JPS58174220A - ガスおよび／または蒸気状の媒質を浄化するための移床フイルタ - Google Patents
ガスおよび／または蒸気状の媒質を浄化するための移床フイルタInfo
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- JPS58174220A JPS58174220A JP4697283A JP4697283A JPS58174220A JP S58174220 A JPS58174220 A JP S58174220A JP 4697283 A JP4697283 A JP 4697283A JP 4697283 A JP4697283 A JP 4697283A JP S58174220 A JPS58174220 A JP S58174220A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、流体媒質を浄化するための積法フィルタに関
するものである。
するものである。
既知の積法フィルタにおいては、浄化されるべき媒質の
流入口と流出口の間に、流動性のばら材からなる触媒層
が存在する。飽和状態になった触媒は上方から下方へ流
れ、それに応じて、新鮮な吸着剤（触媒）が上方から補
給されて、再び満たされる。流体媒質は、下方から、粒
状の触媒層を通過して流れ、その際、触媒は、流れる気
体もし下 くは液体の媒質より除去されるべき物質を、Ｘ方から上
方へと、徐々に吸着する。
流入口と流出口の間に、流動性のばら材からなる触媒層
が存在する。飽和状態になった触媒は上方から下方へ流
れ、それに応じて、新鮮な吸着剤（触媒）が上方から補
給されて、再び満たされる。流体媒質は、下方から、粒
状の触媒層を通過して流れ、その際、触媒は、流れる気
体もし下 くは液体の媒質より除去されるべき物質を、Ｘ方から上
方へと、徐々に吸着する。
触媒の所要排出量を制御するべく、横断面の全体にわた
って、触媒層の内部もしくは下部に屋根状の、下側にお
いて任意に開閉可能な流れ誘導体を設けることは、既に
知られている。しかしながら、上記の既知の流れ誘導体
においては、流動性ばら材の層の不均等な層変換が、充
填および排出の際に、下方から上方へ向けて起こる。こ
の不均等な層変換は、流動性ばら材のすべり易い区域や
付着した区域ができ、注入部の中心が流れ易いために生
ずるものである。これはまた、飽和触媒と不飽和触媒と
の間の追越し現象によっても生じ得る。この不均等な層
変換のゆえに、触媒は完全に利用し尽されることができ
ず、これは営業的に不利なことである。更に、一つの方
向に設けられた流れ誘導体は製造ならびに組立てにおい
て極めて高価につくことも欠点である。触媒の排出を少
量ずつ行なうことは、流れ誘導体の構造が粗いために、
層の境界を撹乱することなしには不可能である。
って、触媒層の内部もしくは下部に屋根状の、下側にお
いて任意に開閉可能な流れ誘導体を設けることは、既に
知られている。しかしながら、上記の既知の流れ誘導体
においては、流動性ばら材の層の不均等な層変換が、充
填および排出の際に、下方から上方へ向けて起こる。こ
の不均等な層変換は、流動性ばら材のすべり易い区域や
付着した区域ができ、注入部の中心が流れ易いために生
ずるものである。これはまた、飽和触媒と不飽和触媒と
の間の追越し現象によっても生じ得る。この不均等な層
変換のゆえに、触媒は完全に利用し尽されることができ
ず、これは営業的に不利なことである。更に、一つの方
向に設けられた流れ誘導体は製造ならびに組立てにおい
て極めて高価につくことも欠点である。触媒の排出を少
量ずつ行なうことは、流れ誘導体の構造が粗いために、
層の境界を撹乱することなしには不可能である。
本発明の目的は、コストの点で有利な、閉鎖可能な流れ
誘導体装置を作製することであり、これらの誘導体装置
は、触媒の層変換を均等に、なかんずく薄い層で行うこ
とを可能にするものであり、また、これらにあっては、
開放状態において起こる層の摩滅が±５チ以下であって
、それだけ吸着剤を利用し尽せることを保証する。
誘導体装置を作製することであり、これらの誘導体装置
は、触媒の層変換を均等に、なかんずく薄い層で行うこ
とを可能にするものであり、また、これらにあっては、
開放状態において起こる層の摩滅が±５チ以下であって
、それだけ吸着剤を利用し尽せることを保証する。
上記の目的は、従来技術との関連において特許請求の範
囲第１項に記載された本発明の諸特徴によって解決され
る。
囲第１項に記載された本発明の諸特徴によって解決され
る。
下方へ向けて打抜き形成された空隙グレートの形態をと
る流れ誘導体の製造は極めて簡単である。
る流れ誘導体の製造は極めて簡単である。
それは既知の方法、例えば簡単な押抜き並びに深絞り法
によって行われる。下方へ向けて打抜かれた開口部を有
し、また、市販の、上方に向けて尖った閉鎖部分を有す
るいわゆる洗浄機ドラムとは異なって、開口部の縁の曲
線部が互いに接しているという、空隙プレートの特殊な
形状と、密に設けられた多数の開口部とにより、触媒排
出時における、中心部に集中した流れあるいはすべり易
い区域の形成が防止される。また、触媒排出時において
は、飽和吸着剤と不飽和吸着剤の間における何らの追越
し現象も生じない。層や均等な下降、従ってまだ、±５
チ以下の層摩滅は、比較的多数の漏斗状開口部と、それ
らの有利な配置とによって確実にされる。
によって行われる。下方へ向けて打抜かれた開口部を有
し、また、市販の、上方に向けて尖った閉鎖部分を有す
るいわゆる洗浄機ドラムとは異なって、開口部の縁の曲
線部が互いに接しているという、空隙プレートの特殊な
形状と、密に設けられた多数の開口部とにより、触媒排
出時における、中心部に集中した流れあるいはすべり易
い区域の形成が防止される。また、触媒排出時において
は、飽和吸着剤と不飽和吸着剤の間における何らの追越
し現象も生じない。層や均等な下降、従ってまだ、±５
チ以下の層摩滅は、比較的多数の漏斗状開口部と、それ
らの有利な配置とによって確実にされる。
以下、図面を参照して説明すると、図中、１は積法フィ
ルタの容器を示す。容器１には、流入管２ならびに流出
管３が接続され、これらの管を通じて、例えば気体もし
くは液体等の流体媒質の供給および排出がなされる。流
れの方向は、矢印４で示す。容器１内には複数個の空隙
プレート格子面５，６．７．８が設置され、これらは、
触媒の均等な排出を、上方から下方へと、制御する。上
部の空隙プレート格子面５は、固定した誘導空隙プレー
ト９と、その下側に配置され、水平方向に摺動可能な閉
鎖空隙プレー）１０とからなる。閉鎖空隙プレート１０
の摺動は、旋回駆動機構１１を介して行う。この空隙プ
レート格子面５の下方には、それから幾分距離をおいて
、孤立した固定空隙プレート６が設けられる。その下方
には更に、それから幾分距離をおいて、空隙プレート格
子面７が設けられ、これは、空隙プレート格子面５に対
応する。固定した誘導空隙プレート１２の下側には、同
様の、摺動可能な閉鎖空隙プレート１３が設けられ、こ
れは、レバーおよびコネクティングロッドによる旋回駆
動機構１１を介して動かされる。空隙プレート格子面７
の下方には、それから幾分距離をおいて、もう１つの固
定空隙プレート８が設けられる。
ルタの容器を示す。容器１には、流入管２ならびに流出
管３が接続され、これらの管を通じて、例えば気体もし
くは液体等の流体媒質の供給および排出がなされる。流
れの方向は、矢印４で示す。容器１内には複数個の空隙
プレート格子面５，６．７．８が設置され、これらは、
触媒の均等な排出を、上方から下方へと、制御する。上
部の空隙プレート格子面５は、固定した誘導空隙プレー
ト９と、その下側に配置され、水平方向に摺動可能な閉
鎖空隙プレー）１０とからなる。閉鎖空隙プレート１０
の摺動は、旋回駆動機構１１を介して行う。この空隙プ
レート格子面５の下方には、それから幾分距離をおいて
、孤立した固定空隙プレート６が設けられる。その下方
には更に、それから幾分距離をおいて、空隙プレート格
子面７が設けられ、これは、空隙プレート格子面５に対
応する。固定した誘導空隙プレート１２の下側には、同
様の、摺動可能な閉鎖空隙プレート１３が設けられ、こ
れは、レバーおよびコネクティングロッドによる旋回駆
動機構１１を介して動かされる。空隙プレート格子面７
の下方には、それから幾分距離をおいて、もう１つの固
定空隙プレート８が設けられる。
新鮮な触媒１４は、図示しない方法で、容器１内に上方
より補給され、堆積層として空隙プレート格子面５上に
載置され、閉鎖状態において、触媒の予備を形成する。
より補給され、堆積層として空隙プレート格子面５上に
載置され、閉鎖状態において、触媒の予備を形成する。
空隙プレート格子面５と空隙プレート６の間には、空間
１５が形成され、これは浄化されるべき流体媒質のだめ
の流出管３に結合されている。空隙プレート６と空隙プ
レート格子面７の間の空間は、触媒で満た、され、これ
は浄化層１６を形成する。空隙プレート格子面７と空隙
プレート８の間には、更にもう１つの空間１７が形成さ
れ、これは、流体媒質の流入管２に結合されている。
１５が形成され、これは浄化されるべき流体媒質のだめ
の流出管３に結合されている。空隙プレート６と空隙プ
レート格子面７の間の空間は、触媒で満た、され、これ
は浄化層１６を形成する。空隙プレート格子面７と空隙
プレート８の間には、更にもう１つの空間１７が形成さ
れ、これは、流体媒質の流入管２に結合されている。
空隙プレート８の下方には、排出漏斗１８が設けられ、
これは、飽和触媒１９の受容、集積ならびに排出の機能
を有する。−鎖空隙プレート１３を旋回駆動機構１１に
よって水平方向に摺動させることにより、空隙プレート
格子面７は速かに開かれ、浄化触媒層１６における飽和
吸着剤は、固定空隙プレート８を介して排出漏斗１８内
に流入する。空隙プレート格子面５，７および／または
固定空隙プレート６．８の領域に設置され得る、図示し
ない、充足高度検出器もしくは流量検出器により、その
都度の供゛給量ならびに排出量を計測することができ、
これらの量を介して、空隙プレート格子面７の開期と閉
期の制御、すなわち旋回駆動機構１１の制御がなされる
。これに対応して、上側の空隙プレート格子面５の旋回
駆動機構１１も制御される結果、飽和触媒１９として下
方へ排出されたのと同じ量の触媒が、浄化触媒層１６に
補給されることになる。触媒の差違量を計測できるよう
にする目的で、浄化層１６の上側の境界をなす空隙プレ
ート６の領域に、図示しない２個の流量検出器を取り付
けることも可能である。
これは、飽和触媒１９の受容、集積ならびに排出の機能
を有する。−鎖空隙プレート１３を旋回駆動機構１１に
よって水平方向に摺動させることにより、空隙プレート
格子面７は速かに開かれ、浄化触媒層１６における飽和
吸着剤は、固定空隙プレート８を介して排出漏斗１８内
に流入する。空隙プレート格子面５，７および／または
固定空隙プレート６．８の領域に設置され得る、図示し
ない、充足高度検出器もしくは流量検出器により、その
都度の供゛給量ならびに排出量を計測することができ、
これらの量を介して、空隙プレート格子面７の開期と閉
期の制御、すなわち旋回駆動機構１１の制御がなされる
。これに対応して、上側の空隙プレート格子面５の旋回
駆動機構１１も制御される結果、飽和触媒１９として下
方へ排出されたのと同じ量の触媒が、浄化触媒層１６に
補給されることになる。触媒の差違量を計測できるよう
にする目的で、浄化層１６の上側の境界をなす空隙プレ
ート６の領域に、図示しない２個の流量検出器を取り付
けることも可能である。
第２図は、左側に閉鎖状態を、右側に開放状態を示した
、誘導空隙プレー）９．１２ならびに閉鎖空隙プレー）
１０．１３の平面図であり、第３図は、同じく右側に開
放状態を、左側に閉鎖状態を示した、空隙プレート格子
面５．７の詳細断面図である。孤立した固定空隙プレー
ト６．８の形状も、誘導空隙プレートおよび閉鎖空隙プ
レート９．１０，１２．１３の形状に対応したものにさ
れる。押抜き形成された開口部２０は、互いに可能な限
り密接した状態に配置されるべきである。
、誘導空隙プレー）９．１２ならびに閉鎖空隙プレー）
１０．１３の平面図であり、第３図は、同じく右側に開
放状態を、左側に閉鎖状態を示した、空隙プレート格子
面５．７の詳細断面図である。孤立した固定空隙プレー
ト６．８の形状も、誘導空隙プレートおよび閉鎖空隙プ
レート９．１０，１２．１３の形状に対応したものにさ
れる。押抜き形成された開口部２０は、互いに可能な限
り密接した状態に配置されるべきである。
この実施例の場合には、開口部２０は、その周縁の曲線
部２１が互いに接するように配置されている。孔のあけ
られていない、高くなった部分２２は、第３図に示すよ
うに、互いに尖って向かい合っており、頂部において幾
分丸味を帯びている。
部２１が互いに接するように配置されている。孔のあけ
られていない、高くなった部分２２は、第３図に示すよ
うに、互いに尖って向かい合っており、頂部において幾
分丸味を帯びている。
上記の形態と、密接に配置された多数の開口部２０とに
より、粒状の触媒は何らの堆積面も見出すことなく、従
って、層面における触媒の、均一で広範囲にわたる流出
が維持される。開口部２０は、平面内で互いに位置をず
らして配置されている。
より、粒状の触媒は何らの堆積面も見出すことなく、従
って、層面における触媒の、均一で広範囲にわたる流出
が維持される。開口部２０は、平面内で互いに位置をず
らして配置されている。
第２図と第３図においては、空隙プレート格子面５．７
の、２つの異なる末端位置が示しである。
の、２つの異なる末端位置が示しである。
誘導空隙プレートおよび閉鎖空隙プレー）９．１２およ
び１０．１３は、上下に互いに重ねて設けてあり、左側
の図では、閉じた部分２２は、開口部２０と向かい合っ
ている。すなわち、２枚の空隙プレート９．１２および
１０．１３は、水平方向に一定の開口間隔だけ（いわゆ
るピッチの分だけ）互いにずらしである。この位置は、
閉鎖位置である。すなわち、閉鎖空隙プレー）１０．１
３における高くなった部分２２は、開口部２０を閉じて
、予備触媒層１４ならびに浄化層１６における触媒が空
隙プレート格子面５，７を通過して流れることができ々
いようにし、一方、流体媒質は、矢印２３で示すように
、垂直方向に下から上へ流れる。
び１０．１３は、上下に互いに重ねて設けてあり、左側
の図では、閉じた部分２２は、開口部２０と向かい合っ
ている。すなわち、２枚の空隙プレート９．１２および
１０．１３は、水平方向に一定の開口間隔だけ（いわゆ
るピッチの分だけ）互いにずらしである。この位置は、
閉鎖位置である。すなわち、閉鎖空隙プレー）１０．１
３における高くなった部分２２は、開口部２０を閉じて
、予備触媒層１４ならびに浄化層１６における触媒が空
隙プレート格子面５，７を通過して流れることができ々
いようにし、一方、流体媒質は、矢印２３で示すように
、垂直方向に下から上へ流れる。
閉鎖状態においては、閉じだ部分２２が形成する三角形
に近似した部分２４は、それぞれ開口部２０と向かい合
っているが、この状態において、各々の孔には、３個の
、半円形の間隙が残されている。
に近似した部分２４は、それぞれ開口部２０と向かい合
っているが、この状態において、各々の孔には、３個の
、半円形の間隙が残されている。
これらの間隙は、閉鎖を完全にするべく、流動性触媒の
最も小さな粒よりも小さいのが望ましい。
最も小さな粒よりも小さいのが望ましい。
しかしながら、これらの間隙は、触媒の最も小さな粒よ
りも幾分大きかったとしてもさしつかえない。なぜなら
、触媒の粒は互いに絡まり合うだめ、間隙が比較的大き
い場合でも、触媒は貫流できないからである。完全な閉
鎖は、開口部２０の隣り合った円周部２１が互いに接触
している時に、常に保証される。第２図および第３図の
右側においては、空隙プレート格子面５．７の開いた状
態を示しであるが、この場合、開口部２０ならびに高く
なった閉鎖部２２は、誘導空隙プレート９ 、１２およ
び閉鎖空隙プレー）１０．１３のそれぞれについて、互
いに向かい合っている。
りも幾分大きかったとしてもさしつかえない。なぜなら
、触媒の粒は互いに絡まり合うだめ、間隙が比較的大き
い場合でも、触媒は貫流できないからである。完全な閉
鎖は、開口部２０の隣り合った円周部２１が互いに接触
している時に、常に保証される。第２図および第３図の
右側においては、空隙プレート格子面５．７の開いた状
態を示しであるが、この場合、開口部２０ならびに高く
なった閉鎖部２２は、誘導空隙プレート９ 、１２およ
び閉鎖空隙プレー）１０．１３のそれぞれについて、互
いに向かい合っている。
予備触媒層１４および浄化層１６における触媒は、妨害
されることなく上から下へ流れ、一方、流体媒質は、触
媒排出プロセスの最中においても、矢印２３で示すよう
に下から上へ向けて流れ続けるので、フィルタの機能は
、いかなる状態においても、影響されたり中断されたり
することはない。
されることなく上から下へ流れ、一方、流体媒質は、触
媒排出プロセスの最中においても、矢印２３で示すよう
に下から上へ向けて流れ続けるので、フィルタの機能は
、いかなる状態においても、影響されたり中断されたり
することはない。
空隙プレートの寸法の一例をあげると、次の通りである
。空隙プレートの材料の厚みは、約２ないし３肩、打抜
きもしくは押抜きによって形成された開口部２０の径は
、１０ないし１５ｍもしくはそれ以上とする。三角形に
近似した形状の部分２４を形成する高くなった閉鎖部２
２の高さは、３ないし４噛とする。ピッチに相当し、か
つ空隙プレート格子面５．７における開放位置と閉鎖位
置の間の摺動行程を与える最短平均距離は、約１８■と
する。しかしながら、これはもっと大きくてもよい。総
じて、これらの寸法は一例としてあげたものにすぎず、
これ以外に、より小さい、もしくはより大きい、妥当な
寸法を選択することができる。
。空隙プレートの材料の厚みは、約２ないし３肩、打抜
きもしくは押抜きによって形成された開口部２０の径は
、１０ないし１５ｍもしくはそれ以上とする。三角形に
近似した形状の部分２４を形成する高くなった閉鎖部２
２の高さは、３ないし４噛とする。ピッチに相当し、か
つ空隙プレート格子面５．７における開放位置と閉鎖位
置の間の摺動行程を与える最短平均距離は、約１８■と
する。しかしながら、これはもっと大きくてもよい。総
じて、これらの寸法は一例としてあげたものにすぎず、
これ以外に、より小さい、もしくはより大きい、妥当な
寸法を選択することができる。
空隙プレートは、その開口部の配置が密であることと、
強い打抜きによって作られることを除けば、基本的には
、業界で洗浄機ドラムとして知られる市販のプレートと
変わらない。これらはまた、開口部の配置が所望の密度
であるものが得られない場合には、例えば通常の押抜き
および深絞り等の簡単な方法で製造できる。材料として
は、例えばアルミニウム、特殊鋼、亜鉛めっきした鋼板
、あるいはプラスチック等が使用される。
強い打抜きによって作られることを除けば、基本的には
、業界で洗浄機ドラムとして知られる市販のプレートと
変わらない。これらはまた、開口部の配置が所望の密度
であるものが得られない場合には、例えば通常の押抜き
および深絞り等の簡単な方法で製造できる。材料として
は、例えばアルミニウム、特殊鋼、亜鉛めっきした鋼板
、あるいはプラスチック等が使用される。
第２図および第３図に示した実施例においては、空隙プ
レートの開口部２０は、円形に作られているが、これら
の開口部は、多角形、例えば厚みが１５ないし２■のバ
ーからなる四角形のものを使用することもできる。その
場合、側辺の長さは８ないし１０ｍ＋もしくはそれ以上
にし、−列に、もしくは互いにずらして配置される。一
般的に言えることは、平坦な四角形空隙プレート、もし
くは一般的に、平坦な空隙プレートにおいては、開口部
の間のバーの幅は、触媒の粒の平均直径に等しいかもし
くはそれよりも小さくするべきであるということである
。開口部の直径もしくは四角形開口部の辺の長さは、触
媒の粒の平均直径の５倍に等しいかもしくはそれよりも
大きくするべきである。寸法をこのようにすると、複数
個の粒の間に、１個もしくは複数個の開口部にわたって
ブリッジが形成されることはあり得なくなり、従って、
触媒の均等な流出が可能となる。本発明の積法フィルタ
の場合約０．４ ｍ ／ ３の流れ速度が生じる。その
ため、固定床から流動床への移行の危険は全くない。な
ぜなら、上述の寸法にしたことにより、断面が著しく狭
まることはなくなるからである。
レートの開口部２０は、円形に作られているが、これら
の開口部は、多角形、例えば厚みが１５ないし２■のバ
ーからなる四角形のものを使用することもできる。その
場合、側辺の長さは８ないし１０ｍ＋もしくはそれ以上
にし、−列に、もしくは互いにずらして配置される。一
般的に言えることは、平坦な四角形空隙プレート、もし
くは一般的に、平坦な空隙プレートにおいては、開口部
の間のバーの幅は、触媒の粒の平均直径に等しいかもし
くはそれよりも小さくするべきであるということである
。開口部の直径もしくは四角形開口部の辺の長さは、触
媒の粒の平均直径の５倍に等しいかもしくはそれよりも
大きくするべきである。寸法をこのようにすると、複数
個の粒の間に、１個もしくは複数個の開口部にわたって
ブリッジが形成されることはあり得なくなり、従って、
触媒の均等な流出が可能となる。本発明の積法フィルタ
の場合約０．４ ｍ ／ ３の流れ速度が生じる。その
ため、固定床から流動床への移行の危険は全くない。な
ぜなら、上述の寸法にしたことにより、断面が著しく狭
まることはなくなるからである。
いわゆる「・・ンチング速度」の場合には固定床から流
動床への移行の危険があるが、この速度は、文献によれ
ば、粒状のＡ炭の場合、約０８ｍ／Ｓとなる。
動床への移行の危険があるが、この速度は、文献によれ
ば、粒状のＡ炭の場合、約０８ｍ／Ｓとなる。
第１図の実施例の場合、複数個の空隙プレート格子面５
．７および固定空隙プレート６．８は、互いに上下に位
置させられている。この配置は、単に一例としてあげた
ものにすぎず、誘導空隙プレート１２および摺動可能な
閉鎖空隙プレート１３を具備した水平の空隙プレート格
子面を１つ設けて、この上方に静止浄化層もしくはその
都度の予備触媒が配置されれば十分である。その場合に
は、その上方に、補助的に、空隙プレート６に相当する
固定空隙プレートが設けられ、これは分割空隙プレート
として機能する。触媒の均等な流出を良好にするべく、
流体媒質によって下方から上方へ通過される中間触媒層
すなわち浄化層の上面は、その水平な下面に対して平行
であるべきである。
．７および固定空隙プレート６．８は、互いに上下に位
置させられている。この配置は、単に一例としてあげた
ものにすぎず、誘導空隙プレート１２および摺動可能な
閉鎖空隙プレート１３を具備した水平の空隙プレート格
子面を１つ設けて、この上方に静止浄化層もしくはその
都度の予備触媒が配置されれば十分である。その場合に
は、その上方に、補助的に、空隙プレート６に相当する
固定空隙プレートが設けられ、これは分割空隙プレート
として機能する。触媒の均等な流出を良好にするべく、
流体媒質によって下方から上方へ通過される中間触媒層
すなわち浄化層の上面は、その水平な下面に対して平行
であるべきである。
上面を上記のように下面に平行にするべく、触媒注入時
の円錐形を平らにならす装置もしくは調合された自由落
下性の触媒塊が、堆積した接床層の上に設けられる。表
面を平らにならす、すなわち平行にするためのこの装置
は、中央で回転可能なモータスピンドルからなり、この
モータスピンドルはプロペラ状の羽根を具備していて、
層の表面を水平にならす。あるいはまた、層の表面、も
しくは固定空隙プレート６に相当する分割空隙プレート
を横切って、半円形のスライダが通過させられ、これら
のスライダは、流量計によって得られる排出触媒量に相
当する量の触媒を新たに補給すると同時に、層の表面を
平らにならす。使用済の吸着剤の排出分は、上記スライ
ダによって、新鮮な吸着剤の貯蔵部から自動的に補給さ
れ、その際、スライダの制御は、パルス制御方式によっ
てなされる。
の円錐形を平らにならす装置もしくは調合された自由落
下性の触媒塊が、堆積した接床層の上に設けられる。表
面を平らにならす、すなわち平行にするためのこの装置
は、中央で回転可能なモータスピンドルからなり、この
モータスピンドルはプロペラ状の羽根を具備していて、
層の表面を水平にならす。あるいはまた、層の表面、も
しくは固定空隙プレート６に相当する分割空隙プレート
を横切って、半円形のスライダが通過させられ、これら
のスライダは、流量計によって得られる排出触媒量に相
当する量の触媒を新たに補給すると同時に、層の表面を
平らにならす。使用済の吸着剤の排出分は、上記スライ
ダによって、新鮮な吸着剤の貯蔵部から自動的に補給さ
れ、その際、スライダの制御は、パルス制御方式によっ
てなされる。
図面は本発明の実施例を示し、第１図は、固定空隙プレ
ートと水平方向に摺動可能な空隙プレートとを配置した
積法フィルタの縦断面図、第２図は、閉鎖状態および開
放状態における誘導空隙プレートおよび閉韻空隙プレー
トの平面図、第３図は、閉鎖状態および開放状態におけ
る、上下に重プレートの断面図である。 ２・・・・・・・・・・・・・・・流入管３・・・・・
・・・・・・・・・・流出管６．８・・・・・・・・・
固定空隙プレート９．１２・・・・・・誘導空隙プレー
ト１０、１３・・・閉鎖空隙プレート ２０・・・・・・・・・・・開口部 ２２・・・・・・・・・・・・閉鎖部分用 願 人
デルバッグ・ルフトフィルター〇ゲー・エム・ベ
ーＯバー 代 理 人 弁理士 岡 １）英 彦Ｆｉｇ、２ Ａ Ａ 自発手続補正書（方式） 昭和５５年１り＝？θ日 特許庁長官若杉和夫 殿 １ 事件の表示 １［Ｌ（和、≦−８年畳 許 Ｈｔｘ＋０１６り！
７．．Ｚ 号４山゛工したｒ昌ｈ ／衰引
ートと水平方向に摺動可能な空隙プレートとを配置した
積法フィルタの縦断面図、第２図は、閉鎖状態および開
放状態における誘導空隙プレートおよび閉韻空隙プレー
トの平面図、第３図は、閉鎖状態および開放状態におけ
る、上下に重プレートの断面図である。 ２・・・・・・・・・・・・・・・流入管３・・・・・
・・・・・・・・・・流出管６．８・・・・・・・・・
固定空隙プレート９．１２・・・・・・誘導空隙プレー
ト１０、１３・・・閉鎖空隙プレート ２０・・・・・・・・・・・開口部 ２２・・・・・・・・・・・・閉鎖部分用 願 人
デルバッグ・ルフトフィルター〇ゲー・エム・ベ
ーＯバー 代 理 人 弁理士 岡 １）英 彦Ｆｉｇ、２ Ａ Ａ 自発手続補正書（方式） 昭和５５年１り＝？θ日 特許庁長官若杉和夫 殿 １ 事件の表示 １［Ｌ（和、≦−８年畳 許 Ｈｔｘ＋０１６り！
７．．Ｚ 号４山゛工したｒ昌ｈ ／衰引
Claims (9)
- （１） 浄化されるべき媒質によって下方から上方へ
貫流される触媒層と、触媒層の領域において断面の全体
にわたって設けられた、触媒の流れを制御する少なくと
も１個の多孔性流れ誘導体装置と、閉鎖装置とを有する
、ガスおよび／または蒸気状の媒質を浄化するための積
法フィルタであって、流れ誘導体装置および閉鎖装置は
、少なくとも１枚の誘導空隙プレート９．１２および少
なくとも１枚の閉鎖空隙プレート１０゜１３より形成さ
れ、前記誘導空隙プレート９゜１２ならびに閉鎖空隙プ
レー）１０．１３は、媒質の流れの方向に対して垂直に
設けられ、かつ下方へ向けて打抜き形成された開口部２
０を有し、これらの開口部２０の高くなった閉鎖部分２
２は、上方へ向けて尖った形状に作られていることを特
徴とする積法フィルタ。 - （２）誘導空隙プレー）９．１２および閉鎖空隙プレー
ト１０．１３は水平に配置され、かつ互いに対して摺動
可能であることを特徴とする特許請求の範囲第１項に記
載の積法フィルタ。 - （３）誘導空隙プレー）９．１２は固定状態に形成され
、その下側に設けられた閉鎖空隙プレート１０．１３は
、水平方向に摺動可能であることを特徴とする特許請求
の範囲第１項に記載の積法フィルタ。 - （４）誘導空隙プレート１２および閉鎖空隙プレート１
３の配置個所より１上方、ならびに選択的に下方に、幾
分距離をおいて、それぞれ１枚の固定空隙プレート６．
８が設けられていることを特徴とする特許請求の範囲第
１項から第３項までのいずれか１つに記載の積法フィル
タ。 - （５）それぞれ１枚の誘導空隙プレー）９．１２および
１枚の閉鎖空隙プレー）１０．１３を有した、触媒の流
れを制御する少なくとも２個の流れ誘導体装置ならびに
閉鎖装置を具備し、閉鎖空隙プレー）１０．１３の下方
には、幾分距離をおいて、それぞれ１枚の固定空隙プレ
ート６．８が設けられていることを特徴とする特許請求
の範囲第１項から第３項までのいずれか１つに記載の積
法フィルタ。 - （６）空隙プレート６．８ｉ９，１０る１２．１３の開
口部２０は、−列に、もしくはずらして配置されている
ことと、隣り合った開口周縁部の曲線２１は、互いに接
するかもしくは互いに入り組んでいることを特徴とする
特許請求の範囲第１項から第５項までのいずれか１つに
記載の積法フィルタ。 - （７）開口部２０は、直径が約１０ないし１５ｍもしく
はそれ以上の円形開口部に形成されることを特徴とする
特許請求の範囲第１項から第６項までのいずれか１つに
記載の積法フィルタ。 - （８）空隙プレートの材料の厚みは約２ないし３嘔であ
り、開口部２０の最小平均距離（ピッチ）は約１８ｗＲ
以上であり、空隙プレートの高くなった閉鎖部分２２の
高さは３ないし４瓢もしく範囲第１項から第７項までの
いずれか１つに記載の積法フィルタ。 - （９） 空隙プレートは、深絞りならびに穿孔の可能
な材料よりなることを特徴とする特許請求の範囲第１項
から第８項までのいずれか１つに記載の積法フィルタ。 叫 空隙プレートは、耐腐食性の表面を有し、アルミニ
ウム、特殊鋼、もしくは塗料またはコーティングにて保
護された薄鋼板、もしくは深絞り特性のあるプラスチッ
クからなることを特徴とする特許請求の範囲第９項に記
載の積法フィルタ。 ０υ 誘導空隙プレー）９．１２と閉鎖空隙プレートＩ
Ｏ，１３の間の摺動行程は、少なくとも開口部２０の平
均距離（ピッチ）の値であることを特徴とする特許請求
の範囲第１項から第１０項までのいずれか１つに記載の
積法フィルタ。 ＠ 少なくとも１枚の誘導空隙プレー） ９ 、１２と
少なくとも１枚の閉鎖空隙プレー） １０．１３の、一
方の末端位置においては、開口部２０が上下に重なって
位置しておシ、そのため、触媒は自由に貫流することが
でき、他方の末端位置においては、開口部２０と、高く
なった閉鎖部分２２とが向かい合って位置しており、そ
の結果、流体媒質は、この状態においてもなお自由に残
されている間隙を通して貫流できるが、触媒の貫流落下
は遮断されていることを特徴とする特許請求の範囲第１
１項に記載の積法フィルタ。 α→ 開口部２０は多角形であって、特に、四角形の場
合には、側辺の長さが、約８ないし１０鴎もしくはそれ
以上であることを特徴とする特許請求の範囲第１項から
第６項までもしくは第８項から第１２項までのいずれか
１つに記載の積法フィルタ。 □−二〔 の当該設置位置との間の空間の大きさは、流体媒質が、
これらの空間を通って、流入管２および流出管３を経て
流入ならびに流出可能な程度であることを特徴とする特
許請求の範囲第１項から第１３項までのいずれか１つに
記載の積法フィルタ。 器が設けられ、これらの検出器により、触媒の流入量な
らびに流出量が検出可能であることを特徴とする特許請
求の範囲第１頃から第１４項までのいずれか１つに記載
の積法フィルタ。 （至）浄化層１６の表面を水平にするべく、注入の際の
円錐形を平らにならすための装置が設けられていること
を特徴とする特許請求の範囲第１項から第１５項までの
いずれか、１つに記載の積法フィルタ。 ａ″ｈ 浄化層１６の表面を水平にするべく、新鮮な触
媒を分配するための装置が設けられ、前記装置は、使用
済の触媒の量に相当する量の触媒を、浄化層１６の表面
に均等に分配することを特徴とする特許請求の範囲第１
項から第１５項までのいずれか１つに記載の積法フィル
タ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19823210682 DE3210682C2 (de) | 1982-03-19 | 1982-03-19 | Wanderbettfilter zur Reinigung von gas- und/oder dampfförmigen Medien |
| DE32106823 | 1982-03-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58174220A true JPS58174220A (ja) | 1983-10-13 |
Family
ID=6159087
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4697283A Pending JPS58174220A (ja) | 1982-03-19 | 1983-03-18 | ガスおよび／または蒸気状の媒質を浄化するための移床フイルタ |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58174220A (ja) |
| DE (1) | DE3210682C2 (ja) |
| FR (1) | FR2523470B1 (ja) |
| GB (1) | GB2116870B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009028643A (ja) * | 2007-07-26 | 2009-02-12 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | 固定床反応容器及び吸収剤の充填方法 |
| JP2011515204A (ja) * | 2008-02-21 | 2011-05-19 | ウーデ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 触媒粒子の固定装置 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3414044A1 (de) * | 1983-12-16 | 1985-06-27 | Mannesmann Veba Umwelttechnik GmbH, 4690 Herne | Verfahren zur entfernung von verunreinigungen aus gasstroemen und filter zur durchfuehrung des verfahrens |
| DE3410895A1 (de) * | 1984-03-24 | 1985-10-03 | Perfluktiv-Consult AG, Basel | Verfahren und anlage zur verminderung des schadstoffgehaltes von rauchgasen |
| DE3443832C2 (de) * | 1984-11-30 | 1986-12-11 | FHW-Brenntechnik GmbH, 8267 Neumarkt-St Veit | Schüttschichtfilter, insbesondere für Rauchgase |
| DE3662173D1 (en) * | 1985-11-09 | 1989-04-06 | Siemens Ag | Device for the controlled discharge of free-flowing bulk material from the bottom side of a bulk material column, especially of a moving-bed filter |
| DE3732567A1 (de) * | 1987-05-07 | 1988-11-24 | Horst Dr Grochowski | Anstroemboden fuer wanderbettreaktoren sowie verfahren zum betreiben dieser vorrichtung |
| DE102009023600B4 (de) | 2009-06-02 | 2011-05-12 | Ctp Chemisch Thermische Prozesstechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung von Abgasströmen |
| CN109954371A (zh) * | 2017-12-26 | 2019-07-02 | 侯玮 | 一种移动式高效节能烟气净化处理系统 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1095676A (en) * | 1911-01-09 | 1914-05-05 | New Jersey Zinc Co | Filtration of flue-dust, fume, and like fine solid impurities from furnace-gases. |
| DE883598C (de) * | 1949-06-14 | 1954-03-22 | Metallgesellschaft Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Bewegung von Adsorptionsmitteln oder Katalysatoren |
| GB707178A (en) * | 1951-12-28 | 1954-04-14 | Wessoe Ltd | Improvements in means for producing a controlled downward flow of solid material in a vessel, applicable particularly to apparatus for contacting gases with solid materia ls |
| US2850114A (en) * | 1954-12-16 | 1958-09-02 | Union Oil Co | Selective adsorption process |
| BE758006A (fr) * | 1970-06-12 | 1971-04-01 | Brauer Heinz | Procede pour la mise en action d'un reacteur a couches tourbillonnaire |
| SU797743A1 (ru) * | 1977-07-04 | 1981-01-23 | Институт Коллоидной Химии Ихимии Воды Ah Украинской Ccp | Адсорбер |
-
1982
- 1982-03-19 DE DE19823210682 patent/DE3210682C2/de not_active Expired
-
1983
- 1983-03-18 FR FR8304456A patent/FR2523470B1/fr not_active Expired
- 1983-03-18 GB GB08307504A patent/GB2116870B/en not_active Expired
- 1983-03-18 JP JP4697283A patent/JPS58174220A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009028643A (ja) * | 2007-07-26 | 2009-02-12 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | 固定床反応容器及び吸収剤の充填方法 |
| JP2011515204A (ja) * | 2008-02-21 | 2011-05-19 | ウーデ・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 触媒粒子の固定装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2116870B (en) | 1985-10-02 |
| GB2116870A (en) | 1983-10-05 |
| FR2523470B1 (fr) | 1985-08-02 |
| FR2523470A1 (fr) | 1983-09-23 |
| DE3210682A1 (de) | 1983-09-29 |
| GB8307504D0 (en) | 1983-04-27 |
| DE3210682C2 (de) | 1986-04-10 |
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