JPS5817272B2 - シリンダ−輪転銅メッキ法 - Google Patents

シリンダ−輪転銅メッキ法

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JPS5817272B2
JPS5817272B2 JP52091427A JP9142777A JPS5817272B2 JP S5817272 B2 JPS5817272 B2 JP S5817272B2 JP 52091427 A JP52091427 A JP 52091427A JP 9142777 A JP9142777 A JP 9142777A JP S5817272 B2 JPS5817272 B2 JP S5817272B2
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JP
Japan
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cylinder
bath
copper
group
sec
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JP52091427A
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English (en)
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Inventor
井上学
阪田喬
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Nihon Kagaku Sangyo Co Ltd
Original Assignee
Nihon Kagaku Sangyo Co Ltd
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Publication date
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  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は酸性の水溶液から銅を電着させるための新規の
組成物を用いるメッキ方法に関し、特にシリンダーを輪
転させながら銅を電着させる方法に関する。
本発明は、くわしくは硫酸銅浴を基本浴として特殊な化
学成分を組合せ、シリンダーを輪転させながら、光沢良
好で平滑な銅電着を得て、特にグラビア印刷に用いる製
版プロセスの中で砥石研磨、パフ研磨を省略することを
目的とする。
本発明のもう一つの目的は高い電流密度範囲で、良好な
光沢と平滑化作用および良好な延性を示す光沢銅電着を
得ることによって、短時間に厚い電着層ヲ得、シリンダ
ー銅メツキプロセスのコストダウンをはかることにある
シリンダーを高速で輪転させながらメッキを行う方法は
、古くからグラビア印刷関係の製版プロセス、ならびに
肉盛を目的とする電鋳に応用されてきた。
従来は硼弗化銅浴がその電着物の緻密なこと、高速でメ
ッキできるなどの特徴から多く用いられてきたが、近年
弗素イオンによる公害問題から、無害化処理の簡単な硫
酸銅浴に切り換えられてきた。
しかしながら、添加剤を含まない硫酸銅浴からの電着物
は粗雑であって、グラビア印刷に用いられる場合はメッ
キ後砥石およびパブ研磨が必要であり、研磨による厚み
の減少を見込んで必要以上の厚さのメッキを行なわなけ
ればならないという欠点がある。
更には硫酸銅浴からメッキをする場合浴温か高くなると
ますます粗雑な電着となり、30℃以下でメッキするこ
とが必要であり高電流密度での作業が困難であって長時
間にわたるメッキ作業を必要とする。
又装飾用に用いられるフェナジン染料を中心とする光沢
剤をシリンダー輪転メッキに応用した場合も30°C以
上では粗雑な無光沢メッキとなり更には長期間の作業中
に光沢剤の分解物が蓄積しメッキ液の再生が困難になる
という重大な欠陥を有している。
しかるに本発明によれば必要限度の厚みの電着物を高温
度、高電流密度で短時間に得ることが可能となる。
又本発明による電着物の表面状態は平滑でかつ鏡面光沢
を有するため砥石、パブ研磨の省略が可能となり、大巾
なコストダウンと共に銅資源の節約にも寄与するもので
ある。
更には本発明による電着物の結晶粒は微細にして、展性
があり、グラビア印刷における製版工程の化学エツチン
グ特性を良好にし、あるいは電鋳品で行なわれる切削加
工の精度を向上させる等の特徴を有する。
本発明は次に示されるA、B、C,Dの四つの化合物群
よりAとり、AとDとBおよびCを組合せることによっ
て得られる配合物を硫酸銅浴に添加し、光沢、平滑、高
速シリンダー輪転銅メッキを得るものである。
物あるいはその互変異性体 ここでMは水素原子を示し、 XはS、O,N、のいずれかを示している。
Yは、2〜10個の炭素原子を持つ有機基である。
例えば次のような化合物がある。
D 一分子に少なくとも5個のエーテル酸素原子を含む
ポリエーテル。
例えば次のような化合物がある。
D−I HO(C2H40)5 H D−2HO(C2H40)20 H D−3HO(C2H40)45 H D−4HO(C2H40)1ooH D−5HO(C2H40)2so’H D−6HO(C2H40)450 H D−7HO(C3H60)5 H D−8HO(C3H60)IOH D−9HO(C3H60) t = H D−10HO(C3Ha O)25 H D−11HO(Cs H60)35 H D−12HO(C2H40)1°(C3H60)5 (
C2H40)1°HD−1:3 HO(C2)セ0)2
5 (C3He O)5 (C2H40)25HD・−
14HO(C2)Too)25 (CaI(60)15
(C2H40)25HD−15HO(C3H60)1
5 (C2H40)165 (C3H60)15H本発
明に使用される硫酸銅メッキ液は次の表に示されるもの
を用いることができる。
表 ■ Cu5O4j 5H2030〜・300?/1H2SO
430〜200〃 Cf 0=2007119/を 実施例 本発明のために用いた実験装置は、35tの容量のシリ
ンダー輪転メッキ装置であり、連続濾過装置、冷却装置
、シリンダー輪転装置が装着されている。
シリンダーの大きさは直径60關長さ100藺のものを
用いた。
電源はシリコン整流器で波型は三相全波を用いた。
尚硫酸銅メッキ液組成は表■に示される組成の範囲で用
いることができるが実験には標準浴として下記のものを
用いた。
Cu5O4j+ 5H20200fl / 、lH2S
04 70 ? / ICt−50m9
/L 実施例の結果は表■に示される通りであるが(光)は光
沢度(平)は平滑化作用(高)は高電流部のヤケの状態
を示す。
尚◎はすぐれて良○は良 △は普通 ×は悪い ××は
非常に悪い結果を示す。
実施例1によればA単独では全く効果を示さないものが
2に示される如くDグループとの併用で良好な平滑化作
用を示すようになるが、鏡面光沢は得られない。
5に於けるABDの併用でも十分でない。
しかるに6に示される如<A 、 B 、 C。Dの四
つのグループの併用で抜群の相乗効果を示し鏡面光沢と
良好な平滑化作用が得られる。
7.8,10で示されるようにA、BあるいはA、B
、C,の組合せでは高電流部のヤケが防止されるのみで
全く光沢効果を示さない。
しかるに9.11、に示される如<A、B、C,D、の
組合せによる相乗効果ですばらしい結果を示す。
11、、17、18、19に示されるように浴温度が4
0℃になっても四つのグループの組合せによって鏡面光
沢を得ることが可能であり、本発明による高温作用が明
らかである。
更には19,20で明らかな如く、本発明によれば高電
流密度による作業が可能であり大巾にメッキ時間が短縮
される。
一般に市販されるフェナジン染料を中心とする装飾用硫
酸銅メッキ添加剤あるいは電鋳用添加剤をシリンダー輪
転銅メッキに応用した場合、30℃を越えると光沢効果
は極端に低下し高温、高速メッキは不可能であって、こ
れに比較した場合本発明の特徴が明らかである。
更に本発明によって得られる銅電着物は展性に富み、結
晶粒は微細であって、グラビア印刷製版プロセスに於て
、化学エツチング特性が特に良好である。
又機械切削加工性が良好である。実施例1,7,8,1
0,13,15,16等にみられる無光沢状態では電着
物は粗粒で、もろく平滑作用もほとん、どないが、6,
9,11゜14.17,18,19に示されるように四
つの化合物群の組合せによって得られる電着物は鏡面光
沢であり、下地の凹凸を平滑化作用によって均一化し、
グラビア印刷製版プロセスの砥石研磨や、パフ研磨の省
略を可能にするものである。
以上のように本発明の特徴は四つの化合物群のそれぞれ
から選らばれたAとり、AとDとBおよびCを組合せる
ことによって可能なことが明らかである。
ここに本発明を詳細に記述し説明したが、これは例示の
ためのものであって限定するものではない。
本発明の精神および範囲は前記の特許請求の範囲によっ
て制限される。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 シリンダーを輪転させながら銅を電着せしめる方法
    において、硫酸銅浴を基本浴とし、シリンダー輪転速度
    50cm/ sec以上、陰極電流密度5〜40に/c
    a、浴温度20〜50℃の操作条件のもとに次の化合物
    、すなわち A −S −CH20RS 03M団を含有するスル
    ホフォーマルアルキル硫化物、ここにMはアルカリ陽イ
    オンであり、Rは炭素原子3〜8個を含むアルキル基、 D 一分子につき少くとも5個のエーテル酸素原子を含
    むポリエーテル、 の各群よりそれぞれ選ばれた化合物を配合せしめるこさ
    を特徴とするシリンダー輪転銅メツキ法。 2 シリンダーを輪転させながら銅を電着せしめる方法
    において、硫酸銅浴を基本浴とし、シリンダー輪転速度
    50cm/ sec以上、陰極電流密度5〜40A/c
    ra、浴温度20〜50℃の操作条件のもとに次の化合
    物群、すなわち A −8−CH20−R−8O3M団を含有するスル
    ホフォーマルアルキル硫化物、ここにMはアルカリ陽イ
    オンであり、Rは炭素原子3〜8個を含むアルキル基、 D 一分子につき少くとも5個のエーテル酸素原子を含
    むポリエーテル、 あるいはその互変異性体、ここにMは水素原子を示し、
    XはS 、 0 、 ’Nのいづれかを示し、Yは2〜
    10個の炭素原子を有する有機基である、Cデヒドロチ
    オ−パラ−トルイジンおよびその誘導体、 の各群よりそれぞれ選ばれた化合物を配合せしめるこ゛
    とを特徴とするシリンダー輪転銅メツキ法。
JP52091427A 1977-08-01 1977-08-01 シリンダ−輪転銅メッキ法 Expired JPS5817272B2 (ja)

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JPS5426246A JPS5426246A (en) 1979-02-27
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4934887A (ja) * 1972-07-31 1974-03-30

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JPS4934887A (ja) * 1972-07-31 1974-03-30

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