JPS58172500A - 温度動作式空気流れ制御装置及びガスサンプラ− - Google Patents

温度動作式空気流れ制御装置及びガスサンプラ−

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JPS58172500A
JPS58172500A JP58048030A JP4803083A JPS58172500A JP S58172500 A JPS58172500 A JP S58172500A JP 58048030 A JP58048030 A JP 58048030A JP 4803083 A JP4803083 A JP 4803083A JP S58172500 A JPS58172500 A JP S58172500A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、流れ制御装置に闘するものであり、特にはガ
スサンプラー装置向けの新規にして有用なガス流れ制御
装置に関係する。
本発明は、成る温度変化による流体流れの減少或いは停
止を必要とする状況におけるすべての流体の制御に用途
【持つ。本発明：：は、装置ｆ系内での波体凝縮を防止
する為加熱されたサンプリング装置系【使用しそして空
気のような吸引用ガスを使用することにより装置系を遍
して被分析ガス流れを飾引するガス分析器構造に特に適
応性【持つ。
このような装＠ｆ：侵用する場合賃ンブリング装置贅素
の温度がサンプルガスの露点以下に賂ちる時吸引用ガス
流れ【中動することが所望される。従来からの手段は温
度センサと吸引用空気流れを制御するガスソレノイド弁
【伽える触１１鯵を使用した。このようなｗｔ＆は、１
４ｉｉＩＩにつ（電気囲路及び縁続並びに配ｔｆ：必賛
とし、そして升及び電気部品への！Ｉ４Ｔ＃Ａ条件の影
暢によりその適ハｊ性をしばしば制約した。
杢発＃＃４に従えば、吸引用ガスの流れ従って１４Ｉｔ
制御ガスの流れがスナソ／ｊｌＩ２１作するバイメタル
型弁板品の使用により＠整される。スナップ動作とは一
方方向に反った部品が電数に反対向きに弾発的に反り返
る動作を太う。バイメタル部品は吸引器人口ＩＩＡｗＩ
の一内に配列されそして吸引されたガスの流れｔ−容易
に且つ自動的に＠ｉ＃４−る。バイメタル部品は、好適
には、動作温度が満足すべき範囲にない時には吸引−空
気通路開口に重なってそれを閉成する帯域を；ｆ！′す
るディスク状乃至傾似の要素である。バイメタル要素は
、所望の動作温度軸ｓｒ実現するよう選択されそしてバ
イメタル要素が吸引用空気の温度により認められつる揚
に冷鋪されない吸引富内に位置づけられるなら、それは
臨界的なナンプリング流捧物質の温度の代表的感知な提
供する。簡単なバイメタル装置が電気制御弁と同略の作
用を達成し、しかも費用ははるかに安くてすみそして取
付及び操作ともはるかに容易ですむ。
従って、本発明の目的は、サンプルガス流れが吸引用ガ
スの流れにより調節されそしてこの吸引用ガス流れは所
望の温度が達成されない時該流れを遮断するバイメタル
要素により制御されるような改善された温度動作式流体
制御装置ｆ：！ｉｋ供することである。
本発明のまた別の目的は、サンプルガス用入口と該ガス
用出口との間に滅縮流れ向ｉｔｓを有する連結通路ｔ”
含み吸引ガスが所望の温度範囲のみにおいて動作するバ
イメタル要素を組込んだ富を通して連結通路下に差向け
られるようなガスサンプラー装置を提供することである
。
本発明のまた別の目的は、設計において簡単であり、瓢
牢な構造を有しそして作ｌ１ｌｉｌ費が安くてすむ温度
動作式流体流れ制御装置及びガスサンプラー【ＩＭ供す
ることである。
図閾を参照すると、第１図は全体を番号１０で表示され
る温度動作式流体流れ制御装置を示し、例示Ｊ４体例に
おいては、この装置は、ガスをサンプリングする為のＭ
ｌと併用され、ガスサンプル【加熱されたブロック乃至
ハウジング１４内に導入する為の入口通路１２【Ｓんで
いる。ハウジング１４はガス検知装置１８を組込んだサ
ンプリングｉｉ［６ｆｌ：備えている。ガス検知装置１
１８は例えばガスのｌ１１１１１１を検知しそしてでき
れば特定の施れ状況におけるそのガスの流量をも測定す
る為の手段【含みつる。図示の通り、ガス検知装置１８
はＩＩＥ纏２０虻経て所望のガス特性を測定する為の適
当な針−に接続されている。その後、サンプルガスは減
縮された流路細檀の区画２０を通して流れ、続いて吸引
音２２へと流れ、その後排出口２４を遥して流出する。
人口通路１２を通してのサンプルガスの流れは吸引用ガ
スの流れにより制御される。吸引用ガスは吸引用ガス流
れ制御室２８内にそして開口３０を通して矢印２６の方
向に導入され、吸引室２２内へと流れそして後排気口２
４から流出し、その流れが入口通路１２を通してのサン
プルガスの流れをＩＩＩＪする。
矢印３２の方向−へのサンプルガスの流れは開口３０を
通しての矢印２６の方向への吸引用ガスの流れにより制
御される。この目的のため、バイメタル要素３４が室２
８内に配納されている。バイメタル要素Ｓ４は温度変化
に応じて図示の実線位置と点線位置との間で反転状態に
屈擁しつる。バイメタル要素は所望の温度範囲において
動作することを可能ならしめる特性を有する金属種から
構成されそして好都合には１１２図に示されるようなデ
ィスクの形態或いはｍＳ図に５４’として示すようなフ
ラップ４２及び４４を有するフラップ付きディスクの形
態にある。そのＷｉｌｌは、温度が正確な動作温度以外
にある時バイメタル要素が開口３０を閉成しうるもので
あるなら任意の形状のものでありうる。バイメタル要素
５４は室２８内に位置づけられ、ここではバイメタル要
素５４は吸引用空気の温度により詔めうる程には冷却さ
れずそして矢印３２の方向に流入する臨界的なサンプリ
ンダガスの温度【感知する。第１及び２図の具体例にお
いて、バイメタル１１ｇ３４はその外周に隣りあう周辺
帯域に定義される複数の孔３６を含んでいる。即ち、孔
５６は、バイメタル要素が第１図に示される点線位置に
撓み屈曲する時開口５０を完全に閉成するよう位置決め
されうる中央域３８の外側に位置している。実線位置に
おいて、孔３６は、吸引用空気がそこを通って開口３０
内に流入しそして吸引室２２ｆｒ：通って排出日２４へ
と流れることを許容する。
ガス分析器として示される図示具体例においては、ハウ
ジング１４が適正動作温度にある時、バイメタル要素は
実線位置にとどまった丁よであり、従って表引用ガスの
流れを許容し、以って矢印５２の方向にナン゛プルガス
の流入ｆ許容する。もしハウジング温度が所望温度以下
に冷えるなら、バイメタル要素は急激に点線位置まで屈
撓して反転し、それにより吸引用空気流れｆ：阻止しそ
してサンプリングガス１引過程を停止する。そうするこ
とによって、ガス通路内に凝縮液の形成の可能性を排除
する。
バイメタル要素３４は周知のものであり熱膨張係数の異
なる２枚の金属Ｐ互いに結合することにより作製される
。金属−１直径、寸法等の適正な選択により、バイメタ
ル要素は迅速に変位して開口３０に閉成力を行使するよ
うにする為急激にパチンと屈撓反転するように為すこと
ができる。
第５図のＸ体例において、バイメタル要素３４１の無孔
中央部４０は点線位置において開口５０ｔ−閉成するよ
うな寸法を有している。ガスナンプラーの作動位置にお
いて、バイメタル要素が実線位置まで外方に撓む時、フ
ラップ４２及び４４がそれらの間で中央ｓ４０に沿って
の自白な流れ域虻提供する。
本発明について具体例を説明したが、本発明の範囲内で
多くの改変を為しうることを銘記されたい。
【図面の簡単な説明】
栖１図は本発明に従って構成されたガスサンプリング装
置の部分断面図であり、第２図は第１図の装置において
使用されるバイメタル要素の正面図、そして第５図はま
た別のバイメタル要素の正ｏｌＩ図である。 １４；ハウジング １ン：入口通路 １６：サンプリング本 １８：ガス検知装置 ２０：減ｋＪ？ｌＬ路聞積部 ２４二排出口 ２２：杖引室 ２８：吸引用ガス流れ制御室 ３０：開口 ３４；バイメタル要素（弁板） ５８．４ｏ：中央部 ６６二孔 ４２．４４：フラップ 同　　　　　倉　　橋　　　　　暎 、・′：′＝′１・・。 ＦＩＧ、　　３

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １）　　ｍ体入口と、流体人口に接続される流体用排出
    路と、該流体人口への該排出路の！１続点における滅縮
    流路向穂部と、前記流体入口から流出しそして前記排出
    路な通して流出する流体の流れを誘引する為の吸引用流
    体を供給する為前記滅＃ｌＩに隣りあって前記接続点に
    伸延しそして吸引用ガスの通過の為の開口ｔｉ：ＩＭえ
    る流通ｉ１を真備する吸引用流体接続管路と、前記流遍
    寵内に前記開口を覆って納置されるバイメタル橿弁板で
    あって、温度変化に応答して該開口を閉成して吸引用ガ
    スの流れを停止するＩ１１位置とＷ！開口を關（別の撓
    み位置との閾で温度変化に応答して屈撓しうるバイメタ
    ル蓋弁板とをｉ’ａする温度動作式流体流れｌ１ｌＩｌ
    ｌｌ０ ２）　バイメタル弁板が一方撓み位置において開口ｔ−
    ｇｉｌｌうに光分大きい中央無孔域と吸引用ガスの流通
    の為の孔を有する胸辺域とを含む特許請求の範囲第１項
    記載の１ｌＩＩ制御器Ｏ ３）バイメタル弁板が直径方向に対向するフラップと開
    口を閉成するに充分の寸法の中央無孔域を伽える板であ
    る特許請求の範囲７ｓ１項記板の制御ｔｉｌｌ。 ４）　　ＩＫ１熱されたブロックを定義するノ１ウジー
    ／グと、該ハウジング内に配置されそして流体入口及び
    排出路に接続されるガスセンサとを備え、そして吸引用
    ガスが空気であるｌ＃許諸求の範囲ｗ４１項記載の一嚢
    蕎。 ５）ガスセンナが加熱されたブロックノ１ウジング内に
    配置されそして流体入口に接続されると共に排出路に通
    じる別の１ｊ！続路をＪ４備する富とガス特性検知の為
    餉富内に配置される手段とを含む特許請求の範Ｈ＠４項
    記販のｆｌＩ１１両＃Ｍ０６）ガスすンプリング富を定
    義する手段と、該室内に納置されるガスセンサと、該室
    内にＨＩＭされるサンプルガス導入口と、ａｍ内に連通
    ずる排気路と、該富と排気路との間に接続される吸引用
    ガス管路であって、吸引用ガス入口と前記ｓｍ路に通じ
    る吸引用ガス放出口を具備する吸引用ガス家を含むｌ＆
    弓１用ガス管路と、前記吸引用ガス富内にその開口を覆
    って配納されそして温度変化に応答して吸引器ガスの流
    れ【停止する第１位置と該開口を開く別の撓み位置との
    閣で屈撓しうるバイメタル型弁板とを包含するガスサン
    プリング装置。
JP58048030A 1982-03-29 1983-03-24 温度動作式空気流れ制御装置及びガスサンプラ− Granted JPS58172500A (ja)

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US362926 1982-03-29
US06/362,926 US4441356A (en) 1982-03-29 1982-03-29 Temperature actuated air flow control and gas sampler

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JPH0129418B2 JPH0129418B2 (ja) 1989-06-09

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AU (1) AU555623B2 (ja)
CA (1) CA1186915A (ja)
IN (1) IN158999B (ja)

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