスクａ３の微小孔を通りぬけ
たものが所定の螢光体モザイクに正確に射突する事が必
要である。このためには完成した受像管についてシャド
ウマスクの微小孔を通 ′つた電子ビームのパネル
内面への射突位置をパネル全面について前似℃知ってお
いて、そこへ正確に螢光体モザイクを形成する拳が必要
である。
子ビームのうちシャドウマスクａ３の微小孔を通りぬけ
たものが所定の螢光体モザイクに正確に射突する事が必
要である。このためには完成した受像管についてシャド
ウマスクの微小孔を通 ′つた電子ビームのパネル
内面への射突位置をパネル全面について前似℃知ってお
いて、そこへ正確に螢光体モザイクを形成する拳が必要
である。
１１１図に於て（５）で示した補正レンズはこのために
用いられ市ものであって、第１図に示されているように
光源（２）が固定されていると、パネル内面全面にわた
って上記のような電子ビームの正確な射突の得られる位
置に螢光体モザイクを形成することが出来ないのでパネ
ルの各点ごとに光源（２）からの紫外線の入射方向がそ
れによって螢光体モザイクが希望、する位置に焼付は形
成されるような方向となるように光源を曲げてやるため
に用いるものである。
用いられ市ものであって、第１図に示されているように
光源（２）が固定されていると、パネル内面全面にわた
って上記のような電子ビームの正確な射突の得られる位
置に螢光体モザイクを形成することが出来ないのでパネ
ルの各点ごとに光源（２）からの紫外線の入射方向がそ
れによって螢光体モザイクが希望、する位置に焼付は形
成されるような方向となるように光源を曲げてやるため
に用いるものである。
螢光体モザイクとビーム射突点の間にずれがある場合こ
のずれのことをミスランディングと呼ぶ。
のずれのことをミスランディングと呼ぶ。
補正レンズはこのミスランディングをなくする、あるい
は小さくするために用いるものである。
は小さくするために用いるものである。
上述の従来から用いられている螢光体モザイク焼付は方
法父は、装置の欠点のひとつは第１図に（５１で示した
補正レンズの設計、製作に費用と時間がかかることであ
る。
法父は、装置の欠点のひとつは第１図に（５１で示した
補正レンズの設計、製作に費用と時間がかかることであ
る。
従って一度ある受働管についてミスランディングを出来
るだけ小さくする補正レンズを設計、製作してしまった
あとでは補正レンズの変更を必要とするような事態の生
じないことが望ましい。
るだけ小さくする補正レンズを設計、製作してしまった
あとでは補正レンズの変更を必要とするような事態の生
じないことが望ましい。
しかし、全体として絶えず改良の行なわれているカラー
受像管に於ては、補正レンズの変更を必要とするような
事態は絶えず起るのが実情である。
受像管に於ては、補正レンズの変更を必要とするような
事態は絶えず起るのが実情である。
補正レンズの変更を必要とする事態の生ずる例としては
シャドウマスク０及びフレーム０を含めたその保持機構
（以下これをまとめて単にシャドウマスクと称する）の
設計変更がある。動作中の受像管においては前述したよ
うに電子銃からの電子ビームの大部分はシャドウマスク
に射突しその一部のみが微小孔を通りぬけて螢光体モザ
イクに射突する。電子ビームの大部分がシャドウマスク
に射突する結果動作中の受像管のシャドウマスクはＭ［
が上昇しわずかに変形し、そのためにミスランディング
の特性が変化する。一般に補正レンズは、動作によって
変形を起すことを考慮して設計される。
シャドウマスク０及びフレーム０を含めたその保持機構
（以下これをまとめて単にシャドウマスクと称する）の
設計変更がある。動作中の受像管においては前述したよ
うに電子銃からの電子ビームの大部分はシャドウマスク
に射突しその一部のみが微小孔を通りぬけて螢光体モザ
イクに射突する。電子ビームの大部分がシャドウマスク
に射突する結果動作中の受像管のシャドウマスクはＭ［
が上昇しわずかに変形し、そのためにミスランディング
の特性が変化する。一般に補正レンズは、動作によって
変形を起すことを考慮して設計される。
しかし補正レンズ設計が非常に複雑でその上役計が出来
てもその試作、試作レンズによる受像管の試作とチェッ
ク、受像管の被照用レンズの製作等の一連の手順を経る
には非常な時間と費用が必要になる− 発明の目的 本発明は以上の点に鑑みてなされたもので、当初検針さ
れた補正レンズにわずかな細部調整を必要とする場合も
新たな補正レンズを用いることなく対応した螢光体モザ
イクを焼付けることを目的とする。
てもその試作、試作レンズによる受像管の試作とチェッ
ク、受像管の被照用レンズの製作等の一連の手順を経る
には非常な時間と費用が必要になる− 発明の目的 本発明は以上の点に鑑みてなされたもので、当初検針さ
れた補正レンズにわずかな細部調整を必要とする場合も
新たな補正レンズを用いることなく対応した螢光体モザ
イクを焼付けることを目的とする。
発明の概要
本発明は螢光体モザイク等を焼付けようとするパネルの
内面ε；装置されたシャドウマスクを直接又は間接的に
加熱するための熱放射体を配置し前記シャドウマスクを
加熱しつつ光照射を行うことにより、シャドウマスクな
鴇膨張により一時的に所定の形状に習形させて光照射を
行なうものである。
内面ε；装置されたシャドウマスクを直接又は間接的に
加熱するための熱放射体を配置し前記シャドウマスクを
加熱しつつ光照射を行うことにより、シャドウマスクな
鴇膨張により一時的に所定の形状に習形させて光照射を
行なうものである。
発明の実施例
第３ｓに本発明の方法によって螢光体モザイク焼付けを
行なう装置の一例を示す。第１図の装置（二加えてＶヤ
ドウマスクａ２に近接して熱放射体（２）例えば市販の
赤外線ランプが配置されている。尚、第３図に於てＳｔ
図と同一の部材は同一番号で示しである。
行なう装置の一例を示す。第１図の装置（二加えてＶヤ
ドウマスクａ２に近接して熱放射体（２）例えば市販の
赤外線ランプが配置されている。尚、第３図に於てＳｔ
図と同一の部材は同一番号で示しである。
この装置を目的に応じて調整してＶヤドウマスクＩを加
熱した時のシャドウマスク１１３の変形の様子の例を第
４図に示す。＠４図で点線ｆｉ３で示しであるのは赤外
線による加熱の行なわれていない時のシャドウマスクｆ
１３の状態を示している。シャドウマスクα２に穿設さ
れたうちの一つの微小孔（至）及びここを通過する紫外
線６１）の螢光体スラ９−ｅｌｍ）への射突点を（２）
とする。実線（１２ｍ）で示したものは本発明による赤
外線ランプ（２）による加熱を行っている時のシャドウ
マスクの状態を示している。図で（至）は加熱前の微小
孔ｉと同じものを示している。
熱した時のシャドウマスク１１３の変形の様子の例を第
４図に示す。＠４図で点線ｆｉ３で示しであるのは赤外
線による加熱の行なわれていない時のシャドウマスクｆ
１３の状態を示している。シャドウマスクα２に穿設さ
れたうちの一つの微小孔（至）及びここを通過する紫外
線６１）の螢光体スラ９−ｅｌｍ）への射突点を（２）
とする。実線（１２ｍ）で示したものは本発明による赤
外線ランプ（２）による加熱を行っている時のシャドウ
マスクの状態を示している。図で（至）は加熱前の微小
孔ｉと同じものを示している。
加熱前の微小孔ωが加熱によって（至）の位置に移る結
果、ここを通過する紫外線は（２）のような通路を通り
、螢光体スラリー〇〇で点（至）の位置で射突し、ここ
に螢光体モザイクの潜像が形成される。即ち、本発明に
よって螢光体モザイク焼付は位置を（２）から（至）へ
移す事が可能になる。
果、ここを通過する紫外線は（２）のような通路を通り
、螢光体スラリー〇〇で点（至）の位置で射突し、ここ
に螢光体モザイクの潜像が形成される。即ち、本発明に
よって螢光体モザイク焼付は位置を（２）から（至）へ
移す事が可能になる。
発明の効果
以上のように本発明の方法は、補正レンズの設計変更と
ほとんど同じ効果を得ることが出来、しかも赤外線ラン
プの形状や配置場所や電力の供給量の調整は、受像管を
試作しながらほとんど即座に行うことが出来、前述の補
正レンズにおけるような設計変更の際の費用と時間を必
要としない。
ほとんど同じ効果を得ることが出来、しかも赤外線ラン
プの形状や配置場所や電力の供給量の調整は、受像管を
試作しながらほとんど即座に行うことが出来、前述の補
正レンズにおけるような設計変更の際の費用と時間を必
要としない。
第１図は従来のカラー受像管螢光体モザイク焼付は装置
を示す概略図、＠２図はカラー受像管の動作中の電子線
と螢光体モザイクの関係を説明するための概略図、第３
図は本発明の方法によって螢光体モザイク焼付けを行な
う装置の一例を示す概略図、第４図は本発明の方法によ
って螢光体モザイク形成位置が変化することを説明する
ための概略図である。 １５）・・・熱放射体 α１・・・パネルａ邊
・・・シャドウマスク
を示す概略図、＠２図はカラー受像管の動作中の電子線
と螢光体モザイクの関係を説明するための概略図、第３
図は本発明の方法によって螢光体モザイク焼付けを行な
う装置の一例を示す概略図、第４図は本発明の方法によ
って螢光体モザイク形成位置が変化することを説明する
ための概略図である。 １５）・・・熱放射体 α１・・・パネルａ邊
・・・シャドウマスク
Claims (1)
- 螢光体モザイク等を焼き付けようとするパネルの内面に
装着せられたシャドウマスクを直接又は間接的に加熱す
るための熱放射体を配置し前記シャドウマスクを加熱し
つつ光照射を行なうようにしたことを特徴とするカラー
受働管の螢光体モザイク等焼付は方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5598982A JPS58175233A (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | カラ−受像管の「けい」光体モザイク等焼付け方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5598982A JPS58175233A (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | カラ−受像管の「けい」光体モザイク等焼付け方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58175233A true JPS58175233A (ja) | 1983-10-14 |
Family
ID=13014493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5598982A Pending JPS58175233A (ja) | 1982-04-06 | 1982-04-06 | カラ−受像管の「けい」光体モザイク等焼付け方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58175233A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7401769B2 (en) | 2002-11-21 | 2008-07-22 | Showa Corporation | Gas spring |
| TWI467103B (zh) * | 2011-05-31 | 2015-01-01 | Hitachi Automotive Systems Ltd | Pneumatic cylinder device |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4989471A (ja) * | 1972-12-26 | 1974-08-27 | ||
| JPS5310960A (en) * | 1976-07-19 | 1978-01-31 | Hitachi Ltd | Production of fluoresent screen for color picture tube |
| JPS5844651A (ja) * | 1981-09-08 | 1983-03-15 | Matsushita Electronics Corp | カラ−受像管の螢光面形成方法 |
-
1982
- 1982-04-06 JP JP5598982A patent/JPS58175233A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4989471A (ja) * | 1972-12-26 | 1974-08-27 | ||
| JPS5310960A (en) * | 1976-07-19 | 1978-01-31 | Hitachi Ltd | Production of fluoresent screen for color picture tube |
| JPS5844651A (ja) * | 1981-09-08 | 1983-03-15 | Matsushita Electronics Corp | カラ−受像管の螢光面形成方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7401769B2 (en) | 2002-11-21 | 2008-07-22 | Showa Corporation | Gas spring |
| TWI467103B (zh) * | 2011-05-31 | 2015-01-01 | Hitachi Automotive Systems Ltd | Pneumatic cylinder device |
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